JP3354367B2 - 基板洗浄装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体や液晶ディ
スプレイなどに用いられる基板の洗浄や乾燥などを行う
基板洗浄装置に関し、特に、基板の着脱を確実かつ容易
に行うための基板チャック構造の改良に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体の製造工程や液晶ディスプレイの
製造工程は、基板上に所望のパターンを形成するフォト
工程、基板表面上の酸化膜のエッチングを行うエッチン
グ工程およびフォト工程で使用されたレジストを除去す
る剥離工程などを含んでいる。これらの処理工程におい
ては、基板上に所定の処理液が供給されて各々の処理が
なされている。したがって、次工程に移る際には、前工
程で用いられた処理液が十分に除去され、残留しないよ
うに基板を洗浄する基板洗浄工程が必要である。このよ
うな洗浄を行う装置としては、基板の表面に洗浄液を供
給しつつ、基板表面に付着、残留した前工程の処理液な
どをブラシなどを用いて洗浄し、その後基板表面に窒素
などの不活性ガスを吹き付けながら基板を高速回転さ
せ、付着残留している洗浄液を不活性ガスの風圧と遠心
力で振り払う装置が広く用いられている。

【０００３】ここで、基板が矩形形状を有する場合、前
述のように基板を高速回転させると回転斑や乱流が発生
し易く良好な洗浄液の振り払い除去を行うことができな
い。そこで、本願出願人が先に提案した特開平７−１０
６２３３号公報においては、中央に前記基板形状をくり
ぬいて基板収納領域を形成した略円板形状の整流板に基
板を嵌め込んで回転させている。このように構成すれ
ば、整流板と共に基板を回転させることで安定した高速
回転を得ることが可能になり、良好な洗浄液の振り払い
除去ができる。

【０００４】前記整流板は前記基板収納領域の寸法を基
板寸法より大きく（数ｍｍのクリアランス）形成し基板
全体を壁面で保持するか、或いはくりぬき寸法を基板寸
法より一回り大きく形成し、くりぬき部分に立設された
複数の固定ピンによって基板収納領域を形成し基板の角
部や辺部を保持する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来に基板洗
浄装置の基板の保持構造は整流板に対する基板の装着を
容易にするために、基板収納領域の寸法を基板より大き
く形成している。このため、基板は整流板の基板収納領
域の中で容易に移動できる遊嵌状態で保持されることに
なる。その結果、基板は整流板の回転開始と同時に慣性
方向に移動し、壁面または固定ピンに衝突する。特に、
厚さが１ｍｍ前後のガラスで形成されている液晶用矩形
基板の場合は、衝突によって基板周辺部が破損したり、
基板が割れてしまったりするという問題がある。

【０００６】一方、基板の移動を最小限にして衝突によ
る衝撃を少なくするために整流板の基板収納領域の寸法
を基板寸法にできるだけ近付け、クリアランスを小さく
することが考えられるが、この場合、基板を整流板に装
着する時に高い位置決め精度が要求されると共に、高速
回転後に整流板と基板とが噛み合ってしまい整流板から
基板を取り外す時に割ってしまう危険があるという問題
がある。

【０００７】本発明は上記従来の課題に鑑みなされたも
のであり、その目的は、回転時の基板の固定を確実に行
い、基板の衝突による破損を防止すると共に、基板の着
脱を容易に行うことのできる基板洗浄装置を提供するこ
とにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明は、基板をそれが形成する平面内で回転させ
つつその表面に洗浄液を供給して、基板の洗浄を行う基
板洗浄装置において、洗浄されるべき基板が載置され、
載置された基板とともに回転可能であるとともに、昇降
可能な基板テーブルと、基板テーブルに載置された基板
の少なくとも対辺位置に配置され、基板表面に対して略
水平方向に開閉可能であるとともに、閉状態において基
板を挟み込んで基板テーブルに固定する複数の開閉チャ
ックピンと、基板テーブルが降下位置にあるときには基
板を開閉チャックピンによって挟み込んで基板テーブル
に固定し、基板テーブルが上昇位置にあるときには開閉
チャックピンによる基板の固定を解放する手段であっ
て、開閉チャックピンを開方向に付勢する付勢手段と、
基板テーブルの上昇と同時に付勢手段の付勢力によって
開閉チャックピンを開方向に駆動して基板の固定を解放
する連動機構と、を含むチャックピン動作手段と、を有
することを特徴とする。

【０００９】上記構成によれば、基板は回転可能な状態
である降下位置にある時のみ、基板は対辺位置に配置さ
れた開閉チャックピンによって基板面に対して略水平方
向に挟み込み固定される。また、基板の着脱を行う上昇
位置に基板がある時には前記開閉チャックピンの固定が
解放される。したがって、基板の回転前に該基板がしっ
かりと固定されるため基板が移動し、周辺部分に衝突し
て破損することを確実に防止することができると共に、
基板着脱時には固定が解放されるため該基板の着脱作業
を容易に行うことができる。また、基板を保持する基板
テーブルの上昇と同時に連動機構が付勢手段によって動
作し、開閉チャックピンの開動作を行う。したがって、
複雑な機構を用いることなく基板の固定解放動作を容易
に行うことができる。

【００１０】

【００１１】

【００１２】また、前記目的を達成するために、本発明
は、上記構成において、前記チャックピン動作手段は、
さらに、基板テーブルの降下時に開閉チャックピンの下
端が当接するストッパーを有し、基板テーブルの下降時
に開閉チャックピンの下端がストッパーに当接すること
によって、付勢手段の付勢力に逆らって開閉チャックピ
ンが閉方向に移動させられて基板を挟み込んで基板テー
ブルに固定することを特徴とする。

【００１３】上記構成によれば、基板を保持する基板テ
ーブルが降下し、開閉チャックピンの下端がストッパー
に当接すると、その当接状態に応じて前記開閉チャック
ピンが閉動作を行う。したがって、複雑な機構を用いる
ことなく基板の挟み込み固定を行うことができる。ま
た、ストッパー高さを調節することで挟み込み強度の調
整が可能であると共に、挟み込み量を容易に変更可能に
なるので、異なるサイズの基板の固定を容易に行うこと
ができる。

【００１４】前記目的を達成するために、本発明は、基
板をそれが形成する平面内で回転させつつその表面に洗
浄液を供給して、基板の洗浄を行う基板洗浄装置におい
て、洗浄されるべき基板が載置され、載置された基板と
ともに回転可能であるとともに、昇降可能な基板テーブ
ルと、基板テーブルに載置された基板の少なくとも対辺
位置に配置され、基板表面に対して略水平方向に開閉可
能であるとともに、閉状態において基板を挟み込んで基
板テーブルに固定する複数の開閉チャックピンと、基板
テーブルが降下位置にあるときには基板を開閉チャック
ピンによって挟み込んで基板テーブルに固定し、基板テ
ーブルが上昇位置にあるときには開閉チャックピンによ
る基板の固定を解放する手段であって、基板テーブルの
昇降状態を検出する検出手段と、前記検出手段の検出結
果に基づいて、開閉チャックピンを開閉動作するアクチ
ュエータと、を含むチャックピン動作手段と、を有する
ことを特徴とする。

【００１５】この構成によれば、例えば、光学センサや
近接センサ等の検出手段によって、基板テーブルの昇降
状態を正確に認識し、その検出結果に基づいて開閉チャ
ックピンの開閉動作を行うので、基板洗浄装置の制御系
で基板テーブルの昇降状態や開閉チャックピンの開閉状
態の認識を容易かつ確実に行うことが可能になり基板の
保持を確実に行うことができる。

【００１６】前記目的を達成するために、本発明は、上
記構成において、開閉チャックピンの基板に当接する部
分は弾性材料によって形成されていることを特徴とす
る。

【００１７】上記構成によれば、弾性部材によって開閉
チャックピンの必要以上の押圧力を吸収することができ
るので、挟み込み固定による基板の破損を確実に防止す
ることができる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に従って説明する。図１には、本実施形態である基板洗
浄装置１０の一部を破断した斜視図が示されている。ま
た、図２、図３には、図１の垂直断面図が示され、図２
は基板テーブルが降下位置にある状態を示し、図３は基
板テーブルが上昇位置にある状態を示している。

【００１９】本実施形態の特徴的事項は、基板の着脱を
容易にするために当該基板を載置する基板テーブルが昇
降自在であると共に、前記基板テーブルの昇降に伴って
基板を固定するチャック構造の開閉が連動して行われ、
チャック構造の閉動作時には基板の保持を確実に行い、
開動作時には基板の着脱を容易に行えるところである。

【００２０】図に示すように基板１２は、略円板形状の
基板テーブル１４に設けられた複数の載置ピン１６上に
ほぼ水平に載置され、後述する基板チャック構造によっ
て固定される。また、前記基板テーブル１４は後述する
テーブル昇降機構によって基板１２が載置された状態で
昇降可能である。図１に示すように基板１２が長方形の
場合、該基板１２を回転させた時に、回転斑や、基板１
２の角部分で気流が乱れることを防止するために、基板
周囲に略円板形状の整流板１８が設けられている。この
整流板１８は基板１２を同一平面内に収容できるよう
に、基板１２の形状に合わせて長方形形状にくりぬかれ
ている。この整流板１８は、基板１２とほぼ等しい厚さ
を有する円板が望ましく、基板１２と整流板１８が全体
として円板形状になるようにすることによって、前述し
たような回転斑や乱流の発生を良好に防止することがで
きる。また、前記基板テーブル１４の下方には基台テー
ブル２０が配置され、前記整流板１８を複数の支持柱２
２によって固定的に支持している。

【００２１】前記基台テーブル２０は内部にスプライン
軸２４を有する回転自在な回転筒２６に固定されてい
る。また、前記スプライン軸２４と回転筒２６の内壁と
の間にはボールスプライン２８が挿入され（本実施形態
ではスプライン軸２４の上部と下部の２か所）、該スプ
ライン軸２４が上下にスムーズに摺動できるようになっ
ている。一方、前記回転筒２６は複数のベアリング３０
を介してフレーム３２に固定された保持筒３４に回転自
在に保持されている。前記ボールスプライン２８は回転
筒２６の内壁に固定されているので、フレーム３２に対
して回転筒２６を回転させることによってスプライン軸
２４を共回りさせることができる。つまり、駆動ベルト
３６を介して回転筒２６に接続された回転筒駆動モータ
３８を駆動することによって、回転筒２６及びスプライ
ン軸２４を同時に回転駆動することができる。前述した
ように回転筒２６には基台テーブル２０が固定され、ス
プライン軸２４には基板テーブル１４が固定されている
ので、回転筒２６を回転駆動することで、基台テーブル
２０、整流板１８、基板テーブル１４、基板１２を一体
に回転駆動することができる。この結果、基板１２を高
速回転させて残留している洗浄液を振り払い除去するこ
とができる。なお、スプライン軸２４の下端にはロータ
リーエンコーダ４０が接続され、スプライン軸２４の回
転変位や回転速度を検出し、図示しない制御部にその検
出結果をフィードバックして、最適な回転制御を行って
いる。

【００２２】一方、前述したようにスプライン軸２４は
ボールスプライン２８によって上下方向に摺動可能であ
る。以下、スプライン軸２４の昇降機構について説明す
る。前記フレーム３２には前記スプライン軸２４と平行
に支柱４２が立設され、該支柱４２と平行に回転自在な
棒状のネジ軸４４が設けられている。このネジ軸４４の
下端には駆動ベルト４６を介して昇降モータ４８が接続
されている。また、前記ネジ軸４４にはナット部材５０
が螺合し、ネジ軸４４の回転に伴って昇降するようにな
っている。さらに、前記ナット部材５０には支持部材５
２が固定され、フローティングジョイント５４を介し
て、前記ロータリーエンコーダ４０を支持する昇降案内
板５６に接続されている。したがって、昇降モータ４８
によってネジ軸４４を回転駆動しナット部材５０を昇降
させることによってロータリーエンコーダ４０が接続さ
れたスプライン軸２４を上下方向に移動させることがで
きる。なお、前記ネジ軸４４と平行にガイドロッド５８
が設けられていると共に、ナット部材５０に固定された
支持部材５２とロータリーエンコーダ４０が固定されて
いる昇降案内板５６との間にフローティングジョイント
５４を介在させているため、昇降案内板５６の昇降動作
を滑らかに行うことができる。図２は前記昇降機構を降
下動作させて、スプライン軸２４が降下した状態、つま
り、基板テーブル１４が降下し回転筒駆動モータ３８の
駆動により回転可能な状態を示し、図３はスプライン軸
２４が上昇した状態、つまり、基板テーブル１４が上昇
し基板洗浄装置１０に対して基板１２を着脱可能な状態
であることを示している。

【００２３】前述したように、基板１２に残留した洗浄
液を振り払うために該基板１２は高速で回転させる必要
があり、回転時には確実に基板テーブル１４に基板１２
を固定する必要がある。以下、基板のチャック構造につ
いて詳細に説明する。図１〜図３に示すように、基板テ
ーブル１４の周辺部には基板１２を把持固定する開閉チ
ャックピンとして、チャックピン６０が対辺位置に複数
個設けられている。このチャックピン６０は図２に示す
ように、基板テーブル１４が降下位置にある時には、ほ
ぼ垂直に起立する閉動作を行い基板１２を挟み込み所定
位置に固定する。また、基板テーブル１４が上昇位置に
ある時には、図３に示すようにチャックピン６０は外方
向に倒れる開動作を行い基板１２の解放を行う。

【００２４】図４、図５を用いて、チャックピン６０の
構造及び開閉動作について説明する。前記チャックピン
６０は略Ｌ字型形状を呈し、基板テーブル１４の周辺部
分に設けられたブラケット６２に回動軸６０ａを中心に
回動自在に軸支されている。前記ブラケット６２は基板
テーブル１４の裏面側に設けられ、基板テーブル１４の
開口１４ａを介してチャックピン６０の一端である基板
把持部６４が基板テーブル１４の表面側に突出するよう
になっている。また、チャックピン６０の他端側のアー
ム部６６にはストッパーボルト６８が立設され、チャッ
クピン６０の下面側にストッパーヘッド６８ａが突出
し、基板テーブル１４が降下した時に後述するストッパ
ーブロックに当接するようになっている。さらに、前記
ストッパーボルト６８には付勢手段として、例えばスプ
リング７０が周設されている。このスプリング７０の一
端は前記チャックピン６０のアーム部６６の上面に係合
し、他端は基板テーブル１４のスプリング受け１４ｂに
係合している。前記アーム部６６とストッパーブロック
とが連動機構を構成し、さらに、スプリング７０と連動
機構とによって、チャックピン動作手段を構成してい
る。したがって、前記スプリング７０の付勢力によって
チャックピン６０は回動軸６０ａを中心に図４中矢印Ａ
方向に回転し、その結果、基板把持部６４は図４中矢印
Ｂ方向に開動作を行う。なお、基板１２の着脱を行うた
めの前記チャックピン６０の開閉量は数ｍｍで十分であ
るため、チャックピン６０の回動量はごく僅かであり、
基板把持部６４は、ほぼ水平方向（矢印Ｂ方向）に開閉
する。

【００２５】上述したように基板テーブル１４が昇降モ
ータ４８（図３参照）の駆動によって上昇すると（図３
の状態）、基板１２は載置ピン１６によってのみ支持さ
れた解放状態になり、図示しない基板搬送装置（例え
ば、シャトル搬送装置）のアーム等によって容易に把持
可能になり、基板洗浄装置１０に対して基板１２の着脱
を容易に行うことができる。

【００２６】次に、昇降モータ４８（図２参照）を駆動
して基板テーブル１４を降下させて、チャックピン６０
が基台テーブル２０に設けられた開口２０ａを通過する
と、ストッパーボルト６８のストッパーヘッド６８ａが
基台テーブル２０の裏面側に設けられたストッパーブロ
ック７２に当接する。前記ストッパーヘッド６８ａがス
トッパーブロック７２に当接すると、ストッパーボルト
６８はスプリング７０の付勢力に逆らって引き起こされ
る。つまり、チャックピン６０が図５中矢印Ｃ方向に閉
動作して、載置ピン１６によって支持されている基板１
２に押し付けられる。前述したようにチャックピン６０
は基板１２の対辺位置に複数個設けられているため、基
板１２を挟み込み固定することができる。

【００２７】前記チャックピン６０の基板把持部６４は
弾性部材、例えばフッ素樹脂等で形成され、基板１２を
挟み込み固定する時の必要以上の押圧力を吸収し、基板
１２が必要以上の押圧により破損することを防止してい
る。また、チャックピン６０の回動角（起き上がり角
度）はストッパーブロック７２の当接面７２ａの高さを
調整することで容易に調整することができるので、基板
の種類によって押圧力を変更する場合や異なるサイズの
基板を固定する場合でも、容易に押圧力や押圧量の変
更、調整を行うことが可能で、汎用性が向上する。

【００２８】次に、基板洗浄装置による基板からの洗浄
液の除去手順を説明する。まず、基板洗浄装置１０は図
３に示すように昇降モータ４８を例えば正転方向に駆動
することによって、基板テーブル１４を上昇させて、基
板１２が図示しない基板搬送装置から供給されるのを待
つ。この時、基板テーブル１４は上昇位置にあるのでチ
ャックピン６０はスプリング７０の付勢力によって開動
作し基板１２の供給を待っている。基板１２が基板テー
ブル１４上に供給されてことが図示しないセンサ等によ
って確認されると、昇降モータ４８は上昇時とは逆方向
に回転し、基板テーブル１４を降下させる。基板テーブ
ル１４の降下が進行し、ストッパーボルト６８のストッ
パーヘッド６８ａがストッパーブロック７２に当接する
と、チャックピン６０の閉動作が開始され基板１２を挟
み込みが始まり、基板１２の回転前に該基板１２を確実
に固定する。この時、各チャックピン６０の閉動作は同
時に行われるので、基板テーブル１４上における基板１
２に載置位置が所定の位置からずれていても基板１２の
載置位置は自動的に中央に修正される。なお、昇降モー
タ４８の駆動量は、図示しないロータリーエンコーダや
センサによって認識されチャックピン６０が必要以上に
基板１２を押圧しないようになっている。

【００２９】図２に示すように保持筒３４は下部に下部
フランジ３４ａを有し、ここでフレーム３２に固定され
ている。また、保持筒３４は、上部にも上部フランジ３
４ｂを有しており、アウタカップ７６が固定されてい
る。このアウタカップ７６は、その内部に基板１２や基
板テーブル１４、さらには後述する環状フード７８を納
めるように配置されており、基板１２から振り払われた
洗浄液を回収できるようになっている。つまり、アウタ
カップ７６の底部の最下部には排水管８０が設けられて
おり、アウタカップ７６の底部にたまる洗浄液はここか
ら排出される。また、基板１２から振り払われた洗浄液
は環状フード７８の内壁に衝突したり、基板１２の高速
回転の結果、細かい粒となってアウタカップ７６の内部
の空気中に飛散する。この洗浄液の飛沫は、吸引管８４
より空気とともに吸引ブロア８２に吸引される。つま
り、アウタカップ７６の底部付近に吸引管８４の開口
（吸引孔８４ａ）があり、ここより空気を吸い込んでい
る。この吸引により、アウタカップ７６内でおおよその
空気の流れは上から下への流れとなり、洗浄液回収のた
めの空気の流れを安定させている。

【００３０】本実施形態においては、図１に示すように
基板１２の装着固定が終了すると洗浄液を供給する洗浄
液供給用のノズル８６が突出し、さらに基板１２の表面
をブラッシングするブラシ８８が突出する。ブラシ８８
は、ブラシアーム９０の先端に設けられ、ブラシアーム
９０内に設けられた動力伝達機構により回転駆動され
る。洗浄工程においては、洗浄液をノズル８６から供給
しつつ、ブラシ８８によってブラッシングする。ブラシ
アーム９０は、基板１２の表面全体がブラッシングされ
るように、図示しない移動機構によってブラシ８８を移
動させながら、基板１２の洗浄を行う。

【００３１】さらに本実施形態においては、基板１２の
洗浄作業が終了した後、基板１２の乾燥作業を行うため
の上部気体噴射ノズル９２、下部気体噴射ノズル９４が
設けられている。この上部気体噴射ノズル９２、下部気
体噴射ノズル９４によって、基板１２の上下より窒素な
どの活性の低い気体を供給する。前記上部気体噴射ノズ
ル９２は基板１２の上方から突出し気体を噴射し、下部
気体噴射ノズル９４はスプライン軸２４の上端に形成さ
れている。この下部気体噴射ノズル９４にはスプライン
軸２４に設けられた気体供給路９４ａから気体が供給さ
れ基板１２の下面に気体が吹き付けられる。この気体噴
射により基板の洗浄液は、かなりの部分吹き飛ばされる
が、基板１２上で気流の直接あたらない部分には洗浄液
が残留する可能性がある。そこで、基板１２を高速回転
させることによって、残留した洗浄液の完全な振り払い
を行う。この時、基板１２はチャックピン６０によって
確実に挟み込まれているので、回転中に基板１２が移動
し他の部材に衝突して破損することがない。

【００３２】なお、保持筒３４の上部の周囲には、集塵
ダクト９６が配置されている。この集塵ダクト９６は、
集塵管９６ａを介して前記の吸引ブロア８２に接続され
ており、当該集塵ダクト９６の内周面に設けた集塵孔９
６ｂより保持筒３４の上部付近の塵を集めて、アウタカ
ップ７６の外に排出する。

【００３３】以上のように、基板１２に残留した洗浄液
の除去が終了したら昇降モータ４８を再び正転方向に駆
動して、スプライン軸２４を上昇させて、基板テーブル
１４を上昇させると共に、チャックピン６０による基板
１２の挟み込み固定を解放する。前述してように基板１
２は載置ピン１６のみによって支持されるので、基板搬
送機構の搬送アーム等によって容易に基板洗浄装置１０
から取り出すことができる。この時、前記載置ピン１６
の高さを高くして基板１２の載置位置と基板テーブル１
４との距離を大きくすることによって搬送アーム等挿入
が容易になり、基板１２の着脱効率を向上することがで
きる。なお、基板テーブル１４の回転時は基板１２はチ
ャックピン６０によって確実に固定されているため、載
置ピン１６の高さを高くすることが基板１２等の高速回
転に影響することはない。なお、本実施形態において
は、チャックピン６０を基板１２の１辺に対して２個つ
づ配置した例を説明したが、必要に応じてその数を増減
したり、配置位置を変更しても同様の挟み込み固定の効
果を得ることができる。

【００３４】なお、上述した実施形態においては、基板
テーブル１４の昇降動作に連動したスプリング７０とス
トッパーブロック７２との作用によって、チャックピン
６０が機械的に開閉動作する例を示したが、例えば、基
板テーブル１４の上昇位置と下降位置とを検出する検出
手段を設け、その検出結果に基づいてアクチュエータを
動作させてチャックピン６０が電気的に開閉動作するよ
うにしてもよい。

【００３５】検出手段に、例えば光学センサや近接セン
サを用いた場合、検出手段の取り付け位置は、基板テー
ブル１４の近傍で直接基板テーブル１４の位置を検出で
きる位置でも、スプライン軸２４に沿った位置やネジ軸
４４に沿った位置で間接的に基板テーブル１４の位置を
認識できる位置でもよい。また、昇降モータ４８の回転
数や回転方向を検出する検出器を用いて、基板テーブル
１４の位置を認識するようにしてもよい。これらの検出
手段の検出結果に基づいて、例えばモータやシリンダ等
のアクチュエータを駆動して、チャックピン６０が開閉
動作を行う。この場合、アクチュエータの駆動軸によっ
て直接チャックピン６０を動作させてもよいが、チャッ
クピン６０が取り付けられた基板テーブル１４は高速で
回転するためモータやシリンダによって動作するシャフ
トやワイヤーを用いて間接的にチャックピン６０を開閉
動作させることが望ましい。

【００３６】このような構成にすることによって、基板
洗浄装置の制御系で電気的に基板テーブル１４の昇降状
態の認識やチャックピン６０の開閉動作の認識を容易に
行うことができるので確実な基板の固定を行うことがで
きる。

【００３７】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、基板は
回転可能な状態である降下位置にある時のみ、基板を対
辺位置に配置された開閉チャックピンによって基板面に
対して略水平方向に挟み込み固定される。また、基板の
着脱を行う上昇位置に基板がある時に前記開閉チャック
ピンの固定が解放される。したがって、基板の回転時に
は該基板がしっかりと固定され、基板が移動し周辺部分
に衝突して破損することを確実に防止することができる
と共に、基板着脱時には固定が解放されるため該基板の
着脱作業を容易に行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明に係る基板洗浄装置の実施形態の一部
破断斜視図である。

【図２】 本発明に係る基板洗浄装置の実施形態で基板
が降下位置にある時の断面図である。

【図３】 本発明に係る基板洗浄装置の実施形態で基板
が上昇位置にある時の断面図である。

【図４】 本発明に係る基板洗浄装置の実施形態におけ
るチャック構造の開状態を説明する拡大図である。

【図５】 本発明に係る基板洗浄装置の実施形態におけ
るチャック構造の閉状態を説明する拡大図である。

【符号の説明】

１０ 基板洗浄装置、１２ 基板、１４ 基板テーブ
ル、１６ 載置ピン、１８ 整流板、２０ 基台テーブ
ル、２４ スプライン軸、２６ 回転筒、３４保持筒、
３８ 回転筒駆動モータ、４８ 昇降モータ、６０ チ
ャックピン、６４ 基板把持部、７０ スプリング、７
２ ストッパーブロック。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−291030（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−206097（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−153839（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−207571（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−195663（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/304 H01L 21/68

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板をそれが形成する平面内で回転させ
   つつその表面に洗浄液を供給して、基板の洗浄を行う基
   板洗浄装置において、 洗浄されるべき基板が載置され、載置された基板ととも
   に回転可能であるとともに、昇降可能な基板テーブル
   と、 基板テーブルに載置された基板の少なくとも対辺位置に
   配置され、基板表面に対して略水平方向に開閉可能であ
   るとともに、閉状態において基板を挟み込んで基板テー
   ブルに固定する複数の開閉チャックピンと、 基板テーブルが降下位置にあるときには基板を開閉チャ
   ックピンによって挟み込んで基板テーブルに固定し、基
   板テーブルが上昇位置にあるときには開閉チャックピン
   による基板の固定を解放する手段であって、開閉チャッ
   クピンを開方向に付勢する付勢手段と、基板テーブルの
   上昇と同時に付勢手段の付勢力によって開閉チャックピ
   ンを開方向に駆動して基板の固定を解放する連動機構
   と、を含むチャックピン動作手段と、 を有することを特徴とする基板洗浄装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載の基板洗浄装置において、 前記チャックピン動作手段は、さらに、基板テーブルの
   降下時に開閉チャックピンの下端が当接するストッパー
   を有し、基板テーブルの下降時に開閉チャックピンの下
   端がストッパーに当接することによって、付勢手段の付
   勢力に逆らって開閉チャックピンが閉方向に移動させら
   れて基板を挟み込んで基板テーブルに固定することを特
   徴とする基板洗浄装置。
3. 【請求項３】 基板をそれが形成する平面内で回転させ
   つつその表面に洗浄液を供給して、基板の洗浄を行う基
   板洗浄装置において、 洗浄されるべき基板が載置され、載置された基板ととも
   に回転可能であるとともに、昇降可能な基板テーブル
   と、 基板テーブルに載置された基板の少なくとも対辺位置に
   配置され、基板表面に対して略水平方向に開閉可能であ
   るとともに、閉状態において基板を挟み込んで基板テー
   ブルに固定する複数の開閉チャックピンと、 基板テーブルが降下位置にあるときには基板を開閉チャ
   ックピンによって挟み 込んで基板テーブルに固定し、基
   板テーブルが上昇位置にあるときには開閉チャックピン
   による基板の固定を解放する手段であって、 基板テーブ
   ルの昇降状態を検出する検出手段と、前記検出手段の検
   出結果に基づいて、開閉チャックピンを開閉動作するア
   クチュエータと、を含むチャックピン動作手段と、 を有することを特徴とする基板洗浄装置。
4. 【請求項４】 請求項１から請求項３のいずれか１つに
   記載の基板洗浄装置において、 開閉チャックピンの基板に当接する部分は弾性材料によ
   って形成されていることを特徴とする基板洗浄装置。