CN219738924U - 一种非接触式晶圆清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种非接触式晶圆清洗装置,包括一清洗台面,清洗台面中间设有伯努利吸盘,清洗台面的边沿处设有若干夹持机构,夹持机构上设有夹持位,夹持位高于伯努利吸盘;所述清洗台面外侧设有可升降的挡水罩,清洗台面上方设有视觉检测组件。本实用新型的清洗台面上设置伯努利吸盘,对晶圆进行非接触式吸附,方便晶圆进行清洗作业;在清洗台面周围设置一圈夹持组件,可对晶圆边沿进行限位,防止晶圆相对伯努利吸盘发生旋转,避免晶圆偏位造成损坏。
Description
技术领域
本实用新型涉及晶圆清洗技术领域,特别涉及一种非接触式晶圆清洗装置。
背景技术
晶圆是指制作硅半导体积体电路所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆。随着半导体器件关键尺寸的不断缩小以及新材料的引入,在晶圆的生产加工过程中,对晶圆表面的洁净度要求越来越严苛,通常需要进行多次清洗,以去除晶圆上沾附的污垢及工艺液。
晶圆清洗时,真空台面利用负压吸附固定晶圆,利用冲洗、浸洗、药浴等方式去清洗掉晶圆上的污垢,保证晶圆的洁净度。但是,有一些晶圆为非接触式晶圆,这类晶圆并不能被真空台面吸附固定,常规的清洗设备并不适用,亟需设计一款非接触式晶圆清洗装置。
实用新型内容
为了解决上述问题,本实用新型提供了一种非接触式晶圆清洗装置,利用非接触方式来固定晶圆,保证此类晶圆可以正常进行清洗工序。
为此,本实用新型的技术方案是:一种非接触式晶圆清洗装置,包括一清洗台面,清洗台面中间设有伯努利吸盘,清洗台面的边沿处设有若干夹持机构,夹持机构上设有夹持位,夹持位高于伯努利吸盘;所述清洗台面外侧设有可升降的挡水罩,清洗台面上方设有视觉检测组件。
本实用新型采用伯努利吸盘来对晶圆进行吸附,伯努利吸盘利用伯努利原理,可以非接触地吸附晶圆;因为伯努利吸盘在吸附晶圆过程中,晶圆在气压作用下会相对伯努利吸盘发生旋转,旋转过程中会导致晶圆清洗不到位,且晶圆容易发生碰撞损坏,因此设置了多个夹持机构,由于晶圆外围有一圈边沿可以接触,所以夹持机构可夹在晶圆的边沿处,起到限制晶圆旋转的作用;视觉检测组件可用于检测晶圆是否放置到位,避免晶圆放置不到位时,夹持机构损坏晶圆。
在上述方案的基础上并作为上述方案的优选方案:所述夹持机构上设有一可开合的夹持件,挡水罩内部设有一圈环形台阶面,环形台阶面与夹持件配合工作,挡水罩上移过程中可驱使夹持件闭合。
在上述方案的基础上并作为上述方案的优选方案:所述夹持件包括夹持基座和可转动的夹持臂,夹持基座顶端设有凸起的夹持面,所述夹持臂前端与夹持面形成夹持位,夹持臂后端与挡水罩的环形台阶面配合工作。
初始状态,夹持臂前端上翘,夹持位呈打开状态,将晶圆边沿放置在夹持面上;当晶圆放置完成,挡水罩上移过程中,环形台阶面将夹持臂后端抬起,从而闭合夹持臂前端和夹持面,夹持位呈闭合状态,夹持在晶圆边沿处,防止清洗过程中晶圆相对清洗台面发生旋转。
在上述方案的基础上并作为上述方案的优选方案:所述夹持臂通过销轴转动安装在夹持基座上,销轴上设有扭簧。
在上述方案的基础上并作为上述方案的优选方案:所述清洗台面的边沿处还设有若干均匀分布的支撑柱,支撑柱顶端与夹持面位于同一高度的同一圆周上。
在上述方案的基础上并作为上述方案的优选方案:所述清洗台面下方设有驱使其旋转的旋转机构,清洗台面上方设有可旋转的喷头组件。
在上述方案的基础上并作为上述方案的优选方案:所述伯努利吸盘下方设有气路接头,气路接头连接气源。
在上述方案的基础上并作为上述方案的优选方案:还包括竖直设置的第一执行机构,第一执行机构上固定安装有连接板;所述挡水罩外侧均匀设置若干升降杆,升降杆另一端固定在连接板上,第一执行机构驱使挡水罩升降。
在上述方案的基础上并作为上述方案的优选方案:还包括控制单元,视觉检测组件用于检测清洗台面上的晶圆放置情况,并将晶圆放置情况发送至控制单元,控制单元控制挡水罩工作。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1、清洗台面上设置伯努利吸盘,对晶圆进行非接触式吸附,方便晶圆进行清洗作业;
2、在清洗台面周围设置一圈夹持组件,可对晶圆边沿进行限位,防止晶圆相对伯努利吸盘发生旋转;
3、利用可升降的挡水罩来带动夹持组件进行夹持,无需额外为夹持组件通过驱动力,整体结构更加简单,操作方便;
4、设置了视觉检测组件,可实时检测清洗台面上的晶圆情况,在晶圆放置到位后,挡水罩才会带动夹持组件进行夹持,避免晶圆偏位造成损坏。
附图说明
以下结合附图和本实用新型的实施方式来作进一步详细说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型的结构俯视图(隐藏顶面);
图3为本实用新型初始状态的内部结构示意图;
图4为图3的局部放大图;
图5为本实用新型初始状态的内部结构侧视图;
图6为本实用新型清洗状态的内部结构示意图;
图7为图6的局部放大图;
图8为本实用新型清洗状态的内部结构侧视图;
图9为本实用新型的使用状态图;
图10为图9的局部放大图。
图中标记为:清洗腔1、底板11、清洗台面2、旋转轴21、皮带轮组22、旋转电机23、伯努利吸盘3、夹持机构4、夹持基座41、夹持臂42、夹持面43、扭簧44、支撑柱5、挡水罩6、升降杆61、连接板62、第一执行机构63、环形台阶面64、喷头组件7、摆臂71、第二旋转机构72、喷淋头73、晶圆8。
具体实施方式
在本实用新型的描述中,需要说明的是,对于方位词,如有术语“中心”,“横向(X)”、“纵向(Y)”、“竖向(Z)”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示方位和位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于叙述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定方位构造和操作,不能理解为限制本实用新型的具体保护范围。
此外,如有术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或隐含指明技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”特征可以明示或者隐含包括一个或者多个该特征,在本实用新型描述中,“数个”、“若干”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
参见附图。本实施例所述非接触式晶圆清洗装置,包括由钣金件围成的矩形清洗腔1,清洗腔下方设有底板11,底板中间设有一清洗台面2,清洗台面2下方设有驱使其旋转的旋转机构,旋转机构包括旋转轴21、皮带轮组22和旋转电机23,旋转电机23通过皮带轮组22、皮带带动旋转轴21,从而使得清洗台面2可以发生旋转。
所述清洗台面2中间设有伯努利吸盘3,伯努利吸盘3下方设有气路接头,气路接头连接气源。气源可以伯努利吸盘中间供气,使得伯努利吸盘上方空气流速变大,晶圆放置在伯努利吸盘上方时,晶圆上方的大气压可以将晶圆向伯努利吸盘推动,并保持非接触式吸附状态。
所述清洗台面2的边沿处设有若干均匀分布的夹持机构4和支撑柱5;所述夹持机构4上设有一可开合的夹持件,夹持件包括夹持基座41和可转动的夹持臂42,夹持基座41顶端设有凸起的夹持面43,夹持臂42前端与夹持面43形成夹持位;所述夹持臂42通过销轴转动安装在夹持基座41上,销轴上设有扭簧44,扭簧44可以使夹持臂42保持在前端上翘的打开状态。支撑柱5顶端与夹持面43位于同一高度的同一圆周上,同时,夹持面43高于伯努利吸盘3,即晶圆边沿与夹持面接触时,晶圆中间悬空于伯努利吸盘上方,与伯努利吸盘为非接触结构。
所述清洗台面2外侧设有可升降的挡水罩6,挡水罩6外侧均匀设置若干升降杆61,升降杆61另一端固定在连接板62上,连接板62安装在竖向设置的第一执行机构63上,第一执行机构63通过升降杆61驱使挡水罩6上下移动。挡水罩6内部设有一圈环形台阶面64,环形台阶面64与夹持臂42后端配合工作,挡水罩6上移过程中,环形台阶面64可以将夹持臂42后端抬起,从而使得夹持臂42前端与夹持面43闭合,夹持住晶圆8。当晶圆8清洗完毕后,挡水罩6下降,环形台阶面64向下移动,夹持臂42在扭簧44的作用下复位打开,方便拾取晶圆。
所述清洗台面2上方设有可旋转的喷头组件7,包括摆臂71和驱使摆臂转动的第二旋转机构72,摆臂上设有喷淋头73,可冲洗清洗台面上的晶圆,去除污垢。
所述晶圆清洗装置还包括控制单元和视觉检测组件,视觉检测组件用于检测清洗台面上的晶圆放置情况,判断晶圆是否放置到位,并将晶圆放置情况发送至控制单元,控制单元根据晶圆放置情况来控制挡水罩工作,确保晶圆偏位时,挡水罩不会上升,免得带动夹持机构,损坏晶圆。
初始状态,夹持臂42前端上翘,夹持位呈打开状态;伯努利吸盘3开始通气,使得伯努利吸盘3上方空气流速变大,压力变低,此时将晶圆8放置在伯努利吸盘3上方,大气压将晶圆推向伯努利吸盘,此时晶圆8边沿放置在夹持面43上。
当视觉检测组件检测到晶圆放置到位后,控制单元驱使第一执行机构工作,驱使挡水罩6上升;而挡水罩6上移过程中,环形台阶面64将夹持臂42后端抬起,从而闭合夹持臂42前端和夹持面43,夹持位呈闭合状态,夹持在晶圆8边沿处,防止清洗过程中晶圆相对清洗台面发生旋转。
当挡水罩6上升到最高处后,晶圆8被伯努利吸盘3、夹持组件4固定限位后,旋转电机通过皮带轮组、旋转轴驱使清洁台面2旋转,同时,第二旋转机构72驱使摆臂71转动,喷淋头73对晶圆进行冲洗清洁。
当晶圆冲洗完成中,第二旋转机构72驱使摆臂71向外转动复位,旋转电机停止工作,清洁台面2停止旋转;然后挡水罩6在第一执行机构的作用下向下移动,挡水罩6下降过程中,环形台阶面64离开夹持臂42后端,夹持臂42在扭簧44的作用下复位打开,夹持臂42前端离开晶圆8,伯努利吸盘3停止通气,最后取出清洗后的晶圆即可。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (9)
1.一种非接触式晶圆清洗装置,包括一清洗台面,其特征在于:清洗台面中间设有伯努利吸盘,清洗台面的边沿处设有若干夹持机构,夹持机构上设有夹持位,夹持位高于伯努利吸盘;所述清洗台面外侧设有可升降的挡水罩,清洗台面上方设有视觉检测组件。
2.如权利要求1所述的一种非接触式晶圆清洗装置,其特征在于:所述夹持机构上设有一可开合的夹持件,挡水罩内部设有一圈环形台阶面,环形台阶面与夹持件配合工作,挡水罩上移过程中可驱使夹持件闭合。
3.如权利要求2所述的一种非接触式晶圆清洗装置,其特征在于:所述夹持件包括夹持基座和可转动的夹持臂,夹持基座顶端设有凸起的夹持面,所述夹持臂前端与夹持面形成夹持位,夹持臂后端与挡水罩的环形台阶面配合工作。
4.如权利要求3所述的一种非接触式晶圆清洗装置,其特征在于:所述夹持臂通过销轴转动安装在夹持基座上,销轴上设有扭簧。
5.如权利要求3所述的一种非接触式晶圆清洗装置,其特征在于:所述清洗台面的边沿处还设有若干均匀分布的支撑柱,支撑柱顶端与夹持面位于同一高度的同一圆周上。
6.如权利要求1所述的一种非接触式晶圆清洗装置,其特征在于:所述清洗台面下方设有驱使其旋转的旋转机构,清洗台面上方设有可旋转的喷头组件。
7.如权利要求1所述的一种非接触式晶圆清洗装置,其特征在于:所述伯努利吸盘下方设有气路接头,气路接头连接气源。
8.如权利要求1所述的一种非接触式晶圆清洗装置,其特征在于:还包括竖直设置的第一执行机构,第一执行机构上固定安装有连接板;所述挡水罩外侧均匀设置若干升降杆,升降杆另一端固定在连接板上,第一执行机构驱使挡水罩升降。
9.如权利要求1所述的一种非接触式晶圆清洗装置,其特征在于:还包括控制单元,视觉检测组件用于检测清洗台面上的晶圆放置情况,并将晶圆放置情况发送至控制单元,控制单元控制挡水罩工作。
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