JP3342481B2 - チップ部品のリフロー半田付け方法 - Google Patents

チップ部品のリフロー半田付け方法

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    • H05K3/3457Solder materials or compositions; Methods of application thereof

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は半田合金とこれを用いたチップ部品の半田付
け方法に関するものである。
従来の技術 電子回路基板の製造においてプリント基板に実装され
るチップ部品のサイズは、3.2×1.6、2.0×1.25、1.6×
0.8、1.0×0.5(いずれも単位はmm)と微小化の傾向に
ある。
このようなチップ部品をプリント基板のランドに接合
する際に用いられる従来の半田合金は、Sn63wt%−Pb37
wt%の共晶半田である。この共晶半田は液相線温度Tα
が184℃、固相線温度Tβが183℃でその差は1℃であ
り、リフロー時に溶融温度に達すると固体から瞬時に液
相に変化する。
発明が解決しようとする課題 上記従来例では、固体から液体への変化が瞬時に生じ
るため、第2図に示すように、両ランドa、a間の温度
差が小さい場合でもチップ部品bに溶融半田cの急激な
表面張力が作用し、チップ立ちが生じ易いという問題が
ある。
又近年の電子回路基板は実装の高密度化によって各部
品が互いに近接しており、その熱容量の影響を受けて温
度分布が局部的に不均一になり易く、両ランド間に温度
差が生じ易い。しかし上記従来例では、液相線温度Tα
と固相線温度Tβとの差が僅か1℃で前記温度差が大き
いとこれを許容することが困難であるため、一方のラン
ドの半田合金が先に溶融しその表面張力でチップ部品を
引張り、やはりチップ立ちを生じ易い。
本発明は上記問題点に鑑み、リフロー時の液化が穏や
かに進行し、且つプリント基板の温度分布が局部的に不
均一であってもチップ立ちが生じにくい半田合金を提供
することを目的とする。
課題を解決するための手段 本発明は、ペースト状半田合金を基板上のランドに印
刷し、そのランド上にチップ部品を載置し加熱してペー
スト状半田合金をリフローする半田付け方法において、
基板に生ずる加熱温度のバラ付きが5℃前後以内になる
よう加熱されたリフロー炉に前記チップ部品を載置した
基板を1回通過させることによってリフロー半田付けす
る方法であって、前記ペースト状半田合金の液相線温度
と固相線温度との差が5℃以上であり、リフロー時の前
記ペースト状半田合金の液化が穏やかに進行するように
したことを特徴とする。
なお、上記リフロー半田付け方法に使用するペースト
状半田合金が、液相線温度と固相線温度との差が5℃以
上あるものであると共に、次のいずれかであることが好
ましい。
Snが70wt%を越え残部がPbよりなるペースト状半田合
金。
Snが30wt%未満で残部がPbよりなるペースト状半田合
金。
Agが2wt%を越え残部がSnとPbよりなるペースト状半
田合金。
Agが2wt%以上で残部がSnとPbよりなり、SnがPbより
多いペースト状半田合金。
Biが8wt%以上13wt%未満で残部がSnとPbよりなるペ
ースト状半田合金。
作 用 液相線温度Tαと固相線温度Tβとの間では半田合金
は液相状態にある部分と固相状態にある部分とが混在し
ており、リフロー時の表面張力は半田合金の温度が固相
線温度Tβから液相線温度Tαに向かうに従って大きく
なる。本発明では両者間の温度差を5℃以上と従来より
も大きく設定したことにより、リフロー時の表面張力を
徐々に大きくすることができるので、チップ部品に急激
な表面張力が作用してチップ立ちするという事態を回避
することができる。
又、一般のリフロー炉によって基板に生じる加熱温度
のバラ付きは5℃前後であるが、これに対して本発明で
は両温度差を5℃以上に設定したことにより、リフロー
炉の温度バラツキをカバーすることができるので、チッ
プ立ちを回避することができる。
実 施 例 本発明の実施例を、第1図に基き説明する。
ガラスエポキシ基板からなるプリント基板1の相対向
するランド2上に、チップ部品3として1.0×0.5mmのチ
ップコンデンサC及びチップ抵抗Rを、11種類(No.1〜
11)の半田合金を用いて夫々接合した。ランド2は4種
類(ランドNo.1〜4)を使用し、半田合金は各ランド2
の上にランド2の平面形状と同一寸法形状になるように
ペースト状半田(クリーム半田)を印刷用スキージを用
いてメタルマスクによりガラスエポキシ基板上に印刷し
た。
第1表に各半田合金の組成とその液相線温度Tα及び
固相線温度Tβ及び両温度差の絶対値 を夫々示し、第2表に各種類のランド2における両者間
の間隔寸法G、ランド2のチップ部品3の長さ方向寸法
L、ランド2の幅寸法Wを夫々示す。
チップ部品3を各種類のランド2上に印刷されたペー
スト半田を介して載置し、基板1を加熱して半田合金を
リフローした。リフロー後、各半田合金及び各ランド2
におけるチップ部品3の品種ごとにチップ立ち発生数を
50の試料について夫々調べた。その結果を、第3表に示
す。
以上の結果、No.2及びNo.3(共晶半田)以外の半田合
金、すなわちSnが70wt%以上又は60wt%以下の場合はチ
ップ立ち発生率がゼロであった。
次にAgやBiを含有する半田合金(No.12〜15)につい
て同様の実験を行った。第4表に各半田合金の組成とそ
の液相線温度Tα及び固相液温度Tβ及び両温度差の絶
対値を示す。
その結果、No.12〜15の半田合金の場合もチップ立ち
発生率がゼロであった。以上のことから、2wt%以上のA
gや8wt%以上のBiをSn−Pb系の半田合金に添加すること
により、液相線温度Tαや固相線温度Tβを制御するこ
とができ、Snが60〜70wt%の場合でもチップ立ちの発生
を回避することができた。
発明の効果 本発明は上記構成、作用を有するので、チップ部品が
微晶であってもチップ立ちを生じることなくプリント基
板に接合することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例の平面図、第2図は従来例の側
面図である。 2……ランド 3……チップ部品
フロントページの続き (72)発明者 熊谷 浩一 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 平1−274492(JP,A) 特開 昭58−218394(JP,A) 特公 平1−12594(JP,B2) 「日本工業規格 はんだ JIS Z 3282−1986」昭和61年10月31日 日本規 格協会発行 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B23K 35/26 310 C22C 11/06 C22C 13/00 H05K 3/34 507

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ペースト状半田合金を基板上のランドに印
    刷し、そのランド上にチップ部品を載置し加熱してペー
    スト状半田合金をリフローする半田付け方法において、
    基板に生ずる加熱温度のバラ付きが5℃前後以内になる
    よう加熱されたリフロー炉に前記チップ部品を載置した
    基板を1回通過させることによってリフロー半田付けす
    る方法であって、前記ペースト状半田合金の液相線温度
    と固相線温度との差が5℃以上であり、リフロー時の前
    記ペースト状半田合金の液化が穏やかに進行するように
    したことを特徴とするチップ部品のリフロー半田付け方
    法。
  2. 【請求項2】ペースト状半田合金が、液相線温度と固相
    線温度との差が5℃以上あり、かつSnが70wt%を越え残
    部がPbよりなるものである請求項1記載のチップ部品の
    リフロー半田付け方法。
  3. 【請求項3】ペースト状半田合金が、液相線温度と固相
    線温度との差が5℃以上あり、かつSnが30wt%未満で残
    部がPbよりなるものである請求項1記載のチップ部品の
    リフロー半田付け方法。
  4. 【請求項4】ペースト状半田合金が、液相線温度と固相
    線温度との差が5℃以上あり、かつAgが2wt%を越え残
    部がSnとPbよりなるものである請求項1記載のチップ部
    品のリフロー半田付け方法。
  5. 【請求項5】ペースト状半田合金が、液相線温度と固相
    線温度との差が5℃以上あり、かつAgが2wt%以上で残
    部がSnとPbよりなり、SnがPbより多いものである請求項
    1記載のチップ部品のリフロー半田付け方法。
  6. 【請求項6】ペースト状半田合金が、液相線温度と固相
    線温度との差が5℃以上あり、かつBiが8wt%以上13wt
    %未満で残部がSnとPbよりなるものである請求項1記載
    のチップ部品のリフロー半田付け方法。
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