JP3335698B2 - 光方向ぎめ構造及びビーム方向ぎめ装置を作る方法 - Google Patents

光方向ぎめ構造及びビーム方向ぎめ装置を作る方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は電子光学装置、更に具
体的に云えば、ビーム方向ぎめ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術及び課題】光は色々の種類の電子光学装置
によって方向ぎめすることができる。その中にはガルバ
ノメータ式スキャナ、共振鏡及び回転多角形鏡がある。
【０００３】ガルバノメータ式スキャナは、軸線の周り
を小さな角度に亘って回転する鏡から光を反射する。こ
の回転は、一定磁界が存在するもとで電流を印加するこ
とによって生ずる。電流が比例した磁界を発生する。２
つの磁界の間の相互作用により、電流を通す導線が捩れ
る。この捩れ運動が光を方向ぎめするのに使われる鏡を
駆動する。
【０００４】回転鏡は、やはり電気信号に応答して動く
鏡から光を反射する。信号が、ばねで取付けた丁番支持
の鏡に圧接するボイスコイルの様な部品を駆動する。鏡
に取付けられた釣合錘及び鏡が一緒になって音叉の様に
作用する。この時、鏡が共振振動数で振動し、光を方向
ぎめする。
【０００５】回転多角形鏡は、普通は、多面を持つ鏡を
モータで高速で回転させることによって構成される。鏡
要素は円板の周縁に切込んだ切子面であるのが典形的で
あるが、この他の形のものもある。この集成体は、他の
用途よりも、ディジタル入力を光パターンに変換する光
学式スキャナに一層頻繁に用いられる。
【０００６】ここに述べた３つの例はどれも比較的大き
く、高価で、衝撃及び振動の影響を受易い。こう云う欠
点の為、寸法が制限された並びに／又は移動性の環境で
は、こう云う装置の用途が限られている。非常にこじん
まりしていて、低廉で、エネルギ効率がよく、移動する
環境でも使うことのできる光方向ぎめ手段に対する要望
が生じている。
【０００７】
【課題を解決するための手段及び作用】この発明は光方
向ぎめ装置を提供する。この装置は電極層、柱又はスペ
ーサ層、撓み可能な要素の層、第２の柱又はスペーサ
層、及び最後の反射層からなる多層構造である。電極を
使って撓み可能な要素をアドレスし、要素を付勢された
電極に向けて撓ませる。要素が撓むと、反射層の柱も撓
む。これによって反射要素が撓む。反射層の範囲は撓み
可能な要素の層よりも一層大きく、こうして作用する区
域を増加すると共に、この構造を用いた光学装置に於け
る撓み可能な要素からの回析を防止する。
【０００８】この発明並びにその利点について更に完全
に理解される様に、次に図面について詳しく説明する。
【０００９】
【実施例】図１はこの発明の一実施例を含むビーム方向
ぎめ装置１０を示す。装置１０は典形的にはプラスチッ
クの本体１２を持ち、これが基板１４及び長くて薄い撓
み可能な鏡要素１６を囲込んでいる。典形的には、基板
１４は浅い井戸（図２に示す）を持ち、この井戸は底と
側壁を持ち、側壁が可撓性の丁番（図２に示す）によっ
て鏡要素１６を支持する。この井戸は、鏡要素１６が、
基板を含む平面の外へ、丁番によって形成された軸線の
周りに回転することができる様にするが、いつも鏡要素
１６の平坦さを保つ。略図で示してあるが、集光装置が
光源１５及び反射器１７からの光ビーム１３をレンズ１
１を介してＤＭＤ１６に差向ける。
【００１０】実際の用途では、光束１３は、レーザの様
な任意の光源からのものであってよく、像情報を含むも
のであってよい。例えば、レンズ１１は別の空間光変調
器（ＳＬＭ）からの光をＤＭＤ走査鏡に中継するもので
あってよい。走査された光がこの後装置１０の先にある
像平面に焦点を結ぶ様に収斂することができるが、中間
のレンズ要素を通過してもしなくてもよい。
【００１１】鏡要素１６は実質的に基板１４の平面内で
動作する。これは、普通のスキャナに於ける様に、最終
的な像に焦点外れ効果又は像面湾曲を生じない。
【００１２】装置１０には変化する数の電気導線１８が
接続されており、こう云う導線が装置を他の部品に接続
する。導線１８の数は、装置１０に含まれる回路の手の
加え方によって変わり得る。例えば、基板１４自体が半
導体であって、鏡要素１６の回転速度を制御する内部信
号発生器を構成していてよい。この場合、装置１０はア
ース、電力及びオン／オフの３本の導線しか必要としな
いことがある。然し、装置１０は外部信号発生器（図３
に示す）によって駆動される様に設計することもでき
る。この場合、鏡要素１６の運動を制御するには、別の
ピンを必要とすることがあり、基板は半導体である必要
がない。
【００１３】動作について説明すると、光線１３の入射
束が装置１０の上面に入射し、そこで鏡要素１６によっ
て反射される。この時、鏡要素１６は、その支持体によ
って定められた軸線の周りに捩れ又は回転し、この鏡要
素が鏡の回転角度の２倍だけ、反射光を方向ぎめする様
にする。鏡要素１６は最小限の駆動力で回転する様な固
有回転振動数、即ち「共振振動数」を持っている。鏡要
素１６の物理的な寸法及び材料を有利に制御することに
より、鏡要素１６の共振振動数は特定の用途に合せて調
整することができる。鏡要素１６の共振振動数は次の式
で表わされる。
【数１】 又は
【数２】 ここでＩは鏡要素の慣性モーメントであり、τはピーク
振幅θに於ける鏡のピーク振動トルク反作用である。Ｋ
はばね定数τ／θであって、丁番要素２０の回転のスチ
フネスの目安である。簡単な形状及び大抵の半導体材料
の機械的な性質はよく知られており、従ってＫ及びＩは
大抵の場合に決定することができる。
【００１４】広い範囲の種々の装置は、鏡要素１６の電
子機械的な性質を用いることができる。例えば、装置１
０は、変調されたレーザ・ビームをゼログラフ・プリン
タのドラム又は万能製品コード（ＵＰＣ）スキャナに反
復的に方向ぎめすることができる。この最初の用途で
は、レーザ・ビームが、レーザが入射した所でトナーを
引付けるドラムを走査する。この後、ドラムが現像され
たトナー・パターンを白紙に転写して、プリント像を作
る。後に述べた用途では、レーザ・ビームが、消費者が
購入する製品を走査する。ビームが製品に付せられた一
連の相隔たる線から反射されて、フォトダイオード検出
器に戻る。この時、スキャナが、線のパターンによって
製品の確認をし、消費者にはそれに応じて料金が請求さ
れる。レーザ・ビームは、レーザ・ビームに対する向き
に関係なく、製品の確認ができる様に、或る容積の空間
を反復的に走査しなければならない。
【００１５】他の用途では、仮想表示装置が装置１０を
用いることができる。この様な装置では、空間光変調器
アレイからの表示画素の一連の列を、鏡が振動する間、
逐次的に共振鏡に投影する。白色光源を反射する普通の
変形可能な鏡装置が、この一連の列を形成することがで
きる。変形可能な鏡装置の出力及び共振鏡の位置を有利
なタイミングにすることにより、１頁全体の完全な表示
を行なうことができる。観察する人の目の持続性によ
り、観察する人は、一連の隣合った線を完全な頁の表示
として知覚する。発明者ネルソンの発明の名称「仮想表
示装置及び利用方法」と云う係属中の米国特許出願通し
番号８０８，８１７号には、こう云う装置が記載されて
いる。最後に、スポット、又は適当に変調された光パル
スのアレイの何れかを走査することにより、写真フィル
ム、フォトレジスト又はその他の任意の光重合体の様な
感光性媒質の露出を行なうことができる。
【００１６】図２は図１の鏡要素１６の左半分を示す。
鏡要素１６の左半分だけを示してあるが、右側も対称的
であるものとしている。一連の軸方向に整合した柱が、
鏡要素１６をその長さに沿って支持している。安定性を
持たせる為には、少なくとも２つの支持体が必要であ
る。これらは、丁番要素２０の様に、鏡１６の端に設け
るものであってもよいし、或いは支持部材２２の様に、
鏡要素１６の縁から変位していてもよい。全ての支持体
が線２４に沿って整合していて、「回転軸線」を形成す
る。こう云う中間の支持部材２２は、その回転軸線の周
りの鏡要素１６の回転を妨げずに、長さ寸法に沿って鏡
要素１６を強化する。その結果、鏡要素１６は全体とし
て、井戸２６の頂部又はその下にある基板に対して平面
状である。各々の支持部材が井戸の底に接続され、動作
中の鏡要素１６の平坦さを保証する。井戸２６は、実際
には基板１４をエッチングしたものであってもよいし、
或いは側壁２８を形成する層（１つ又は複数）を製造し
た後に単に残ったものであってもよい。側壁２８は一般
的には、鏡要素１６の周縁に沿って連続的である。
【００１７】支持部材２２が無いと、鏡要素１６は、そ
の長さが比較的長く、断面が薄い為に、井戸２６の中に
たるむ。動作の時、鏡要素１６は、それが支持部材２２
無しで製造されていると、（後で説明する様に）駆動さ
れた時に回転軸線２４の周りに回転せず、単に更に下に
たるむだけになることがある。その何れの結果も、装置
の所望の光方向ぎめ能力の妨げになる。支持部材２２自
体は、鏡要素１６を中心柱３２に接続する少なくとも１
つの丁番要素３０で構成される。好ましい実施例では、
支持部材２２は２つの対称的な丁番要素３０で構成され
る。こう云う丁番部材は典形的には丁番要素２０及び鏡
要素１６と同じ材料で構成されるが、厚さが異なる。
【００１８】図３は図２の線３−３で鏡要素１６を切っ
た状態を示す。井戸２６内の中心の柱３２が、回転軸線
２４に沿って鏡要素１６を支持する。装置１０は、回転
軸線２４から外向きに変位した少なくとも１つの電極３
４を含む。第２の相補的な電極３６を、電極３４の方向
とは全般的に反対の方向に、回転軸線２４からやはり外
向きに変位した第２の位置で、装置１０に追加すること
ができる。図示の様に、電極３４，３６が信号発生器３
７に電気的に接続される。別の電圧を信号発生器３９に
よって鏡要素１６に印加して、バイアス及びリセットの
様なこの他の制御作用を行なわせることができる。これ
は、鏡要素１６及び柱３２が、電極３４，３６から電気
的に隔離されているからである。これは１９９１年１０
月２９日に付与された米国特許第５，０６１，０４９号
に更に詳しく説明されている。信号発生器３７，３９は
装置１０の内部又は外部に設けることができる。
【００１９】装置１０は、電極３４，３６より外側に変
位し、鏡要素１６と同じ電位に保たれた１つ又は２つの
ストッパ３８をも持っていてよい。こう云うストッパ
は、着地電極と呼ばれるが、鏡要素１６が、電極３４，
３６又は装置１０の他のどの部分にでもぶつかる前に、
こう云うストッパにぶつかる様に位置ぎめされている。
これによって、電流が鏡要素１６と電極３４，３６又は
その他の任意の部分の間に流れることが防止される。こ
う云う電流が流れると、両者が融着したり、又はその他
の損傷が起こる。電極及びストッパは、全体的に回転軸
線と平行に伸びる１組の小さいパッド、多数の組の小さ
いパッド又は長いストリップであってよい。
【００２０】電極３４，３６の間に交流を印加すると、
回転軸線２４の周りの鏡要素１６の周期的な回転を制御
することができる。好ましい実施例では、電極３４，３
６に印加される信号は互いに１８０°位相がずれてい
て、鏡要素１６の共振振動数に等しい周波数を持ってい
る。この間、鏡要素１６は中間の電位が保たれる。交番
波形の振幅を制御することにより、回転の振幅を調整す
ることができる。
【００２１】上に述べた場合、駆動電圧の振幅及び周波
数の選び方によって、鏡を共振状態に駆動したり又はそ
れから外す様に駆動することができる。この場合、鏡は
最大回転角の約５０％だけアナログ式に撓む。その点の
後、鏡要素１６と電極３４，３６の間の間隔の平方根に
反比例する静電引力が、丁番要素３０の線形の復元トル
クに打勝ち、鏡が一杯の撓み角で着地電極３８に着地す
る。これがディジタル動作モードである。鏡要素１６は
精密な休止点又は角度まで、最大角度に亘って回転す
る。鏡の慣性Ｉ及び空所２６内に存在するガスによる制
動が、回転速度を決定する。１つの動作モードでは、鏡
要素１６は単に着地電極３８から反発する。別のモード
では、リセットと呼ばれる特別の制御パルスを利用し
て、鏡の復帰回転のタイミングを精密に制御することが
できる。
【００２２】図４は、図２の鏡要素１６を線４−４で切
った断面図である。ここでは、鏡要素１６が２つの細い
丁番要素３０によって支持柱３２に接続されている。丁
番要素３０は部分的に酸化物層４０によって覆われてお
り、その一部分は、後で詳しく説明する様に、製造後も
残っている。中心柱３２が電気的に隔離されたパッド４
２及び層４４，４６の上にのっかっている。基板４６
は、前に述べた様に、鏡要素１６を回転軸線の周りに駆
動するのに必要な回路を持っていてよい。
【００２３】図５ａ−５ｆは、図４に示す鏡要素の逐次
的な製造行程を示す断面図である。 （ａ）最初に、基板層４６を普通の写真製版技術を用い
て用意する。基板層は、例えば、鏡要素１６（図１−
４）を駆動する内部発振器又はその他の制御回路を持っ
ていてよい。
【００２４】二酸化シリコンが考えられるが、層４４が
各々の支持柱パッド４２をその下の基板から絶縁してい
る。柱パッド４２は約３，０００Åの厚さで、アルミニ
ウム、チタン及びシリコンの合金（Ｔｉ：Ｓｉ：Ａｌ）
で作られている。Ｔｉ：Ｓｉ：Ａｌをスパッタリングに
よって酸化シリコン層４４の上にデポジットした後、そ
れをパターンぎめしてプラズマ・エッチし、柱パッド４
２、電極３４，３６及びストッパ３８（電極とストッパ
は図３に示されている）を限定する。
【００２５】（ｂ）この後、典形的には３回の適用に分
けて、フォトレジストを回転付着させると共に焼成し
て、合計の厚さが約４μのスペーサ４８を形成する。典
形的にはポジのレジストを３回適用すると、この厚さに
達し、非常に厚手の１つの層を回転付着する時に起こる
レジストの表面の波立ちが防止される。レジストを毎回
適用した後に約１８０℃で焼成することにより、その前
の層がこの後のレジストの適用で溶解することが防止さ
れ、スペーサから過剰の溶媒が追出されると共に、丁番
金属の下に溶媒の泡が形成されることが避けられる。
【００２６】（ｃ）スペーサ４８をエッチして、各々の
柱パッド４２を露出するバイアを形成する。
【００２７】（ｄ）約８００ÅのＴｉ：Ｓｉ：Ａｌをス
ペーサ４８に適用して、各々の柱の一部分、並びにそれ
から最終的な丁番及び中心の丁番をエッチングする薄い
丁番層５０を形成する。丁番の捩れ抵抗又は可撓性は、
その長さ、幅及び厚さを制御すると共に、その組成を制
御することによって制御することができる。典形的に
は、各々の丁番の幅は２μである。支持柱丁番は１０μ
の長さである。次に、１，５００Åの二酸化シリコンを
デポジットし、パターンぎめすると共にエッチングし
て、全ての将来の丁番となる部分の上に丁番エッチ・ス
トッパ５２を形成する。
【００２８】（ｅ）約３，６００ÅのＴｉ：Ｓｉ：Ａｌ
をスパッタリングによって丁番層５０及び丁番エッチ・
ストッパ５２の上にデポジットして、鏡層５４を形成す
る。鏡層５４の金属のデポジッションは、金属層の間に
応力が発生しない様に、丁番層５０のデポジッションと
同じ条件の下で行なわれる。各々の鏡の長さ、幅、厚さ
及び組成を制御することによって、慣性モーメントＩが
制御される。典形的には、各々の鏡要素は１cmまでの幅
及び長さは数cmにすることができる。最後に、エッチ・
ストッパ層５６を、この後の製造工程の間の保護の為
に、鏡層５４の上にデポジットする。
【００２９】（ｆ）フォトレジスト層をエッチ・ストッ
パ層５６に適用し、パターンぎめして、丁番ストッパ５
２（図５ｅに示す）の上方に鏡要素及びプラズマ・エッ
チ・アクセス孔５８を限定する。パターンぎめしたフォ
トレジスト層を、エッチ・ストッパ層のプラズマ・エッ
チングに対するマスクとして使うことができる。アクセ
ス孔５８は、上から見た時、互いに向い合った一組のＣ
字形になる。アルミニウム合金のプラズマ・エッチは、
塩素／三塩化硼素／三塩化炭素エッチ・ガス混合物を用
いて行なうことができる。残りのフォトレジスト層を除
去した後、残っているエッチ・ストッパ層５０及び丁番
エッチ・ストッパ５２は、異方性エッチによって取除く
ことができる。
【００３０】アクセス孔５８は、それを柱及び丁番の寸
法に合せた形にすることによって最小限にすることがで
きる。わずか１又は２μのすき間が、柱及び丁番を鏡１
６から隔てている。これによって、鏡の性能に対する柱
及び丁番の特徴の光学的な影響が最小限に抑えられる。
【００３１】スペーサ４８は、例えば数％の弗素を含む
酸素でエッチングすることによって、除去される。こう
して完成された共振鏡の支持柱が図４に示されている。
【００３２】随意選択の末端丁番２０（図２に示す）
は、図５ａ−５ｆに示した中心の柱及び丁番要素と同じ
工程を使って得られる。各々の末端丁番２０は、回転し
ない鏡の金属の周囲と一体になる。或る用途では、周囲
の構造を除去して、作用する鏡要素だけが基板層４６の
上に突出ていることが好ましいことがある。その場合、
支持柱は鏡の末端に設けることができる。
【００３３】上に述べた実施例の実際上の制約は、考え
られる半導体プロセスを用いて達成し得るスペーサの厚
さ及び支持柱の高さが制限されることである。図５ｃで
形成されるバイアの寸法は、技術的な方法により、スペ
ーサ層４８の厚さに関係する。一般的に、スペーサ層が
厚ければ厚い程、この後のバイアは大きくならざるを得
ない。然し、バイアの寸法は、最終的に得られる鏡要素
１６の光学的な収差を最小限に抑える為に、最小限にし
なければならない。従って、この光学的な制約により、
スペーサ層４８の厚さ及び最大の回転角度が制限され
る。所定の４μの厚さを持つスペーサでは、或る程度の
幅を持つ鏡に対する回転角度が、小さい角度しか得られ
ない。±１０°の回転角度を希望する場合、鏡の幅はス
ペーサ層４８の厚さの１２倍、即ち、約５０μにしかな
らない。
【００３４】図６及び７は回転の制約を解決する非対称
鏡構造を示す。これは一方向にしか動作しないが、上に
述べたスペーサの制約の範囲内で、比較的幅の広い鏡及
び妥当な動作角度が得られる。欠点は慣性モーメントＩ
が大きく、一方向の動作になることである。
【００３５】図８及び９は、１０°又はそれ以上の角度
に亘って動作することができ、スペーサ層４８及び支持
柱３２の製造上の制約を満たす様な、大きい面積の鏡を
達成する実際的な方法を示す。この方式では、範囲の大
きい鏡が長くて細い要素１６の網状のアレイに分割され
ている。各々の鏡要素１６が、図３に示す様に一直線上
の支持要素２２の上に支持されている。各々の鏡は、鏡
をアドレスするのに必要な、図３に示す電極３４及びス
トッパ３８の構造を持っている。
【００３６】要素のアレイを平行な軸線２４の周りに同
期して回転させる光学的な効果は、一層大きな鏡を同じ
角度に亘って回転させることに相当する。網状の鏡の回
転方式の利点は、鏡アレイの末端が、中心の要素と大体
同じ平面内にとどまることである。従来の巨視的なガル
バノメータ式鏡は、光路に対して垂直な軸線の周りのそ
の回転の結果として、光路長に変化が生ずるが、それと
異なり、ＤＭＤ鏡アレイは、数μ以上は光路長を変えず
に、ビームの方向ぎめを達成する。ガルバノメータ式で
は、焦点の変化又はその他の光学的な人為効果が生ずる
が、網状の鏡方法では、そう云うことがない。フレネル
・レンズは同じ原理に基づいて構成されている。
【００３７】精密な電気制御によって、鏡アレイの長い
要素を個別に傾けることができる様になって結果、この
アレイを使って、円筒形の反射フレネル・レンズ（例え
ば、１つの軸線に沿ってだけ光学能を持ち、直交する軸
線に沿っては光学能を持たない）と同じ効果を達成する
ことができる。信号発生器３７，３９（図３に示す）が
所定の一連の階段電圧を、所望の一次元の光学面を記述
する式に対応する鏡の平行な列のアドレス電極に印加す
ることができる。例えば、各々の電極に全体的に同等の
電圧レベルを印加することにより、平面鏡をモデルする
ことができる。鏡を変化する量だけ傾けることにより、
この他の光学面もモデルすることができる。これは、回
折効果を最小限にして、有効で電気的にプログラム可能
な反射性の円柱形光学要素になる。
【００３８】信号発生器３７，３９の制御の下に、レン
ズ及び方向ぎめ鏡の両方の効果を組合せることも可能で
ある。表面に入射する光は、その時集束すると同時に再
び方向ぎめすることができる。これは、モノリシック半
導体形のＤＭＤ鏡要素の応答速度が非常に高い為に可能
になる。
【００３９】図１０は、方向ぎめ鏡をＤＭＤ形構造に取
付けたこの発明の別の実施例を示す。鏡要素は変わらな
い。これはやはり電極３４，３６と電極３８のランドと
によって作動される。回転軸線２４に沿って一列の柱６
２があり、それが別の鏡６１を支持している。装置の回
転軸線の長さに沿って、柱６２が繰返されている。この
様な構造は多くの利点をもたらすが、その２つを挙げれ
ば、撓み角が増加することと、鏡が差動電子回路の影響
を何ら受けないことである。同様な構造が１９９２年１
月２８日に付与された発明の名称「多重レベルの変形可
能な鏡装置」と云う米国特許第５，０８３，８５７号に
記載されている。
【００４０】図１１は、機械的な支持構造に対する広が
った鏡６１の図を示している。鏡要素１６が柱６２を支
持しており、この柱が鏡要素の回転軸線に沿って繰返さ
れている。図示の様に、これらの柱は、アクセス孔２２
の間に大体等間隔である。２番目の鏡の寸法の為、２つ
以上の支持柱を使わなければならない。柱が、初めの鏡
要素１６よりも更に遠く伸びる鏡６１を支持している。
この実施例の別の利点は、入射する光から作動される鏡
要素１６を完全に覆っていることにある。更に、材料の
選び方でも選択ができる。鏡要素１６は、そう云う設計
を選びたければ、反射性でない別の材料で構成すること
ができる。
【００４１】図１２ａは図４に示したものと構造を別の
スペーサ６３で覆ったものである。もとの構造は、前と
同じ部品、即ち、丁番３０、柱３２及び鏡要素１６で構
成されている。もとの構造はエッチングされない状態で
残り、鏡要素１６の下にあるスペーサは、柱３２の為に
切込まれたバイアを除くと、無きずである。最初の方法
と同じく、図１２ｂに示す２番目のスペーサ６３にバイ
ア６４がエッチングされる。２番目の鏡の範囲が一層大
きいことにより、もっと頑丈な支持柱に対して一層大き
なバイアが必要になることがある。更に、２番目のスペ
ーサ６３は１番目のスペーサ層４８よりも深さを更に大
きくして、２つの鏡構造の間のすき間を広げることがで
きる。
【００４２】図１２ｃはバイア６４を埋める金属を示
す。この実施例は丁番を必要とせず、この為支持様の金
属と鏡の金属は同じ金属層で構成することができる。ア
クセス孔のエッチングは、製造されるこう云う装置の面
積アレイの寸法に関係する。アレイが一層小さく、スペ
ーサ材料が一層少なければ、エッチは鏡の下まで進んで
スペーサに達してもよい。大きな面積には、前に説明し
た方法と同様なアクセス孔を使うことを必要とすると考
えられる。
【００４３】図１２ｄはエッチ後の装置を示す。何れも
図１２ｃに示した１番目の層４８及び２番目の層６３か
ら、除去すべきスペーサが一層多くなるので、エッチは
一層長くかかることがある。この結果得られた構造は、
一層小さい鏡によって大きい鏡が支持されるものであ
り、小さい方の鏡はアドレス回路と相互作用し、大きい
鏡が小さい方の鏡を光と接触しない様に覆う。
【００４４】以上、光を方向ぎめする鏡の特定の実施例
をこれまで説明してきたが、特許請求の範囲以外に、こ
う云う具体的な説明がこの発明の範囲を制約するものと
解してはならない。
【００４５】以上の開示に関連して、この発明は下記の
実施態様を有する。 （１）基板と、該基板に接近した少なくとも１つの電極
と、該電極がアドレスされた時、当該要素が軸線に沿っ
て電極に向って撓む様に、実質的に電極の上に懸架され
た第１の要素と、該第１の要素に設けられていて、前記
第１の要素の前記軸線に接近して位置ぎめされた少なく
とも２つの支持柱と、前記第１の要素が撓む時に当該第
２の要素が撓む様に前記柱によって支持された第２の要
素とを有し、該第２の要素は前記第１の要素よりも一層
大きな広がりを持つ光方向ぎめ構造。
【００４６】（２）（１）項に記載した構造に於て、第
１の要素が更に変形可能な鏡要素を有する構造。
【００４７】（３）（１）項に記載した構造に於て、第
１の要素が更にＴｉ：Ｓｉ：Ａｌで構成されている構
造。
【００４８】（４）（１）項に記載した構造に於て、第
２の要素がＴｉ：Ｓｉ：Ａｌで構成されている構造。
【００４９】（５）ビーム方向ぎめ装置を製造する方法
に於て、アドレス回路を持つ基板を用意し、該アドレス
回路の上にスペーサ材料を回転付着させ、該スペーサを
エッチングしてバイヤを形成し、前記スペーサの上に第
１の金属層をデポジットして、該金属が前記バイヤを埋
める様にすることによって、柱を形成し、前記第１の金
属層をパターンぎめして丁番を形成し、前記第１の金属
層の上に第２の金属層をデポジットし、該第２の金属層
をパターンぎめして撓み要素を形成し、前記第２の金属
層の上に第２のスペーサを回転付着させ、該第２のスペ
ーサにバイヤを切込み、第３の金属層をデポジットし
て、前記バイヤ内に柱を形成すると共に、前記撓み要素
よりも一層大きな範囲を持つ鏡要素を形成し、前記スペ
ーサ材料をエッチングして、前記アドレス回路に向って
撓むことができる撓み要素、並びに該撓み要素よりも範
囲が一層大きい、該撓み要素によって支持された鏡を残
す行程を含む方法。
【００５０】（６）（５）項に記載した方法に於て、ア
ドレス回路がＣＭＯＳである方法。
【００５１】（７）（５）項に記載した方法に於て、ス
ペーサがフォトレジストである方法。
【００５２】（８）（５）項に記載した方法に於て、第
１の金属層がＴｉ：Ｓｉ：Ａｌである方法。
【００５３】（９）（５）項に記載した方法に於て、第
２の金属層がＴｉ：Ｓｉ：Ａｌである方法。
【００５４】（１０）（５）項に記載した方法に於て、
第３の金属層がＴｉ：Ｓｉ：Ａｌである方法。
【００５５】（１１）（５）項に記載した方法に於て、
エッチングする工程がプラズマ・エッチを用いる方法。
【００５６】（１２） 光を方向ぎめする装置及びそれ
を製造する方法を説明した。好ましい実施例の装置は、
基板の上にある多層構造で構成される。基板が撓み得る
要素１６をアドレスして、それを付勢された電極３６に
向けて撓ませる少なくとも１つの電極３６を有する。撓
み得る要素１６上に少なくとも１つの支持柱６２があ
り、これが撓み得る要素１６の回転軸線２４に大体沿っ
て位置ぎめされている。反射要素６１が柱６２によって
支持されていて、第１の要素１６が撓む時に撓む。第２
の要素６２は第１の要素１６より範囲がずっと大きい。
更に、こう云う装置を製造する方法を説明した。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の第１の実施例の見取図。
【図２】図１に示した鏡要素の図。
【図３】図２に示す鏡要素を夫々線３−３及び４−４で
切った断面図。
【図４】図２に示す鏡要素を夫々線３−３及び４−４で
切った断面図。
【図５】図２に示す鏡要素の逐次的な製造工程を示す断
面図。
【図６】この発明の第２の実施例の見取図。
【図７】図６に示したこの発明の第２の実施例を線７−
７で切った断面図。
【図８】この発明の第３の実施例の見取図。
【図９】図８に示したこの発明の第３の実施例を線９−
９で切った断面図。
【図１０】２つの作用層を持つ層状構造を用いたこの発
明の別の実施例の図。
【図１１】２つの作用層を持つ構造の分解図。
【図１２】２つの作用層を持つ構造の製造過程を示す
図。
【符号の説明】
１４ 基板 １６ 撓み得る鏡要素 ２４ 軸線 ３０ 丁番 ３２ 中心柱 ３４，３６ 電極 ６１ 別の鏡 ６２ 柱
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02B 26/08 G02B 26/10 104

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基板と、該基板に接近した少なくとも１
    つの電極と、該電極がアドレスされた時、当該要素が軸
    線に沿って電極に向って撓む様に、実質的に電極の上に
    懸架された第１の要素と、該第１の要素に設けられてい
    て、前記第１の要素の前記軸線に接近して位置ぎめされ
    た少なくとも２つの支持柱と、前記第１の要素が撓む時
    に当該第２の要素が撓む様に前記柱によって支持された
    第２の要素とを有し、該第２の要素は前記第１の要素よ
    りも一層大きな広がりを持つ光方向ぎめ構造。
  2. 【請求項２】 ビーム方向ぎめ装置を製造する方法に於
    て、アドレス回路を持つ基板を用意し、該アドレス回路
    の上にスペーサ材料を回転付着させ、該スペーサをエッ
    チングしてバイヤを形成し、前記スペーサの上に第１の
    金属層をデポジットして、該金属が前記バイヤを埋める
    様にすることによって、柱を形成し、前記第１の金属層
    をパターンぎめして丁番を形成し、前記第１の金属層の
    上に第２の金属層をデポジットし、該第２の金属層をパ
    ターンぎめして撓み要素を形成し、前記第２の金属層の
    上に第２のスペーサを回転付着させ、該第２のスペーサ
    にバイヤを切込み、第３の金属層をデポジットして、前
    記バイヤ内に柱を形成すると共に、前記撓み要素よりも
    一層大きな範囲を持つ鏡要素を形成し、前記スペーサ材
    料をエッチングして、前記アドレス回路に向って撓むこ
    とができる撓み要素、並びに該撓み要素よりも範囲が一
    層大きい、該撓み要素によって支持された鏡を残す工程
    を含む方法。
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Families Citing this family (292)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5083857A (en) * 1990-06-29 1992-01-28 Texas Instruments Incorporated Multi-level deformable mirror device
US5233459A (en) * 1991-03-06 1993-08-03 Massachusetts Institute Of Technology Electric display device
US6219015B1 (en) 1992-04-28 2001-04-17 The Board Of Directors Of The Leland Stanford, Junior University Method and apparatus for using an array of grating light valves to produce multicolor optical images
US5436753A (en) * 1992-05-27 1995-07-25 Opticon, Inc. Vibrating mirror
US7830587B2 (en) 1993-03-17 2010-11-09 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and device for modulating light with semiconductor substrate
US6674562B1 (en) * 1994-05-05 2004-01-06 Iridigm Display Corporation Interferometric modulation of radiation
JPH06301066A (ja) * 1993-03-23 1994-10-28 Daewoo Electron Co Ltd ミラーアレーおよびその製法
US5550669A (en) * 1993-04-19 1996-08-27 Martin Marietta Corporation Flexure design for a fast steering scanning mirror
KR970003007B1 (ko) * 1993-05-21 1997-03-13 대우전자 주식회사 투사형 화상표시장치용 광로조절장치 및 그 구동방법
US5345521A (en) * 1993-07-12 1994-09-06 Texas Instrument Incorporated Architecture for optical switch
US5673139A (en) * 1993-07-19 1997-09-30 Medcom, Inc. Microelectromechanical television scanning device and method for making the same
US5585956A (en) * 1993-07-31 1996-12-17 Daewoo Electronics Co, Ltd. Electrostrictive actuated mirror array
US5448395A (en) * 1993-08-03 1995-09-05 Northrop Grumman Corporation Non-mechanical step scanner for electro-optical sensors
JPH0784197A (ja) * 1993-08-31 1995-03-31 Daewoo Electron Co Ltd 投射型画像表示装置用ミラーの製造方法
KR970003465B1 (ko) * 1993-09-28 1997-03-18 대우전자 주식회사 광로조절장치의 제조방법
KR970003466B1 (ko) * 1993-09-28 1997-03-18 대우전자 주식회사 투사형 화상 표시 장치의 광로 조절 장치 제조 방법
US6426013B1 (en) 1993-10-18 2002-07-30 Xros, Inc. Method for fabricating micromachined members coupled for relative rotation
US6044705A (en) * 1993-10-18 2000-04-04 Xros, Inc. Micromachined members coupled for relative rotation by torsion bars
US6467345B1 (en) 1993-10-18 2002-10-22 Xros, Inc. Method of operating micromachined members coupled for relative rotation
US5936757A (en) * 1993-10-29 1999-08-10 Daewoo Electronics Co., Ltd. Thin film actuated mirror array
RU2140722C1 (ru) * 1993-10-29 1999-10-27 Дэу Электроникс Ко., Лтд. Тонкопленочная приводимая в действие зеркальная матрица и способ ее изготовления
US5452024A (en) * 1993-11-01 1995-09-19 Texas Instruments Incorporated DMD display system
US5583688A (en) * 1993-12-21 1996-12-10 Texas Instruments Incorporated Multi-level digital micromirror device
US5444566A (en) * 1994-03-07 1995-08-22 Texas Instruments Incorporated Optimized electronic operation of digital micromirror devices
JPH07303174A (ja) * 1994-04-28 1995-11-14 Canon Inc 原稿走査装置
US8014059B2 (en) 1994-05-05 2011-09-06 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method for charge control in a MEMS device
US7550794B2 (en) 2002-09-20 2009-06-23 Idc, Llc Micromechanical systems device comprising a displaceable electrode and a charge-trapping layer
US8081369B2 (en) * 1994-05-05 2011-12-20 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method for a MEMS device
US7808694B2 (en) 1994-05-05 2010-10-05 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and device for modulating light
US7297471B1 (en) 2003-04-15 2007-11-20 Idc, Llc Method for manufacturing an array of interferometric modulators
US7826120B2 (en) * 1994-05-05 2010-11-02 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and device for multi-color interferometric modulation
US7123216B1 (en) 1994-05-05 2006-10-17 Idc, Llc Photonic MEMS and structures
US7776631B2 (en) 1994-05-05 2010-08-17 Qualcomm Mems Technologies, Inc. MEMS device and method of forming a MEMS device
US7800809B2 (en) * 1994-05-05 2010-09-21 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method for a MEMS device
US7839556B2 (en) * 1994-05-05 2010-11-23 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and device for modulating light
US7852545B2 (en) * 1994-05-05 2010-12-14 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and device for modulating light
US7738157B2 (en) 1994-05-05 2010-06-15 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method for a MEMS device
US20010003487A1 (en) * 1996-11-05 2001-06-14 Mark W. Miles Visible spectrum modulator arrays
JP3546532B2 (ja) * 1994-06-14 2004-07-28 株式会社デンソー 光スキャナ装置
FR2726135B1 (fr) * 1994-10-25 1997-01-17 Suisse Electronique Microtech Dispositif de commutation
US5737302A (en) * 1994-11-10 1998-04-07 Kabushiki Kaisha Toshiba Galvanomirror and optical disk drive using the same
US5719695A (en) * 1995-03-31 1998-02-17 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator with superstructure light shield
US5535047A (en) * 1995-04-18 1996-07-09 Texas Instruments Incorporated Active yoke hidden hinge digital micromirror device
JP3349332B2 (ja) * 1995-04-28 2002-11-25 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション 反射式空間光変調素子配列及びその形成方法
US7898722B2 (en) 1995-05-01 2011-03-01 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Microelectromechanical device with restoring electrode
US5629794A (en) * 1995-05-31 1997-05-13 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator having an analog beam for steering light
US5841579A (en) 1995-06-07 1998-11-24 Silicon Light Machines Flat diffraction grating light valve
KR100213026B1 (ko) * 1995-07-27 1999-08-02 윤종용 디엠디 및 그 제조공정
US6324192B1 (en) 1995-09-29 2001-11-27 Coretek, Inc. Electrically tunable fabry-perot structure utilizing a deformable multi-layer mirror and method of making the same
US5739945A (en) * 1995-09-29 1998-04-14 Tayebati; Parviz Electrically tunable optical filter utilizing a deformable multi-layer mirror
US6044056A (en) 1996-07-30 2000-03-28 Seagate Technology, Inc. Flying optical head with dynamic mirror
US6850475B1 (en) 1996-07-30 2005-02-01 Seagate Technology, Llc Single frequency laser source for optical data storage system
US6061323A (en) * 1996-07-30 2000-05-09 Seagate Technology, Inc. Data storage system having an improved surface micro-machined mirror
US5914801A (en) 1996-09-27 1999-06-22 Mcnc Microelectromechanical devices including rotating plates and related methods
US7929197B2 (en) * 1996-11-05 2011-04-19 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method for a MEMS device
US6025951A (en) * 1996-11-27 2000-02-15 National Optics Institute Light modulating microdevice and method
US7830588B2 (en) * 1996-12-19 2010-11-09 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method of making a light modulating display device and associated transistor circuitry and structures thereof
US7471444B2 (en) 1996-12-19 2008-12-30 Idc, Llc Interferometric modulation of radiation
US5982553A (en) 1997-03-20 1999-11-09 Silicon Light Machines Display device incorporating one-dimensional grating light-valve array
US6076256A (en) * 1997-04-18 2000-06-20 Seagate Technology, Inc. Method for manufacturing magneto-optical data storage system
US5867302A (en) * 1997-08-07 1999-02-02 Sandia Corporation Bistable microelectromechanical actuator
KR100259151B1 (ko) * 1997-08-26 2000-06-15 윤종용 비대칭강성구조를 갖는 광 경로 변환 액츄에이터 및 그의 구동방법
US6088102A (en) 1997-10-31 2000-07-11 Silicon Light Machines Display apparatus including grating light-valve array and interferometric optical system
JPH11144401A (ja) 1997-11-13 1999-05-28 Teac Corp 記録媒体記録再生装置
WO1999052006A2 (en) 1998-04-08 1999-10-14 Etalon, Inc. Interferometric modulation of radiation
US8928967B2 (en) 1998-04-08 2015-01-06 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and device for modulating light
US7532377B2 (en) 1998-04-08 2009-05-12 Idc, Llc Movable micro-electromechanical device
KR100313851B1 (ko) 1998-04-10 2001-12-12 윤종용 화상표시장치용마이크로미러디바이스
US6271808B1 (en) 1998-06-05 2001-08-07 Silicon Light Machines Stereo head mounted display using a single display device
US6200882B1 (en) 1998-06-10 2001-03-13 Seagate Technology, Inc. Method for processing a plurality of micro-machined mirror assemblies
US6101036A (en) 1998-06-23 2000-08-08 Silicon Light Machines Embossed diffraction grating alone and in combination with changeable image display
US6130770A (en) 1998-06-23 2000-10-10 Silicon Light Machines Electron gun activated grating light valve
US6215579B1 (en) 1998-06-24 2001-04-10 Silicon Light Machines Method and apparatus for modulating an incident light beam for forming a two-dimensional image
US6303986B1 (en) 1998-07-29 2001-10-16 Silicon Light Machines Method of and apparatus for sealing an hermetic lid to a semiconductor die
US6529310B1 (en) * 1998-09-24 2003-03-04 Reflectivity, Inc. Deflectable spatial light modulator having superimposed hinge and deflectable element
JP3919954B2 (ja) * 1998-10-16 2007-05-30 富士フイルム株式会社 アレイ型光変調素子及び平面ディスプレイの駆動方法
US6329738B1 (en) * 1999-03-30 2001-12-11 Massachusetts Institute Of Technology Precision electrostatic actuation and positioning
US6724125B2 (en) * 1999-03-30 2004-04-20 Massachusetts Institute Of Technology Methods and apparatus for diffractive optical processing using an actuatable structure
US6275320B1 (en) 1999-09-27 2001-08-14 Jds Uniphase, Inc. MEMS variable optical attenuator
WO2003007049A1 (en) 1999-10-05 2003-01-23 Iridigm Display Corporation Photonic mems and structures
US6552840B2 (en) * 1999-12-03 2003-04-22 Texas Instruments Incorporated Electrostatic efficiency of micromechanical devices
US6373682B1 (en) 1999-12-15 2002-04-16 Mcnc Electrostatically controlled variable capacitor
KR100708077B1 (ko) 2000-05-01 2007-04-16 삼성전자주식회사 화상표시장치용 마이크로미러 디바이스
US6813053B1 (en) * 2000-05-19 2004-11-02 The Regents Of The University Of California Apparatus and method for controlled cantilever motion through torsional beams and a counterweight
US6735008B2 (en) * 2000-07-31 2004-05-11 Corning Incorporated MEMS mirror and method of fabrication
US6873450B2 (en) * 2000-08-11 2005-03-29 Reflectivity, Inc Micromirrors with mechanisms for enhancing coupling of the micromirrors with electrostatic fields
US6485273B1 (en) 2000-09-01 2002-11-26 Mcnc Distributed MEMS electrostatic pumping devices
US6738177B1 (en) * 2000-09-05 2004-05-18 Siwave, Inc. Soft snap-down optical element using kinematic supports
US6590267B1 (en) 2000-09-14 2003-07-08 Mcnc Microelectromechanical flexible membrane electrostatic valve device and related fabrication methods
US6962771B1 (en) * 2000-10-13 2005-11-08 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Dual damascene process
US6377438B1 (en) 2000-10-23 2002-04-23 Mcnc Hybrid microelectromechanical system tunable capacitor and associated fabrication methods
US6975366B2 (en) * 2000-10-26 2005-12-13 General Atomics Digital display system using pulsed lasers
US6771326B2 (en) 2000-10-26 2004-08-03 General Atomics, Inc. Multi-screen laser projection system using a shared laser source
US6396620B1 (en) 2000-10-30 2002-05-28 Mcnc Electrostatically actuated electromagnetic radiation shutter
FR2820833B1 (fr) * 2001-02-15 2004-05-28 Teem Photonics Micro-miroir optique a pivot, matrice de tels micro-miroirs et procede de realisation dudit micro-miroir
US20020167695A1 (en) * 2001-03-02 2002-11-14 Senturia Stephen D. Methods and apparatus for diffractive optical processing using an actuatable structure
JP3908566B2 (ja) * 2001-03-02 2007-04-25 三星電子株式会社 マイクロミラー駆動装置及びその制御方法
US6707591B2 (en) 2001-04-10 2004-03-16 Silicon Light Machines Angled illumination for a single order light modulator based projection system
US7026602B2 (en) * 2001-04-13 2006-04-11 Research Triangle Institute Electromagnetic radiation detectors having a microelectromechanical shutter device
US6586738B2 (en) 2001-04-13 2003-07-01 Mcnc Electromagnetic radiation detectors having a micromachined electrostatic chopper device
US6608712B2 (en) 2001-05-15 2003-08-19 Network Photonics, Inc. Hidden flexure ultra planar optical routing element
US6782205B2 (en) 2001-06-25 2004-08-24 Silicon Light Machines Method and apparatus for dynamic equalization in wavelength division multiplexing
US6747781B2 (en) 2001-06-25 2004-06-08 Silicon Light Machines, Inc. Method, apparatus, and diffuser for reducing laser speckle
US6701037B2 (en) 2001-07-03 2004-03-02 Pts Corporation MEMS-based noncontacting free-space optical switch
US6614581B2 (en) 2001-07-03 2003-09-02 Network Photonics, Inc. Methods and apparatus for providing a multi-stop micromirror
US6625342B2 (en) * 2001-07-03 2003-09-23 Network Photonics, Inc. Systems and methods for overcoming stiction using a lever
US20030025981A1 (en) * 2001-07-31 2003-02-06 Ball Semiconductor, Inc. Micromachined optical phase shift device
US6589625B1 (en) 2001-08-01 2003-07-08 Iridigm Display Corporation Hermetic seal and method to create the same
US6829092B2 (en) 2001-08-15 2004-12-07 Silicon Light Machines, Inc. Blazed grating light valve
US7046410B2 (en) 2001-10-11 2006-05-16 Polychromix, Inc. Actuatable diffractive optical processor
US6809851B1 (en) * 2001-10-24 2004-10-26 Decicon, Inc. MEMS driver
US6747799B2 (en) 2001-11-12 2004-06-08 Pts Corporation High-efficiency low-polarization-dependent-loss lamellar diffraction-grating profile and production process
US6798951B2 (en) * 2001-11-12 2004-09-28 Pts Corporation Wavelength router with a transmissive dispersive element
US7158180B2 (en) * 2001-12-31 2007-01-02 Texas Instruments Incorporated System and method for varying exposure time for different parts of a field of view while acquiring an image
US6800238B1 (en) 2002-01-15 2004-10-05 Silicon Light Machines, Inc. Method for domain patterning in low coercive field ferroelectrics
US6794119B2 (en) 2002-02-12 2004-09-21 Iridigm Display Corporation Method for fabricating a structure for a microelectromechanical systems (MEMS) device
US6437903B1 (en) * 2002-02-20 2002-08-20 Intel Corporation Light modulator with two mirror sets
KR100452113B1 (ko) * 2002-02-25 2004-10-12 한국과학기술원 외팔보를 이용하는 마이크로미러 디바이스
US6574033B1 (en) 2002-02-27 2003-06-03 Iridigm Display Corporation Microelectromechanical systems device and method for fabricating same
US6959132B2 (en) * 2002-03-13 2005-10-25 Pts Corporation One-to-M wavelength routing element
US7177498B2 (en) * 2002-03-13 2007-02-13 Altera Corporation Two-by-two optical routing element using two-position MEMS mirrors
SE0200788D0 (sv) * 2002-03-15 2002-03-15 Micronic Laser Systems Ab Method using a movable micro-element
US6767751B2 (en) 2002-05-28 2004-07-27 Silicon Light Machines, Inc. Integrated driver process flow
US6728023B1 (en) 2002-05-28 2004-04-27 Silicon Light Machines Optical device arrays with optimized image resolution
US6822797B1 (en) 2002-05-31 2004-11-23 Silicon Light Machines, Inc. Light modulator structure for producing high-contrast operation using zero-order light
US6785039B2 (en) 2002-06-03 2004-08-31 Pts Corporation Optical routing elements
US6714337B1 (en) 2002-06-28 2004-03-30 Silicon Light Machines Method and device for modulating a light beam and having an improved gamma response
US6813059B2 (en) 2002-06-28 2004-11-02 Silicon Light Machines, Inc. Reduced formation of asperities in contact micro-structures
US6970283B2 (en) * 2002-07-16 2005-11-29 Dekel Tzidon Micromirrors array with improved light throughput
US6809384B1 (en) * 2002-08-09 2004-10-26 Pts Corporation Method and apparatus for protecting wiring and integrated circuit device
US6801354B1 (en) 2002-08-20 2004-10-05 Silicon Light Machines, Inc. 2-D diffraction grating for substantially eliminating polarization dependent losses
US7781850B2 (en) 2002-09-20 2010-08-24 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Controlling electromechanical behavior of structures within a microelectromechanical systems device
US6712480B1 (en) 2002-09-27 2004-03-30 Silicon Light Machines Controlled curvature of stressed micro-structures
US7002215B1 (en) 2002-09-30 2006-02-21 Pts Corporation Floating entrance guard for preventing electrical short circuits
US6870659B2 (en) * 2002-10-11 2005-03-22 Exajoule, Llc Micromirror systems with side-supported mirrors and concealed flexure members
US6825968B2 (en) * 2002-10-11 2004-11-30 Exajoule, Llc Micromirror systems with electrodes configured for sequential mirror attraction
US6798560B2 (en) * 2002-10-11 2004-09-28 Exajoula, Llc Micromirror systems with open support structures
US6849170B2 (en) * 2003-01-27 2005-02-01 Institut National D'optique Process for making microdevice with movable microplatform
US6903487B2 (en) * 2003-02-14 2005-06-07 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Micro-mirror device with increased mirror tilt
US6906848B2 (en) * 2003-02-24 2005-06-14 Exajoule, Llc Micromirror systems with concealed multi-piece hinge structures
US6900922B2 (en) * 2003-02-24 2005-05-31 Exajoule, Llc Multi-tilt micromirror systems with concealed hinge structures
US6829077B1 (en) 2003-02-28 2004-12-07 Silicon Light Machines, Inc. Diffractive light modulator with dynamically rotatable diffraction plane
US6806997B1 (en) 2003-02-28 2004-10-19 Silicon Light Machines, Inc. Patterned diffractive light modulator ribbon for PDL reduction
JP4314054B2 (ja) * 2003-04-15 2009-08-12 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイスの製造方法
TW570896B (en) * 2003-05-26 2004-01-11 Prime View Int Co Ltd A method for fabricating an interference display cell
US7221495B2 (en) * 2003-06-24 2007-05-22 Idc Llc Thin film precursor stack for MEMS manufacturing
US6972885B2 (en) * 2003-06-24 2005-12-06 Drs Sensors & Targeting Systems, Inc. Precision mirror displacement assembly
TWI231865B (en) 2003-08-26 2005-05-01 Prime View Int Co Ltd An interference display cell and fabrication method thereof
TW593126B (en) * 2003-09-30 2004-06-21 Prime View Int Co Ltd A structure of a micro electro mechanical system and manufacturing the same
US6876485B1 (en) 2003-11-07 2005-04-05 Reflectivity, Inc Micromirrors with asymmetric stopping mechanisms
US7161728B2 (en) 2003-12-09 2007-01-09 Idc, Llc Area array modulation and lead reduction in interferometric modulators
US7142346B2 (en) * 2003-12-09 2006-11-28 Idc, Llc System and method for addressing a MEMS display
US7532194B2 (en) * 2004-02-03 2009-05-12 Idc, Llc Driver voltage adjuster
US7706050B2 (en) 2004-03-05 2010-04-27 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Integrated modulator illumination
US7304782B2 (en) * 2004-03-24 2007-12-04 Fujifilm Corporation Driving method of spatial light modulator array, spatial light modulator array, and image forming apparatus
CA2464207C (en) * 2004-04-14 2011-03-29 Institut National D'optique Light modulating microdevice
US7476327B2 (en) 2004-05-04 2009-01-13 Idc, Llc Method of manufacture for microelectromechanical devices
US7256922B2 (en) 2004-07-02 2007-08-14 Idc, Llc Interferometric modulators with thin film transistors
JP4988569B2 (ja) * 2004-07-23 2012-08-01 エイエフエイ・コントロールズ，リミテッド・ライアビリティ・カンパニー マイクロバルブアセンブリおよびその関連方法
KR101255691B1 (ko) 2004-07-29 2013-04-17 퀄컴 엠이엠에스 테크놀로지스, 인크. 간섭 변조기의 미소기전 동작을 위한 시스템 및 방법
US7551159B2 (en) 2004-08-27 2009-06-23 Idc, Llc System and method of sensing actuation and release voltages of an interferometric modulator
US7560299B2 (en) 2004-08-27 2009-07-14 Idc, Llc Systems and methods of actuating MEMS display elements
US7889163B2 (en) 2004-08-27 2011-02-15 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Drive method for MEMS devices
US7499208B2 (en) 2004-08-27 2009-03-03 Udc, Llc Current mode display driver circuit realization feature
US7515147B2 (en) 2004-08-27 2009-04-07 Idc, Llc Staggered column drive circuit systems and methods
US7623142B2 (en) * 2004-09-14 2009-11-24 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Flexure
US7602375B2 (en) * 2004-09-27 2009-10-13 Idc, Llc Method and system for writing data to MEMS display elements
US7564612B2 (en) 2004-09-27 2009-07-21 Idc, Llc Photonic MEMS and structures
US7310179B2 (en) 2004-09-27 2007-12-18 Idc, Llc Method and device for selective adjustment of hysteresis window
US8878825B2 (en) 2004-09-27 2014-11-04 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method for providing a variable refresh rate of an interferometric modulator display
US7446927B2 (en) 2004-09-27 2008-11-04 Idc, Llc MEMS switch with set and latch electrodes
US7302157B2 (en) 2004-09-27 2007-11-27 Idc, Llc System and method for multi-level brightness in interferometric modulation
US7843410B2 (en) 2004-09-27 2010-11-30 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and device for electrically programmable display
US7553684B2 (en) 2004-09-27 2009-06-30 Idc, Llc Method of fabricating interferometric devices using lift-off processing techniques
US7684104B2 (en) 2004-09-27 2010-03-23 Idc, Llc MEMS using filler material and method
US7321456B2 (en) 2004-09-27 2008-01-22 Idc, Llc Method and device for corner interferometric modulation
US7417783B2 (en) * 2004-09-27 2008-08-26 Idc, Llc Mirror and mirror layer for optical modulator and method
US7349136B2 (en) 2004-09-27 2008-03-25 Idc, Llc Method and device for a display having transparent components integrated therein
US7369296B2 (en) * 2004-09-27 2008-05-06 Idc, Llc Device and method for modifying actuation voltage thresholds of a deformable membrane in an interferometric modulator
US7545550B2 (en) 2004-09-27 2009-06-09 Idc, Llc Systems and methods of actuating MEMS display elements
US7532195B2 (en) 2004-09-27 2009-05-12 Idc, Llc Method and system for reducing power consumption in a display
CN100439967C (zh) * 2004-09-27 2008-12-03 Idc公司 用于多状态干涉光调制的方法和设备
US8310441B2 (en) 2004-09-27 2012-11-13 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and system for writing data to MEMS display elements
US7675669B2 (en) 2004-09-27 2010-03-09 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and system for driving interferometric modulators
US7327510B2 (en) * 2004-09-27 2008-02-05 Idc, Llc Process for modifying offset voltage characteristics of an interferometric modulator
US7259449B2 (en) * 2004-09-27 2007-08-21 Idc, Llc Method and system for sealing a substrate
US7161730B2 (en) * 2004-09-27 2007-01-09 Idc, Llc System and method for providing thermal compensation for an interferometric modulator display
US7420728B2 (en) 2004-09-27 2008-09-02 Idc, Llc Methods of fabricating interferometric modulators by selectively removing a material
US7372613B2 (en) 2004-09-27 2008-05-13 Idc, Llc Method and device for multistate interferometric light modulation
US7679627B2 (en) 2004-09-27 2010-03-16 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Controller and driver features for bi-stable display
US7936497B2 (en) 2004-09-27 2011-05-03 Qualcomm Mems Technologies, Inc. MEMS device having deformable membrane characterized by mechanical persistence
US7813026B2 (en) 2004-09-27 2010-10-12 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method of reducing color shift in a display
US7724993B2 (en) 2004-09-27 2010-05-25 Qualcomm Mems Technologies, Inc. MEMS switches with deforming membranes
US7304784B2 (en) 2004-09-27 2007-12-04 Idc, Llc Reflective display device having viewable display on both sides
US7944599B2 (en) 2004-09-27 2011-05-17 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Electromechanical device with optical function separated from mechanical and electrical function
US7373026B2 (en) 2004-09-27 2008-05-13 Idc, Llc MEMS device fabricated on a pre-patterned substrate
US7630119B2 (en) 2004-09-27 2009-12-08 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Apparatus and method for reducing slippage between structures in an interferometric modulator
US7719500B2 (en) 2004-09-27 2010-05-18 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Reflective display pixels arranged in non-rectangular arrays
US7626581B2 (en) 2004-09-27 2009-12-01 Idc, Llc Device and method for display memory using manipulation of mechanical response
US7893919B2 (en) * 2004-09-27 2011-02-22 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Display region architectures
US7136213B2 (en) 2004-09-27 2006-11-14 Idc, Llc Interferometric modulators having charge persistence
US8008736B2 (en) 2004-09-27 2011-08-30 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Analog interferometric modulator device
US7289259B2 (en) 2004-09-27 2007-10-30 Idc, Llc Conductive bus structure for interferometric modulator array
US7355780B2 (en) 2004-09-27 2008-04-08 Idc, Llc System and method of illuminating interferometric modulators using backlighting
US7492502B2 (en) 2004-09-27 2009-02-17 Idc, Llc Method of fabricating a free-standing microstructure
US7405861B2 (en) 2004-09-27 2008-07-29 Idc, Llc Method and device for protecting interferometric modulators from electrostatic discharge
US7527995B2 (en) 2004-09-27 2009-05-05 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method of making prestructure for MEMS systems
US7345805B2 (en) 2004-09-27 2008-03-18 Idc, Llc Interferometric modulator array with integrated MEMS electrical switches
US20060076631A1 (en) * 2004-09-27 2006-04-13 Lauren Palmateer Method and system for providing MEMS device package with secondary seal
US7420725B2 (en) 2004-09-27 2008-09-02 Idc, Llc Device having a conductive light absorbing mask and method for fabricating same
US7554714B2 (en) 2004-09-27 2009-06-30 Idc, Llc Device and method for manipulation of thermal response in a modulator
US20060076634A1 (en) * 2004-09-27 2006-04-13 Lauren Palmateer Method and system for packaging MEMS devices with incorporated getter
JP4448039B2 (ja) 2005-01-26 2010-04-07 キヤノン株式会社 撮像装置及びその制御方法
TW200628877A (en) 2005-02-04 2006-08-16 Prime View Int Co Ltd Method of manufacturing optical interference type color display
KR100707185B1 (ko) 2005-03-16 2007-04-13 삼성전자주식회사 복층 플레이트 구조의 액츄에이터
US7830561B2 (en) * 2005-03-16 2010-11-09 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Lensless imaging with controllable apertures
US7468572B2 (en) * 2005-03-28 2008-12-23 Maurice Thomas Versatile digitally controlled micro-mechanical actuator
US7920136B2 (en) * 2005-05-05 2011-04-05 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method of driving a MEMS display device
CA2607807A1 (en) 2005-05-05 2006-11-16 Qualcomm Incorporated Dynamic driver ic and display panel configuration
US7948457B2 (en) 2005-05-05 2011-05-24 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Systems and methods of actuating MEMS display elements
CA2507177C (en) * 2005-05-13 2012-04-24 Institut National D'optique Image projector with flexible reflective analog modulator
US20060262181A1 (en) * 2005-05-17 2006-11-23 Robbins Gene A Laser-based image former operable to form dynamically variable images in objects in single shot events
US20070018065A1 (en) * 2005-07-21 2007-01-25 Rockwell Scientific Licensing, Llc Electrically controlled tiltable microstructures
EP2495212A3 (en) 2005-07-22 2012-10-31 QUALCOMM MEMS Technologies, Inc. Mems devices having support structures and methods of fabricating the same
CN101228093B (zh) 2005-07-22 2012-11-28 高通Mems科技公司 具有支撑结构的mems装置及其制造方法
KR20080041663A (ko) 2005-07-22 2008-05-13 콸콤 인코포레이티드 Ｍｅｍｓ 장치를 위한 지지 구조물 및 그 방법들
US7423798B2 (en) * 2005-08-16 2008-09-09 Spatial Photonics, Inc. Addressing circuit and method for bi-directional micro-mirror array
US7355779B2 (en) 2005-09-02 2008-04-08 Idc, Llc Method and system for driving MEMS display elements
US7630114B2 (en) 2005-10-28 2009-12-08 Idc, Llc Diffusion barrier layer for MEMS devices
US7561334B2 (en) * 2005-12-20 2009-07-14 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and apparatus for reducing back-glass deflection in an interferometric modulator display device
US8391630B2 (en) 2005-12-22 2013-03-05 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method for power reduction when decompressing video streams for interferometric modulator displays
US7795061B2 (en) * 2005-12-29 2010-09-14 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method of creating MEMS device cavities by a non-etching process
US7916980B2 (en) 2006-01-13 2011-03-29 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Interconnect structure for MEMS device
US7382515B2 (en) 2006-01-18 2008-06-03 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Silicon-rich silicon nitrides as etch stops in MEMS manufacture
WO2007089770A2 (en) * 2006-01-31 2007-08-09 Polychromix Corporation Hand-held ir spectrometer with a fixed grating and a diffractive mems-array
US8194056B2 (en) 2006-02-09 2012-06-05 Qualcomm Mems Technologies Inc. Method and system for writing data to MEMS display elements
US7547568B2 (en) 2006-02-22 2009-06-16 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Electrical conditioning of MEMS device and insulating layer thereof
US7550810B2 (en) 2006-02-23 2009-06-23 Qualcomm Mems Technologies, Inc. MEMS device having a layer movable at asymmetric rates
US7450295B2 (en) 2006-03-02 2008-11-11 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Methods for producing MEMS with protective coatings using multi-component sacrificial layers
US20070228156A1 (en) * 2006-03-28 2007-10-04 Household Corporation Interoperability facilitator
US7643203B2 (en) * 2006-04-10 2010-01-05 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Interferometric optical display system with broadband characteristics
WO2007120885A2 (en) * 2006-04-13 2007-10-25 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Mems devices and processes for packaging such devices
US7417784B2 (en) * 2006-04-19 2008-08-26 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Microelectromechanical device and method utilizing a porous surface
US7527996B2 (en) 2006-04-19 2009-05-05 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Non-planar surface structures and process for microelectromechanical systems
US7623287B2 (en) 2006-04-19 2009-11-24 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Non-planar surface structures and process for microelectromechanical systems
US7711239B2 (en) 2006-04-19 2010-05-04 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Microelectromechanical device and method utilizing nanoparticles
US8049713B2 (en) 2006-04-24 2011-11-01 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Power consumption optimized display update
US7369292B2 (en) 2006-05-03 2008-05-06 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Electrode and interconnect materials for MEMS devices
US20070268201A1 (en) * 2006-05-22 2007-11-22 Sampsell Jeffrey B Back-to-back displays
US7405863B2 (en) 2006-06-01 2008-07-29 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Patterning of mechanical layer in MEMS to reduce stresses at supports
US7321457B2 (en) * 2006-06-01 2008-01-22 Qualcomm Incorporated Process and structure for fabrication of MEMS device having isolated edge posts
US7649671B2 (en) 2006-06-01 2010-01-19 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Analog interferometric modulator device with electrostatic actuation and release
US7471442B2 (en) 2006-06-15 2008-12-30 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and apparatus for low range bit depth enhancements for MEMS display architectures
EP2029473A2 (en) * 2006-06-21 2009-03-04 Qualcomm Incorporated Method for packaging an optical mems device
US7702192B2 (en) 2006-06-21 2010-04-20 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Systems and methods for driving MEMS display
US7835061B2 (en) 2006-06-28 2010-11-16 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Support structures for free-standing electromechanical devices
US7385744B2 (en) 2006-06-28 2008-06-10 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Support structure for free-standing MEMS device and methods for forming the same
US7777715B2 (en) 2006-06-29 2010-08-17 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Passive circuits for de-multiplexing display inputs
US7527998B2 (en) 2006-06-30 2009-05-05 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method of manufacturing MEMS devices providing air gap control
US7763546B2 (en) 2006-08-02 2010-07-27 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Methods for reducing surface charges during the manufacture of microelectromechanical systems devices
US7566664B2 (en) 2006-08-02 2009-07-28 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Selective etching of MEMS using gaseous halides and reactive co-etchants
US7545552B2 (en) 2006-10-19 2009-06-09 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Sacrificial spacer process and resultant structure for MEMS support structure
US7404909B2 (en) * 2006-12-06 2008-07-29 Texas Instruments Incorporated Mirror including dielectric portions and a method of manufacturing the same
US7706042B2 (en) 2006-12-20 2010-04-27 Qualcomm Mems Technologies, Inc. MEMS device and interconnects for same
US7911672B2 (en) * 2006-12-26 2011-03-22 Zhou Tiansheng Micro-electro-mechanical-system micromirrors for high fill factor arrays and method therefore
US7535621B2 (en) 2006-12-27 2009-05-19 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Aluminum fluoride films for microelectromechanical system applications
US7719752B2 (en) 2007-05-11 2010-05-18 Qualcomm Mems Technologies, Inc. MEMS structures, methods of fabricating MEMS components on separate substrates and assembly of same
US7782521B2 (en) * 2007-05-31 2010-08-24 Texas Instruments Incorporated System and method for displaying images
US7625825B2 (en) * 2007-06-14 2009-12-01 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method of patterning mechanical layer for MEMS structures
US8068268B2 (en) 2007-07-03 2011-11-29 Qualcomm Mems Technologies, Inc. MEMS devices having improved uniformity and methods for making them
US7692841B2 (en) * 2007-07-31 2010-04-06 Texas Instruments Incorporated System and method for regulating micromirror position
US8274722B2 (en) * 2008-01-15 2012-09-25 Moidu Abdul Jaleel K Counter-balanced MEMS mirror with hidden hinge
US7952778B2 (en) * 2008-01-15 2011-05-31 Jds Uniphase Corporation Biaxial MEMS mirror with hidden hinge
US7863079B2 (en) 2008-02-05 2011-01-04 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Methods of reducing CD loss in a microelectromechanical device
US20100020382A1 (en) * 2008-07-22 2010-01-28 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Spacer for mems device
US8736590B2 (en) 2009-03-27 2014-05-27 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Low voltage driver scheme for interferometric modulators
US8238018B2 (en) * 2009-06-01 2012-08-07 Zhou Tiansheng MEMS micromirror and micromirror array
US8379392B2 (en) 2009-10-23 2013-02-19 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Light-based sealing and device packaging
US8134277B2 (en) * 2009-12-15 2012-03-13 Moidu Abdul Jaleel K Electrostatic comb actuator
WO2011126953A1 (en) 2010-04-09 2011-10-13 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Mechanical layer of an electromechanical device and methods of forming the same
US9036231B2 (en) 2010-10-20 2015-05-19 Tiansheng ZHOU Micro-electro-mechanical systems micromirrors and micromirror arrays
US10551613B2 (en) 2010-10-20 2020-02-04 Tiansheng ZHOU Micro-electro-mechanical systems micromirrors and micromirror arrays
US8963159B2 (en) 2011-04-04 2015-02-24 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Pixel via and methods of forming the same
US9134527B2 (en) 2011-04-04 2015-09-15 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Pixel via and methods of forming the same
US8659816B2 (en) 2011-04-25 2014-02-25 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Mechanical layer and methods of making the same
US9385634B2 (en) 2012-01-26 2016-07-05 Tiansheng ZHOU Rotational type of MEMS electrostatic actuator
US8885245B2 (en) 2012-01-26 2014-11-11 Jds Uniphase Corporation Biaxial MEMS mirror with hidden hinge and staggered electrodes
JP6550866B2 (ja) * 2015-04-01 2019-07-31 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置および電子機器
US10831018B2 (en) * 2017-12-08 2020-11-10 Texas Instruments Incorporated Methods and apparatus for increasing efficiency and optical bandwidth of a microelectromechanical system piston-mode spatial light modulator
US10371939B2 (en) 2017-12-08 2019-08-06 Texas Instruments Incorporated Apparatus providing over-travel protection for actuators
US10429590B1 (en) * 2018-05-21 2019-10-01 Dicon Fiberoptics, Inc. Damping mechanism for micro-electro-mechanical systems (MEMS) structures, including tilting mirror devices used in optical components
US11256083B2 (en) 2018-12-27 2022-02-22 Texas Instruments Incorporated MEMS electrostatic actuator with linearized displacements

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4421381A (en) * 1980-04-04 1983-12-20 Yokogawa Hokushin Electric Corp. Mechanical vibrating element
US4317611A (en) * 1980-05-19 1982-03-02 International Business Machines Corporation Optical ray deflection apparatus
US4356730A (en) * 1981-01-08 1982-11-02 International Business Machines Corporation Electrostatically deformographic switches
US4710732A (en) * 1984-07-31 1987-12-01 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
US4662746A (en) * 1985-10-30 1987-05-05 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
US5061049A (en) * 1984-08-31 1991-10-29 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
US5083857A (en) * 1990-06-29 1992-01-28 Texas Instruments Incorporated Multi-level deformable mirror device
US5018256A (en) * 1990-06-29 1991-05-28 Texas Instruments Incorporated Architecture and process for integrating DMD with control circuit substrates
US5142405A (en) * 1990-06-29 1992-08-25 Texas Instruments Incorporated Bistable dmd addressing circuit and method

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