JPH10142529A - 空間光変調器 - Google Patents

空間光変調器

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JPH10142529A
JPH10142529A JP8317102A JP31710296A JPH10142529A JP H10142529 A JPH10142529 A JP H10142529A JP 8317102 A JP8317102 A JP 8317102A JP 31710296 A JP31710296 A JP 31710296A JP H10142529 A JPH10142529 A JP H10142529A
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JP
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light modulator
mirror
substrate
spatial light
beams
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JP8317102A
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Inventor
Yutaka Iwasaki
豊 岩崎
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Original Assignee
Nikon Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、複数の微小ミラーで構成されるミラ
ーアレイを用いて、光源からの光を各微小ミラー毎に所
定方向に反射させる空間光変調器に関し、光源から入射
した光を種々の任意の方向(少なくとも3方向以上)に
偏向させることができる空間変調器を提供することを目
的とする。 【解決手段】複数のミラー1の各々が梁2、3により支
持され、静電引力により梁2、3にねじれを生じさせて
傾斜し、基板側傾斜端部が基板4上に接触する。複数の
ミラー1において、2本の梁2、3の支持部を結ぶ仮想
直線lから基板側傾斜端部までの長さL1、L3と他方
の傾斜端部までの長さL2、L4とが等しいミラー1で
構成すれば、個々のミラーエレメントMは仮想直線lを
軸に正負等しい角度で傾斜し、且つ仮想直線lからの基
板側傾斜端部までの長さL1、L3の相違に応じて複数
の傾斜角を生じる空間光変調器となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数の微小ミラー
で構成されるミラーアレイを用いて、光源からの光を各
微小ミラー毎に所定方向に反射させる空間光変調器に関
する。
【0002】
【従来の技術】電気的に独立して制御可能な複数の微小
ミラーを2次元的に配置したマイクロミラーアレイによ
り、光源からの入射光を微小ミラー単位で所定方向に偏
向させる空間光変調器として、特開平2−8812号に
開示されているようなデジタル・マイクロミラー・デバ
イス(以下DMDと言う)が知られている。このDMD
は、現在の半導体製造工程で用いられるフォトリソグラ
フィ技術で容易に小型に製造し、且つ多数の微小ミラー
を高密度に実装でき、しかも従来の表示装置(例えばC
RTや液晶表示装置)に比較して低消費電力での駆動が
行えることから、投射型表示装置(プロジェクタ)の表
示用のライトバルブとして、あるいは電子写真方式の印
刷装置の印刷ヘッド等への応用が考えられている。
【0003】従来のDMDの構成を図8を用いて説明す
る。図8は、DMDを構成するミラーエレメントMの構
造を示した斜視図である。導電性材料で形成された例え
ば一辺が15μm程度のほぼ正方形形状のミラー1は、
対向する2辺のほぼ中央部でそれぞれ梁2、3に接続さ
れており、この梁2、3を介して基板4上に立てられた
支柱5、6と接続されている。ミラー1は、ねじりモー
メントを受けて梁2、3が同方向にねじれることによ
り、図中破線で示したような2つの梁2、3を結ぶ仮想
直線を中心としてその両側のいずれか一方に傾斜するこ
とができるようになっている。
【0004】ミラー1の裏面と対向する基板4上には、
2つのアドレス電極7、8および2つのランディング電
極9、10が形成されている。ランディング電極9、1
0はミラー1が傾斜した際に、ミラー1端部が接触する
位置にそれぞれ設けられている。アドレス電極7、8
は、支柱5、6とランディング電極9、10とのほぼ中
間位置の基板4上に設けられている。2つのランディン
グ電極9、10とミラー1とは電気的に接続されてお
り、これらにはバイアス電位(VB)が印加されるよう
になっている。2つのアドレス電極7、8のそれぞれに
は、絶対値が等しくて極性が逆のアドレス電圧(VA)
が印加されるようになっている。バイアス電圧値VBお
よびアドレス電圧値VAを適当に選択し、また、適当な
タイミングでこれらの電圧を各々の電極に印加すること
によって、極性の異なる電位のアドレス電極7、8とミ
ラー1との間に静電的な引力及び反発力を生じさせるこ
とにより梁2、3の軸回りにねじりモーメントを生じさ
せ、ミラー1を一方向に回転させることができる。
【0005】ミラー1の一端部がランディング電極9に
接触して傾斜する状態を「オン状態」、他端部がランデ
ィング電極10に接触して傾斜する状態を「オフ状態」
として、ミラー1の状態をデジタル的に選択することが
できるようになっている。このミラー1の基板4面に水
平な位置からの傾斜角は例えばオン状態が+10°、オ
フ状態が−10°である。従来のDMDでは、このよう
な構造の同一形状のミラーエレメントMが数百万個程度
までアレイ状に配置されており、各エレメントは、独立
にオン状態またはオフ状態になるように外部から制御で
きるようになっている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】このように複数のミラ
ーエレメントMを用いた従来の空間光変調器は、上述の
DMDに代表されるように、オン状態とオフ状態との2
値動作をするようにデジタル的に駆動される(以下これ
をデジタル駆動と言う)。しかしながら、このようなデ
ジタル駆動による空間光変調器では、投写型画像形成装
置や電子写真方式の印刷装置等のように各ミラーエレメ
ントMでの光の反射方向を2方向に切り替えるだけの用
途には十分機能するが、オン状態とオフ状態の間の任意
の角度を個々のミラーエレメントM毎に設定することが
できないので空間光変調器としての応用範囲が限られて
しまい、その用途を広げることができないという問題を
有している。
【0007】一方デジタル駆動に対して、ミラーエレメ
ントMをアナログ的に駆動させることも考えられる。例
えばミラー1とランディング電極9、10にはグランド
電位を印加しておいて、ミラー1に例えば+θ方向の回
転モーメントを与えるように正極のアドレス電極8に所
望の電圧を印加する。こうすることにより、静電引力に
よるミラー1の+θ方向の回転によりミラー1を支持し
ている梁2、3に働くねじりモーメントと梁2、3のね
じり応力とのバランスがとれるまでミラー1は回転して
ある傾斜角で停止するようにさせることができる。しか
しながら、このアナログ駆動でミラー1の所望の傾斜角
を得るための静電引力の制御を梁2、3の有するねじり
応力に対応させて行うのは現実的には種々の困難が伴
う。また、大きな傾斜角をミラー1に与えるにはアナロ
グ駆動よりデジタル駆動の方が有利であるという事実も
ある。
【0008】このように、微小ミラーをマトリクス上に
多数配列したミラーアレイで構成される従来の空間光変
調器では、現実には空間光変調器に入射した光源からの
光を各ミラーエレメントM毎に所定の2方向にしか偏向
させることができないという問題を有している。
【0009】本発明は上記従来の空間光変調器が有して
いる問題点を解決するためになされたものであって、そ
の目的は、光源から入射した光を種々の任意の方向(少
なくとも3方向以上)に偏向させることができる空間変
調器を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明による空間光変調器は、基板上に設けられた複
数の支柱にそれぞれ接続され、基板から所定の高さで基
板にほぼ水平に張り出した複数の梁と、複数の梁にそれ
ぞれ支持され、基板との間に生じさせた静電引力による
梁の変形により傾斜する複数のミラーとを有する空間光
変調器であって、複数のミラーが、梁の支持部から基板
側傾斜端部までの長さが異なる複数種類のミラーを含ん
でいる点に特徴を有している。従って、複数のミラーが
基板から所定の高さに位置する梁に支持されていても、
梁の支持部から基板側傾斜端部までの長さが異なる複数
種類のミラーにより種々の傾斜角度を得ることができる
ようになるので、光源から空間光変調器に入射した光を
種々の任意の方向に偏向させることができるようにな
る。
【0011】また本発明による空間光変調器は、複数の
ミラーの各々が、複数の梁のうち所定の2本の梁により
支持され、静電引力により当該2本の梁にねじれを生じ
させて傾斜し、基板側傾斜端部が基板上の所定の接触面
に接触するようにした構成でもよい。そして、本発明の
第1の実施の形態で説明する図1に示すように複数のミ
ラー(1)において、2本の梁(2、3)の支持部を結
ぶ仮想直線(l)から基板側傾斜端部までの長さ(L
1、L3)と他方の傾斜端部までの長さ(L2、L4)
とが等しいミラー(1)で構成すれば、個々のミラーエ
レメント(M)は仮想直線(l)を軸に正負等しい角度
で傾斜し、且つ仮想直線(l)からの基板側傾斜端部ま
での長さ(L1、L3)の相違に応じて複数の傾斜角を
生じる空間光変調器となる。従って、光源から本発明の
空間光変調器に入射した光を、少なくとも4方向以上に
偏向させることができるようになる。
【0012】また、本発明の第2の実施の形態で説明す
る図5に示すように複数のミラーを、2本の梁(2、
3)の支持部を結ぶ仮想直線(l)から基板側傾斜端部
までの長さ(L3)と他方の傾斜端部までの長さ(L
4)とが異なるミラー1(C2列のミラー)を含むよう
に構成すれば、仮想直線(l)から基板側傾斜端部まで
の長さ(L3)と他方の傾斜端部までの長さ(L4)と
が異なるミラーエレメント(M)は仮想直線(l)を軸
に正負の角度が異なる2種類の傾斜角を生じさせること
ができるようになる。
【0013】また、例えば図1及び図5に示すように、
複数のミラー(1)の仮想直線(l)が同一方向に並ぶ
ようにミラーエレメント(M)を配置すると、仮想直線
(l)に対して垂直な方向から光を入射させるようにし
て、複数種類のミラーの傾斜角の相違に依存せずに各ミ
ラーに入射する光の入射面を揃えることができるように
なる。あるいは、図6に示すように、複数のミラー
(1)の仮想直線(l)を任意の異なる方向に向くよう
にミラーエレメント(M)を配置すれば、光源からの光
の偏向方向を任意の方向にすることができるようにな
る。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明の第1の実施の形態による
空間光変調器を図1乃至図4を用いて説明する。図1は
本実施の形態による空間光変調器の構成を説明するため
の斜視図である。図1に示すように、半導体基板4表面
部に形成された絶縁層(図示せず)上の複数の行R1〜
Rmと複数の列C1〜Cnの各交差領域にミラーエレメ
ントM(Rm,Cn)が形成され、全体としてマトリク
ス状のミラーアレイが構成されている。図1においては
ミラーエレメントMのマトリクス配置の一部M(R1,
C1)〜M(R3,C3)のみを示している。
【0015】各ミラーエレメントMの構成について説明
する。何れのミラーエレメントMも、アルミニウム(A
l)等の高反射率を有し且つ導電性を有する材料で形成
されたミラー1を備えている。そしてミラー1は、対向
する2辺のほぼ中央部でそれぞれ梁2、3に支持されて
おり、この梁2、3を介して基板4上に立てられた支柱
5、6と接続されている。ミラー1を支持する2つの梁
2、3は基板4表面からほぼ同じ高さを有する支柱5、
6上に接続されている。従って、梁2、3の支持部を結
ぶ仮想直線lから基板4表面までの距離は何れのミラー
エレメントMにおいても同一であり、その距離(高さ)
は1.4μmである。また、梁2、3及び支柱5、6も
導電性を有する例えばアルミニウム合金で形成されてい
る。
【0016】ミラー1は、ねじりモーメントを受けて梁
2、3が同方向にねじれることにより、仮想直線lを中
心としていずれか一方に傾斜するようになっている。ミ
ラー1の裏面と対向する基板4表面部の絶縁層上には、
2つのアドレス電極7、8および2つのランディング電
極9、10が形成されている。ランディング電極9、1
0はミラー1が傾斜した際に、ミラー1端部が接触する
位置にミラー1端部が十分接触できる領域の大きさを確
保してそれぞれ設けられている。アドレス電極7、8
は、支柱5、6とランディング電極9、10との間の基
板4上であってランディング電極9、10に近い位置に
設けられている。2つのランディング電極9、10とミ
ラー1とは梁2、3及び支柱5、6を介して電気的に接
続されており、これらにはバイアス電位(VB)が印加
されるようになっている。2つのアドレス電極7、8の
それぞれには、絶対値が等しくて極性が逆のアドレス電
圧(VA)が印加されるようになっている。
【0017】このアドレス電極7、8へのアドレス電圧
の印加は、アドレス電極7、8下部の絶縁層に開口した
2つのコンタクトホール(図示せず)によりアドレス電
極7、8と接続された、基板4に形成された例えばCM
OS SRAMセル(図示せず)から行われるようにな
っている。バイアス電圧値VBおよびアドレス電圧値V
Aを適当に選択し、また、適当なタイミングでこれらの
電圧を各々の電極に印加することによって、極性の異な
る電位のアドレス電極7、8とミラー1との間に静電的
な引力及び反発力を生じさせることにより梁2、3の軸
回りにねじりモーメントを生じさせ、ミラー1を一方向
に回転させることができる。ミラー1の一端部がランデ
ィング電極9に接触して傾斜する状態を「オン状態」、
他端部がランディング電極10に接触して傾斜する状態
を「オフ状態」として、ミラー1の状態をデジタル的に
選択することができるようになっている。図1では、全
てのミラーエレメントMが「オン状態」である場合を示
している。
【0018】以上のように各ミラーエレメントMはそれ
ぞれ同一の機能を有する構成要素から成り立っている
が、本実施の形態による空間光変調器は、複数のミラー
1が、梁2、3の支持部から基板4側傾斜端部までの長
さが異なる複数種類のミラー1を含んでいる点に特徴を
有している。図1において、C1列及びC3列にあるミ
ラーエレメントMのミラー1は一辺の長さ(L1+L
2)が16μmの正方形形状をしており、C2列にある
ミラーエレメントMのミラー1は2つの梁2、3を結ん
だ仮想直線lと平行な辺、すなわちランディング電極
9、10のいずれかと接触可能な辺の長さが16μmで
あり、他方の辺、即ち梁2、3でそれぞれ支持されてい
る辺の長さ(L3+L4)が24μmである長方形形状
をしている。そして、何れのC列のミラー1も2本の梁
2、3の支持部を結ぶ仮想直線lからランディング電極
9、10のいずれかと接触可能な辺の端部までの距離が
等しくなっている(L1=L2、L3=L4)。C1
列、C3列の各ミラー1の傾斜角は±10°、C2列の
各ミラー1の傾斜角は±6.7°となり光源からの光に
対してミラーアレイ全体として異なる複数の傾斜角(少
なくとも4種類以上)を与えることができるようにな
る。
【0019】図2は本実施の形態による空間光変調器に
おけるミラーエレメントMの1つを側面から見た概略図
である。図2を用いて本実施の形態による空間光変調器
におけるミラーエレメントMの動作を説明する。なお、
図示を簡略にして説明を分かり易くするため、ミラーエ
レメントMの支柱5、6、梁2、3の図示は省略してい
る。光源11から出射した光はミラーエレメントMのミ
ラー1に照射される。例えばオン状態にあるミラーエレ
メントMのミラー1(図中実線で示す)で反射した光
は、図中実線Aの矢印で示された方向へ向かい、オフ状
態にあるミラーエレメントMのミラー1(図中破線で示
す)で反射した光は、図中破線Bの矢印で示された方向
へ向かう。入射光に対するA方向とB方向の角度の差は
ミラー1の傾斜角で決定される。ミラー1は、オン状
態、オフ状態共に端部がランディング電極9又は10に
接しているので、傾斜角は、ミラー1と基板4の間の距
離で決定される。
【0020】図3は本実施の形態による空間光変調器に
おける2つのミラーエレメントMを側面から見た概略図
である。図3を用いて本実施の形態による空間光変調器
におけるミラーエレメントMの作用を説明する。図3で
は、例として図1におけるミラーエレメントM(R3,
C1)とミラーエレメントM(R3,C2)を用いて説
明する。なお、図示を簡略にして説明を分かり易くする
ため、2つのミラーエレメントの各アドレス電極7、8
と支柱5、6、梁2、3の図示は省略している。
【0021】ミラーエレメントM(R3,C1)のミラ
ー1の傾斜角θはミラー1と基板4の距離h及び、仮想
直線lからランディング電極10に接触するミラー1の
端部までの距離L1で決定される。この関係は、sin
θ=h/L1という単純な式で表せる。ここでθは、図
3中で点線で示された基板4に平行な平面とミラーのな
す角(傾斜角)であり、ここでは点線で示す平面から時
計回りにミラーが傾斜するときの角度を正とする。図示
のようにミラーエレメントM(R3,C1)のミラー1
が傾斜角θで傾斜してランディング電極10に接触して
いる状態で光源11から光が照射されると、出射光は当
該ミラー1により図示のA方向に反射させられる。
【0022】同様にミラーエレメントM(R3,C2)
のミラー1’の傾斜角θ’(θ’<θ)はミラー1’と
基板4の距離h’及び仮想直線lからランディング電極
10に接触するミラー1’の端部までの距離L3で決定
される。この関係は同様にsinθ’=h’/L3とい
う単純な式で表せる。ミラー1、1’と基板4との距離
h、h’を一定(h=h’)とした場合、所望のθ’を
ミラーエレメントM(R3,C2)に与えるためには、
仮想直線lから、ランディング電極に接触するミラーの
端部までの距離LをL=L3(>L1)とすればよいこ
とがわかる。図示のようにミラーエレメントM(R3,
C2)のミラー1’が傾斜角θ’で傾斜してランディン
グ電極10’に接触している状態で光源11から光が照
射されると、出射光は当該ミラー1’により、ミラーエ
レメントM(R3,C1)のA方向と異なるB方向に反
射させられる。
【0023】このように本実施の形態の空間光変調器に
よれば、複数のミラー1が基板4から所定の高さhに位
置する梁2、3に支持されていても、梁2、3の支持部
から基板側傾斜端部までの長さ(L1、L3)が異なる
複数種類のミラー1により種々の傾斜角度を得ることが
できるようになるので、光源11から空間光変調器に入
射した光を種々の任意の方向に偏向させることができる
ようになる。また、2本の梁2、3の支持部を結ぶ仮想
直線lから基板側傾斜端部までの長さ(L1、L3)と
他方の傾斜端部までの長さ(L2、L4)とが等しいミ
ラー1で構成しているので、個々のミラーエレメントM
は仮想直線lを軸に正負等しい角度で傾斜し、且つ仮想
直線lからの基板側傾斜端部までの長さの相違(L1と
L3、又はL2とL4)に応じて複数の傾斜角を生じる
空間光変調器となる。従って、光源11から本実施の形
態による空間光変調器に入射した光を、少なくとも4方
向以上に偏向させることができるようになる。
【0024】次に本実施の形態による空間光変調器の製
造方法を図4を用いて簡単に説明する。アドレス電圧を
印加するアドレス回路(図示せず)が既に形成された基
板13上に絶縁層15を形成し、絶縁層15の所定位置
にコンタクトホールを形成する。全面に例えばアルミニ
ウム合金を堆積してパターニングし、アドレス回路に接
続されるアドレス電極14と、支柱形成領域の電極層2
0とを形成する(図4(a))。次に、例えばPMMA
(ポリメチルメタクリレート)を厚さ2〜3μm程度で
全面に塗布して犠牲層16を形成した後パターニングし
て電極層20上に支柱を形成するためのトレンチを形成
する(図4(b))。次に、スパッタリングによりアル
ミニウム合金層を厚さ500から1000Å程度堆積し
てパターニングし、支柱17、梁18を形成する。次
に、300〜5000Å程度の厚さでアルミニウムを堆
積してパターニングし、ミラー19を形成する(図4
(c))。最後に犠牲層16をエッチングにより除去す
る(図4(d))。
【0025】このように本実施の形態による空間光変調
器は、例えばミラーをパターニングする際のミラーの所
定形状に合わせてマスクの形状を異ならせる点以外は従
来のDMDの製造方法と全く同様のプロセスを用いて製
造することができるという大きな利点を有している。
【0026】既に説明したように、ミラーエレメントM
のミラーの傾斜角θは、sinθ=h/Lという式で表
せるが、この式は、高さhをミラーエレメントM毎に変
更することによっても傾斜角θを変更し得ることを示し
ている。しかしながら、図4に示すようにミラー19と
基板13の間の距離は、犠牲層16の厚さで決定されて
いる。従って、ミラーエレメントM毎に高さhを変更し
ようとすると、ミラーエレメントMの製造工程において
犠牲層16の高さをミラーエレメントM毎に異ならせる
必要が生じ、極めて複雑で困難な製造プロセスを経なけ
れば所望の傾斜角θを有するミラーエレメントMを形成
できないという問題を生じてしまう。本実施の形態によ
る空間光変調器の構成によれば、基板4からミラー19
までの高さをどのミラーエレメントMでも同一にしつ
つ、各ミラー19の傾斜角θを任意に変更させることが
できるようにしているので、犠牲層16は一層のみ形成
すればよく、プロセスを複雑にすることなく各ミラーエ
レメントMに所望の傾斜角θを与えることができる。
【0027】このように本実施の形態による空間光変調
器によれば、従来のDMDの製造工程に対して何ら工程
の増加を招くことなく現状の半導体装置の製造技術を用
いて製造することが可能になるという利点も生じる。
【0028】次に、本発明の第2の実施の形態による空
間光変調器を図5を用いて説明する。図5は本実施の形
態による空間光変調器の構成を説明するための斜視図で
ある。図5に示す空間光変調器においても第1の実施の
形態における図1に示したのと同様に、半導体基板4表
面部に形成された絶縁層(図示せず)上の複数の行R1
〜Rmと複数の列C1〜Cnの各交差領域にミラーエレ
メントM(Rm,Cn)が形成され、全体としてマトリ
クス状のミラーアレイが構成されたものである。図5に
おいてはミラーエレメントMのマトリクス配置の一部M
(R1,C1)〜M(R3,C3)のみを示している。
【0029】各ミラーエレメントMの構成について説明
する。第1の実施の形態における空間光変調器と同様の
材質あるいは、作用、機能等については説明を省略す
る。本実施の形態におけるミラーエレメントMも、ミラ
ー1が対向する2辺でそれぞれ梁2、3に接続されて支
持されており、この梁2、3を介して基板4上に立てら
れた支柱5、6と接続されている。ミラー1を支持する
2つの梁2、3は基板4表面からほぼ同じ高さを有する
支柱5、6上に接続されている。従って、梁2、3の支
持部を結ぶ仮想直線lから基板4表面までの距離は何れ
のミラーエレメントMにおいても同一である。
【0030】以上のように各ミラーエレメントMはそれ
ぞれ同一の機能を有する構成要素から成り立っている
が、本実施の形態による空間光変調器は、複数のミラー
1が、梁2、3の支持部から基板4側傾斜端部までの長
さが異なる複数種類のミラー1を含んでいる点に特徴を
有している。図5において、C1列及びC3列にあるミ
ラーエレメントMのミラー1は一辺の長さ(L1+L
2)が16μmの正方形形状をしており、2本の梁2、
3の支持部を結ぶ仮想直線lからランディング電極9、
10のいずれかと接触可能な辺の端部までの距離が等し
くなっている(L1=L2=8μm)。
【0031】一方、C2列にあるミラーエレメントMの
ミラー1は2つの梁2、3を結んだ仮想直線lと平行な
辺、すなわちランディング電極9、10のいずれかと接
触可能な辺の長さが16μmであり、他方の辺、即ち梁
2、3でそれぞれ支持されている辺の長さ(L3+L
4)が20μmである長方形形状をしている。そして、
2本の梁2、3の支持部を結ぶ仮想直線lからランディ
ング電極9、10のいずれかと接触可能な辺の端部まで
の距離が異なっている(L3≠L4)点に特徴を有して
いる。本実施の形態においては、L3=8μm、L4=
12μmである。
【0032】従って、オン状態では、全てのミラーが+
10°の傾斜角で傾き、オフ状態では、C1列及びC3
列のミラーでは−10°の傾斜角となり、C2列のミラ
ーでは−6.7°の傾斜角が得られるようになってい
る。従って、光源からの光に対してミラーアレイ全体と
しては少なくとも3種類以上の偏向方向を与えることが
でき、さらにオン状態とオフ状態での偏向方向を任意に
変更させることができるようになる。
【0033】図5の例では、R1行及びR3行のミラー
エレメントMが「オン状態」であり、R2行のミラーエ
レメントMが「オフ状態」である場合を示している。
【0034】このように本実施の形態の空間光変調器に
よれば、複数のミラー1を、2本の梁2、3の支持部を
結ぶ仮想直線lから基板側傾斜端部までの長さと他方の
傾斜端部までの長さとが異なるミラー1(C2列のミラ
ー)を含むように構成しているので、仮想直線lから基
板側傾斜端部までの長さと他方の傾斜端部までの長さと
が異なるミラーエレメントMは仮想直線lを軸に正負の
角度が異なる2種類の傾斜角を生じさせることができる
ようになる。従って、光源から本実施の形態による空間
光変調器に入射した光を多方向に偏向させることができ
るようになる。
【0035】また、本実施の形態による空間光変調器に
おいても、その製造方法は第1の実施の形態で図4を用
いて説明したのと同様であり、従って、例えばミラーを
パターニングする際のマスクの形状が異なる以外は従来
のDMDの製造方法と全く同様のプロセスを用いて製造
することができ、従来のDMDの製造工程に対して何ら
工程の増加を招くことなく現状の半導体装置の製造技術
を用いて製造することが可能になるという利点も生じ
る。
【0036】次に、本発明の第3の実施の形態による空
間光変調器を図6及び図7を用いて説明する。図6は本
実施の形態による空間光変調器の構成を説明するための
斜視図である。図6に示す空間光変調器においても第1
の実施の形態における図1に示したのと同様に、半導体
基板4表面部に形成された絶縁層(図示せず)上の複数
の行R1〜Rmと複数の列C1〜Cnの各交差領域にミ
ラーエレメントM(Rm,Cn)が形成され、全体とし
てマトリクス状のミラーアレイが構成されている。図5
においてはミラーエレメントMのマトリクス配置の一部
M(R1,C1)〜M(R3,C3)のみを示してい
る。
【0037】各ミラーエレメントMの構成について説明
する。第1及び第2の実施の形態における空間光変調器
と同様の材質あるいは、作用、機能等については説明を
省略する。本実施の形態におけるミラーエレメントM
も、ミラー1が対向する2辺でそれぞれ梁2、3に接続
されて支持されており、この梁2、3を介して基板4上
に立てられた支柱5、6と接続されている。ミラー1を
支持する2つの梁2、3は基板4表面からほぼ同じ高さ
を有する支柱5、6上に接続されている。従って、梁
2、3の支持部を結ぶ仮想直線lから基板4表面までの
距離は何れのミラーエレメントMにおいても同一であ
る。
【0038】以上のように各ミラーエレメントMはそれ
ぞれ同一の機能を有する構成要素から成り立っている
が、本実施の形態による空間光変調器は、上記第1及び
第2の実施の形態において説明したミラーエレメントM
を用い、それら複数のミラーエレメントMの支柱5、
6、の配置をそれぞれ異ならせた点に特徴を有してい
る。つまり、第1及び第2の実施の形態における図1及
び図5に示すミラーエレメントMでは、複数のミラー1
の仮想直線lが同一方向に並ぶようにミラーエレメント
Mを配置していたが、本実施の形態においては、複数の
ミラー1の仮想直線lが任意の異なる方向に向くように
各ミラーエレメントMを基板4上で所定量回転させて配
置している。
【0039】こうすることにより各ミラーエレメント毎
に所望の反射角と反射方向を与えることができ、光源か
らの光の反射光を高い自由度で任意の方向に偏向させる
ことができるようになる。
【0040】なお、本実施の形態にけるミラーエレメン
トの構成要素であるアドレス電極7、8、ランディング
電極9、10も各ミラーエレメントM毎に所望の角度回
転して配置される。図7は本実施の形態による空間光変
調器の主としてアドレス電極7、8の形状及び配置を示
す平面図である。各ミラーエレメントMを基板4上で所
定量回転させて配置するために、図7に例示するように
基板4上のアドレス電極7、8も所定量回転させた所定
位置に形成している。このようにアドレス電極7、8を
配置しても、下層のアドレス回路との電気的接続を確保
するコンタクトホール22、23の位置は変更させるこ
となく、アドレス電極7、8とコンタクトホール22、
23間を図示のようにリード配線で接続するようにして
いる。
【0041】本実施の形態による空間光変調器において
も、その製造方法は第1の実施の形態で図4を用いて説
明したのと同様であり、従って、例えばミラーをパター
ニングする際のマスクの形状が異なる以外は従来のDM
Dの製造方法と全く同様のプロセスを用いて製造するこ
とができ、従来のDMDの製造工程に対して何ら工程の
増加を招くことなく現状の半導体装置の製造技術を用い
て製造することが可能になるという利点も生じる。
【0042】本発明は、上記実施の形態に限らず種々の
変形が可能である。例えば、上記実施の形態において
は、ミラーの両端を支持してねじりモーメントを受ける
2本の梁が形成されている空間光変調器(DMD)につ
いて説明したが、本発明はこれに限ることなく、例えば
ミラーの一端を支持して曲げモーメントを受けて撓む1
本の梁が形成されているDMDにも当然応用することが
可能である。
【0043】また上記実施の形態において、ミラーエレ
メントMのミラーの大きさが異なると1エレメント当た
りの反射光量も異なることになるが、ミラーのランディ
ング電極に接触する辺の長さを変化させたり、ミラーの
一部を反射防止膜等で被覆したりすることにより各ミラ
ーエレメント当たりの反射光量を調整し、均一化するこ
とは可能である。
【0044】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、複数のミ
ラーが基板から所定の高さに位置する梁に支持されてい
ても、梁の支持部から基板側傾斜端部までの長さが異な
る複数種類のミラーにより種々の傾斜角度を得ることが
できるようになるので、光源から空間光変調器に入射し
た光を種々の任意の方向に偏向させることができるよう
になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態による空間光変調器
の構成を示す斜視図である。
【図2】本発明の第1の実施の形態による空間光変調器
におけるミラーエレメントMの1つを側面から見た概略
図である。
【図3】本発明の第1の実施の形態による空間光変調器
における2つのミラーエレメントMを側面から見た概略
図である。
【図4】本発明の第1の実施の形態による空間光変調器
の製造方法を説明する図である。
【図5】本発明の第2の実施の形態による空間光変調器
の構成を示す斜視図である。
【図6】本発明の第3の実施の形態による空間光変調器
の構成を示す斜視図である。
【図7】本発明の第3の実施の形態による空間光変調器
における主としてアドレス電極の形状及び配置を示す平
面図である。
【図8】従来のMDMの構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
1、19 ミラー 2、3、18 梁 4 基板 5、6、17 支柱 7、8、14 アドレス電極 9、10 ランディング電極 11 光源 15 絶縁層 16 犠牲層 20 電極層 22 コンタクトホール

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基板上に設けられた複数の支柱にそれぞれ
    接続され、前記基板から所定の高さで前記基板にほぼ水
    平に張り出した複数の梁と、 前記複数の梁にそれぞれ支持され、前記基板との間に生
    じさせた静電引力による前記梁の変形により傾斜する複
    数のミラーとを有する空間光変調器において、 前記複数のミラーは、前記梁の支持部から基板側傾斜端
    部までの長さが異なる複数種類のミラーを含んでいるこ
    とを特徴とする空間光変調器。
  2. 【請求項2】請求項1記載の空間光変調器において、 前記複数のミラーの各々は、前記複数の梁のうち所定の
    2本の梁により支持され、前記静電引力により当該2本
    の梁にねじれを生じさせて傾斜し、前記基板側傾斜端部
    が前記基板上の所定の接触面に接触することを特徴とす
    る空間光変調器。
  3. 【請求項3】請求項2記載の空間光変調器において、 前記複数のミラーは、前記2本の梁の支持部を結ぶ仮想
    直線から前記基板側傾斜端部までの長さと他方の傾斜端
    部までの長さとが等しいミラーを含んでいることを特徴
    とする空間光変調器。
  4. 【請求項4】請求項2記載の空間光変調器において、 前記複数のミラーは、前記2本の梁の支持部を結ぶ仮想
    直線から前記基板側傾斜端部までの長さと他方の傾斜端
    部までの長さとが異なるミラーを含んでいることを特徴
    とする空間光変調器。
  5. 【請求項5】請求項2記載の空間光変調器において、 前記複数のミラーは、前記2本の梁の支持部を結ぶ仮想
    直線が同一方向に並ぶように配置されていることを特徴
    とする空間光変調器。
  6. 【請求項6】請求項2記載の空間光変調器において、 前記複数のミラーは、前記2本の梁の支持部を結ぶ仮想
    直線が異なる方向を向くように配置されていることを特
    徴とする空間光変調器。
JP8317102A 1996-11-13 1996-11-13 空間光変調器 Withdrawn JPH10142529A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004501384A (ja) * 2000-04-17 2004-01-15 マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット 空間光変調器を利用したパターン形成システム
US6995896B2 (en) 2003-05-13 2006-02-07 Fujitsu Limited Tilt mirror controlling apparatus and method
CN1304871C (zh) * 2002-11-12 2007-03-14 奥林巴斯株式会社 摄像装置及其控制方法

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