JPH0784197A - 投射型画像表示装置用ミラーの製造方法 - Google Patents
投射型画像表示装置用ミラーの製造方法Info
- Publication number
- JPH0784197A JPH0784197A JP6206532A JP20653294A JPH0784197A JP H0784197 A JPH0784197 A JP H0784197A JP 6206532 A JP6206532 A JP 6206532A JP 20653294 A JP20653294 A JP 20653294A JP H0784197 A JPH0784197 A JP H0784197A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- array
- actuator
- image display
- mxn
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/0816—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
- G02B26/0833—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
- G02B26/0858—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD the reflecting means being moved or deformed by piezoelectric means
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Transforming Electric Information Into Light Information (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 実質的に製造工程を単純にするために電解め
っき工程を除去させ、Ｍ×Ｎアクチュエータアレー上に
Ｍ×Ｎミラーアレーを直接付着して制作するための向上
された製造方法を提供すること。 【構成】 基板１０をＭ×Ｎ突起部アレー２１２にパタ
ーニングする工程と、前記Ｍ×Ｎ突起部アレー２１２上
面上に分離層２２０、第１、第２および第３金属層２２
２，２２４，２２６を順番に形成する工程と、前記Ｍ×
Ｎ突起部アレー２１２などの上にＭ×Ｎアクチュエータ
アレー３２を結合する工程と、前記分離層２２０を除去
して、Ｍ×Ｎミラーアレー４２の本体４６の支持部から
Ｍ×Ｎ突起部アレー２１２を分離する工程と、反射器を
提供するために、前記第１金属層２２２上に第４金属層
２４４を形成して、Ｍ×Ｎアクチュエーテッドミラーア
レー４０が提供される工程とを含む。
っき工程を除去させ、Ｍ×Ｎアクチュエータアレー上に
Ｍ×Ｎミラーアレーを直接付着して制作するための向上
された製造方法を提供すること。 【構成】 基板１０をＭ×Ｎ突起部アレー２１２にパタ
ーニングする工程と、前記Ｍ×Ｎ突起部アレー２１２上
面上に分離層２２０、第１、第２および第３金属層２２
２，２２４，２２６を順番に形成する工程と、前記Ｍ×
Ｎ突起部アレー２１２などの上にＭ×Ｎアクチュエータ
アレー３２を結合する工程と、前記分離層２２０を除去
して、Ｍ×Ｎミラーアレー４２の本体４６の支持部から
Ｍ×Ｎ突起部アレー２１２を分離する工程と、反射器を
提供するために、前記第１金属層２２２上に第４金属層
２４４を形成して、Ｍ×Ｎアクチュエーテッドミラーア
レー４０が提供される工程とを含む。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光投射型システムに用い
られるエレクトロディスプレーシブアクチュエーチドミ
ラーアレーに関するもので、特に、投射型画像表示シス
テムに用いられるエレクトロディスプレーシブアクチュ
エータミラーアレー上にミラーアレーを手易く付着して
製造する向上された製造方法に関する。
られるエレクトロディスプレーシブアクチュエーチドミ
ラーアレーに関するもので、特に、投射型画像表示シス
テムに用いられるエレクトロディスプレーシブアクチュ
エータミラーアレー上にミラーアレーを手易く付着して
製造する向上された製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ビデオディスプレーシステムは、一般
に、画素(pixel) アレーとして、像（image ）を表示す
る。光投射型システムは従来のビデオディスプレーシス
テムのうち、大画面(large scale) で高画質のビデオデ
ィスプレーを提供することと知られている。このような
光投射型システムにおいては、ランプから投射された光
は、例えば、Ｍ×Ｎアクチュエーチドミラーアレーに均
一に照明されるが、このとき、各々のミラーは各々のア
クチュエータと結合されている。アクチュエータなどは
印加された電気信号に応答して変形する圧電物質(piezo
electric material)または電歪物質(electrostrictive
material) のようなエレクトロディスプレーシブ物質(e
lectrodisplacive material) からなる。
に、画素(pixel) アレーとして、像（image ）を表示す
る。光投射型システムは従来のビデオディスプレーシス
テムのうち、大画面(large scale) で高画質のビデオデ
ィスプレーを提供することと知られている。このような
光投射型システムにおいては、ランプから投射された光
は、例えば、Ｍ×Ｎアクチュエーチドミラーアレーに均
一に照明されるが、このとき、各々のミラーは各々のア
クチュエータと結合されている。アクチュエータなどは
印加された電気信号に応答して変形する圧電物質(piezo
electric material)または電歪物質(electrostrictive
material) のようなエレクトロディスプレーシブ物質(e
lectrodisplacive material) からなる。
【０００３】各々のミラーから反射された光は、開口(a
perture)に投射される。電気信号を各々のアクチュエー
タに印加することによって、光線が投射される各々のミ
ラーの相対的な位置が変更され、これによって各ミラー
から反射された光の光路が変更される。各々の反射され
た光の光路が変更されると、各々のミラーから反射され
て開口を通過する光量は変化して、光の強度(intensit
y) が調整される。開口を通じて光量が調整された光
は、投射レンズ(projection lens) のような適切な光学
装置を通じて投射スクリーン(projection screen) へ伝
送されて像(image)を表示する。
perture)に投射される。電気信号を各々のアクチュエー
タに印加することによって、光線が投射される各々のミ
ラーの相対的な位置が変更され、これによって各ミラー
から反射された光の光路が変更される。各々の反射され
た光の光路が変更されると、各々のミラーから反射され
て開口を通過する光量は変化して、光の強度(intensit
y) が調整される。開口を通じて光量が調整された光
は、投射レンズ(projection lens) のような適切な光学
装置を通じて投射スクリーン(projection screen) へ伝
送されて像(image)を表示する。
【０００４】本発明は前述された光投射型画像システム
に用いられるＭ×Ｎエレクトロディスプレーシブアクチ
ュエーテッドミラーアレーを形成するために、Ｍ×Ｎエ
レクトロディスプレーシブアクチュエータ上にＭ×Ｎミ
ラーアレーを付着して製造する方法に関するものであ
る。
に用いられるＭ×Ｎエレクトロディスプレーシブアクチ
ュエーテッドミラーアレーを形成するために、Ｍ×Ｎエ
レクトロディスプレーシブアクチュエータ上にＭ×Ｎミ
ラーアレーを付着して製造する方法に関するものであ
る。
【０００５】図５（ａ）〜（ｃ）及び図６（ａ）〜
（ｃ）は、従来技術に係るミラーアレーをアクチュエー
タミラーアレーアレー上に制作するための典型的な製造
工程図である。図５（ａ）に示すように、まず基板110
の平滑な上面上に分離層112 の形成を含む。分離層112
のフォトレジストはスピンコーディングして形成され
る。次に、第１金属層114 は、スパッタリング(sputter
ing)のような方法を用いて分離層112 の上面上にディポ
ジションする。第１金属層114 は、入射光を反射するた
めに、アルミニウム(Al)のような光反射金属からなる。
そのあと、第２および第３金属層116,118 は、第１金属
層114 の形成で用いられた技法と同一の技法で第１金属
層114 の上に印加される。第２金属層116 は、第１金属
層114 と第３金属層118 とのあいだの良好な接着性を与
えるための中間層として作用する。一般に、銅（Cu）お
よびニッケル(Ni)などが第２金属層116 および第３金属
層118 に各々用いられる。
（ｃ）は、従来技術に係るミラーアレーをアクチュエー
タミラーアレーアレー上に制作するための典型的な製造
工程図である。図５（ａ）に示すように、まず基板110
の平滑な上面上に分離層112 の形成を含む。分離層112
のフォトレジストはスピンコーディングして形成され
る。次に、第１金属層114 は、スパッタリング(sputter
ing)のような方法を用いて分離層112 の上面上にディポ
ジションする。第１金属層114 は、入射光を反射するた
めに、アルミニウム(Al)のような光反射金属からなる。
そのあと、第２および第３金属層116,118 は、第１金属
層114 の形成で用いられた技法と同一の技法で第１金属
層114 の上に印加される。第２金属層116 は、第１金属
層114 と第３金属層118 とのあいだの良好な接着性を与
えるための中間層として作用する。一般に、銅（Cu）お
よびニッケル(Ni)などが第２金属層116 および第３金属
層118 に各々用いられる。
【０００６】次の工程において、図５（ｂ）に示された
通り、金属層114,116,118 は、通常のフォトリソグラフ
ィー工程(photolithography process)を用いて、Ｍ×Ｎ
ミラーアレー構造120 にパターンされる。図５（ｃ）に
よる次の工程において、分離層112 で用いられたことと
同一のフォトレジストからなるフォトレジスト層130
は、図５（ａ）〜（ｂ）で行われた構造上に印加され、
第３金属層118 の上面を一部除いた部分に限定される。
フォトレジストが覆われた表面は次の電解めっき工程で
結晶の核(seed)のように作用する。
通り、金属層114,116,118 は、通常のフォトリソグラフ
ィー工程(photolithography process)を用いて、Ｍ×Ｎ
ミラーアレー構造120 にパターンされる。図５（ｃ）に
よる次の工程において、分離層112 で用いられたことと
同一のフォトレジストからなるフォトレジスト層130
は、図５（ａ）〜（ｂ）で行われた構造上に印加され、
第３金属層118 の上面を一部除いた部分に限定される。
フォトレジストが覆われた表面は次の電解めっき工程で
結晶の核(seed)のように作用する。
【０００７】その次に、図６（ａ）のように、第４金属
層140 は、第３金属層118 の形成されたとき用いられた
ことと同一の金属からなり、フォトレジスト層130 で覆
われていない第３金属層118 の表面上に電解めっきされ
る。図６（ｂ）で示すように、Ｍ×Ｎアクチュエータア
レー150 が、第４金属層140 の表面上に接着されて、Ｍ
×Ｎアクチュエータアレー150 における各々のアクチュ
エータ152 はＭ×Ｎミラーアレー構造における各々のＭ
×Ｎミラーに整列され、ここで各々のＭ×Ｎミラーは金
属層114,116,118 および140 を含む。
層140 は、第３金属層118 の形成されたとき用いられた
ことと同一の金属からなり、フォトレジスト層130 で覆
われていない第３金属層118 の表面上に電解めっきされ
る。図６（ｂ）で示すように、Ｍ×Ｎアクチュエータア
レー150 が、第４金属層140 の表面上に接着されて、Ｍ
×Ｎアクチュエータアレー150 における各々のアクチュ
エータ152 はＭ×Ｎミラーアレー構造における各々のＭ
×Ｎミラーに整列され、ここで各々のＭ×Ｎミラーは金
属層114,116,118 および140 を含む。
【０００８】基板110 を分離するために、そのフォトレ
ジスト層130 は同時に分離層112 から除去され、図６
（ｃ）で示すようにＭ×Ｎミラーアレー160 の形成が完
了される。第１金属層114 の第４金属層140 の厚さは、
実質的にアクチュエータの断面積より大きい断面積を有
する曲がり（sagging ）を防止する支持層として作用す
ることで十分な大さを有していなければならなく、かか
る目的を達成するために、電解めっき技法を用いられる
ことによって向上される。
ジスト層130 は同時に分離層112 から除去され、図６
（ｃ）で示すようにＭ×Ｎミラーアレー160 の形成が完
了される。第１金属層114 の第４金属層140 の厚さは、
実質的にアクチュエータの断面積より大きい断面積を有
する曲がり（sagging ）を防止する支持層として作用す
ることで十分な大さを有していなければならなく、かか
る目的を達成するために、電解めっき技法を用いられる
ことによって向上される。
【０００９】図５（ａ）〜図６（ｃ）によって前述され
たＭ×Ｎミラーアレー160 の製造工程において、複雑な
電解めっき工程を含む多重金属層の形成を含むので、工
程が複雑になり、製造コストが高くなる。
たＭ×Ｎミラーアレー160 の製造工程において、複雑な
電解めっき工程を含む多重金属層の形成を含むので、工
程が複雑になり、製造コストが高くなる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的は、実質的に製造工程を単純にするために電解めっ
き工程を除去させ、Ｍ×Ｎアクチュエータアレー上にＭ
×Ｎミラーアレーを直接付着して制作するための向上さ
れた製造方法を提供することにある。ここで、Ｍおよび
Ｎは整数であり、垂直方向のアクチュエータの数および
水平方向のアクチュエータの数を各々表す。
目的は、実質的に製造工程を単純にするために電解めっ
き工程を除去させ、Ｍ×Ｎアクチュエータアレー上にＭ
×Ｎミラーアレーを直接付着して制作するための向上さ
れた製造方法を提供することにある。ここで、Ｍおよび
Ｎは整数であり、垂直方向のアクチュエータの数および
水平方向のアクチュエータの数を各々表す。
【００１１】
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明の一実施例によれば、Ｍ×Ｎアクチュエ
ータアレーの上にＭ×Ｎミラーアレーを付着して制作す
る方法を提供し、前記Ｍ×Ｎアクチュエータの各々は、
印加される電気信号に応答して変形するエレクトロディ
スプレーシブ物質からなり、前記Ｍ×Ｎミラー各々は、
同一の大きさを有し、前記反射された光路を調整するた
めに、それに結合された前記Ｍ×Ｎアクチュエータの各
々の変形によってそれに入射される光線を反射し、か
つ、入射された光線を反射するために、平坦な表面を有
する反射器を含み、前記Ｍ×Ｎミラー各々の上面は、前
記Ｍ×Ｎアクチュエータの各々の上面より実質的に大き
く形成され、前記方法は、(a) 一定の間隔で垂直方向へ
同一の大きさの（Ｍ−１）個の溝と水平方向へ（Ｎ−
１）個の溝を形成し、（Ｍ−１）溝の通路は同一の大き
さで隔たられ、前記溝などは平滑な下面を形成すること
によって、基板を同一の大きさと一定の間隔で隔たって
分離されたＭ×Ｎ突起部アレーにパターニングして、前
記各々の突起部などは周辺突起部から隔たられ、前記各
々の突起部は平滑な上面を有する工程と、(b) 前記各々
のＭ×Ｎ突起部の平滑な上面および前記各々の（Ｍ−
１）×（Ｎ−１）溝の下部面上に分離層を形成する工程
と、(c) 前記分離層の上面上に第１、第２および第３金
属層を順番に形成して各々のＭ×Ｎミラーの本体を限定
する工程と、(d)前記Ｍ×Ｎミラーの本体上に接着剤を
貼り付ける手段によって、前記Ｍ×Ｎ突起部アレー上に
前記Ｍ×Ｎアクチュエータアレーを接着して、各々のＭ
×Ｎアクチュエータが各々のＭ×Ｎミラー本体と整列さ
れるようになる工程と、(e) 前記分離層を除去すること
によって、前記Ｍ×Ｎミラーの本体から前記基板を分離
する工程と、(f) 前記第１金属層の下部面上に第４金属
層を形成することによって、Ｍ×Ｎアクチュエーテッド
ミラーアレーを提供する工程とを含む。
ために、本発明の一実施例によれば、Ｍ×Ｎアクチュエ
ータアレーの上にＭ×Ｎミラーアレーを付着して制作す
る方法を提供し、前記Ｍ×Ｎアクチュエータの各々は、
印加される電気信号に応答して変形するエレクトロディ
スプレーシブ物質からなり、前記Ｍ×Ｎミラー各々は、
同一の大きさを有し、前記反射された光路を調整するた
めに、それに結合された前記Ｍ×Ｎアクチュエータの各
々の変形によってそれに入射される光線を反射し、か
つ、入射された光線を反射するために、平坦な表面を有
する反射器を含み、前記Ｍ×Ｎミラー各々の上面は、前
記Ｍ×Ｎアクチュエータの各々の上面より実質的に大き
く形成され、前記方法は、(a) 一定の間隔で垂直方向へ
同一の大きさの（Ｍ−１）個の溝と水平方向へ（Ｎ−
１）個の溝を形成し、（Ｍ−１）溝の通路は同一の大き
さで隔たられ、前記溝などは平滑な下面を形成すること
によって、基板を同一の大きさと一定の間隔で隔たって
分離されたＭ×Ｎ突起部アレーにパターニングして、前
記各々の突起部などは周辺突起部から隔たられ、前記各
々の突起部は平滑な上面を有する工程と、(b) 前記各々
のＭ×Ｎ突起部の平滑な上面および前記各々の（Ｍ−
１）×（Ｎ−１）溝の下部面上に分離層を形成する工程
と、(c) 前記分離層の上面上に第１、第２および第３金
属層を順番に形成して各々のＭ×Ｎミラーの本体を限定
する工程と、(d)前記Ｍ×Ｎミラーの本体上に接着剤を
貼り付ける手段によって、前記Ｍ×Ｎ突起部アレー上に
前記Ｍ×Ｎアクチュエータアレーを接着して、各々のＭ
×Ｎアクチュエータが各々のＭ×Ｎミラー本体と整列さ
れるようになる工程と、(e) 前記分離層を除去すること
によって、前記Ｍ×Ｎミラーの本体から前記基板を分離
する工程と、(f) 前記第１金属層の下部面上に第４金属
層を形成することによって、Ｍ×Ｎアクチュエーテッド
ミラーアレーを提供する工程とを含む。
【００１２】本発明の他の実施例によれば、Ｍ×Ｎアク
チュエータアレー上にＭ×Ｎミラーアレーを付着して制
作する他の方法を提供し、前記Ｍ×Ｎアクチュエータの
各々は、印加される電気信号に応答して変形するエレク
トロディスプレーシブ物質からなり、前記Ｍ×Ｎミラー
の各々は同一の大きさを有し、前記反射された光路を調
整するために、それに結合された前記Ｍ×Ｎアクチュエ
ータの各々の変形によってそれに入射される光線を反射
し、かつ入射された光線を反射するために、平坦な表面
およびそれらによって併合された反射器の平坦度を維持
するための支持部を有する反射器を含み、さらに前記Ｍ
×Ｎミラー上面の各々は前記Ｍ×Ｎアクチュエータ上面
の各々より大きく形成され、前記方法は、(a) 基板の上
面上にガラス薄板を物理的に固定する工程と、(b) 前記
ガラス薄板の上面上に接着剤をコーディングする工程
と、(c) 接着剤の上面上に前記Ｍ×Ｎアクチュエータア
レーを付着し、前記Ｍ×Ｎアクチュエータアレーの上面
と連結されない前記接着剤の部分などを除去する工程
と、(d) 前記ガラス薄板の下面上に金属層を形成する工
程と、(e) 前記金属層を前記同一の大きさに分離された
Ｍ×Ｎミラーアレーにパターニングする工程と、(f) 前
記Ｍ×Ｎアクチュエータと連結されない前記ガラス薄板
の部分を切り出す工程を含み、これによってＭ×Ｎアク
チュエータアレー上に付着されたＭ×Ｎミラーアレーを
含むＭ×Ｎアクチュエーテッドミラーアレーが提供され
る。
チュエータアレー上にＭ×Ｎミラーアレーを付着して制
作する他の方法を提供し、前記Ｍ×Ｎアクチュエータの
各々は、印加される電気信号に応答して変形するエレク
トロディスプレーシブ物質からなり、前記Ｍ×Ｎミラー
の各々は同一の大きさを有し、前記反射された光路を調
整するために、それに結合された前記Ｍ×Ｎアクチュエ
ータの各々の変形によってそれに入射される光線を反射
し、かつ入射された光線を反射するために、平坦な表面
およびそれらによって併合された反射器の平坦度を維持
するための支持部を有する反射器を含み、さらに前記Ｍ
×Ｎミラー上面の各々は前記Ｍ×Ｎアクチュエータ上面
の各々より大きく形成され、前記方法は、(a) 基板の上
面上にガラス薄板を物理的に固定する工程と、(b) 前記
ガラス薄板の上面上に接着剤をコーディングする工程
と、(c) 接着剤の上面上に前記Ｍ×Ｎアクチュエータア
レーを付着し、前記Ｍ×Ｎアクチュエータアレーの上面
と連結されない前記接着剤の部分などを除去する工程
と、(d) 前記ガラス薄板の下面上に金属層を形成する工
程と、(e) 前記金属層を前記同一の大きさに分離された
Ｍ×Ｎミラーアレーにパターニングする工程と、(f) 前
記Ｍ×Ｎアクチュエータと連結されない前記ガラス薄板
の部分を切り出す工程を含み、これによってＭ×Ｎアク
チュエータアレー上に付着されたＭ×Ｎミラーアレーを
含むＭ×Ｎアクチュエーテッドミラーアレーが提供され
る。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながらより詳しく説明すると、次の通りである。
ながらより詳しく説明すると、次の通りである。
【００１４】図１〜図４は、Ｍ×Ｎアクチュエータアレ
ーの上に、Ｍ×Ｎミラーアレーを付着して製造する工程
を提供し、同図では、複雑な電解めっき工程を含む金属
層の形成を用いず、ＭおよびＮは整数である。同図で同
一の部分はそれに当たる同一の参照番号を有することに
注意するべきである。
ーの上に、Ｍ×Ｎミラーアレーを付着して製造する工程
を提供し、同図では、複雑な電解めっき工程を含む金属
層の形成を用いず、ＭおよびＮは整数である。同図で同
一の部分はそれに当たる同一の参照番号を有することに
注意するべきである。
【００１５】図１（ａ）に示すように、例えば、ガラス
薄板からなる良好な表面平滑度を有する基板１０は同一
の大きさの格子状を保つＭ×Ｎ突起部２１２にパターニ
ングして、垂直方向へ一定の間隔で（Ｍ−１）個の同一
の溝と水平方向へ一定の間隔で( Ｎ−１) 個の同一の溝
を形成することによって、各々の突起部２１２は隣接し
た突起部２１２と一定の間隔で分離されており、各々の
突起部２１２は平滑な上面２１８を有し、（Ｍ−１）×
（Ｎ−１）溝アレー２１４は平滑な下面２１６を有す
る。（Ｍ−１）×（Ｎ−１）溝アレー２１４は、例え
ば、レーザトリミング、湿潤エッチングまたはイオン反
応エッチングのような乾式エッチングの手段によって提
供され、Ｍ×Ｎ突起部アレー２１２は、それらの幅が５
μｍ〜１５μｍであり、深さが１０μｍ〜２０μｍであ
る溝２１４を有する。各々の突起部２１２は１５０μｍ
〜２００μｍの幅を有する。
薄板からなる良好な表面平滑度を有する基板１０は同一
の大きさの格子状を保つＭ×Ｎ突起部２１２にパターニ
ングして、垂直方向へ一定の間隔で（Ｍ−１）個の同一
の溝と水平方向へ一定の間隔で( Ｎ−１) 個の同一の溝
を形成することによって、各々の突起部２１２は隣接し
た突起部２１２と一定の間隔で分離されており、各々の
突起部２１２は平滑な上面２１８を有し、（Ｍ−１）×
（Ｎ−１）溝アレー２１４は平滑な下面２１６を有す
る。（Ｍ−１）×（Ｎ−１）溝アレー２１４は、例え
ば、レーザトリミング、湿潤エッチングまたはイオン反
応エッチングのような乾式エッチングの手段によって提
供され、Ｍ×Ｎ突起部アレー２１２は、それらの幅が５
μｍ〜１５μｍであり、深さが１０μｍ〜２０μｍであ
る溝２１４を有する。各々の突起部２１２は１５０μｍ
〜２００μｍの幅を有する。
【００１６】次に、図１（ｂ）に示された分離層２２０
は、Ｍ×Ｎ突起部アレー２１２の上面２１８および（Ｍ
−１）×（Ｎ−１）溝アレー２３６の下面上に提供され
る。2000Å〜4000Åの厚さを有する分離層２２０は、例
えば、水溶性NaClまたはポリマーのようなイオン化合
物、水に容易に溶かしうる物質から形成される。次の工
程として、第１金属層２２２、第２金属２２４および第
３金属層２２６が分離層２２０の上面上に連続的に蒸着
される。各々の金属層２２２，２２４，２２６などは金
または白金、銀また白金からなりうる。次の工程とし
て、接着剤２３０は第３金属層２２６の上面上にコーテ
ィングされる。
は、Ｍ×Ｎ突起部アレー２１２の上面２１８および（Ｍ
−１）×（Ｎ−１）溝アレー２３６の下面上に提供され
る。2000Å〜4000Åの厚さを有する分離層２２０は、例
えば、水溶性NaClまたはポリマーのようなイオン化合
物、水に容易に溶かしうる物質から形成される。次の工
程として、第１金属層２２２、第２金属２２４および第
３金属層２２６が分離層２２０の上面上に連続的に蒸着
される。各々の金属層２２２，２２４，２２６などは金
または白金、銀また白金からなりうる。次の工程とし
て、接着剤２３０は第３金属層２２６の上面上にコーテ
ィングされる。
【００１７】次に、図２（ａ）に示されたように、Ｍ×
Ｎアクチュエータ３４を含むアクチュエータアレー３２
は突起部２１２の各々と整列される方式で接着剤３０の
上面２３１上に付着される。アクチュエーテッドミラー
アレー構造突起部２１２上の金属層２２２，２２４，２
２６および接着層３０またＭ×Ｎアクチュエータアレー
３２から構成される。
Ｎアクチュエータ３４を含むアクチュエータアレー３２
は突起部２１２の各々と整列される方式で接着剤３０の
上面２３１上に付着される。アクチュエーテッドミラー
アレー構造突起部２１２上の金属層２２２，２２４，２
２６および接着層３０またＭ×Ｎアクチュエータアレー
３２から構成される。
【００１８】次に、Ｍ×Ｎ突起部アレー２１２の上面２
１８上に形成された分離層２２０は、溶媒である水を用
いて除去することによって、Ｍ×Ｎ突起部アレー２１２
がアクチュエーテッドミラーアレー構造から分離され、
基板１０がアクチュエーテッドミラーアレー構造から除
去される。
１８上に形成された分離層２２０は、溶媒である水を用
いて除去することによって、Ｍ×Ｎ突起部アレー２１２
がアクチュエーテッドミラーアレー構造から分離され、
基板１０がアクチュエーテッドミラーアレー構造から除
去される。
【００１９】次に、図２（ｂ）を参照すれば、反射層を
形成する第４金属層２４４は、第１金属層２２２の下面
２４１に蒸着され、Ｍ×Ｎアクチュエータアレー３２と
Ｍ×Ｎミラーアレー４２を含むＭ×Ｎアクチュエーテッ
ドミラーアレー４０を形成する。
形成する第４金属層２４４は、第１金属層２２２の下面
２４１に蒸着され、Ｍ×Ｎアクチュエータアレー３２と
Ｍ×Ｎミラーアレー４２を含むＭ×Ｎアクチュエーテッ
ドミラーアレー４０を形成する。
【００２０】Ｍ×Ｎ突起部アレーの形成が、フォトリソ
グラフィー工程を除去することによってその工程を単純
にし、Ｍ×Ｎミラーアレーの損傷を防止することに注目
しなければならない。
グラフィー工程を除去することによってその工程を単純
にし、Ｍ×Ｎミラーアレーの損傷を防止することに注目
しなければならない。
【００２１】次に、図３及び図４を参照しながら、本発
明の他の実施例によるＭ×Ｎアクチュエータアレー上に
Ｍ×Ｎミラーアレーを付着して製造する工程を説明す
る。
明の他の実施例によるＭ×Ｎアクチュエータアレー上に
Ｍ×Ｎミラーアレーを付着して製造する工程を説明す
る。
【００２２】図３（ａ）によれば、ガラス薄板３１２は
基板１０の上面３１１上に提供され、二つ共に紫外線に
透明である。その次に、ガラス薄板３１２の上面３１３
上にコーティングされる。接着剤３０は紫外線を照らす
と硬化される物質からなる。接着剤３０の好ましい厚さ
は１０μｍ〜２０μｍ以内である。
基板１０の上面３１１上に提供され、二つ共に紫外線に
透明である。その次に、ガラス薄板３１２の上面３１３
上にコーティングされる。接着剤３０は紫外線を照らす
と硬化される物質からなる。接着剤３０の好ましい厚さ
は１０μｍ〜２０μｍ以内である。
【００２３】その次の工程として、図３（ｂ）によれ
ば、Ｍ×Ｎアクチュエータアレー３２は接着剤３０の上
面３１５上に付着される。その次に、アクチュエータ３
４のアレー３２下の接着剤３０部分をマスクのパターン
がアクチュエータ３４と整列される方式でガラス基板１
０の下に置かれたマスクを通じて紫外線を照らす。
ば、Ｍ×Ｎアクチュエータアレー３２は接着剤３０の上
面３１５上に付着される。その次に、アクチュエータ３
４のアレー３２下の接着剤３０部分をマスクのパターン
がアクチュエータ３４と整列される方式でガラス基板１
０の下に置かれたマスクを通じて紫外線を照らす。
【００２４】次の工程として、図３（ｃ）を参照すれ
ば、紫外線が照らされなかった部分の接着剤３０は適当
な溶媒により除去される。その次に、基板１０はその力
を緩めることによってガラス薄板３１２から除去され
る。
ば、紫外線が照らされなかった部分の接着剤３０は適当
な溶媒により除去される。その次に、基板１０はその力
を緩めることによってガラス薄板３１２から除去され
る。
【００２５】次の工程として、図４（ａ）によれば、光
を反射する物質（例えば、アルミニウム(Al)）からなる
金属層は、例えば、スパッタリング方式または熱蒸着方
法を用いて、ガラス薄板３１２上に形成される。
を反射する物質（例えば、アルミニウム(Al)）からなる
金属層は、例えば、スパッタリング方式または熱蒸着方
法を用いて、ガラス薄板３１２上に形成される。
【００２６】その次に、図４（ｂ）によれば、通常的な
フォトリソグラフィー工程を用いてアクチュエータアレ
ー３２を整列して金属層はＭ×Ｎ反射器アレー３５４に
パターニングされる。次の工程として、Ｍ×Ｎ反射器ア
レー３５４によって覆われない部分のガラス基板３１２
は、例えば、レーザトリミング、湿潤エッチングまたは
イオン反応エッチングのような乾式エッチング手段によ
り切断されることによって、Ｍ×Ｎアクチュエータおよ
びＭ×Ｎミラーアレーを含むＭ×Ｎアクチュエーテッド
ミラーアレーを提供する。ここで、Ｍ×Ｎミラーアレー
はＭ×Ｎ反射器およびＭ×Ｎガラス薄板アレーを含む。
フォトリソグラフィー工程を用いてアクチュエータアレ
ー３２を整列して金属層はＭ×Ｎ反射器アレー３５４に
パターニングされる。次の工程として、Ｍ×Ｎ反射器ア
レー３５４によって覆われない部分のガラス基板３１２
は、例えば、レーザトリミング、湿潤エッチングまたは
イオン反応エッチングのような乾式エッチング手段によ
り切断されることによって、Ｍ×Ｎアクチュエータおよ
びＭ×Ｎミラーアレーを含むＭ×Ｎアクチュエーテッド
ミラーアレーを提供する。ここで、Ｍ×Ｎミラーアレー
はＭ×Ｎ反射器およびＭ×Ｎガラス薄板アレーを含む。
【００２７】分離層の代わりにガラス薄板を用いること
によって、実質的に製造工程を単純にし、ミラー表面の
平滑度を向上させるということに注目するべきである。
によって、実質的に製造工程を単純にし、ミラー表面の
平滑度を向上させるということに注目するべきである。
【００２８】上記において、本発明の特定の実施例につ
いて説明したが、本発明の範囲を逸脱することなく、当
業者は種々の改変をなし得るであろう。
いて説明したが、本発明の範囲を逸脱することなく、当
業者は種々の改変をなし得るであろう。
【００２９】
【発明の効果】したがって、本発明によれば、製造工程
を単純にするためにエッチングおよびフォトレジスト工
程を除去させることと、分離層の代わりにガラス薄板を
用いて、Ｍ×Ｎアクチュエータアレー上にＭ×Ｎミラー
アレーを付着して制作するための向上された製造方法を
提供することができる。
を単純にするためにエッチングおよびフォトレジスト工
程を除去させることと、分離層の代わりにガラス薄板を
用いて、Ｍ×Ｎアクチュエータアレー上にＭ×Ｎミラー
アレーを付着して制作するための向上された製造方法を
提供することができる。
【図１】（ａ），（ｂ）は本発明の一実施例による概略
的な製造工程の断面図である。
的な製造工程の断面図である。
【図２】（ａ），（ｂ）は図１に示した断面図の工程の
次の工程を示す断面図である。
次の工程を示す断面図である。
【図３】（ａ）〜（ｃ）は本発明の他の実施例による概
略的な製造工程の断面図である。
略的な製造工程の断面図である。
【図４】（ａ），（ｂ）は図３に示した断面図の工程の
次の工程を示す断面図である。
次の工程を示す断面図である。
【図５】（ａ）〜（ｃ）は従来技術によるアクチュエー
タアレー上にミラーアレーを付着する概略的な製造工程
の断面図である。
タアレー上にミラーアレーを付着する概略的な製造工程
の断面図である。
【図６】（ａ）〜（ｃ）は図５に示した断面図の工程の
次の工程を示す断面図である。
次の工程を示す断面図である。
１０ 基板 ３０ 接着剤 ３２ Ｍ×Ｎアクチュエータアレー ３４ アクチュエータの突起部 ４０ Ｍ×Ｎアクチュエーテッドミラーアレー ４２ Ｍ×Ｎミラーアレー ４６ Ｍ×Ｎミラーアレーの本体 ２１２ Ｍ×Ｎ突起部アレー ２１４ （Ｍ−１）×（Ｎ−１）溝アレー ２２０ 分離層 ２２２，２２４，２２６，２４４ 第１，第２，第３，
第４金属層 ３１２ ガラス薄板 ３４０ 金属層 ３５０ Ｍ×Ｎ反射器アレー
第４金属層 ３１２ ガラス薄板 ３４０ 金属層 ３５０ Ｍ×Ｎ反射器アレー
Claims (13)
- 【請求項１】 光投射型システムに用いるためのＭ×Ｎ
エレクトロディスプレーシブアクチュエーチドミラーア
レーを形成するために、Ｍ×Ｎアクチュエータアレー上
にＭ×Ｎミラーアレーを付着して制作する方法におい
て、 ここでＭおよびＮは整数であり、 アクチュエータアレーは同じ大きさのＭ×Ｎアクチュエ
ータから構成され、 前記Ｍ×Ｎアクチュエータの各々は、印加される電気信
号に応答て変形するエレクトロディスプレーシブ物質か
らなり、 前記Ｍ×Ｎミラー各々は、同一の大きさを有し、前記反
射された光路を調整するために、それに結合された前記
Ｍ×Ｎアクチュエータの各々の変形によってそれに入射
される光線を反射し、かつ、入射された光線を反射する
ために、平坦な表面を有する反射器を含み、 前記Ｍ×Ｎミラー各々の上面は、前記Ｍ×Ｎアクチュエ
ータの各々の上面より実質的に大きく形成され、 前記方法は、 (a) 一定の間隔で垂直方向へ同一の大きさの（Ｍー１）
個の溝と水平方向へ（Ｎ−１）個の溝を形成し、前記溝
などは平滑な下面を形成することによって、基板を同一
の大きさと一定の間隔で隔たって分離されたＭ×Ｎ突起
部アレーにパターニングして、前記各々の突起部などは
周辺突起部から隔たられ、前記各々の突起部は平滑な上
面を有する工程と、 (b) 前記各々のＭ×Ｎ突起部の平滑な上面および前記各
々の（Ｍ−１）×（Ｎ−１）溝の下部面上に分離層を形
成する工程と、 (c) 前記分離層の上面上に第１、第２および第３金属層
を順番に形成して各々のＭ×Ｎミラーの本体を限定する
工程と、 (d) 前記Ｍ×Ｎミラーの本体上に接着剤を貼り付ける手
段によって、前記Ｍ×Ｎ突起部アレー上に前記Ｍ×Ｎア
クチュエータアレーを接着して、各々のＭ×Ｎアクチュ
エータが各々のＭ×Ｎミラー本体と整列されるようにな
る工程と、 (e) 前記分離層を除去することによって、前記Ｍ×Ｎミ
ラーアレーから前記基板を分離する工程と、 (f) 前記第１金属層の下部面上に第４金属層を形成する
ことによって、Ｍ×Ｎアクチュエーテッドミラーアレー
を提供する工程とを含むことを特徴とする投射型画像表
示装置用ミラーの製造方法。 - 【請求項２】 レーザトリミング、湿潤エッチングまた
はイオン反応エッチングのような乾式エッチングの手段
によって、前記基板の溝などが提供されることを特徴と
する請求項１記載の投射型画像表示装置用ミラーの製造
方法。 - 【請求項３】 前記金贈層がアルミニウムであることを
特徴とする請求項１記載の投射型画像表示装置用ミラー
の製造方法。 - 【請求項４】 フォトリソグラフィー工程の代わりに、
前記Ｍ×Ｎ突起部を用いることを特徴とする請求項１記
載の投射型画像表示装置用ミラーの製造方法。 - 【請求項５】 光投射型システムに用いるためのＭ×Ｎ
エレクトロディスプレーシブアクチュエーチドミラーア
レーを形成するために、Ｍ×Ｎアクチュエータアレー上
にＭ×Ｎミラーアレーを付着して制作する方法におい
て、 ここでＭとＮは整数であり、 前記アクチュエータアレーは、同一の大きさのＭ×Ｎア
クチュエータを含み、 前記Ｍ×Ｎアクチュエータの各々は、前記に印加される
電気信号に応答して変形するエレクトロディスプレーシ
ブ物質からなり、 前記Ｍ×Ｎミラー各々は、同一の大きさを有し、前記反
射された光路を変調するために、それに結合された前記
Ｍ×Ｎアクチュエータの各々の変形によってそれに入射
される光線を反射し、かつその前記入射された光線を反
射するために、平坦な表面を有する反射器を含み、反射
器の平坦度を維持するための支持部を有し、 前記Ｍ×Ｎミラー各々の上面は、前記Ｍ×Ｎアクチュエ
ータの各々の上面より実質的に大きく形成され、 前記方法は、 (a) 基板の上面上にガラス薄板を物理的に固定する工程
と、 (b) 前記ガラス薄板の上面上にＭ×Ｎアクチュエータア
レーを接着する工程と、 (c) 前記ガラス薄板の下面上に金属層を形成する工程
と、 (d) 前記金属層を同一の大きさの分離されたＭ×Ｎミラ
ーアレーにパターニングする工程とを含み、Ｍ×Ｎアク
チュエーテッドミラーアレーを提供することを特徴とす
る投射型画像表示装置用ミラーの製造方法。 - 【請求項６】 前記接着剤は紫外線を照らすと、反応す
る物質からなることを特徴とする請求項５記載の投射型
画像表示装置用ミラーの製造方法。 - 【請求項７】 前記ガラス薄板が、Ｍ×Ｎアクチュエー
タ上に前記接着剤を用いてＭ×Ｎミラーアレーを付着す
るのに用いられる方法を特徴とする請求項５または６記
載の投射型画像表示装置用ミラーの製造方法。 - 【請求項８】 前記Ｍ×Ｎミラーアレーと接着されない
ガラス薄板の部分などがレーザトリミング、湿潤エッチ
ングまたはイオン反応エッチングのような乾式エッチン
グによって除去されることを特徴とする請求項５記載の
投射型画像表示装置用ミラーの製造方法。 - 【請求項９】 Ｍ×Ｎアクチュエーテッドミラーアレー
の製造工程を単純にするために、前記ガラス薄板が用い
られることを特徴とする請求項５記載の投射型画像表示
装置用ミラーの製造方法。 - 【請求項１０】 前記基板は、紫外線に透明である物質
からなることを特徴とする請求項５記載の投射型画像表
示装置用ミラーの製造方法。 - 【請求項１１】 前記Ｍ×Ｎミラーの限定するために、
前記ガラス薄板が用いられることを特徴とする請求項５
または９記載の投射型画像表示装置用ミラーの製造方
法。 - 【請求項１２】 分離層の代わりに前記ガラス薄板が用
いられることを特徴とする請求項５または９記載の投射
型画像表示装置用ミラーの製造方法。 - 【請求項１３】 前記ガラス薄板は紫外線に透明である
物質からなることを特徴とする請求項５または１１記載
の投射型画像表示装置用ミラーの方法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019930017223A KR970003458B1 (ko) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | 투사형화상표시장치용 거울의 제조방법 |
| KR1993-22793 | 1993-10-29 | ||
| KR1993-17223 | 1993-10-29 | ||
| KR1019930022793A KR970006680B1 (ko) | 1993-10-29 | 1993-10-29 | 투사형 화상표시장치용 거울의 제조방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0784197A true JPH0784197A (ja) | 1995-03-31 |
Family
ID=26629858
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6206532A Ceased JPH0784197A (ja) | 1993-08-31 | 1994-08-31 | 投射型画像表示装置用ミラーの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6059416A (ja) |
| JP (1) | JPH0784197A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE20010594U1 (de) * | 2000-06-14 | 2000-10-12 | Balzers Ag, Balzers | Schalter zum optischen Schalten eines Lichtweges |
| US7385750B2 (en) * | 2003-08-29 | 2008-06-10 | Asml Holding N.V. | Spatial light modulator using an integrated circuit actuator |
| JP2006337770A (ja) * | 2005-06-02 | 2006-12-14 | Central Glass Co Ltd | 表面鏡 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3886310A (en) * | 1973-08-22 | 1975-05-27 | Westinghouse Electric Corp | Electrostatically deflectable light valve with improved diffraction properties |
| US4592628A (en) * | 1981-07-01 | 1986-06-03 | International Business Machines | Mirror array light valve |
| US5212582A (en) * | 1992-03-04 | 1993-05-18 | Texas Instruments Incorporated | Electrostatically controlled beam steering device and method |
-
1994
- 1994-08-31 US US08/299,182 patent/US6059416A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-08-31 JP JP6206532A patent/JPH0784197A/ja not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6059416A (en) | 2000-05-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5454906A (en) | Method of providing sacrificial spacer for micro-mechanical devices | |
| CN1065965C (zh) | 制造电位移致动反射镜阵列的方法 | |
| US5760947A (en) | Thin film actuated mirror array for use in an optical projection system and method for the manufacture thereof | |
| US5690839A (en) | Method for forming an array of thin film actuated mirrors | |
| AU693139B2 (en) | Array of thin film actuated mirrors for use in an optical projection system and method for the manufacture thereof | |
| JP3283881B2 (ja) | Ｍ×ｎ個の薄膜アクチュエーテッドミラーアレイ及びその製造方法 | |
| CN1623122A (zh) | 一种制造微机电系统(mems)器件结构的方法 | |
| US5579179A (en) | Method for manufacturing an array of thin film actuated mirrors | |
| US5581393A (en) | Mirror array and method for the manufacture thereof | |
| US7052806B2 (en) | Exposure controlling photomask and production method therefor | |
| JPH07159709A (ja) | エレクトロディスプレーシブアクチュエーチドミラーアレーおよびその製法 | |
| US5585956A (en) | Electrostrictive actuated mirror array | |
| US5505807A (en) | Actuated mirror array and method for the fabricating thereof | |
| JPH0784197A (ja) | 投射型画像表示装置用ミラーの製造方法 | |
| JPH07301754A (ja) | Ｍ×ｎ個の薄膜アクチュエーテッドミラーアレー及びその製造方法 | |
| US5936757A (en) | Thin film actuated mirror array | |
| JPH07151984A (ja) | Ｍ×ｎエレクトロディスプレーシブアクチュエーテッドミラーアレーの製法 | |
| EP0718658B1 (en) | Low temperature formed thin film actuated mirror array | |
| US5768008A (en) | Actuator array and method for the manufacture thereof | |
| US5606451A (en) | Electrodisplacive actuator array and method for the manufacture thereof | |
| KR970003458B1 (ko) | 투사형화상표시장치용 거울의 제조방법 | |
| JPH095607A (ja) | Ｍ×ｎ個の薄膜アクチュエーテッドミラーアレイ、及びその製造方法 | |
| KR970006680B1 (ko) | 투사형 화상표시장치용 거울의 제조방법 | |
| KR0134502B1 (ko) | 투사형 화상표시장치용 거울의 제조방법 | |
| US5683593A (en) | Method for manufacturing a thin film actuated mirror array |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A045 | Written measure of dismissal of application [lapsed due to lack of payment] |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045 Effective date: 20040330 |