JP3333264B2 - ヒータ素子およびその製造方法 - Google Patents

ヒータ素子およびその製造方法

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  • Thermistors And Varistors (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はヒータ素子およびその製
造方法に関し、例えば、熱転写記録や感熱記録などに使
用されるヒータ素子およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】図8は従来の端面発熱型のヒータ素子の
構成を示す断面図である。同図において、2はアルミナ
基板で、その一方の先端面には、下からグレーズ層3,
発熱体4,保護膜5が順に形成されている。なお、保護
膜5は発熱体4を摩耗から保護するための膜で、対摩耗
性のガラスである。発熱体4には基板2の両面から金(A
u)などの導体6a,6bが接続されていて、導体6a−
発熱体4−導体6bの回路に電流を供給すると発熱体4
が発熱して、その熱は保護膜5を経て記録紙や熱転写リ
ボン(不図示)などへ伝達される。
【0003】このようなヒータ素子1を、1枚の基板2
に複数個形成したりあるいは複数個束ねて、図9に示す
ようなサーマルプリントヘッドを形成し、各発熱体4へ
供給する電流をそれぞれ断続することによって、熱転写
記録や感熱記録などを行っていた。なお、同図に示すよ
うなサーマルプリントヘッドは、例えば、カードリー
ダ,プリンタおよびハンディコピーなどで使用されてい
る。
【0004】さて、このようなヒータ素子1を用いて記
録を行う場合、発熱温度によって記録濃度が異なるの
で、印刷結果の品質を安定に保つために、図8に示した
ようにヒータ素子1は、発熱温度を検出するサーミスタ
などの温度センサ7を備えていた。つまり、温度センサ
7はグレーズ層3と基板2を介して発熱温度を検出し、
プリンタの制御部(不図示)は、温度センサ7の検出結
果に応じて、発熱温度が所定値になるように、発熱体4
へ供給する電圧やパルス幅を調整することにより電力を
制御していた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来例に
は、次のような問題点があった。 1)温度センサ7はグレーズ層3と基板2を介して発熱
温度を検出するため、検出結果に時間的遅れを生じる
上、発熱体4をパルス通電方式で駆動する場合、熱容量
の大きな基板2によって平均化されてしまい、実際の発
熱温度よりも低い温度が検出される。
【0006】2)グレーズ層3を除去すれば上記時間遅
れは改善に向かうが、基板2に伝導する熱量が増加して
しまい、記録に利用できる熱量が相対的に減少する。
【0007】本発明は、上述の問題を解決するためのも
ので、発熱温度を検出した結果の時間的遅れを小さくす
ることを目的とする。また、熱を効率よく記録に利用す
ることを他の目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記の目的を
達成する一手段として、以下の構成を備える。
【0009】本発明にかかるヒータ素子は、所定サイズ
の絶縁基板に形成されたヒータ素子であって、前記絶縁
基板の一方の面の端部近傍へ形成した所定サイズの発熱
体と、前記絶縁基板の他方の面において、前記絶縁基板
を挟んで前記発熱体に略対向する位置へ形成した所定サ
イズの感温体と、前記発熱体と前記感温体とを略覆うよ
うに前記絶縁基板の先端部位へ固着された略コの字型の
金属キャップとを備え、前記発熱体によって発生された
熱が前記金属キャップを介して伝わるように構成するこ
とを特徴とする。また、所定サイズの絶縁基板に形成さ
れたヒータ素子であって、前記絶縁基板の一方の面の端
部近傍へ形成した所定サイズの発熱体と、前記発熱体を
略覆うように前記絶縁基板の先端部へ固着された略コの
字型の金属キャップとを備え、前記発熱体によって発生
された熱が前記金属キャップを介して伝わるように構成
することを特徴とする。
【0010】本発明にかかるヒータ素子の製造方法は、
所定サイズの絶縁基板の一方の面の端部近傍へ所定サイ
ズの発熱体を形成し、前記絶縁基板の他方の面におい
て、前記絶縁基板を挟んで前記発熱体に略対向する位置
へ所定サイズの感温体を形成し、前記発熱体と前記感温
体とを略覆うように前記絶縁基板の先端部位へ略コの字
型の金属キャップを固着することを特徴とする。また、
所定サイズの絶縁基板の一方の面の端部近傍へ所定サイ
ズの発熱体を形成し、前記発熱体を略覆うように前記絶
縁基板の先端部位へ略コの字型の金属キャップを固着す
ることを特徴とする。
【0011】
【実施例】以下、本発明にかかる一実施例のヒータ素子
を図面を参照して詳細に説明する。
【0012】
【第1実施例】図1は本実施例のヒータ素子の一方の面
の構成例を示す一部破断正面図、図2は図1のヒータ素
子の他方の面の構成例を示す一部破断正面図、図3は図
2のA−A矢視断面図である。なお、以下の説明では、
便宜上、図1に示す面を第1面、図2に示す面を第2面
という。
【0013】同図において、12は基板で、略長方形の
所定の厚さを有した電気絶縁性のセラミックス基板で、
例えば、アルミナ96%の焼結体のアルミナ基板(厚さ0.6
35[mm])などである。図1に示すように、基板12の第
1面には、例えば銀パラジウム(Ag/Pd)や金(Au)厚膜に
よる導体16a,16bを形成し、導体16a,16bの
一端には両導体を電気的に短絡するように、略長方形の
発熱体14を例えば酸化ルテニウム(RuO_2)系厚膜で形
成する。また、両導体の他端は、それぞれスルーホール
16c,16dを経て、図2に示す第2面に形成された
例えば銀パラジウムや金厚膜による電極16e,16f
へそれぞれ接続されている。なお、図においては、中空
のスルーホール16c,16dを示したが、これに限定
されるものではなく、例えば、ホール内が銀パラジウム
などで満たされていてもよい。
【0014】発熱体14上には、酸化により発熱体14
が劣化するなどを防ぐために、ガラス材による保護膜1
5をオーバコートする。他方、図2に示すように、基板
12の第2面には、例えば銀パラジウム(Ag/Pd)厚膜に
よる導体22a,22bを形成し、導体22a,22bの
一端には両導体を電気的に短絡するように、感温体とし
て略長方形のサーミスタ17を例えばマンガン(Mn)コバ
ルト(Co)鉄(Fe)銅(Cu)系酸化物を主体とした厚膜で形成
する。なお、導体22a,22bの形状は、図2に示し
たようなサーミスタ17の両端へ電気的に接続するもの
に限らず、例えば、図10に一例を示すように、くし形
に形成した電極22a,22bに上にサーミスタ17を
形成してもよいし、図11に一例を示すように、出現抵
抗値を低減させるためにサーミスタ17の上下を、電極
22aと、電極22bに接続する電極22cで挟んでも
よい。また、両導体の他端は例えば銀パラジウムや金厚
膜による電極22c,22dへそれぞれ接続されてい
る。なお、サーミスタ17は、基板12を挟んで発熱体
14に略対向する位置へ形成する。
【0015】サーミスタ17上には、サーミスタ17を
保護するために、ガラス材による保護膜18をオーバコ
ートする。21はその断面は略コの字型のキャップで、
発熱体14およびサーミスタ17が形成された基板12
の先端部を挟持するように、例えばシリコン接着剤20
によって固着され、発熱体14で発生した熱を熱転写リ
ボンや記録紙へ伝えるほか、サーミスタ17がヒータ素
子周囲の空気に直接触れないようにして、気温や空気の
流れによる温度検出結果の乱れを防ぐためのものであ
る。なお、キャップ21は、熱伝導性のよいアルミなど
の金属を加工したもので、加工の容易さや強度などか
ら、例えば、厚さ0.3[mm]のアルミ板を図3の縦方向に
1.5〜2[mm]、図3の横方向に約1.7[mm]に加工したもの
である。また、基板12へキャップ21を固着する接着
剤は、シリコン接着剤に限定されるものではなく、熱伝
導性がよく熱劣化しないものであればよい。
【0016】さて、以上説明したヒータ素子の電極16
e,16fへ電圧を印加すると、電極16e−導体16
a−発熱体14−導体16b−電極16f間に電流が流
れて、発熱体14が発熱する。発熱体14で発生した熱
は、保護膜15および接着剤20を経てキャップ21へ
伝わり、キャップ21の表面を熱転写記録または感熱記
録に必要な温度まで上昇させる。
【0017】一方、発熱体14で発生した熱は、基板1
2を経てサーミスタ17へも伝わり、サーミスタ17の
温度を上昇させる。本実施例では、発熱体14からサー
ミスタ17までの距離は基板12の厚み(例えば0.635
[mm])だけであり、基板12の熱伝導性もよいので、電
極22c,22dを介して接続されたプリンタの制御部
(不図示)などは、サーミスタ17の抵抗値を測定する
ことによって、発熱温度を小さな遅れで正確に検出する
ことができる。
【0018】図4はヒータ素子の製造工程の一例を示す
フローチャートである。なお、以下の説明は、1つのヒ
ータ素子を製造する場合に限定されるものではなく、例
えば、複数のヒータ素子を同時に多数製造する場合にも
適用でき、最終工程でヒータ素子ひとつひとつに分離す
ればよい。まず、図4に示す工程P1で、基板12を所
定の大きさに形成する基板製造工程を実行して、所定製
造単位の大きさの略長方形の基板12を製作する。この
際、スルーホール16c,16dを形成する位置に孔を
穿つが、基板焼成前に金型などによって穿孔してもよい
し、基板焼成後にレーザ加工などによって穿孔してもよ
い。なお、前記単位は、任意の大きさであり、1つのヒ
ータ素子毎に作製しても、例えば、数十個同時に作製し
てもよく、それぞれの場合に即して製作すればよい。ま
た、以下に説明する各工程毎の状態図は、それぞれ単独
の1チップだけを示すが、複数チップを同時に形成する
場合においても略同様である。
【0019】続いて、工程P2で、基板12に穿った孔
へ銀パラジウムなどを吸入するなどによって、スルーホ
ール16c,16dを形成する。続いて、スクリーン印
刷などの方法によって、工程P3で基板12の第1面に
導体16a,16bを形成し、工程P4で基板12の第
1面に発熱体14を形成し、工程P5で発熱体14を略
覆うように保護膜15をオーバコートする。
【0020】続いて、スクリーン印刷などの方法によっ
て、工程P6で基板12の第2面に電極16e,16f
および22c,22dと導体16a,16bおよび22
a,22bとを形成し、工程P7で基板12の第2面に
サーミスタ17を形成し、工程P8で発熱体14を略覆
うように保護膜18をオーバコートする。なお、同時に
複数のヒータ素子を一括製作した場合は、工程P8終了
後に、必要に応じて基板分割を行って、ヒータ素子を1
つ1つに分離成形する。
【0021】続いて、工程P9で、シリコン接着剤20
などによって、キャップ21を基板12の先端部に接着
した後、工程P10で発熱体14やサーミスタ17の抵
抗値検査などを実施して、ヒータ素子が完了する。ま
た、上記説明では省略したが、厚膜を形成する工程に
は、厚膜ペーストなどを印刷後、例えば10分間850℃で
焼成する焼成工程などが含まれる。なお、工程P3とP
4において、導体16a,16bおよび発熱体14はそ
れぞれの形成工程で焼成しなくても、発熱体14を印刷
後に一括して焼成してもよいし、同様に、工程P6とP
7において、導体,電極およびサーミスタ17はそれぞ
れの形成工程で焼成しなくても、サーミスタ17を印刷
後に一括して焼成してもよい。
【0022】また、上述および図においては、外部との
接続を考慮して、スルーホール16c,16dを介して
発熱体14の電極16e,16fを、サーミスタ17の
電極22c,22dとともに基板12の第2面に形成す
る例を示したが、本実施例はこれに限定されるものでは
なく、例えば、発熱体14の電極16e,16fは基板
12の第1面に形成してもよく、この場合はスルーホー
ル16c,16dが不要になるので、製造コストを低減
することができる。また、スルーホールを介してサーミ
スタ17の電極22c,22dを、基板12の第1面に
配設することもできる。
【0023】以上説明したように、本実施例によれば、
基板12を挟んで略対向する位置へ発熱体14とサーミ
スタ17とを形成するので、発熱体14からサーミスタ
17までの距離は基板12の厚みだけであり、基板12
の熱伝導性もよいので、発熱体14の発熱は短時間にサ
ーミスタ17へ伝わり、発熱温度を小さな遅れで正確に
検出することができので、温度制御が容易で応答の良好
なヒータ素子を実現できる。
【0024】また、本実施例によれば、基板12に伝達
された熱は、キャップ21に略覆われた部位の温度を上
昇させることになり、その結果、該熱はキャップ21を
経て記録に利用されるので、熱を効率的に熱転写リボン
や記録紙へ伝えることができる。さらに、本実施例によ
れば、アルミなどのキャップ21が熱転写リボンや記録
紙へ接触するので、従来のオーバコートガラス層(図8
の符号5)に比べて、対摩耗性や熱伝導性に優れている
上、従来は異物などによってオーバコートガラス層が傷
付くと、その直下の発熱体(図8の符号4)に影響が及
んだが、本実施例では、キャップ21が傷付いても発熱
体14に直接影響することはない。
【0025】
【第2実施例】以下、本発明にかかる第2実施例のヒー
タ素子を説明する。なお、第2実施例において、第1実
施例と略同一の構成には、同一符号を付して、その詳細
説明を省略する。図5は第2実施例のヒータ素子の構成
例を示す正面図、図6は図5のB−B矢視断面図であ
る。
【0026】同図において、27は感温体のチップサー
ミスタで、導体22cと22dを短絡するようにはんだ
付けされている。すなわち、本実施例は、発熱温度をチ
ップサーミスタ27で検出するものである。従って、図
8に示した従来例のように、基板の端面に発熱体など厚
膜を形成する必要もなく、第1実施例のように、基板の
両面に厚膜を形成する必要もないので、それらに比べて
製造が容易であり低コストのヒータ素子になる。
【0027】図7はヒータ素子の製造工程の一例を示す
フローチャートである。なお、以下の説明は、1つのヒ
ータ素子を製造する場合に限定されるものではなく、例
えば、複数のヒータ素子を同時に多数製造する場合にも
適用でき、最終工程でヒータ素子ひとつひとつに分離す
ればよい。まず、図7に示す工程P21で、基板12を
所定の大きさに形成する基板製造工程を実行して、所定
製造単位の大きさの略長方形の基板12を製作する。な
お、前記単位は、任意の大きさであり、1つのヒータ素
子毎に作製しても、例えば、数十個同時に作製してもよ
く、それぞれの場合に即して製作すればよい。また、以
下に説明する各工程毎の状態図は、それぞれ単独の1チ
ップだけを示すが、複数チップを同時に形成する場合に
おいても略同様である。
【0028】続いて、スクリーン印刷などの方法によっ
て基板12の表面に、工程P22で導体および電極を形
成し、工程P23で発熱体14を形成し、工程P24で
発熱体14を略覆うように保護膜15をオーバコートす
る。続いて、工程P25で導体22a,22bへチップ
サーミスタ27をはんだ付する。なお、同時に複数のヒ
ータ素子を一括製作した場合は、工程P25終了後に、
必要に応じて基板分割を行って、ヒータ素子を1つ1つ
に分離成形する。
【0029】続いて、工程P26で、シリコン接着剤2
0などによって、キャップ21を基板12の先端部に接
着した後、工程P27で発熱体14やサーミスタ17の
抵抗値検査などを実施して、ヒータ素子が完了する。ま
た、上記説明では省略したが、厚膜を形成する工程に
は、厚膜ペーストなどを印刷後、例えば10分間850℃で
焼成する焼成工程などが含まれる。なお、工程P22と
P23において、導体,電極および発熱体14はそれぞ
れの形成工程で焼成しなくても、発熱体14を印刷後に
一括して焼成してもよい。
【0030】以上説明したように、本実施例によれば、
基板の端面に発熱体など厚膜を形成する必要もなく、基
板の両面に厚膜を形成する必要もないので、製造が容易
であり低コストのヒータ素子を実現することができる
上、基板12に伝達された熱は、キャップ21に略覆わ
れた部位の温度を上昇させることになり、その結果、該
熱はキャップ21を経て記録に利用されるので、熱を効
率的に熱転写リボンや記録紙へ伝えることができる。
【0031】さらに、本実施例によれば、第1実施例と
同様に、アルミなどのキャップ21が熱転写リボンや記
録紙へ接触するので、従来のオーバコートガラス層(図
8の符号5)に比べて、対摩耗性や熱伝導性に優れてい
る上、従来は異物などによってオーバコートガラス層が
傷付くと、その直下の発熱体(図8の符号4)に影響が
及んだが、本実施例では、キャップ21が傷付いても発
熱体14に直接影響することはない。
【0032】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
絶縁基板の先端部位へ固着された略コの字型の金属キャ
ップを介して、発熱体が発生した熱が伝わるようにヒー
タ素子を構成する。従って、発熱温度を検出した結果の
時間的遅れを小さくすることができ、熱を効率よく記録
に利用することができるので、例えば、温度制御が容易
で応答の良好なヒータ素子を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる一実施例のヒータ素子の一方の
面の構成例を示す一部破断正面図である。
【図2】図1のヒータ素子の他方の面の構成例を示す一
部破断正面図である。
【図3】図2のA−A矢視断面図である。
【図4】本実施例のヒータ素子の製造工程の一例を示す
フローチャートである。
【図5】本発明にかかる第2実施例のヒータ素子の構成
例を示す正面図である。
【図6】図5のB−B矢視断面図である。
【図7】第2実施例のヒータ素子の製造工程の一例を示
すフローチャートである。
【図8】従来の端面発熱型のヒータ素子の構成を示す断
面図である。
【図9】図8のヒータ素子を用いたサーマルプリントヘ
ッドを示す斜視図である。
【図10】第1実施例のサーミスタ用電極の形成例を示
す図である。
【図11】第1実施例のサーミスタの形成例を示す断面
図である。
【符号の説明】
12 基板 14 発熱体 15 保護膜 17 サーミスタ 18 保護膜 20 シリコン接着剤 21 キャップ 27 チップサーミスタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B41J 2/335 H01C 7/04 H05B 3/20

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定サイズの絶縁基板に形成されたヒー
    タ素子であって、 前記絶縁基板の一方の面の端部近傍へ形成した所定サイ
    ズの発熱体と、 前記絶縁基板の他方の面において、前記絶縁基板を挟ん
    で前記発熱体に略対向する位置へ形成した所定サイズの
    感温体と、 前記発熱体と前記感温体とを略覆うように前記絶縁基板
    の先端部位へ固着された略コの字型の金属キャップとを
    備え、 前記発熱体によって発生された熱が前記金属キャップを
    介して伝わるように構成することを特徴とするヒータ素
    子。
  2. 【請求項2】 前記感温体は前記発熱体近傍の温度を
    検出することを特徴とする請求項1に記載されたヒータ
    素子。
  3. 【請求項3】 所定サイズの絶縁基板の一方の面の端部
    近傍へ所定サイズの発熱体を形成、 前記絶縁基板の他方の面において、前記絶縁基板を挟ん
    で前記発熱体に略対向する位置へ所定サイズの感温体を
    形成、 前記発熱体と前記感温体とを略覆うように前記絶縁基板
    の先端部位へ略コの字型の金属キャップを固着すること
    を特徴とするヒータ素子製造方法。
  4. 【請求項4】 所定サイズの絶縁基板に形成されたヒー
    タ素子であって、 前記絶縁基板の一方の面の端部近傍へ形成した所定サイ
    ズの発熱体と、 前記発熱体を略覆うように前記絶縁基板の先端部へ固着
    された略コの字型の金属キャップとを備え、 前記発熱体によって発生された熱が前記金属キャップを
    介して伝わるように構成することを特徴とするヒータ素
    子。
  5. 【請求項5】 所定サイズの絶縁基板の一方の面の端部
    近傍へ所定サイズの発熱体を形成、 前記発熱体を略覆うように前記絶縁基板の先端部位へ略
    コの字型の金属キャップを固着することを特徴とするヒ
    ータ素子製造方法。
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