JP3319769B2 - アリールスルフィド− 、アリールスルホキシド− 及びアリールスルホン化合物並びにその製造方法 - Google Patents

アリールスルフィド− 、アリールスルホキシド− 及びアリールスルホン化合物並びにその製造方法

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JP3319769B2 JP25810091A JP25810091A JP3319769B2 JP 3319769 B2 JP3319769 B2 JP 3319769B2 JP 25810091 A JP25810091 A JP 25810091A JP 25810091 A JP25810091 A JP 25810091A JP 3319769 B2 JP3319769 B2 JP 3319769B2
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クラリアント・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング
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    • C07C323/62Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明の対象は、新規アリールス
ルフィド- 、アリールスルホキシド- 及びアリールスル
ホン化合物並びにその製造方法である。
【0002】
【従来の技術】本発明による化合物は、新規であり、公
知文献には記載されていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、一般式I
【0004】
【化17】
【0005】〔式中m=1のときn=0、1又は2、m
=2又は3のとき、n=0であり、AおよびBは相
互に独立してプロトンA――――但しこの際これらはと
もに同時にプロトンを意味しない――――又はバリウム
イオンの当量割合、一般式II
【0006】
【化18】
【0007】なるイオン又は一般式III
【0008】
【化19】
【0009】なるイオンを示す;Xは窒素、リン、ヒ素
又はアンチモンを示す;R11,R12,R13及びR
14は相互に独立して水素――――但しこの際これらは
すべて同時に水素を示さない――――;(C
30)アルキル;一般式−(CH−CH−O)
−R(Rは水素、(C−C)アルキル又はアシ
ル、pは1〜10の数を示す。)なるオキシエチル;
(C−C12)シクロアルキル;(C−C12)ア
リール又は(C−C12)アリール−(C−C
アルキルを示し、この際上記の基はヒドロキシ、(C
−C)アルコキシ、第一、第二又は第三アミノ、酸ア
ミド又はフッ素−、塩素−又は臭素原子によって置換さ
れていてよい;R15及びR16は相互に独立して、水
素、(C−C)アルキル又は一般式IV
【0010】
【化20】
【0011】(式中、R17及びR18は相互に独立し
て水素又は(C−C)アルキルを示す。)
【0012】なるアミノ基を示す;残基R11及びR
13又はR11及びR15は、相互に独立し、一緒にな
って場合により置換された及び(又は)他のヘテロ原子
を含有する5〜12員環を形成することができる;R
〜Rは、相互に独立して水素、(C−C30)アル
キル;(C−C30)アルケニル;(C−C30
アルキニル;(C−C)アルコキシ;一般式−
((C−C)アルキレン−O)q−R10(式R
10は水素、(C−C)アルキル又はアシルを、q
は1〜10の数を示す。)なる基、(C−C12)シ
クロアルキル;(C−C12)アリール;(C−C
12)アリール−(C−C)アルキル、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ニトロ、シア
ノ、ヒドロキシ、スルホン、スルホン酸基、カルボン酸
エステル基又は基−NR2122(式中R21及びR
22は相互に独立して水素又は(C−C)アルキル
である。)を示し、この際上記脂肪族、脂環式、芳香脂
肪族及び芳香族残基は、カルボン酸基又はその塩もしく
はアミドもしくはエステル;スルホン酸基又はその塩も
しくはアミドもしくはエステル;ヒドロキシ;(C
)アルキル;(C−C)アルコキシ;第一、第
二又は第三アミノ、フッ素原子、塩素原子又は臭素原子
によって置換されていてよい及び(又は)ヘテロ原子1
種又はそれ以上を含有することができ、但しこの場合残
基R〜R又はR〜Rのうちの2つは相互に独立
し、一緒になって場合により置換された及び(又は)ヘ
テロ原子1種又はそれ以上を含有する5−ないし12−
員環を形成することができる。〕なる化合物である。 〔課題を解決するための手段〕 アルキル基は、直鎖状又は分枝状であってよい。R
並びにR11〜R14が意味するアルキル基は、炭
素原子数1〜22を有するのが好ましい。メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル並びにヘキサ
デシルが特に好ましい。好ましいアルキル基は、1個又
はそれ以上のフッ素原子、特に1〜33個のフッ素原子
によって置換されたものでもある。
【0013】R9 又はR10が意味するアシルは、アセチ
ル- 、ベンゾイル- 及びナフトイル基であるのが好まし
い。
【0014】(C5-C12) シクロアルキルは、一環状又
は多環状であってよく、シクロペンチル及びシクロヘキ
シルを示すのが好ましい。
【0015】(C6-C12) アリールは、一環状又は多環
状であってよく、フエニル、1- ナフチル、2- ナフチ
ル及びビフエニルを示すのが好ましい。好ましい置換さ
れたアリール基はトリルである。
【0016】(C6-C12) アルキル-(C1-C6)アルキル
は、ベンジルを示すのが好ましい。
【0017】残基R11及びR13,R11及びR15によって
又は残基R1 〜R4 及びR5 〜R8 のうちの2つ夫々に
よって形成された5- ないし12員環は、脂肪族又は芳
香族であってよい。これらはヘテロ原子として酸素、イ
オウ及び特に窒素を含有することができる。更に1- 又
は多環状であってよい。
【0018】残基R11及びR13又はR11及びR15によっ
て形成される環系は、ピリジン- 、ピペリジン- 、並び
にイミダゾリン- 系であるのが好ましい。
【0019】更に残基R1 〜R4 又はR5 〜R8 は、ベ
ンゾール- 、ナフタリン- 、ビフエニル- 、トリル- 、
シクロペンタン- 及びシクロヘキサン-系を形成するの
が好ましい。
【0020】p及びqは、1〜4の数を示すのが好まし
い。
【0021】残基R1 〜R8 及びR11〜R14を意味する
第一、第二又は第三アミノ基の置換基として、N- モノ
(C1-C4)アルキルアミノ及びN,N- ジ(C1-C4)ア
ルキルアミノが好ましい。
【0022】残基R1 〜R8 及びR11〜R14の置換基と
して意味する酸アミド基は、フタルイミド及びナフター
ルイミドが好ましい。
【0023】残基R1 〜R8 が意味する又はこの残基の
置換基として意味するスルホン酸- 又はカルボン酸エス
テル- 基は、(C1-C4)アルキルエステルが好ましい。
【0024】一般式Iに於て、置換基COO- + 及び
COO- + は夫々の環の夫々の任意の位置にあってよ
い。
【0025】2,2'-及び4,4'-位が好ましい。
【0026】特に好ましくは、m=2及びn=0の化合
物中で2,2'-位である。
【0027】一般式IIに於て、Xは窒素及びリンを示
すが好ましく、特に好ましくは窒素を示す。特に好まし
い一般式Iなる化合物は、A+ =B+ ものもの及びA+
=H + のものである。特に好ましい一般式Iなる化合物
は、一般式Ia
【0028】
【化21】
【0029】(式中R,R,R及びRは水素、
,R,R及びRは水素−又は塩素原子を示
し、A及びBは上述の意味を有する。)なるもので
ある。
【0030】特に好ましい一般式Iなる化合物は、一般
式Ib
【0031】
【化22】
【0032】(式中B+ はテトラメチルアンモニウム テトラエチルアンモニウム テトラプロピルアンモニウム テトラブチルアンモニウム テトラペンチルアンモニウム テトラヘキシルアンモニウム テトラヘプチルアンモニウム テトラオクチルアンモニウム テトラノニルアンモニウム テトラキス-(デシル)-アンモニウム テトラドデシルアンモニウム トリブチルメチルアンモニウム ベンジルトリメチルアンモニウム エチルヘキサデシルジメチルアンモニウム ベンジルジメチルヘキサデシルアンモニウム ベンデルトリエチルアンモニウム ヘキサデシルトリメチルアンモニウム フエニルトリメチルアンモニウム ヘキサデシルピリジニウム グアニジニウム 1,1,3,3- テトラメチルグアニジニウム テトラプロピルホスホニウム テトラブチルホスホニウム テトラペンチルホスホニウム ベンジルトリフエニルホスホニウム又は ヘキサデシルトリブチルホスホニウムを示す。) なる化合物、一般式Ic
【0033】
【化23】
【0034】(式中A+ 及びB+ は同一であり、 テトラメチルアンモニウム テトラエチルアンモニウム テトラプロピルアンモニウム テトラブチルアンモニウム テトラペンチルアンモニウム テトラヘキシルアンモニウム テトラヘプチルアンモニウム テトラオクチルアンモニウム テトラノニルアンモニウム テトラキス-(デシル)-アンモニウム テトラドデシルアンモニウム トリブチルメチルアンモニウム ベンジルトリメチルアンモニウム エチルヘキサデシルジメチルアンモニウム ベンジルジメチルヘキサデシルアンモニウム ベンジルトリエチルアンモニウム ヘキサデシルトリメチルアンモニウム フエニルトリメチルアンモニウム ヘキサデシルピリジニウム グアニジニウム 1,1,3,3- テトラメチルグアニジウム テトラプロピルホスホニウム テトラブチルホスホニウム テトラペンチルホスホニウム ベンジルトリフエニルホスホニウム又は ヘキサデシルトリブチルホスホニウムを示す。) なる化合物、一般式Id
【0035】
【化24】
【0036】(式中B+ テトラメチルアンモニウム テトラエチルアンモニウム テトラプロピルアンモニウム テトラブチルアンモニウム テトラペンチルアンモニウム テトラヘキシルアンモニウム テトラヘプチルアンモニウム テトラオクチルアンモニウム テトラプロピルホスホニウム又は テトラブチルホスホニウムを示す。) なる化合物である。
【0037】一般式Iなる本発明による化合物はたとえ
ば次のものである: 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(テトラメチルアンモ
ニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(テトラメチルアンモニ
ウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(テトラエチルアンモ
ニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(テトラエチルアンモニ
ウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(テトラプロピルアン
モニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(テトラプロピルアンモ
ニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(テトラブチルアンモ
ニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(テトラブチルアンモニ
ウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(テトラペンチルアン
モニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(テトラペンチルアンモ
ニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(テトラヘキシルアン
モニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(テトラヘキシルアンモ
ニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(テトラヘプチルアン
モニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(テトラヘプチルアンモ
ニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(テトラオクチルアン
モニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(テトラオクチルアンモ
ニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(テトラキス-(デシ
ル)-モンモニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(テトラキス-(デシル)-
モンモニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(テトラドデシルアン
モニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(テトラドデシルアンモ
ニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(トリブチルメチルア
ンモニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(トリブチルメチルアン
モニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(ベンジルトリメチル
アンモニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(ベンジルトリメチルア
ンモニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(エチルヘキサデシル
ジメチル- アンモニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(エチルヘキサデシルジ
メチル- アンモニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(ベンジルジメチルヘ
キサデシル- アンモニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(ベンジルジメチルヘキ
サデシル- アンモニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(ベンジルトリエチル
アンモニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(ベンジルトリエチルア
ンモニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(ヘキサデシルトリメ
チルアンモニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(ヘキサデシルトリメチ
ルアンモニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(フエニルトリメチル
アンモニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(フエニルトリメチルア
ンモニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(ヘキサデシルピリジ
ニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(ヘキサデシルピリジニ
ウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(グアニジニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(グアニジニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(1,1,3,3- テ
トラメチルグアニジニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(1,1,3,3- テト
ラメチルグアニジニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(ベンジルトリフエニ
ルホスホニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(ベンジルトリフエニル
ホスホニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(テトラプロピルホス
ホニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(テトラプロピルホスホ
ニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(テトラブチルホスホ
ニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(テトラブチルホスホニ
ウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(テトラペンチルホス
ホニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(テトラペンチルホスホ
ニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ-(ヘキサデシルトリブ
チルホスホニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ-(ヘキサデシルトリブチ
ルホスホニウム) 塩 2,2'-ジチオジ安息香酸- バリウム塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- モノ-(テトラメチルアンモ
ニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- ジ-(テトラメチルアンモニ
ウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- モノ-(テトラエチルアンモ
ニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- ジ- (テトラエチルアンモ
ニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- モノ-(テトラプロピルアン
モニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- ジ- (テトラプロピルアン
モニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- モノ-(テトラブチルアンモ
ニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- ジ-(テトラブチルアンモニ
ウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- モノ-(テトラペンチルアン
モニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- ジ-(テトラペンチルアンモ
ニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- モノ-(テトラヘキシルアン
モニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- ジ-(テトラヘキシルアンモ
ニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- モノ-(テトラヘプチルアン
モニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- ジ-(テトラヘプチルアンモ
ニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- モノ-(テトラオクチルアン
モニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- ジ-(テトラオクチルアンモ
ニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- モノ-(テトラキス-(デシ
ル)-アンモニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- ジ-(テトラキス-(デシル)-
アンモニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- モノ-(テトラドデシルアン
モニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- ジ-(テトラドデシルアンモ
ニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- モノ-(トリブチルメチルア
ンモニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- ジ-(トリブチルメチルアン
モニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- モノ-(ベンジルトリメチル
アンモニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- ジ-(ベンジルトリメチルア
ンモニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- モノ-(エチルヘキサデシル
ジメチル- アンモニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- ジ-(エチルヘキサデシルジ
メチル- アンモニウム)塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- モノ-(ベンゾジルジメチル
ヘキサデシルアンモニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- ジ-(ベンゾジルジメチルヘ
キサデシルアンモニウム塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- モノ-(ヘキサデシルトリメ
チルアンモニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- ジ-(ヘキサデシルトリメチ
ルアンモニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- モノ-(フエニルトリメチル
アンモニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- ジ-(フエニルトリメチルア
ンモニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- モノ-(ヘキサデシルピリジ
ニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- ジ-(ヘキサデシルピリジニ
ウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- モノ-(グアニジニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- ジ-(グアニジニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- モノ-(ベンジルトリフエニ
ルホスホニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- ジ-(ベンジルトリフエニル
ホスホニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- モノ-(テトラブチルホスホ
ニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- ジ-(テトラブチルホスホニ
ウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- モノ-(ヘキサデシルトリブ
チルホスホニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- ジ-(ヘキサデシルトリブチ
ルホスホニウム) 塩 4,4'-ジチオジ安息香酸- バリウム塩 2,2'-チオジ安息香酸- モノ-(テトラメチルアンモニ
ウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- ジ-(テトラメチルアンモニウ
ム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- モノ-(テトラエチルアンモニ
ウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- ジ-(テトラエチルアンモニウ
ム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- モノ-(テトラプロピルアンモ
ニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- ジ-(テトラプロピルアンモニ
ウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- モノ-(テトラブチルアンモニ
ウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- ジ-(テトラブチルアンモニウ
ム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- モノ-(テトラペンチルアンモ
ニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- ジ-(テトラペンチルアンモニ
ウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- モノ-(テトラヘキシルアンモ
ニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- ジ-(テトラヘキシルアンモニ
ウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- モノ-(テトラヘプチルアンモ
ニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- ジ-(テトラヘプチルアンモニ
ウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- モノ-(テトラオクチルアンモ
ニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- ジ-(テトラオクチルアンモニ
ウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- モノ-(テトラキス-(デシル)-
アンモニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- ジ-(テトラキス-(デシル)-ア
ンモニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- モノ-(テトラドデシルアンモ
ニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- ジ-(テトラドデシルアンモニ
ウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- モノ-(トリブチルメチルアン
モニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- ジ-(トリブチルメチルアンモ
ニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- モノ-(ベンジルトリメチルア
ンモニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- ジ-(ベンジルトリメチルアン
モニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- モノ-(エチルヘキサデシルジ
メチルアンモニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- ジ-(エチルヘキサデシルジメ
チルアンモニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- モノ-(ベンジルジメチルヘキ
サデシルアンモニウム)塩 2,2'-チオジ安息香酸- ジ-(ベンジルジメチルヘキサ
デシルアンモニウム)塩 2,2'-チオジ安息香酸- モノ-(ベンジルトリエチルア
ンモニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香- ジ-(ベンジルトリエチルアンモ
ニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- モノ-(ヘキサデシルトリメチ
ルアンモニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- ジ-(ヘキサデシルトリメチル
アンモニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- モノ-(フエニルトリメチルア
ンモニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- ジ-(フエニルトリメチルアン
モニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- モノ-(ヘキサデシルピリジニ
ウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- ジ-(ヘキサデシルピリジニウ
ム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- モノ-(グアニジニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- ジ-(グアニジニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- モノ-(ベンジルトリフエニル
ホスホニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- ジ-(ベンジルトリフエニルホ
スホニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- モノ-(テトラブチルホスホニ
ウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- ジ-(テトラブチルホスホニウ
ム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- モノ-(ヘキサデシルトリブチ
ルホスホニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香酸- ジ-(ヘキサデシルトリブチル
ホスホニウム) 塩 2,2'-チオジ安息香- バリウム塩 4,4'-チオジ安息香酸- モノ-(テトラメチルアンモニ
ウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- ジ-(テトラメチルアンモニウ
ム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- モノ-(テトラエチルアンモニ
ウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- ジ-(テトラエチルアンモニウ
ム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- モノ-(テトラプロピルアンモ
ニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- ジ-(テトラプロピルアンモニ
ウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- モノ-(テトラブチルアンモニ
ウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- ジ-(テトラブチルアンモニウ
ム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- モノ-(テトラペンチルアンモ
ニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- ジ-(テトラペンチルアンモニ
ウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- モノ-(テトラヘキシルアンモ
ニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- ジ-(テトラヘキシルアンモニ
ウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- モノ-(テトラヘプチルアンモ
ニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- ジ-(テトラヘプチルアンモニ
ウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- モノ-(テトラオクチルアンモ
ニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- ジ-(テトラオクチルアンモニ
ウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- モノ-(テトラキス−(デシ
ル)アンモチウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- ジ-(テトラキス−(デシル)
アンモチウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- モノ-(テトラドデシルアンモ
ニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- ジ-(テトラドデシルアンモニ
ウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- モノ-(トリブチルメチルアン
モニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- ジ- (トリブチルメチルアン
モニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- モノ-(ベンジルトリメチルア
ンモニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- ジ-(ベンジルトリメチルアン
モニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- モノ-(エチルヘキサデシルジ
メチルアンモニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- ジ-(エチルヘキサデシルジメ
チルアンモニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- モノ-(ベンジルジメチルヘキ
サデシルアンモニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- ジ-(ベンジルジメチルヘキサ
デシルアンモニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- モノ-(ベンジルトリエチルア
ンモニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- ジ-(ベンジルトリエチルアン
モニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- モノ-(ヘキサデシルトリメチ
ルアンモニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- ジ-(ヘキサデシルトリメチル
アンモニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- モノ-(フエニルトリメチルア
ンモニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- ジ- (フエニルトリメチルア
ンモニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- モノ-(ヘキサデシルピリジニ
ウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- ジ-(ヘキサデシルピリジニウ
ム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- モノ-(グアニジニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- ジ-(グアニジニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- モノ-(ベンジルトリフエニル
ホスホニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- ジ-(ベンジルトリフエニルホ
スホニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- モノ-(テトラブチルホスホニ
ウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- ジ- (テトラブチルホスホニ
ウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- モノ-(ヘキサデシルトリブチ
ルホスホニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- ジ-(ヘキサデシルトリブチル
ホスホニウム) 塩 4,4'-チオジ安息香酸- バリウム塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- モノ-(テトラメチルア
ンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- ジ-(テトラメチルアン
モニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- モノ-(テトラエチルア
ンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- ジ-(テトラエチルアン
モニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- モノ-(テトラプロピル
アンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- ジ-(テトラプロピルア
ンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- モノ-(テトラブチルア
ンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- ジ-(テトラブチルアン
モニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- モノ-(テトラペンチル
アンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- ジ-(テトラペンチルア
ンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- モノ-(テトラヘキシル
アンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- ジ-(テトラヘキシルア
ンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- モノ-(テトラヘプチル
アンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- ジ-(テトラヘプチルア
ンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- モノ-(テトラオクチル
アンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- ジ-(テトラオクチルア
ンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- モノ-(テトラキス−
(デシル)−アンモニウム)塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- ジ-(テトラキス−(デ
シル)−アンモニウム)塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- モノ-(テトラドデシル
アンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- ジ-(テトラドデシルア
ンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- モノ-(トリブチルメチ
ルアンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- ジ-(トリブチルメチル
アンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- モノ-(ベンジルトリメ
チルアンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- ジ-(ベンジルトリメチ
ルアンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- モノ-(エチルヘキシル
ジメチルアンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- ジ-(エチルヘキシルジ
メチルアンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- モノ-(ベンジルジメチ
ルヘキサデシルアンモニウム)塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- ジ-(ベンジルジメチル
ヘキサデシルアンモニウム)塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- モノ-(ベンジルトリエ
チルアンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- ジ-(ベンジルトリエチ
ルアンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- モノ-(ヘキサデシルト
リメチルアンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- ジ-(ヘキサデシルトリ
メチルアンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- モノ-(フエニルトリメ
チルアンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- ジ-(フエニルトリメチ
ルアンモニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- モノ-(ヘキサデシルピ
リジニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- ジ-(ヘキサデシルピリ
ジニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- モノ-(グアニジニウ
ム)塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- ジ-(グアニジニウム)
塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- モノ-(ベンジルトリフ
エニルホスホニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- ジ-(ベンジルトリフエ
ニルホスホニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- モノ-(テトラブチルル
ホスホニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- ジ-(テトラブチルルホ
スホニウム) 塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- モノ-(ヘキサデシルト
リブチルホスホニウム)塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- ジ-(ヘキサデシルトリ
ブチルホスホニウム)塩 2,2'-スルフイニル安息香酸- バリウム塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- モノ-(テトラメチルア
ンモニウム) 塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- ジ-(テトラメチルアン
モニウム) 塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- モノ-(テトラエチルア
ンモニウム) 塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- ジ-(テトラエチルアン
モニウム) 塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- モノ-(テトラプロピル
アンモニウム) 塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- ジ-(テトラプロピルア
ンモニウム) 塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- モノ-(テトラブチルア
ンモニウム) 塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- ジ-(テトラブチルアン
モニウム) 塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- モノ-(テトラペンチル
アンモニウム) 塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- ジ-(テトラペンチルア
ンモニウム) 塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- モノ-(テトラヘキシル
アンモニウム) 塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- ジ-(テトラヘキシルア
ンモニウム) 塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- モノ-(テトラヘプチル
アンモニウム) 塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- ジ-(テトラヘプチルア
ンモニウム) 塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- モノ-(テトラオクチル
アンモニウム) 塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- ジ-(テトラオクチルア
ンモニウム) 塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- モノ-(テトラキス−
(デシル)−アンモニウム)塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- ジ-(テトラキス−(デ
シル)−アンモニウム塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- モノ-(テトラドデシル
アンモニウム) 塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- ジ-(テトラドデシルア
ンモニウム) 塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- モノ-(トリブチルメチ
ルアンモニウム) 塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- ジ-(トリブチルメチル
アンモニウム) 塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- モノ-(ベンジルトリメ
チルアンモニウム) 塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- ジ-(ベンジルトリメチ
ルアンモニウム) 塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- モノ-(ベンジルトリメ
チルアンモニウム) 塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- ジ-(ベンジルトリメチ
ルアンモニウム) 塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- モノ-(エチルヘキサデ
シルジメチルアンモニウム)塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- ジ-(エチルヘキサデシ
ルジメチルアンモニウム)塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- モノ-(ベンジルジメチ
ルヘキサデシルアンモニウム)塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- ジ-(ベンジルジメチル
ヘキサデシルアンモニウ塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- モノ-(ベンジルトリエ
チルアンモニウム)塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- ジ-(ベンジルトリエチ
ルアンモニウム)塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- モノ-(ヘキサデシルト
リメチルアンモニウム)塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- ジ-(ヘキサデシルトリ
メチルアンモニウム)塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- モノ-(フエニルトリメ
チルアンモニウム)塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- ジ-(フエニルトリメチ
ルアンモニウム)塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- モノ-(ヘキサデシルピ
リジニウム)塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- ジ-(ヘキサデシルピリ
ジニウム)塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- モノ-(グアニジニウ
ム)塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- ジ-(グアニジニウム)
塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- モノ-(ベンジルトリフ
エニルホスホニウム)塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- ジ-(ベンジルトリフエ
ニルホスホニウム)塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- モノ-(テトラブチルホ
スホニウム)塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- ジ-(テトラブチルホス
ホニウム)塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- モノ-(ヘキサデシルト
リブチルホスホニウム)塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- ジ-(ヘキサデシルトリ
ブチルホスホニウム)塩 4,4'-スルフイニル安息香酸- バリウム塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(テトラメチルア
ンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(テトラメチルアン
モニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(テトラエチルア
ンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(テトラエチルアン
モニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(テトラプロピル
アンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(テトラプロピルア
ンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(テトラブチルア
ンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(テトラブチルアン
モニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(テトラペンチル
アンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(テトラペンチルア
ンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(テトラヘキシル
アンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(テトラヘキシルア
ンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(テトラヘプチル
アンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(テトラヘプチルア
ンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(テトラオクチル
アンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(テトラオクチルア
ンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(テトラキス−
(デシル)−アンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(テトラキス−(デ
シル)−アンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(テトラドデシル
アンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(テトラドデシルア
ンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(トリブチルメチ
ルアンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(トリブチルメチル
アンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(ベンジルトリメ
チルアンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(ベンジルトリメチ
ルアンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(エチルヘキサデ
シルジメチルアンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(エチルヘキサデシ
ルジメチルアンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(ベンジルジメチ
ルヘキサデシルアンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(ベンジルジメチル
ヘキサデシルアンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(ベンジルトリエ
チルアンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(ベンジルトリエチ
ルアンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(ヘキサデシルト
リメチルアンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(ヘキサデシルトリ
メチルアンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(フエニルトリメ
チルアンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(フエニルトリメチ
ルアンモニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(ヘキサデシルピ
リジニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(ヘキサデシルピリ
ジニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(グアニジニウ
ム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(グアニジニウム)
塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(ベンジルトリフ
エニルホスホニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(ベンジルトリフエ
ニルホスホニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(テトラブチルホ
スホニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(テトラブチルホス
ホニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(ヘキサデシルト
リブチルホスホニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(ヘキサデシルトリ
ブチルホスホニウム)塩 2,2'-スルホニルジ安息香酸- バリウム塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(テトラメチルア
ンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(テトラメチルアン
モニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(テトラエチルア
ンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(テトラエチルアン
モニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(テトラプロピル
アンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(テトラプロピルア
ンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(テトラブチルア
ンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(テトラブチルアン
モニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(テトラブチルア
ンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(テトラブチルアン
モニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(テトラペンチル
アンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(テトラペンチルア
ンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(テトラヘキシル
アンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(テトラヘキシルア
ンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(テトラヘプチル
アンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(テトラヘプチルア
ンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(テトラオクチル
アンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(テトラオクチルア
ンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(テトラキス−
(デシル)−アンモニウム塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(テトラキス−(デ
シル)−アンモニウム塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(テトラドデシル
アンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(テトラドデシルア
ンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(トリブチルメチ
ルアンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(トリブチルメチル
アンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(ベンジルトリメ
チルアンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(ベンジルトリメチ
ルアンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(エチルヘキサデ
シルジメチルアンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(エチルヘキサデシ
ルジメチルアンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(ベンジルジメチ
ルヘキサデシルアンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(ベンジルジメチル
ヘキサデシルアンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(ベンジルトリエ
チルアンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(ベンジルトリエチ
ルアンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(ヘキサデシルト
リメチルアンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(ヘキサデシルトリ
メチルアンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(フエニルトリメ
チルアンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(フエニルトリメチ
ルアンモニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(ヘキサデシルピ
リジニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(ヘキサデシルピリ
ジニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(グアニジチウ
ム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(グアニジチウム)
塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(ベンジルトリフ
エニルホスホニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(ベンジルトリフエ
ニルホスホニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(テトラブチルホ
スホニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(テトラブチルホス
ホニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- モノ-(ヘキサデシルト
リブチルホスホニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- ジ-(ヘキサデシルトリ
ブチルホスホニウム)塩 4,4'-スルホニルジ安息香酸- バリウム塩 一般式Iなる本発明による化合物を、一般式V
【0038】
【化25】
【0039】(式中R〜R、m及びnは上述の意味
を有し、E及びFは相互に独立してプロトン、アル
カリ金属イオン又はアンモニウムイオンを示す。)なる
化合物と式AYa又はBYb(式中Ya及び
Ybは相互に独立てアニオン又はアニオン当量を示
し、A及びBは上述の意味を有し、但しプロトンは
除かれる。)なる化合物とを反応させて、製造すること
ができる。
【0040】E又はFを意味するアルカリ金属イオ
ンは、ナトリウム−又はカリウムイオンであるのが好ま
しい。アニオンYa及びYbは、水酸化物、炭酸
塩、炭酸水素塩、塩化物、臭化物、沃化物、テトラフル
オロボラート、トシル酸塩、硫酸塩又は硫酸水素塩が好
ましい。
【0041】本発明による方法の好ましい実施形態に於
て、ヒドロオキシドAOH又はBOHで処理し、その際
溶剤を、この溶剤中でヒドロオキシド及び反応生成物が
可溶性である様に選択する。この種の溶剤は、有機溶剤
であり、この場合アルコール、たとえばメタノール、エ
タノール、1- プロパノール及び2- プロパノール並び
にこれと水との混合物が特に適する。その際E+ 及びF
+ はプロトンを示す。この場合出発化合物を化学量論量
で使用し、純粋な形で理論上の収量で生じる生成物を、
そのまま反応混合物から蒸発し、次いで乾燥して得るこ
とができる。
【0042】その際反応温度は厳密なものではない。室
温と反応混合物の沸点との間の温度範囲内で処理するの
が好都合である。
【0043】他の好ましい実施形態で、本発明による方
法を沈殿反応の法則に従って実施する。反応媒体として
は、原則的にすべての反応に関与しない溶剤又は溶剤混
合物──これ中で一般式Vなる化合物のジアルカリ塩又
はジアンモニウム塩が可溶性であり、一般式Iなる本発
明による生成物は不溶性である──が適する。一般に反
応混合物として水が特に好適である。
【0044】その場合一般式Vなる化合物(式中E+
びF+ はプロトンを示す。)を、計算量の水酸化- アル
カリ又は -アンモニウムを用いて水に溶解してジアルカ
リ- 又はジアンモニウム塩となし、式A+ Ya- 又はB
+ Yb- なる化合物又は2つの化合物の混合物を、好ま
しくは溶解された形で加える様にして行うのが有利であ
る。その際水に不溶性である一般式Iなる本発明による
生成物は、沈殿し、濾過によって単離することができ
る。
【0045】温度は、この処理でも厳密なものではな
い。これは5〜90℃であるのが有利である。
【0046】一般式Iなる本発明によるジ塩は反応媒体
中で可溶性で、しかし対応するモノ塩は不溶性である場
合、後者を簡単な方法で一般式Vなるジアルカリ- 又は
ジアンモニウム塩の及び中性塩A+ Ya- 又はB+ Yb
- の溶液に酸を添加して沈殿させ、濾過によって単離す
ることができる。
【0047】しかしYa- 及びYb- が一塩基酸性アニ
オン、たとえばヒドロジエンスルフアートを示す場合、
不溶性の本発明によるモノ塩が、すでに一般式Vのジア
ルカリ- 又はジアンモニウム塩溶液にA+ Ya- 又はB
+ Yb- を添加して沈殿する。この場合精々化学量論量
のA+ Ya- 又はB+ Yb- を、過剰の酸性アニオンを
回避するために使用するのが好ましい。中性アニオンの
場合良好な収量を得るために化学量論量の又は僅かに過
剰のA+ Ya- 又はB+ Yb- を使用するのが好都合で
ある。
【0048】沈殿に使用される酸は、十分に強くなけれ
ばならない。たとえば硫酸、塩酸及びギ酸が適する。
【0049】一般式Iなるモノ塩の沈殿に精々化学量論
量の酸を使用するのが有利である。あまり少量の酸は収
量を低下させ、あまり多量の酸は、対応するジ安息香酸
を有する生成物の不純物を生じさせる。
【0050】原則的に、一般式Iなる不溶性モノ塩が化
合物A+ Ya- 又はB+ Yb- (式中Ya- 又はYb-
は中性アニオンを示す。)の溶液を、一般式Iなるモノ
アルカリ- 又はモノアンモニウム塩の溶液に加えること
によっても得られうる。その際所望された生成物は沈殿
もするが、実質上この処理法で次の重大な欠点を有す
る:モノアルカリ塩又はモノアンモニウム塩の完全な溶
解に、滑らかな反応のために著しく大きい希釈が必要で
ある。
【0051】特に好ましい方法は、一般式If
【0052】
【化26】
【0053】〔式中A+ 及びB+ はプロトン又は一般式
II
【0054】
【化27】
【0055】(式中A又はBのどちらかがプロトン
を示し、Xは窒素又はリンを示し、R〜R及びR
11〜R14は請求項1記載の意味を有する。)なるイ
オンを示す。〕なる第四級窒素−又はリン塩基を有す
る、ジチオジ安息香酸の水難溶性モノ塩の製造にあた
り、一般式Iなる化合物を、一般式Va
【0056】
【化28】
【0057】(式中R〜Rは上述の意味を有し、E
及びFは相互に独立してアルカリ金属イオン又はア
ンモニウムイオンを示す。)なる化合物及び化合物A
Ya又はBYb(式中A及びBは一般式II
のイオンを示し、Ya及びYbはアニオン又はアニ
オン当量を示す。)の等モル量を含有する水性溶液から
二酸化炭素によって沈殿させることを特徴とする。
【0058】この方法は、一般式IIなるイオン(式中
Xは窒素又はリン及びR11〜R14はn- プロピル又はn
- ブチルを示す。)を有する2,2'-ジチオジ安息香酸
の塩を製造するのに特に有利である。
【0059】一般式Iなる化合物を、ガス状二酸化炭素
の導入によって沈殿させるのが好ましい。その際二酸化
炭素を6.0〜9.0、特に好ましくは7.0〜8.0
のpH- 値まで導入するのが好ましい。
【0060】温度は厳密なものではなく、5〜95℃で
あるのが好ましい。
【0061】沈殿した生成物を、簡単かつ公知の方法で
単離し、乾燥することができる。
【0062】式A+ Ya- 及びB+ Yb- なる化合物
は、市場で入手でき及び(又は)当業者に公知の方法に
従って製造することができる。
【0063】一般式Vなる化合物(式中E+ 及びF+
プロトンを示す。)は、文献上公知であり、たとえば次
の文献中に記載されている: 2,2'-ジチオジ安息香酸: ORGANIC SYNTHESIS Collective 第2巻(1943),
580 ポーランド特許第601642号明細書 ドイツ特許出願公開第3 201 904号明細書 3,3'-ジチオジ安息香酸: J. Pharm. Soc. Japan 77(1957),965,9
68 4,4'-ジチオジ安息香酸: Journal of the Chemical Society 1922,第121
巻,2025, J. Soc. Chem. Ind. 44,196 T J. Heterocyclic Chem., 17,497(1980) 2,2'-チオジ安息香酸: Berichte der deutschen chemischen Gesellschaft, 4
3(1910),588 米国特許第3,997,540号明細書 4,4'-チオジ安息香酸: J. Pharm. Soc. Japan 64(1944)186,18
9 ソ連特許第722,906号明細書 米国特許第3,504,022号明細書 2,2'-スルフィニルジ安息香酸: Berichte der deutschen chemischen Gesellschaft, 4
3(1910),589 The Journal of the American Chemical Society, 第7
5巻(1953),280,281, 4,4'-スルフィニルジ安息香酸: 米国特許第3,504,022号明細書 2,2'-スルホニルジ安息香酸: The Journal of the American Chemical Soiety, 第7
5巻(1953),280,281 4,4'-スルホニルジ安息香酸: 米国特許第2,614,120号明細書 米国特許第2,673,218号明細書 Acta Chem. Scand. 7(1953)No.5,778 一般式Vなる化合物(式中R1 〜R8 は水素以外の意味
を有する。)を、同様な方法で製造することができる。
一般式Vなる化合物のアルカリ- 又はアンモニウム塩
を、酸性形から簡単な方法で水酸化- アルカリ又は -ア
ンモニウムとの反応によって製造することができる。
【0064】一般式Iなる本発明による化合物は、純粋
な形の他に、相互の混合物及び混晶の形で、並びに90
重量%が一般式Vなる化合物(式中E+ 及びF+ はプロ
トンを示す。)である混合物及び混晶の形で存在するこ
ともできる。
【0065】したがって本発明は、a)一般式I
【0066】
【化29】
【0067】(式中R1 〜R8,A+ ,B+ 並びにm及び
nは上述の様に定義される。)なる化合物1又は数種1
0〜100重量%及びb)一般式V
【0068】
【化30】
【0069】(式中R1 〜R8 並びにm及びnは上述の
様に定義され、E+ 及びF+ はプロトンを示す。)なる
化合物1又は数種0〜90重量%から成る混合物並びに
混晶にも関する。
【0070】好ましい混合物並びに混晶は、一般式Iな
る化合物2種からなるものであり、但しジ塩及びモノ塩
から成る混合物並びに混晶が特に好ましい。その際ジ塩
及びモノ塩は、R1 〜R8 ,m,n及びA+ に関して同
一であり、ある成分でB+ =A+ 、もう一方の成分でB
+ =H+ を示す場合しか異ならない。
【0071】対応する一般式Vなる化合物(式中E+
びF+ はプロトンを示す。)を50重量%より少なく、
特に好ましくは20重量%より少なく有する一般式Iな
る化合物(A+ =H+ )の混合物及び混晶も好ましい。
【0072】本発明による混合物を、適当な量の個々の
成分の簡単な混合によって製造することができる。
【0073】しかし本発明による混合物並びに混晶も、
個々の化合物に関する上記方法と同様に得ることができ
る。但し適当な量の出発化合物を使用する又は過剰の酸
を使用する。
【0074】本発明による化合物は、電子写真記録法の
ためのトナー及び現像剤中の無色電荷調節剤として使用
に並びに表面被覆様粉末及び塗料、特に摩擦電気的に又
は動電学的に噴霧される粉末塗料中の電荷改良剤として
の使用に最適である。
【0075】
【実施例】次の例中、すべての融点記載は未修正であ
る。
【0076】〔例1〕2,2'-ジチオジ安息香酸(0.
10モル)30.6gをエタノール600ml中に懸濁
する。この懸濁物に撹拌下で70−75℃で徐々に25
%水性テトラメチルアンモニウムヒドロオキシド溶液
(0.10モル)36.5gを滴加する。反応溶液から
蒸発と同時に湿性結晶塊が析出し、これを循環空気棚中
で120℃で乾燥し、次いで粉砕する。収量:式
【0077】
【化31】
【0078】なる2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ(テ
トラメチルアンモニウム)塩37.8g. C1821NO4 2 分子量:379.49 白色粉末 融点:240℃ 1H- NMR(DMSO- d6 中で):δ3.15
(s.12H),7.1−8.1(m,8Har.) 〔例2〕25%水性テトラメチルアンモニウムヒドロオ
キシド溶液(0.20モル)72.9gを加える他は、
例1に於ける様に処理する。 収量:式
【0079】
【化32】
【0080】なる2,2'-ジチオジ安息香酸ジ(テトラ
メチルアンモニウム)塩45.2g(理論値の99.9
%)。 C22322 4 2 分子量:452.63 白色粉末 融点:252℃ 1H- NMR(DMSO- d6 中で):δ3.17
(s,24H),6.9−7.9(m,8Har.) 〔例3〕テトラメチルアンモニウムヒドロオキシド溶液
の代りに40%水性テトラエチルアンモニウムヒドロク
ロリド溶液(0.10モル)36.8gを使用する他
は、例1に於ける様に処理する。収量:式
【0081】
【化33】
【0082】なる2,2'-ジチオジ安息香酸モノ-(テト
ラエチルアンモニウム)塩43.3g(理論値の99.
4%) C2229NO4 2 分子量 435.60 白色粉末 融点:255℃ 1H- NMR(DMSO- d6 中で):δ1.15
(t,12H),3.20(q,8H),7.1−8.
1(m,8Har.) 〔例4〕テトラメチルアンモニウムヒドロオシド溶液の
代りに40%水性テトラエチルアンモニウムヒドロオキ
シド溶液(0.20モル)73.6gを使用する他は、
例1に於ける様に処理する。収量:式
【0083】
【化34】
【0084】なる2,2'-ジチオジ安息香酸ジ(テトラ
エチルアンモニウム)塩56.3g(理論値の99.7
%)。 C30482 4 2 分子量 564.84 白色粉末 融点:160℃ 1H- NMR(DMSO- d6 中で):δ1.10
(t,24H),3.15(q,16H),6.8−
7.9(m,8Har.) 〔例5〕テトラメチルアンモニウムヒドロオキシド溶液
の代りに20%水性テトラプロピルアンモニウムヒドロ
オキシド溶液(0.10モル)101.7gを使用する
他は、例1に於ける様に処理する。収量:式
【0085】
【化35】
【0086】なる2,2'-ジチオジ安息香酸モノ(テト
ラプロピルアンモニウム)塩48.7g(理論値の9
9.0%)。 C2637NO4 2 分子量 491.70 白色粉末 融点:255℃ 1H- NMR(DMSO- d6 中で):δ0.90
(t,12H),1.60(m,8H)、3.10
(m,8H),7.1−8.1(m,8Har.) 〔例6〕テトラメチルアンモニウムヒドロクロリドオキ
シド溶液の代りに40%水性テトラブチルアンモニウム
ヒドロオキシド溶液(0.10モル)65gを使用する
他は、例1に於ける様に処理する。収量:式
【0087】
【化36】
【0088】なる2,2'-ジチオジ安息香酸モノ(テト
ラブチルアンモニウム)塩54.3g(理論値の99.
1%)。 C3045NO4 2 分子量 547.81 白色粉末 融点:228℃ 1H- NMR(DMSO- d6 中で):δ0.91
(t,12H),1.30(m,8H),1.58
(m,8H),3.18(m,8H),7.1−8.1
(m,8Har.) 〔例7〕テトラメチルアンモニウムヒドロオキシド溶液
の代りに40%水性テトラブチルアンモニウムヒドロオ
キシド溶液(0.20モル)130gを使用する他は、
例1に於ける様に処理する。収量:式
【0089】
【化37】
【0090】なる90%2,2'-ジチオジ安息香酸ジ
(テトラブチルアンモニウム)塩87.5g(理論値の
99.8%)。 C46802 4 2 分子量 789.27 粘稠流動性油状物、空気中で長時間放置後、10容量%
水を有するロウ状塊。 融点:約45℃ 1H- NMR(DMSO- d6 中で):δ0.92
(t,24H);1.30(m,16H),1.58
(m,16H),3.19(m,16H),6.95−
7.85(m,8Har.) 〔例8〕水800ml中に水酸化ナトリウム(0.20
モル)8.00gを有する溶液鉈に室温で撹拌下に2,
2'-ジチオジ安息香酸(0.10モル)30.6gを加
え、溶解する。この溶液に、水300ml中にテトラプ
ロピルアンモニウムブロミド(0.10モル)26.6
gを有する溶液を加える。次いで水100ml中に塩化
水素(0.10モル)3.65gを有する溶液を滴下
し、この際生成物が沈殿する。反応混合物を15時間後
撹拌する。次いで沈殿を吸引濾取し、水洗し、循環空気
棚中で120℃で乾燥する。収量:例5に記載した式の
2,2'-ジチオジ安息香酸モノ(テトラプロピルアンモ
ニウム)塩48.3g(理論値の98.2%)。 白色粉末 融点:258℃ 1H- NMR(DMSO- d6 中で):例5の生成物の
スペクトルと一致する。
【0091】〔例9〕テトラプロピルアンモニウムブロ
ミドの代りに、テトラブチルアンモニウムブロミド
(0.10モル)32.2gを使用する他は、例8に於
ける様に処理する。収量:例6に記載した式の2,2'-
ジチオジ安息香酸モノ(テトラブチルアンモニウム)塩
53.9g(理論値の98.4%)。 白色粉末 融点:230℃ 1H- NMR(DMSO- d6 中で):例6の生成物の
スペクトルと一致する。
【0092】〔例10〕テトラプロピルアンモニウムブ
ロミドの代りに、テトラブチルホスホニウムブロミド
(0.10モル)33.9gを使用する他は、例8に於
ける様に処理する。収量:式
【0093】
【化38】
【0094】なる2,2'-ジチオジ安息香酸モノ(テト
ラブチルホスホニウム)塩55.3g(理論値の97.
9%)。 C30454 PS2 分子量 564.78 白色粉末 融点:243℃ 1H- NMR(DMSO- d6 中で):δ0.95
(t,12H),1.44(m,16H),2.20
(m,8H),7.15−8.05(m,8Har.) 〔例11〕テトラメチルアンモニウムヒドロオキシド溶
液の代りに、40%水性トリブチルメチルアンモニウム
ヒドロオキシド溶液(0.10モル)54.4gを使用
する他は、例1に於ける様に処理する。収量:式
【0095】
【化39】
【0096】なる2,2'-ジチオジ安息香酸モノ(トリ
ブチルメチルアンモニウム)塩50.3g(理論値の9
9.5%)。 C2739NO4 2 分子量 505.73 白色粉末 融点:198℃ 1H- NMR(DMSO- d6 中で):δ0.90
(t,9H),1.28(m,6H),1.59(m,
6H),2.96(s,3H),3.20(m,6
H);7.1−8.1(m,8Har.) 〔例12〕テトラメチルアンモニウムヒドロオキシド溶
液の代りに、35%メタノール性ベンジルトリメチルア
ンモニウムヒドロオキシド溶液(0.10モル)47.
7gを使用する他は、例1に於ける様に処理する。収
量:式
【0097】
【化40】
【0098】なる2,2'-ジチオジ安息香酸モノ(ベン
ジルトリメチルアンモニウム)塩45.4g(理論値の
99.6%)。 C2425NO4 2 分子量 455.59 白色粉末 融点:164℃ 1H- NMR(DMSO- d6 中で):δ3.07
(s,9H),4.59(s,2H),7.1−8.1
(m,13Har.) 〔例13〕水350ml中に水酸化ナトリウム(0.2
0モル)8.00gを有する溶液に、室温で撹拌下に
2,2'-ジチオジ安息香酸(0.10モル)30.6g
を加え、溶解する。この溶液に、水70ml中に塩化バ
リウム- 二水和物(0.10モル)24.5gを有する
溶液を加える。反応混合物を15時間室温で後撹拌し、
その際生成物が沈殿する。反応混合物を更に24時間、
冷却棚中で+4℃で保ち、沈殿を吸引濾取し、これを冷
水で洗滌し、これを循環空気棚中で120℃で乾燥す
る。収量:式
【0099】
【化41】
【0100】なる2,2'-ジチオジ安息香酸バリウム塩
40.5g(理論値の91.7%)。 C148 BaO4 2 分子量 441.67 白色粉末 融点:>330℃ IR(KBr):1587,1570,1535,13
84,1277,1036,840,742及び705
cm-1 〔例14〕2,2'-ジチオジ安息香酸の代りに、4,
4'-スルホニルジ安息香酸(0.10モル)30.6g
及びテトラメチルアンモニウムヒドロオキシド溶液の代
りに40%水性テトラブチルアンモニウムヒドロオキシ
ド溶液(0.10モル)65gを使用する他は、例1に
於けると同様に処理する。収量:式
【0101】
【化42】
【0102】なる4,4'-スルホニルジ安息香酸モノ
(テトラブチルアンモニウム塩)54.3g(理論値の
99.1%)。 C3045NO6 S 分子量 547.75 白色粉末 融点:188℃ 1H- NMR(DMSO- d6 中で):δ0.90
(t,12H),1.30(m,8H),1.55
(m,8H),3.15(m,8H),7.8−8.2
(2d,8Har.) 〔例15〕2,2'-ジチオジ安息香酸(0.10モル)
30.6gを、メタノール600ml中に懸濁する。こ
の懸濁物に撹拌下で約65℃で徐々に水72ml中にグ
アニジンカーボナート(0.10モル)18.0gを有
する溶液を滴下する。
【0103】反応溶液を、蒸発後循環空気棚中で120
℃で乾燥する。次いで粉砕する。収量:式
【0104】
【化43】
【0105】なる2,2'-ジチオジ安息香酸- ジ(グア
ニジニウム)塩42.2g(理論値の99.5%) C16206 4 2 分子量 424.49 白色粉末 融点:210℃ 1H- NMR(DMSO- d6 中で):δ7.0−8.
0(m,8Har.)7.76(s,12H) 〔例16〕グアニジンカルボナート- 溶液の代りに、水
35ml中に1,1,3,3- テトラメチルグアニジン
(0.10モル)11.5gを有する溶液を使用する他
は、例15に於ける様に処理する。収量:式
【0106】
【化44】
【0107】なる2,2'-ジチオジ安息香酸- モノ
(1,1,3,3- テトラメチルグアニジニウム)塩4
1.7g(理論値の99.0%) C19233 4 2 分子量 421.53 白色粉末 融点:205℃ 1H- NMR(DMSO- d6 中で):δ2.9(s,
12H),7.1−8.0(m,8Har.),8.1
(s,2H) 〔例17〕水酸化ナトリウム47gを、水750ml中
に溶解するか冷却された苛性ソーダ溶液を、純度85重
量%の工業用2,2'-ジチオジ安息香酸180gを混入
撹拌し、溶解する。溶液を、ダスト粒子を通して濾過す
る。濾液に45%水性テトラプロピルアンモニウムブロ
ミド溶液296gを加える。次いで撹拌下にガス状二酸
化炭素を、pH- 値が7.5になるまで導入する。1時
間、撹拌し、次いで固体を吸引濾過器を介して吸引濾過
する。生成物を、水3000mlで洗滌し、十分に乾燥
吸引し、24時間100℃で減圧乾燥する。収量:2,
2'-ジチオジ安息香酸モノ(テトラプロピルアンモニウ
ム)塩222g(理論値の90%) C2637NO4 2 分子量 491.70 融点:250℃ 1H- NMR(DMSO- d6 中で):δ0.9(t,
12H),1.6(m,8H),3.1(m,8H),
7.1−8.1(m,8Har.) 〔例18〕テトラプロピルアンモニウムブロミド溶液の
代りに、45%水性テトラブチルホスホニウムブロミド
溶液377gを加え、pH- 値が7.0になるまで二酸
化炭素を導入する他は、例17に於ける用に処理する。
収量:2.2'-ジチオジ安息香酸モノ(テトラブチルホ
スホニウム)塩277.5g(理論値の98.4%) C30454 PS2 分子量 564.78 融点:237℃ 1 H- NMR(DMSO- d6 中で):δ0.95
(t,12H),1.45(m,16H),2.2
(m,8H),7.1−8.1(m,8Har.)
【0108】
【発明の効果】本発明による化合物は、電子写真記録法
のトナー及び顕色剤中の電荷制御剤として並びに粉末及
び塗料中の電荷改良剤として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C07F 9/90 C07F 9/90 G03G 5/09 101 G03G 5/09 101 (56)参考文献 特許2687984(JP,B2) 特表 平6−501566(JP,A) J.Phys.Chem.(1990), 94(4),p.1581−1586 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 317/00 C07C 323/00 C07D 213/00 C07F 9/00 G03G 5/00 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式I 【化1】 〔式中、A+ およびB+ は相互に独立してプロトン──
    ──但しこの際これらはともに同時にプロトンを意味し
    ない────又は一般式II 【化2】 (式中、 Xは窒素又はリンを示す; R11,R12,R13及びR14は相互に独立して水素───
    ──但しこの際これらはすべて同時に水素を示さない─
    ────、(C1-C3)アルキル、(C5-C12) シクロア
    ルキル、(C6-C12) アリール又は(C6-C12) アリー
    ル-(C1-C6)アルキルを示す。)なるイオンを示す。〕
    で表わされる化合物。
  2. 【請求項2】一般式Ib 【化3】 (式中B+ はテトラメチルアンモニウム テトラエチルアンモニウム テトラプロピルアンモニウム テトラブチルアンモニウム テトラペンチルアンモニウム テトラヘキシルアンモニウム テトラヘプチルアンモニウム テトラオクチルアンモニウム テトラノニルアンモニウム テトラキス-(デシル)-アンモニウム テトラドデシルアンモニウム トリブチルメチルアンモニウム ベンジルトリメチルアンモニウム エチルヘキサデシルジメチルアンモニウム ベンジルジメチルヘキサデシルアンモニウム ベンジルトリエチルアンモニウム ヘキサデシルトリメチルアンモニウム テトラプロピルホスホニウム テトラブチルホスホニウム テトラペンチルホスホニウム ベンジルトリフエニルホスホニウム又は ヘキサデシルトリブチルホスホニウムを示す。)を有す
    る、請求項1記載の化合物。
  3. 【請求項3】 一般式Ic 【化4】 (式中A+ 及びB+ は同一であり、B+ は請求項2に記
    載した意味を有する。)を有する、請求項1又は2記載
    の化合物。
  4. 【請求項4】 a)請求項1に記載した一般式Iで表わ
    される化合物1種以上10〜100重量%及びb)2,
    2’−ジチオジ安息香酸0〜90重量%から成る混合物
    及び混晶。
  5. 【請求項5】 一般式V 【化5】 (式中、E+ 及びF+ は相互に独立してプロトン、アル
    カリ金属イオン又はアンモニウムイオンを示す。)で表
    わされる化合物と式A+ Ya- 又はB+ Yb- (式中Y
    - 及びYb- は相互に独立してアニオン又はアニオン
    当量を示し、A+ 及びB+ は請求項1に記載した意味を
    有し、但しプロトンは除かれる。)で表わされる化合物
    とを反応させて、請求項1記載の一般式Iで表わされる
    化合物を製造する方法。
  6. 【請求項6】請求項1記載の一般式Iで表わされる水難
    溶性モノ塩の製造方法において、一般式Iで表わされる
    化合物を、一般式Va 【化6】 (式中、E+ 及びF+ は相互に独立してアルカリ金属イ
    オン又はアンモニウムイオンを示す。)で表わされる化
    合物及び化合物A+ Ya- 又はB+ Yb- (式中A+
    びB+ は請求項1に記載した意味を示し、Ya- 及びY
    - はアニオン又はアニオン当量を示す。)の等モル量
    を含有する水性溶液から二酸化炭素によって沈殿させる
    ことを特徴とする上記方法。
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6201052B1 (en) * 1998-11-25 2001-03-13 The Lubrizol Corporation Powder-coating compositions containing transfer efficiency-enhancing additives
US7282590B2 (en) * 2004-02-12 2007-10-16 The Research Foundation Of State University Of New York Drug conjugates
WO2008020488A1 (fr) * 2006-08-14 2008-02-21 The Yokohama Rubber Co., Ltd. Composé de sel d'amine de disulfure carboxylé, procédé servant à le produire, composition de caoutchouc contenant le composé et pneumatique en faisant usage dans le caoutchouc de revêtement de ceinture et/ou le bandage de rebord de ceinture
EP2053085B1 (en) * 2006-08-14 2013-05-22 The Yokohama Rubber Co., Ltd. Rubber composition for a tire
WO2008023616A1 (fr) * 2006-08-23 2008-02-28 The Yokohama Rubber Co., Ltd. Composition de caoutchouc
DE102008048891A1 (de) * 2007-09-28 2009-04-09 The Yokohama Rubber Co., Ltd. Konpoundierungsmittel für die Kautschukvulkanisation, enthaltend Aminoalkoholsalzverbindung von Carbonsäuregruppenenthaltendem Disulfid, und Verfahren zur Herstellung desselben, sowie selbiges enthaltende Kautschukzusammensetzung
JP4297959B2 (ja) * 2007-09-28 2009-07-15 横浜ゴム株式会社 カルボン酸基含有ジスルフィドのアミノアルコール塩化合物を含むゴム加硫用配合剤及びその製造方法並びにそれを含むゴム組成物
US8580886B2 (en) 2011-09-20 2013-11-12 Dow Corning Corporation Method for the preparation and use of bis (alkoxysilylorgano)-dicarboxylates
CN104024265B (zh) 2011-12-02 2017-03-01 道康宁公司 酯官能化硅烷及其制备和用途;以及亚胺化合物作为相转移催化剂的用途

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH131255A (de) * 1927-04-23 1929-01-31 Chem Ind Basel Verfahren zur Herstellung eines neuen Azofarbstoffes.
CH131285A (de) * 1927-05-27 1929-01-31 Eder Robert Dr Prof Verfahren zur Darstellung eines Polysulfidesters einer aromatischen Carbonsäure.
CH131289A (de) * 1927-05-27 1929-01-31 Eder Robert Dr Prof Verfahren zur Darstellung eines Polysulfidesters einer aromatischen Carbonsäure.
US1769423A (en) * 1927-05-27 1930-07-01 Chem Ind Basel Sulfides of aromatic compounds and process of making same
US2064395A (en) * 1933-03-21 1936-12-15 Ig Farbenindustrie Ag Organic disulphides
US2614120A (en) * 1950-02-10 1952-10-14 Eastman Kodak Co beta-hydroxyalkyl diesters of dicarboxydiphenyl sulfones and method of preparing same
US2552269A (en) * 1950-03-25 1951-05-08 Monsanto Chemicals Plasticized polyvinyl halides
DE3201904A1 (de) * 1982-01-22 1983-08-04 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Verfahren zur herstellung von o,o'-dithiodibenzoesaeuren
US4480021A (en) * 1983-03-10 1984-10-30 Xerox Corporation Toner compositions containing negative charge enhancing additives
CA1255329A (en) * 1984-10-19 1989-06-06 Mitsuru Tanemura Benzoic acid derivatives
US4749638A (en) * 1985-05-08 1988-06-07 Kao Corporation Electrophotographic toner composition
DE3524095A1 (de) * 1985-07-05 1987-01-08 Cassella Ag Verfahren zur herstellung von diarylsulfiden
DE3723079A1 (de) * 1987-07-11 1989-01-19 Cassella Ag Verfahren zur herstellung von 2-arylthiobenzoesaeuren

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
J.Phys.Chem.(1990),94(4),p.1581−1586

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