JPH04364175A

JPH04364175A - 含窒素６員環化合物の製造方法

Info

Publication number: JPH04364175A
Application number: JP3017834A
Authority: JP
Inventors: Toru Kubota; 徹久保田; Atsushi Asatake; 敦朝武
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1991-02-08
Filing date: 1991-02-08
Publication date: 1992-12-16

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はカルボン酸エステル誘導
体を用いた含窒素６員環化合物の製造方法に関する。

【０００２】

【発明の背景】含窒素６員環化合物は酸化防止剤等に用
いられ、又、種々の有用な化合物を製造するための中間
体として用いられている。

【０００３】含窒素６員環化合物の一般的な合成方法と
して、従来、下記のａ，ｂ等の方法が知られていた。

【０００４】

【化２】

【０００５】しかしながら、上記の合成方法ａ及びｂは
、ジビニル体及びハロゲン化物の入手が困難であり、低
コストで製造する方法としては好ましくない。又、ジビ
ニル体及びハロゲン化物は毒性が非常に高く、作業の安
全上からも好ましくない。

【０００６】

【発明の目的】従って本発明の目的は、作業安全性に問
題がなく、純度の高い含窒素６員環化合物を高収率で得
ることができる含窒素６員環化合物の製造方法を提供す
ることにある。

【０００７】

【発明の構成】本発明の上記目的は以下によって達成さ
れた。

【０００８】下記一般式（１）で表されるカルボン酸エ
ステル誘導体と下記一般式（２）で表される化合物とを
反応させることを特徴とする下記一般式（３）で表され
る含窒素６員環化合物の製造方法。

【０００９】

【化３】

【００１０】式中、Ｘは−Ｎ（Ｒ１０）−，−Ｓ−，−
ＳＯ−又はＳＯ２−を表す。Ｒ１はアルキル基又はアリ
ール基を表し、Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，
Ｒ８及びＲ９は各々、水素原子、アルキル基又はアリー
ル基を表す。Ｒ１０及びＲ１１は各々、アルキル基又は
アリール基を表す。

【００１１】以下、本発明を詳細に説明する。

【００１２】一般式（１）〜（３）において、Ｒ１〜Ｒ
１１で表されるアルキル基としては、炭素数１〜２４の
直鎖又は分岐のアルキル基（例えばメチル、エチル、ｉ
−プロピル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、ドデシ
ル、ｔ−オクチル、ベンジル等）が好ましい。

【００１３】Ｒ１〜Ｒ１１で表されるアリール基として
は、例えばフェニル基、ナフチル基が挙げられる。

【００１４】Ｒ１〜Ｒ１１で表されるこれら各基は、更
に置換基を有するものも含み、置換基としては、アルキ
ル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリール基、ア
シルアミノ基、スルホンアミド基、アリールオキシ基、
アルキルチオ基、カルバモイル基、スルファモイル基、
アルキルスルホニル基、ニトロ基、シアノ基、アリール
スルホニル基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アミノ
基、アリールアミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシ
カルボニル基、アシル基、アシルオキシ基等が挙げられ
る。

【００１５】本発明の一般式（１）で表されるカルボン
酸エステル誘導体は、例えば下記一般式（４）で表され
る酸ハライド類あるいは一般式（５）で表される酸無水
物と、下記一般式（６）で表されるビス（２−ヒドロキ
シエチル）化合物類とを反応させることによって製造す
ることができる。

【００１６】

【化４】

【００１７】式中、Ｙはハロゲン原子を表す。Ｘ，Ｒ１
，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８及びＲ９
は、それぞれ前記一般式（１）におけるＸ，Ｒ１，Ｒ２
，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８及びＲ９と同義
ある。

【００１８】この場合、一般式（４）あるいは（５）で
表される化合物の使用量は、一般式（６）で表される化
合物１モル当たり２〜１０モルの範囲である。

【００１９】反応には、塩基を使用してもよい。使用さ
れる塩基には特に限定はないが、例えばアルカリ金属の
炭酸塩、アルカリ金属の酢酸塩、アルカリ金属の重炭酸
塩、アミン類（例えばトリエチルアミン、ジメチルアニ
リン、ピリジン）を使用することができる。使用量は一
般式（４）あるいは（５）で表される化合物１モル当た
り０．５〜１０モルの範囲であり、好ましくは１〜４モ
ルの範囲である。反応温度は０〜２００℃の範囲であり
、好ましくは０〜１５０℃の範囲である。

【００２０】反応溶媒は使用しても、使用しなくてもよ
い。使用し得る反応溶媒としては、例えばエーテル類（
例えばジエチルエーテル、ジ−ｉ−プロピルエーテル）
、ハロゲン化炭化水素類（例えばクロロホルム、四塩化
炭素）、芳香族炭化水素類（例えばトルエン、キシレン
）、脂肪族炭化水素類（例えばヘキサン、ヘプタン）、
エステル類（例えば酢酸エチル）、アルコール類（例え
ばメタノール、エタノール、ｎ−ブタノール）、水及び
これらの混合溶媒を挙げることができる。

【００２１】一般式（１）において、Ｒ１がメチル基、
フェニル基、４−メチルフェニル基であるものが、又、
Ｘが−ＳＯ２−であるものが合成原料として好ましい。又、一般式（２）において、Ｒ１１がフェニル基である
ものが合成原料として好ましい。

【００２２】本発明の一般式（３）で表される含窒素６
員環化合物を製造する際には、通常、溶媒が用いられる
。反応溶媒としては特に限定はないが、例えば、エーテ
ル類（例えばジエチルエーテル、ジ−ｉ−プロピルエー
テル）、ハロゲン化炭化水素類（例えばクロロホルム、
四塩化炭素）、芳香族炭化水素類（例えばトルエン、キ
シレン）、脂肪族炭化水素類（例えばヘプタン、デカン
）、エステル類（例えば酢酸エチル）、アルコール類（
例えばメタノール、エタノール、ｎ−ブタノール）、水
及びこれらの混合溶媒を挙げることができる。反応温度
は４０〜２００℃であり、好ましくは６０〜１５０℃で
ある。

【００２３】本発明の一般式（３）で表される含窒素６
員環化合物を製造する際に、塩基を使用することが好ま
しい。

【００２４】使用される塩基には特に限定はないが、例
えば苛性アルカリ金属、アルカリ金属の炭酸塩、アルカ
リ金属の酢酸塩、アルカリ金属の重炭酸塩及びそれらの
水溶液、アミン類（例えばトリエチルアミン、ジメチル
アニリン、ピリジン）を使用することができる。使用量
は、一般式（４）、（５）で表される化合物１モル当た
り０．１〜１０モルの範囲であり、好ましくは０．５〜
８モルの範囲である。

【００２５】本発明の一般式（３）で表される含窒素６
員環化合物は、酸化防止剤として有用であり、又、各種
化合物の合成に用いる中間体として有用である。

【００２６】次に一般式（１）で表される化合物の代表
的具体例を示すが、これらに限定されるものではない。

【００２７】

【化５】

【００２８】

【化６】

【００２９】次に、一般式（２）で表される化合物の代
表的具体例を示すが、これらに限定されるものではない
。

【００３０】

【化７】

【００３１】

【化８】

【００３２】次に、一般式（３）で表される含窒素６員
環化合物の代表的具体例を示すが、これらに限定される
ものではない。

【００３３】

【化９】

【００３４】

【化１０】

【００３５】

【実施例】以下に本発明の具体的実施例を記載するが、
本発明はこれらに限定されない。比較例（例示化合物３−５の合成）ｎ−ブタノール５０ｍｌ中にジビニルスルホン４．７ｇ
と化合物（２−５）３．９ｇを加え、５時間加熱還流し
た。反応後、撹拌しながら室温まで冷却した。析出する
結晶を濾取し、冷メタノールで結晶を洗浄した。

【００３６】収量５．６ｇ、収率６２．０％、液体クロ
マトグラフィーにより純度を求めたところ９２．７％で
あった。

【００３７】実施例１（例示化合物１−１の合成）ビス
（２−ヒドロキシエチル）スルホン１５．４ｇを酢酸エ
チル８０ｍｌ中で撹拌懸濁し、ピリジン１９．０ｇを加
えた。懸濁液中に室温でアセチルクロライド１７．３ｇ
を滴下し、１時間撹拌後、更に５０℃で１時間撹拌した
。反応液を水洗後、酢酸エチルを減圧溜去し、油状の化
合物（１−１）２２．６ｇを得た。構造は、ＮＭＲ及び
マススペクトルにより確認した。

【００３８】例示化合物１−１の１ＨＮＭＲ化学シフト
値（Ｄ２Ｏ）を図１に示す。

【００３９】 δ：２．１２ｐｐｍ（６Ｈ，−ＣＨ３），３．６８ｐｐ
ｍ（４Ｈ，−ＣＨ２−），４．５７ｐｐｍ（４Ｈ，−Ｃ
Ｈ２−）実施例２（例示化合物３−５の合成）ｎ−ブタノール５０ｍｌ中に化合物（１−１）９．５ｇ
、化合物（２−５）３．９ｇ、炭酸カリウム５．５ｇ及
び水５０ｍｌを加え、２時間加熱還流した。反応後、撹
拌しながら室温まで冷却した。析出する結晶を濾取し、
冷メタノールと水で結晶を洗浄し、目的物（３−５）７
．９ｇを得た。（収率８７％、融点１５６〜１５７℃）
液体クロマトグラフィーにより純度を求めたところ、９
９．２％の高純度のものであった。化合物の同定は、Ｎ
ＭＲスペクトル、マススペクトルで行い、目的の化合物
であることを確認した。

【００４０】例示化合物３−５の１ＨＮＭＲ化学シフト
値（ＣＤ３ＯＤ）を図２に示す。

【００４１】 δ：３．１３ｐｐｍ（４Ｈ，−ＣＨ２−），３．５９ｐ
ｐｍ（４Ｈ，−ＣＨ２−），６．７２ｐｐｍ（２Ｈ，ｐ
ｈｅｎｙｌ），６．９０ｐｐｍ（２Ｈ，ｐｈｅｎｙｌ）一般式（３）で示される他の化合物についても、同様の
合成法により合成することができる。

【００４２】

【発明の効果】本発明により、作業安全性に問題がなく
、純度の高い含窒素６員環化合物を高収率で得られる含
窒素６員環化合物の製造方法が提供できた。

【図面の簡単な説明】図１は本発明の例示化合物１−１の、又、図２は例示化
合物３−５の１ＨＮＭＲスペクトルである。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】　　下記一般式（１）で表されるカルボン
酸エステル誘導体と下記一般式（２）で表される化合物
とを反応させることを特徴とする下記一般式（３）で表
される含窒素６員環化合物の製造方法。【化１】〔式中、Ｘは−Ｎ（Ｒ１０）−，−Ｓ−，−ＳＯ−又は
ＳＯ２−を表す。Ｒ１はアルキル基又はアリール基を表
し、Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８及びＲ
９は各々、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す
。Ｒ１０及びＲ１１は各々、アルキル基又はアリール基
を表す。〕