JP3319314B2 - チタン酸バリウム系半導体磁器組成物 - Google Patents

チタン酸バリウム系半導体磁器組成物

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、チタン酸バリウム
系半導体磁器組成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、チタン酸バリウム系半導体磁
器組成物としては、次のようなものが知られている。特
公昭62−43522号公報には、BaTiO3を主体
とするもの、あるいはBaの一部をPbに置換したチタ
ン酸バリウム系半導体磁器に、破壊電圧の増加を目的と
してマグネシウムを上記重量を100として0.000
35〜0.0072重量%含有させることが開示されて
いる。
【0003】また、特公昭63−28324号公報に
は、主成分がBaTiO3;30〜95モル%、CaT
iO3;3〜25モル%、SrTiO3;1〜30モル
%、PbTiO3;1〜50モル%であるチタン酸バリ
ウム系半導体磁器組成物であって、Baの一部をCa、
Sr、Pbで同時に置換することにより、従来のものに
比べて耐電圧特性、耐突入電流特性にすぐれていること
が開示されている。
【0004】また、特公昭62−58642号公報に
は、チタン酸バリウムにおけるBaの1〜50モル%を
Pbで、0.1〜1.0モル%をMgで同時に置換する
ことにより、突入電流の大きくなく、かつ断続試験等の
経時変化の小さい正の抵抗温度特性を有する半導体磁器
組成物が開示されている。
【0005】また、特開平2−48464号公報には、
チタン酸バリウム系半導体磁器においてBaTiO3
Baの一部をMg;0.001〜0.1at%とCa;
0.01〜2.0at%で同時置換したもの、または、
Baの一部をPb;0.01〜5.0at%とCa;
0.01〜2.0at%で同時置換したもの、あるいは
Baの一部をMg;0.001〜0.1at%とPb;
0.01〜5.0at%とCa;0.01〜2.0at
%で同時置換したものにより、使用環境の温度範囲内に
おいて温度変化に基づく抵抗の変化を抑えることがで
き、かつ常温比抵抗値を低く抑えることが開示されてい
る。
【0006】さらに、特開平2−48465号公報に
は、チタン酸バリウム系半導体磁器においてBaTiO
3のBaの一部をMg;0.001〜0.1at%で置
換したもの、または、Baの一部をPb;0.01〜
5.0at%で置換したもの、あるいはBaの一部をM
g;0.001〜0.1at%とPb;0.01〜5.
0at%で同時置換したものにより、使用環境の温度範
囲内において温度変化に基づく抵抗の変化を抑えること
が開示されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】近年、電子機器の小型
高密度化にともない、その電子機器に使用されるチタン
酸バリウム系半導体磁器組成物からなる正特性サーミス
タ素子においても小型化が進められている。しかしなが
ら、正特性サーミスタ素子を小型化すると耐突入電流特
性(フラッシュ耐電圧特性)が低下することが知られて
おり、従来の正特性サーミスタ素子ではさらなる小型化
を要求する市場のニーズに充分対応できていなかった。
【0008】本発明の目的は、耐突入電流特性を向上さ
せることにより、正特性サーミスタ素子の小型化が可能
なチタン酸バリウム系半導体磁器組成物を提供すること
にある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記のような
目的に鑑みてなされたものである。本発明のチタン酸バ
リウム系半導体磁器組成物は、チタン酸バリウムまたは
その固溶体からなる主成分と半導体化剤と添加剤とが添
加含有されているチタン酸バリウム系半導体磁器組成物
において、前記主成分は、BaTiO3のうちBaの一
部を1〜25mol%のCa、1〜30mol%のS
r、1〜50mol%のPbで置換してなり、前記主成
分100mol%に対して、前記半導体化剤は元素に換
算して0.2〜1.0mol%添加してなり、前記添加
剤は酸化マンガンをMnに換算して0.01〜0.10
mol%、シリカをSiO2に換算して0.5〜5mo
l%、酸化マグネシウムをMgに換算して0.0028
〜0.093mol%、それぞれ添加含有してなること
に特徴がある。
【0010】また、本発明のチタン酸バリウム系半導体
磁器組成物においては、前記半導体化剤は、Y、La、
Ce、Nb、Bi、Sb、W、Th、Ta、Dy、G
d、Nd、Smからなる元素のうち少なくとも1種類で
あることが好ましい。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。本発明のチタン酸バリウム系半導体磁器組
成物は、チタン酸バリウムまたはその固溶体からなる主
成分として、BaTiO3のうちBaの一部をCa、S
r、Pbを上述した配合比(モル%)で置換したものを
含有するとともに、半導体化剤および添加剤が添加含有
されており、添加剤としては酸化マンガン、シリカ、酸
化マグネシウムを上述した配合比(モル%)でそれぞれ
添加含有したものである。このような組成を有すること
によって、耐突入電流特性を向上させることが可能であ
り、よって、正特性サーミスタ素子の小型化が可能とな
る。
【0012】なぜなら、Baの一部をPb、Ca、Sr
で同時置換し、かつ、Mgを添加することで、従来のよ
うに各成分を単独、又は2種置換し、かつ、Mgを添加
した場合に比べて、飛躍的に耐突入電流特性を向上させ
ることが可能だからである。
【0013】なお、上記配合比は全体を100mol%
とする場合には、主成分は100mol%から半導体化
剤および添加剤の合計mol%を差し引いた値になる。
【0014】また、本発明で添加される半導体化剤は、
必ずしも限定されるものではなく、種々の半導体化剤が
使用できる。具体例としては、Y、La、Ce、Nb、
Bi、Sb、W、Th、Ta、Dy、Gd、Nd、Sm
などの元素が挙げられる。
【0015】次に、本発明を実施例に基づき、さらに具
体的に説明するが、本発明はかかる実施例のみに限定さ
れるものではない。
【0016】
【実施例】原料として、主成分であるBaCO3、Ca
CO3、Pb34、SrCO3、TiO2、半導体化剤で
あるY23、La23、Er23、Nd23、添加剤で
あるMnCO3、SiO2、MgCO3などを準備し、こ
れら各原料を表1〜表4に示す比率の半導体磁器組成物
が得られるように配合し、さらに湿式混合した。これを
脱水乾燥し、1100〜1200℃で2時間仮焼した。
次いで仮焼原料を粉砕し、さらにバインダを加えて湿式
混合して造粒し、成形圧力1000kg/cm2で円板
状に成形した。引き続き成形円板を1300〜1400
℃で焼成して、大きさが直径11.5mm、厚み2.2
mmの円板状の半導体磁器を得た。
【0017】得られた半導体磁器について、両主平面に
無電解ニッケルメッキ電極(第1層)と銀焼き付け電極
(第2層)とからなるNi−Ag層構造の電極を形成し
て、これを試料とした。
【0018】これらの試料について、常温(25℃)に
おける抵抗値、耐電圧特性、キュリー温度、耐突入電流
特性(フラッシュ耐電圧特性)を測定し、その値を表5
〜表8に示した。
【0019】上述の各種特性のうち、耐電圧特性は試料
に印加する電圧を徐々に上昇させてゆき、試料の破壊が
生じる手前の最高印加電圧値を示したものである。また
耐突入電流特性は試料に交流突入電圧を印加し、半導体
磁器が破壊しなかった上限の電圧値(フラッシュ耐電
圧)を示したものである。なお、表中の試料番号に*を
付したものは本発明の範囲外のものである。
【0020】
【表1】
【0021】
【表2】
【0022】
【表3】
【0023】
【表4】
【0024】
【表5】
【0025】
【表6】
【0026】
【表7】
【0027】
【表8】
【0028】ここで、本発明の組成範囲の数値限定理由
について説明する。チタン酸バリウムまたはその固溶体
からなる主成分において、BaTiO3のうちBaの一
部を1〜25mol%のCa、1〜30mol%のS
r、1〜50mol%のPbの範囲に限定したのは次の
理由による。
【0029】つまり、Caが1mol%未満の場合に
は、試料番号1、試料番号2、試料番号3に示すよう
に、その添加効果が充分でなく、耐突入電流特性が耐電
圧特性よりも低下してしまうからである。
【0030】一方、Caが25mol%を越える場合に
は、試料番号20、試料番号21に示すように、抵抗値
が大幅に増加し、耐突入電流特性が耐電圧特性よりも低
下してしまうからである。
【0031】また、Srが1mol%未満の場合には、
試料番号22、試料番号23に示すように、耐突入電流
特性が耐電圧特性よりも低下してしまうからである。な
お、試料番号22、試料番号23はいずれもSrを添加
していない例であるが、Srを1mol%未満添加した
場合もその添加効果が充分でなく、耐突入電流特性が耐
電圧特性よりも低下してしまうことを確認している。
【0032】一方、Srが30mol%を越える場合に
は、試料番号38、試料番号39、試料番号40に示す
ように、抵抗値が大幅に増加し、耐突入電流特性が耐電
圧特性よりも低下してしまうからである。
【0033】また、Pbが1mol%未満の場合には、
試料番号41、試料番号42に示すように、耐突入電流
特性が耐電圧特性よりも低下してしまうからである。な
お、試料番号41、試料番号42はいずれもPbを添加
していない例であるが、Pbを1mol%未満添加した
場合もその添加効果が充分でなく、耐突入電流特性が耐
電圧特性よりも低下してしまうことを確認している。
【0034】一方、Pbが50mol%を越える場合に
は、試料番号58、試料番号59、試料番号60に示す
ように、半導体化が困難であるからである。
【0035】次に、上記主成分100mol%に対して
半導体化剤を0.2〜1.0mol%の範囲に限定した
のは次の理由による。
【0036】つまり、添加量が0.2mol%未満の場
合には、試料番号61、試料番号62、試料番号78、
試料番号96、試料番号97に示すように、その添加効
果が充分でなく、半導体化せずに抵抗値が極端に高くな
ってしまうからである。
【0037】一方、添加量が1.0mol%を越える場
合には、試料番号76、試料番号77、試料番号94、
試料番号95、試料番号106、試料番号107に示す
ように、抵抗値が極端に高くなってしまい、耐電圧特
性、耐突入電流特性の劣化をもたらすためである。
【0038】また次に、上記主成分100mol%に対
して添加剤としてマンガンをMnに換算して0.01〜
0.10mol%の範囲に限定したのは次の理由によ
る。
【0039】つまり、添加量が0.01mol%未満の
場合には、試料番号112、試料番号113、試料番号
114に示すように、その添加効果が充分でなく、抵抗
温度変化率が小さく実用性にかけるためである。
【0040】一方、添加量が0.10mol%を越える
場合には、試料番号124〜試料番号140に示すよう
に、抵抗値が大幅に増加してしまい実用性にかけるため
である。
【0041】また次に、上記主成分100mol%に対
して添加剤としてシリカをSiO2に換算して0.5〜
5mol%の範囲に限定したのは次の理由による。
【0042】つまり、添加量が0.5mol%未満の場
合には、試料番号126、試料番号127、試料番号1
28に示すように、その添加効果が充分でなく、半導体
化剤のわずかな変動に対する比抵抗変動を充分に抑制で
きないからである。
【0043】一方、添加量が5mol%を越える場合に
は、試料番号139、試料番号140に示すように、抵
抗値が大幅に増加してしまい比抵抗変動を充分に抑制で
きないからである。
【0044】さらに次に、上記主成分100mol%に
対して添加剤として酸化マグネシウムをMgに換算して
0.0028〜0.093mol%の範囲に限定したの
は次の理由による。
【0045】つまり、添加量が0.0028mol%未
満の場合には、試料番号1、4、11、12、17、2
2、24、29、32、34、35、38、41、4
3、56、58、61、63、67、70、71、7
6、79、82、83、90、94、96、98、10
2、106、108、112、115、119、12
0、124、126、129、133、134、139
に示すように、添加量が微少量であるために特性改善効
果が見られないからである。
【0046】一方、添加量が0.093mol%を越え
る場合には、試料番号7、10、15、19、31、5
4、66、75、81、87、88、89、93、10
1、105、111、118、123、132、138
に示すように、過剰添加により抵抗値が大幅に増加して
しまい特性改善効果が見られないからである。
【0047】ここで、表9には、参考例として特公昭6
2−43522号公報の実施例3に基づく試料を用意
し、上記と同様の方法でフラッシュ耐電圧特性を測定し
た。また、キュリー点(Tc)、比抵抗(ρ)も併せて
示した。なお、各組成の添加量はmol%として表示し
ている。
【0048】
【表9】
【0049】これら参考例の試料によれば、主成分がB
a−Pb系のチタン酸バリウム系半導体磁器組成物で
は、マグネシウムの添加量をMgに換算して0.028
〜0.056mol%としても充分なフラッシュ耐電圧
特性が得られないことが分かる。
【0050】また、表10には、表9と同程度のρ、T
cとなるBa−Pb−Sr−Ca系の試料を用意し、上
記と同様の方法でフラッシュ耐電圧特性を測定した。
【0051】
【表10】
【0052】これらの試料によれば、Ba−Pb−Sr
−Ca系とすることでフラッシュ耐電圧特性が向上し、
かつ、Mgを本発明の範囲内で添加することで更にフラ
ッシュ耐電圧が向上することが分かる。
【0053】また、表11には、主成分としてBaのみ
の試料(試料番号216、217)、Ba−Sr系の試
料(試料番号218、219)、Ba−Ca系の試料
(試料番号220、221)、Ba−Pb−Sr系の試
料(試料番号222、223)、Ba−Pb−Ca系の
試料(試料番号224、225)、Ba−Sr−Ca系
の試料(試料番号226、227)、Ba−Pb系の試
料(試料番号228、229)、Ba−Pb−Sr−C
a系の試料(試料番号230、231)を用意し、上記
と同様の方法でフラッシュ耐電圧特性を測定した。
【0054】
【表11】
【0055】これらの試料によれば、主成分がBa−P
b−Sr−Ca系のチタン酸バリウム系半導体磁器組成
物において、マグネシウムの添加量をMgに換算して
0.028mol%とすると、良好なフラッシュ耐電圧
特性が得られることが分かる。
【0056】ここで、表1〜表4から任意に選択した試
料を用いてNi−Ag電極を形成した円板型素子を作製
し、電流減衰特性(Pmax)、安定電流特性を測定し、
その値を表12に示した。
【0057】なお、ここで電流減衰特性(Pmax)と
は、図1に示すように、任意のピーク値I1と次の隣接
するピーク値I2との変化量I1−I2を包絡線変化量P
と定義したときのPの最大値であり、安定電流特性と
は、測定し始めてから3分後に回路に流れている電流値
である。
【0058】
【表12】
【0059】表12に示されるように、主成分、半導体
化剤、およびマグネシウム以外の添加物を上述した範囲
内に含有し、かつ、マグネシウムをMgに換算して0.
0028〜0.093mol%の範囲内で添加含有する
ものは、電流減衰特性(Pmax)および安定電流特性に
おいて優れた特性を示すことが分かる。
【0060】
【発明の効果】本発明のチタン酸バリウム系半導体磁器
組成物を用いれば、耐突入電流特性(フラッシュ耐電圧
特性)を向上させることにより、サーミスタ素子のより
一層の小型化が可能となる。
【0061】さらに、電流減衰特性および安定電流特性
においても優れた特性が得られるので、電気的信頼性を
より一層向上させることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】正特性サーミスタ素子における測定時間と電流
値との関係を示すグラフ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭57−157502(JP,A) 特開 昭58−178504(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C04B 35/42 - 35/50 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 チタン酸バリウムまたはその固溶体から
    なる主成分と半導体化剤と添加剤とが添加含有されてい
    るチタン酸バリウム系半導体磁器組成物において、 前記主成分は、BaTiO3のうちBaの一部を1〜2
    5mol%のCa、1〜30mol%のSr、1〜50
    mol%のPbで置換してなり、 前記主成分100mol%に対して、 前記半導体化剤は元素に換算して0.2〜1.0mol
    %添加してなり、 前記添加剤は酸化マンガンをMnに換算して0.01〜
    0.10mol%、シリカをSiO2に換算して0.5
    〜5mol%、酸化マグネシウムをMgに換算して0.
    0028〜0.093mol%、それぞれ添加含有して
    なることを特徴とするチタン酸バリウム系半導体磁器組
    成物。
  2. 【請求項2】 前記半導体化剤は、Y、La、Ce、N
    b、Bi、Sb、W、Th、Ta、Dy、Gd、Nd、
    Smからなる元素のうち少なくとも1種類であることを
    特徴とする請求項1に記載のチタン酸バリウム系半導体
    磁器組成物。
JP00493397A 1996-11-20 1997-01-14 チタン酸バリウム系半導体磁器組成物 Expired - Fee Related JP3319314B2 (ja)

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