JP3316078B2 - レジスト剥離液 - Google Patents
レジスト剥離液Info
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Description
フィルム剥離液における錫及び錫合金の腐食抑制に関す
るものである。
造工程において錫及び錫合金で銅基材上にパターンめっ
きを行うためのレジストフィルムは溶剤可溶型とアルカ
リ可溶型に分かれ、レジストフィルム剥離は浸漬あるい
はスプレー方式で行われるが、溶剤への規制強化ならび
に作業性から、スプレー方式のアルカリ可溶型レジスト
フィルムの採用が増加している。アルカリ可溶型レジス
トフィルムの剥離液は一般に10〜60g/lの水酸化
ナトリウム溶液であるため、レジストフィルム剥離と同
時に錫及び錫合金を腐食し、次工程でのパターン形成の
不良要因となり易く、特にスプレー方式でのレジストフ
ィルム剥離では錫及び錫合金の腐食が促進されパターン
欠線等の重大な不良の引き金となっている。
1589“錫鉛合金のエッチング抑制剤”に3,5−ジ
メチルピラゾールから成る抑制剤と、特開昭63−18
3445“水溶性レジストフィルム用剥離剤”に還元性
物質、アリールスルホン酸ナトリウム、イオウ化合物か
ら成る抑制剤が記載されているが、前者は一般的なスプ
レー方式でのレジストフィルム剥離では錫及び錫合金の
腐蝕抑制効果に乏しく、後者は、スプレー方式でも錫及
び錫合金の腐蝕抑制効果は認められるが、持続性に乏し
く補給管理が困難で、分解生成物のCOD値も非常に高
く実用的ではない。
を鑑みてアルカリ可溶型レジストフィルム剥離に悪影響
を与えず、スプレー方式でも錫及び錫合金の腐食抑制効
果が高く、かつ持続性に優れた添加剤を見出すべく、種
々研究を重ね持続性に富んだ錫及び錫合金の腐食抑制剤
を完成するに至った。すなわち本発明は、アルカリ金属
水酸化物の水溶液に、酸素を異原子とする複素環式化合
物及びスルファミン酸又はその塩より成る錫及び錫合金
の腐食抑制剤を含有したことを特徴とするレジスト剥離
液である。本発明はこれに更に窒素を異原子とする複素
環式化合物を更に含有することを特徴とする錫及び錫合
金の腐食抑制剤も提供する。
独又は2種類以上組合せて使用することができ、酸素を
異原子とする複素環式化合物であれば特に限定は受けな
いが、γ−ブチロラクトン、テトラヒドロフラン−2,
4−ジオン、2−ピロン、4−ピロン、フタリドなどが
好んで使用され、それら化合物の置換誘導体も好んで使
用される。(例えばγ−ブチロラクトン−β−カルボン
酸、α−アセチル−γ−ブチロラクトン、3−ヒドロキ
シ−2−ピロン、2−ピロン−6−カルボン酸、5,6
−ベンゾ−2−ピロン、3,4−ベンゾ−2−ピロン、
2−ピロン−5−カルボン酸、3−ヒドロキシ−4−ピ
ロン、3−ヒドロキシ−2−メチル−4−ピロン、5−
ヒドロキシ−2−ヒドロキシメチル−4−ピロン、4−
ピロン−2−カルボン酸、5−ヒドロキシ−4−ピロン
−2−カルボン酸、4−ピロン−2,6−ジカルボン
酸、2,3−ベンゾ−4−ピロン、2,6−ジメチル−
4−ピロン)その配合量は0.01〜40g/l、好ま
しくは0.05〜35g/lである。酸素を異原子とす
る複素環式化合物は錫及び錫合金に対して吸着型の抑制
作用を有し、0.01g/l以下では効果が不充分で、
40g/l以上では完全に効果が飽和するため好ましく
ない。
ン酸、スルファミン酸ナトリウム、スルファミン酸カリ
ウム、スルファミン酸アンモニウムなどが好んで使用さ
れる。その配合量は0.05〜40g/l、好ましくは
0.1〜35g/lである。スルファミン酸又はその塩
は、酸素を異原子とする複素環式化合物の安定化剤で、
0.05g/l以下では充分な安定化作用が得られず、
40g/l以上では作用が飽和するため好ましくない。
独又は2種類以上組合せて使用することができ、窒素を
異原子とする複素環式化合物であれば特に限定は受けな
いが、2−ピロリドン、インドール、インドリン、イン
ダゾール、イミダゾリジン、ベンゾイミダゾール、2−
ベンゾイミダゾリノン、ベンゾトリアゾール、プリンな
どが好んで使用され、それら化合物の置換誘導体も好ん
で使用される。(例えば3−ヒドロキシインドール、
2,3−インドリンジオン、2,4−イミダゾリジンジ
オン、2−イミダゾリドン、2−エチルベンゾイミダゾ
ール、2,6,8−プリントリオール、2,6−プリン
ジオール)その配合量は0.01〜40g/l、好まし
くは0.05〜35g/lである。窒素を異原子とする
複素環式化合物は、錫及び錫合金ならびに銅基材に対す
るアルカリ焼け防止剤で、腐食抑制作用もあわせ持ち、
0.01g/l以下では添加効果が不充分で、40g/
l以上では効果が飽和するため好ましくない。
ては水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムが使用できる
が、コストの面から水酸化ナトリウムが好ましい。水酸
化アルカリの溶液濃度は10〜60g/l範囲で任意に
変動できる。またスプレー時にしばしば発泡が生じる場
合があるためポリアルキレングリコールなどの消泡剤を
少量添加することができる。
カリ可溶性のレジストには大別して架橋型、重合型、変
性型、分解型がある。架橋型には公知の水溶性高分子+
重クロム酸アンモニウム系、桂皮酸エステル系、高分子
化合物+ビスアジド化合物系などがある。重合型には公
知のアクリル酸エステル系がある。変性型にはナフトキ
ノンジアジド系がある。分解型には公知のポリメタクリ
ル酸エステル、ポリ(−O−フタルアルデヒド)系があ
る。なお、アルカリ可溶なレジストであれば本発明の剥
離液は有効である。以下に本発明を例示するために実施
例を示すが本発明はこれらによってなんら制約されな
い。
40、日立化成(株)製)を用いてパターン作図した銅
基材に錫あるいは半田めっきを行った後に、水酸化ナト
リウム40g/l溶液に表1添加物を配合し温度52±
2℃、スプレー圧2.0±0.1kg/cm2 条件下で
5分間処理しレジストフィルムの剥離を行った。更に5
時間スプレー循環した後に、同条件下でレジストフィル
ムの剥離を行い、それぞれのめっき断面を電子顕微鏡に
て観察し錫及び半田めっきの腐食量を求め結果を表1に
示した。
60g/l範囲で任意に変動した場合もほぼ同様な結果
が得られた。
にてレジストフィルムの剥離を行い錫めっきの腐食量を
求め、結果を表2に示した。
式化合物と安定化剤としてのスルファミン酸またはその
塩を使用するのでアルカリ可溶型レジストフィルム剥離
に悪影響を与えず、スプレー方式でも錫及び錫合金の腐
食抑制効果が高く、かつ持続性に優れた添加剤である。
更に窒素を異原子とする複素環式化合物を使用すること
により更に効果を高めることができる。
Claims (6)
- 【請求項1】 アルカリ金属水酸化物の水溶液に、酸素
を異原子とする複素環式化合物及びスルファミン酸又は
その塩から成る錫及び錫合金の腐食抑制剤を含有するこ
とを特徴とするレジスト剥離液。 - 【請求項2】 窒素を異原子とする複素環式化合物を更
に含有することを特徴とする請求項1のレジスト剥離
液。 - 【請求項3】 酸素を異原子とする複素環式化合物はラ
クトン及びそれらの誘導体、ピロン及びそれらの誘導体
より選択される請求項1又は2に記載のレジスト剥離
液。 - 【請求項4】 窒素を異原子とする複素環式化合物は2
−ピロリドン、インドール、インドリン、インダゾー
ル、イミダゾリジン、ベンゾイミダゾール、2−ベンゾ
イミダゾリノン、ベンゾトリアゾール、プリン、及びそ
れらの誘導体から選択される請求項1又は2に記載のレ
ジスト剥離液。 - 【請求項5】 アルカリ金属水酸化物を10〜60g/
l、酸素を異原子とする複素環式化合物を0.01〜4
0g/l、スルファミン酸及びその塩を0.05〜40
g/l含有する請求項1ないし4のいずれかに記載のレ
ジスト剥離液。 - 【請求項6】 窒素を異原子とする複素環式化合物を
0.01〜40g/l含有する請求項2ないし5のいず
れかに記載のレジスト剥離液。
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KR100733197B1 (ko) * | 2001-12-18 | 2007-06-27 | 주식회사 하이닉스반도체 | 포토레지스트 세정액 조성물 |
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1994
- 1994-03-04 JP JP5830394A patent/JP3316078B2/ja not_active Expired - Fee Related
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