JP3307224B2 - コンデンサの製造方法 - Google Patents
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Description
固体電解質として用いたコンデンサの製造方法に関する
ものである。
って、そこに使用されるコンデンサも高周波領域におい
てインピーダンスが低く、小型大容量化への要求が高ま
っている。
トラシアノキノジメタン(TCNQ)塩等の有機半導体
を固体電解質として用いた固体電解コンデンサが特開昭
58−17609号公報等に開示されている。
ノマーを重合させて導電性高分子とし、これを固体電解
質とする方法も特開昭60−244017号公報等に開
示されている。
ンデンサが提案・使用されてはいるが、TCNQ塩等の
有機半導体を用いた固体電解コンデンサは、二酸化マン
ガンを用いたものに比して優れた高周波特性を示すが、
有機半導体を塗布する際の比抵抗の上昇、陽極箔への接
着性が弱いこと等が原因で、損失係数や高周波のインピ
ーダンスが理想的な特性を示すとはいえない。
る場合、周波数特性、温度特性、寿命特性等は優れては
いるが、固体電解質とする導電性高分子層を陽極弁金属
上に形成するには、複素五員環化合物溶液と酸化剤溶液
を用いた化学酸化重合法によるのが一般的である。
側表面では導電性高分子層が付着しにくく、そのため繰
り返し処理数が多くなり、誘電体被膜の化学的変化や作
業中に発生する物理的劣化等により、コンデンサ特性が
劣化するという課題がある。
は、誘電体被膜の形成工程が施された陽極の微細孔を確
実に導電性高分子で充填可能な工程と、誘電体被膜の形
成工程が施された陽極の微細孔以外の表面と陰極との間
の導電性高分子を確実に付着するように陽極表面をコロ
イド粒子で覆う工程とを有する製造方法である。
側表面とに導電性高分子層が確実に付着し、工程数を減
少させながら、良好なコンデンサ特性を実現する。
は、微細孔を有する陽極を用意する工程と、前記陽極の
表面に陽極酸化により誘電体被膜を形成する誘電体被膜
形成工程と、前記誘電体被膜形成工程後の陽極に対し
て、汎用ポリマー微粒子を含むコロイド溶液を用いてコ
ロイド粒子を吸着させる吸着工程と、誘電体被膜上に導
電性高分子部を形成する導電性高分子部形成工程とを有
し、前記導電性高分子部に陰極を形成する陰極形成工程
を行う製造方法とするものであり、陽極の微細孔と外側
表面とに導電性高分子部が確実に付着し、かつコロイド
粒子も主として陽極の外側表面に確実に付着している。
程を複素五員環化合物溶液及び/または酸化剤溶液にス
チレン,ブタジエン,ポリアクリルの少なくとも1種の
重合体もしくは共重合体の汎用ポリマー微粒子を含むコ
ロイド溶液を添加して、陽極の表面にコロイド粒子を吸
着させることが好適である。
溶液は、汎用ポリマーの微粒子が分散され、前記微粒子
の粒子径が0.01μm以上0.05μm以下で、濃度
が0.05wt%以上2wt%以下であることが好適で
ある。
分子部形成工程は、誘電体被膜形成工程後の陽極に対し
て複素五員環化合物溶液と酸化剤溶液を用いて化学酸化
重合を行って前記陽極上に導電性高分子部を形成する製
造方法とするものである。
分子部形成工程は、誘電体被膜形成工程後の陽極を、複
素五員環化合物溶液に浸漬後、酸化剤溶液に浸漬する工
程を複数回繰り返し、その後洗浄、乾燥を行うことが好
適である。
後、酸化剤溶液に浸漬する工程を2回から5回繰り返す
ことが好適である。
素五員環化合物溶液の浸漬時間が30秒から15分ま
で、酸化剤溶液の浸漬時間が2分から30分まで程度に
相当する。
面を用いて説明する。
図である。
32はコンデンサの陽極となる弁金属で、図示したよう
に表面から内部へ延在する微細孔を有し、好ましくはタ
ンタリウム又はアルミニウムにより構成される。
電体被膜で、弁金属32の微細孔を覆い、その種類に対
応して例えばTa2O5又はAl2O3により構成され、3
4は化学酸化重合によって得た導電性高分子部でありポ
リピロール、ポリチオフェン、ポリフラン又はこれらの
置換基を付加したものから構成される。
ロイド粒子であり、誘電体被膜33が形成不良の部分に
も誘電体被膜33上にも形成され、汎用ポリマー微粒子
により構成される。
ペイント膜、37は導電性高分子部34と銀ペイント膜
36との密着性を高めるカーボンペイント膜、及び38
は陰極リードである。
方法について、図1を参照しながら説明する。
ンタル焼結体である陽極弁金属32(サイズ(mm):
長さ2、高さ1.5、幅1、CV積4万)を用意する。
酸水溶液で約85℃、60分間、印加電圧33.9Vの
条件で陽極酸化して誘電体被膜33を形成した。
ルが1.00mol/l溶解した複素五員環化合物水溶
液に2分間浸漬し、続いて硫酸第2鉄水和物0.222
mol/lが溶解した酸化剤水溶液に10分間浸漬する
ことで化学酸化重合を行った後、水洗を5分、105℃
乾燥を5分行った。
32の内部に化学酸化重合による導電性高分子部34
(ポリピロール)を充填した。
コロイド溶液を、ピロールが1.00mol/l溶解し
た複素五員環化合物水溶液に対して、0.1%wt添加
して化学酸化重合を続行し、陽極32の表面にコロイド
粒子35(径0.05μm)を吸着させ、さらにその上
を陽極32全体をも含めて覆うようにポリピロールで被
覆し、導電性高分子部34を完成させた。この場合のポ
リピロールは、前述したのと同様に、化学酸化重合によ
って形成してもよいし、場合によっては他の方法で形成
してもよい。
イント膜36を通常の方法で形成し、銀ペイント膜36
上に陰極リード38を設け、エージングを印加電圧1
2.5Vで行い、樹脂で外装して固体電解コンデンサを
得た。
図2に示す。
1は陽極リード、22は陰極リードであり、陽極リード
21にプラス、陰極リード22にマイナスの電圧を各々
印加することにより、コンデンサとして動作する。
固体電解コンデンサの容量達成率(誘電体被膜33まで
形成したものの容量に対する外装後のコンデンサの容量
の120Hzでの比較による。)、損失(120Hzで
の測定による。)、漏れ電流(120Hzで測定によ
る。)、ショート不良率(定格電圧2分印加後の値。)
を示す。なお、導電性高分子部の形成工程の繰り返し数
も参考までに示してあり、PPyはポリピロール作製時
の化学酸化重合工程の繰り返し数である。
ロイド溶液を0.1%wt添加して化学酸化重合により
導電性部を形成したこと以外、実施の形態1と同様に固
体電解コンデンサを作製し、前述の(表1)に、その特
性を実施の形態1と同様に示す。
ると、実施の形態1による固体電解コンデンサは、12
0Hzでの容量達成率が95%以上、損失係数が3%以
下、ショート不良率が0、漏れ電流が0.001CV
(0.15μA)以下という優れた特性を呈するのに対
して、初めから複素五員環化合物水溶液にコロイド溶液
を添加して化学酸化重合により導電性部を形成した比較
例1の場合には、同回数の化学酸化重合工程を繰り返し
ても実施の形態1の特性は実現できない。
するにはさらに工程数を重ねる必要があると考えられる
ことから、実施の形態1では、初めから複素五員環化合
物水溶液にコロイド溶液を添加して化学酸化重合する比
較例1に対し、導電性高分子部の化学酸化重合する繰り
返し数がきわめて少なくて済むという効果も確認され
た。
t%にしたこと以外、実施の形態1と同様にして固体電
解コンデンサを作製した。
固体電解コンデンサの特性を実施の形態1と同様に示
す。
%として化学酸化重合工程数を増加したこと以外、実施
の形態2と同様に固体電解コンデンサを作製し、前述の
(表1)に、その特性を実施の形態2と同様に示す。
ると、実施の形態2の特性は、120Hzでの容量達成
率が95%以上で、損失係数が3%以下で、ショート不
良率が0で、漏れ電流が0.001CV(0.15μ
A)以下という優れたものであることが確認されたが、
比較例2で同様の特性を得るには、化学酸化重合の工程
数を18回にする必要があるもので、陽極32の表面に
コロイド粒子35を吸着させた構成にする場合には、コ
ロイド溶液の添加量は0.05wt%以上であることが
好ましいことがわかる。
したこと以外、実施の形態1と同様にして固体電解コン
デンサを作製した。
固体電解コンデンサの特性を実施の形態1と同様に示
す。
として化学酸化重合工程数を増加したこと以外、実施の
形態3と同様に固体電解コンデンサを作製し、前述の
(表1)に、その特性を実施の形態3と同様に示す。
ると、実施の形態3による固体電解コンデンサは、12
0Hzでの容量達成率が95%以上、損失係数が3%以
下、ショート不良率が0、漏れ電流が0.001CV
(0.15μA)以下という優れた特性を呈するのに対
して、比較例3の場合には、同回数の化学酸化重合工程
を繰り返しても実施の形態3の特性は実現できない。
するにはさらに工程数を重ねる必要があると考えられる
ことから、陽極32の表面にコロイド粒子35を吸着さ
せた構成にする場合には、コロイド溶液の添加量は2w
t%以下であることが好ましいことがわかる。
金属の例としてタンタリウムを示したが、これ以外にア
ルミニウム等の弁金属を使用してもよい。
ブタジエン粒子の例を示したが、これ以外にポリアクリ
ル酸等の重合体、またはこれを核とした共重合体の粒子
を使用してもよい。
μmの例を示したが、0.01〜0.05μmの粒子径
であれば同様の効果が得られるものである。
員環化合物水溶液に添加した例を示したが、これ以外に
酸化剤溶液、又は両溶液に添加して使用してもよい。
たが、これ以外にチオフェン、又はフランなどの複素五
員環化合物を使用してもよい。
なる水溶液を示したが、重合性モノマーを酸化させるも
のであれば、例えば過酸化水素水、過硫酸アンモニウ
ム、あるいはベンゼンスルホン酸鉄のような酸化剤であ
ってもよい。
高分子部34と銀ペイント膜36との密着性を高めるも
のであり、導電性高分子部34と銀ペイント膜36との
密着性が高い場合はなくてもよい。
その製造方法においては、陽極の微細孔と外側表面とに
導電性高分子層が確実に付着し、工程数を減少させなが
ら、良好なコンデンサ特性を実現することができる。
120Hzでの容量達成率が95%以上で、損失係数が
3%以下で、ショ−ト不良率が0で、漏れ電流が0.0
01CV(0.15μA)以下の優れた特性である。
な化学酸化重合処理回数も激減できるものである。
構造断面図
Claims (5)
- 【請求項1】 微細孔を有する陽極を用意する工程と、
前記陽極の表面に陽極酸化により誘電体被膜を形成する
誘電体被膜形成工程と、前記誘電体被膜形成工程後の陽
極に対して、汎用ポリマー微粒子を含むコロイド溶液を
用いてコロイド粒子を吸着させる吸着工程と、誘電体被
膜上に導電性高分子部を形成する導電性高分子部形成工
程とを有し、前記導電性高分子部に陰極を形成する陰極
形成工程を行うコンデンサの製造方法。 - 【請求項2】 吸着工程は、複素五員環化合物溶液及び
/または酸化剤溶液にスチレン,ブタジエンまたはポリ
アクリル酸の重合体もしくは共重合体の汎用ポリマー微
粒子を含むコロイド溶液を添加して、陽極の表面にコロ
イド粒子を吸着させる請求項1記載のコンデンサの製造
方法。 - 【請求項3】 コロイド溶液は、汎用ポリマーの微粒子
が分散され、前記微粒子の粒子径が0.01μm以上
0.05μm以下で、濃度が0.05wt%以上2wt
%以下である請求項2に記載のコンデンサの製造方法。 - 【請求項4】 導電性高分子部形成工程は、誘電体被膜
形成工程後の陽極に対して複素五員環化合物溶液と酸化
剤溶液を用いて化学酸化重合を行って前記陽極上に導電
性高分子部を形成する請求項1に記載のコンデンサの製
造方法。 - 【請求項5】 導電性高分子部形成工程を複素五員環化
合物溶液に浸漬後、酸化剤溶液に浸漬する工程を複数回
繰り返す請求項4に記載のコンデンサの製造方法。
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