JP3277989B2 - 記憶ディスクにおけるズレ修正方法 - Google Patents
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Description
関し、記憶ディスクを構成する各単板である円形樹脂基
板の相互のズレを修正する方法に関する。
等の普及は目ざましく、それに使用する記憶媒体、特
に、記憶ディスクの容量は益々高密度化しており、その
種類も多くなり、その適応分野も拡大してきている。そ
のため、最近は、音楽用を中心とするCDにおいて、最
近は映像用へと発展する傾向にある。
スク、光ディスク(例えば、CD−ROM)、光磁気デ
ィスク(例えば、MO)等があるが、その中でも、最
近、光ディスクの需要が増大している。DVDと呼ばれ
る光ディスクを例にとっていうと、それを構成する単板
である円形樹脂基板は、その厚みが0.6mm、外径が
120mm、その中心穴の内径が15mm、と規格され
ている。
的強度が低くまた変形もし易いため、同じ厚み(0.6
mm)の円形樹脂基板を合体し貼り合わせて合体するこ
とにより使用される。例えば、図11は、2枚の円形樹
脂基板(第1円形樹脂基板2と第2円形樹脂基板1D)
を貼り合わせて一体化した状態の光ディスクであるDV
Dを概略的に示す。
脂基板に印加されているもの、また(B)は、両方の円
形樹脂基板に印加されているものを示す。このようにし
て2枚の円形樹脂基板D1、D2が貼り合わされた光デ
ィスクDは、レーザビームを使って反射膜D11から反
射される光を図示しない光検出器等で受光して信号を再
生するものである。
て高密度の記憶ディスクの多くは、単板ではなく上記の
ような合板構造として使用されるので、製造する上で第
1円形樹脂基板D1と第2円形樹脂基板D2の貼り合わ
せが当然必要となる。
(即ち、ここでは光ディスク)にするために、次の一連
の工程が行なわれる(図12参照)。 (1)回転保持台Cに第1円形樹脂基板D1を載置する
工程 先ず、この工程(1)では、信号面に反射膜ならびに保
護膜をコーティングした第1円形樹脂基板D1が、回転
保持台C上に均等に吸着保持される。
塗布する工程 この工程(2)では、第1円形樹脂基板D1を載置した
回転保持台Cを低速回転(数十rpm)させながら、吐
出ノズルNより接着剤R、例えば紫外線硬化樹脂を静か
に吐出させる。尚、吐出する接着剤Rは、吐出ノズルN
の移動の仕方により第1円形樹脂基板D1の上に吐出さ
れる軌跡は異なるが、例えば、図のようにドーナツ状軌
跡として形成することが好ましい。
脂基板D2を載置して重ね合わせるせる工程 この工程(3)では、接着剤Rが塗布された第1円形樹
脂基板D1の上に(透明の)第2円形樹脂基板D2が載
置される。ここでの第2円形樹脂基板D2は、情報信号
が印加されてない透明なもの、又は情報信号が印加され
てたもの(この場合、反射膜を有するので、通常、透明
ではない)がある。
在する接着剤Rを延展する工程 次にこの工程(4)では、両円形樹脂基板D1、D2間
に介在する接着剤Rが満遍なく均等に行き渡るように延
展が行なわれる。この延展は、2枚の円形樹脂基板D
1、D2が合体した合体円形樹脂基板、即ち光ディスク
Dが載置された状態において、回転保持台Cを高速回転
(通常、回転数は数千rpm以上、回転時間は数秒程
度)させることで行なう。
脂基板D1、D2間に存在する余分な接着剤Rは延展と
共に外に放出され、同時に両円形樹脂基板D1、D2間
に閉じ込まれた空気(空気の泡等)は外に排出される。
ここで、延展の際に円形樹脂基板D1、D2の中心穴に
挿入した回転保持台のボス体1から接着剤を中心方向へ
吸引することが行われる。
硬化工程 この工程(5)では、第1円形樹脂基板D1と第2円形
樹脂基板D2の間の接着剤の延展が終わった後の光ディ
スクを、ゆっくり回転(ここでの回転速度は、前記延展
工程の際の回転速度より大幅に少なく、例えは、数rp
m程度)させた状態、又は回転させない状態で、紫外線
を照射させ接着剤R、例えば、紫外線硬化樹脂層を硬化
させる。
光源体ULを照射させて、効率よく硬化がなされる。
尚、硬化工程は、使用する接着剤Rの種類により異なる
もので、使用する接着剤Rの特性に合致した硬化方法が
採用されることは言うまでもない。以上のようにして貼
り合わせ工程が終了する。
板D1と第2円形樹脂基板D2との両方に情報信号が記
録されている規格のものについて言うと、記憶ディスク
から出力する場合、一方向から光線を当て信号を読み取
る方式(例えば、デュアルレイヤーDVDに使用されて
いる規格の記憶ディスク読み取り手法の場合がこれに相
当する)、及び両方向から光線を当てて読み取る方式
(シングルレイヤー,ダブルサイディッド)の2通りの
方式がある。
板D1と第2円形樹脂基板D2と間にズレがあり、両者
の中心穴が同心化していないと印加された情報の正確な
読み取りはできない。図10に2枚の円形樹脂基板にズ
レが生じた状態の場合を示すが、このようにズレた状態
においては、印加された記録情報にも両者間にズレが生
じ、それがそのまま貼り合わされると、一方方向からの
読み取り方式では正確な読み取りができないのである。
おいては、欠陥商品とならないよう、例えば、両者のズ
レが、15ミクロン以内に収まることが望ましいとされ
ている。第1円形樹脂基板D1の上に第2円形樹脂基板
D2を重ね合わせる段階で既に発生する。
形樹脂基板がズレて重ね合わされた状態のまま回転保持
台上で接着剤Rの延展が行われることになる。延展工程
では、回転保持台のボス体1が、両円形樹脂基板の中心
穴に挿入されて両円形樹脂基板の概略的な位置決めが一
応なされる。しかし、ボス体1の外径と円形樹脂基板の
中心穴の径とは、円形樹脂基板の出し入れのために多少
差を設けており、ボス体1により位置決めはされるもの
の両樹脂基板間の微細なズレを修正することはできな
い。
は修正がなされずそのまま残った状態となる。延展工程
の後、硬化工程により円形樹脂基板全面の接着剤の硬化
がなされるが、このように延展工程でのズレが残ったま
まで、接着剤が硬化されると、ズレはそのまま固定して
しまって結果的に製品に残ることになる。以上のような
ことから、少なくとも硬化工程に移送される前におい
て、このような円形樹脂基板間のズレを極力排除してし
まうことが必要である。
な背景のもとで問題点の解決を図ったものである。即
ち、本発明の目的は、記憶ディスクにおける2枚の円形
樹脂基板の貼り合わせ技術において、延展された全接着
剤の硬化工程に移る前に、2枚の円形樹脂基板の中心ズ
レを修正する方法を提供することである。更なる目的
は、修正されたズレがそのまま維持でき得る方法を提供
することである。
このような課題に対して、鋭意研究を重ねた結果、延展
工程の後において、しかも硬化工程の前の段階で中心穴
の内端に半径方向に外方に押圧力を加えることにより、
上下重なった2枚の円形樹脂基板間のズレが修正される
ことを見出した。そしてこの知見により本発明を完成さ
せるに至ったものである。
2枚の円形樹脂基板からなる記憶ディスクのズレ修正方
法であって、間に接着剤を介在させた2枚の円形樹脂基
板をボス体が備わった芯出し保持台に載せる工程、前記
中心穴に挿入されたボス体を外方に押し広げて円形樹脂
基板の相互の芯出しを行う工程、及び2枚の円形樹脂基
板の間に介在する該接着剤に部分的に紫外線を照射させ
て中心付近を硬化させ仮止めする工程とを、この順序で
有し、前記芯出しを行う工程にあっては、ボス体が複数
ブロックよりなり、該各ブロックが半径方向外方に押し
広げられることにより芯出しを行うものであり、且つ芯
出しと同時にボス体から吸引を行い接着剤を中心方向に
引き込む記憶ディスクのズレ修正方法に存する。
の延展工程の後、別の位置にて行われるズレ修正方法に
存する。
された後、記憶ディスク全体に紫外線が照射されて接着
剤が硬化される記憶ディスクのズレ修正方法に存する。
の円形樹脂基板からなる記憶ディスクのズレ修正方法で
あって、間に接着剤を介在させた2枚の円形樹脂基板を
ボス体が備わった芯出し保持台に載せる工程、前記中心
穴に挿入されたボス体を外方に押し広げて円形樹脂基板
の相互の芯出しを行う工程、前記芯出しと同時に、ボス
体から吸引を行い接着剤を中心方向に引き込む工程、及
び2枚の円形樹脂基板の間に介在する該接着剤に部分的
に紫外線を照射させて中心付近を硬化させ仮止めする工
程、とをこの順序で有する記憶ディスクのズレ修正方法
に存する。
の内端に外向きの力が加わり2枚の円形樹脂基板の相互
のズレは確実に修正される。部分的に仮固定されること
により、以後、ズレが修正され同心化した状態が維持さ
れる。
は、円形樹脂基板の中心穴DHの内端をボス体により外
方に押圧することがキーポイントである。そこで、先ず
最初に外方に押圧するための芯出し保持台について述べ
る。
ものであり、(A)は平面図、また(B)は、一部断面
を含む側面図である。芯出し保持台X1は、支柱に支持
された円板状の受け部と、該受け部の中央に設けられた
中央穴21に挿入配置されているボス体1とを備える。
受け部2の中央穴21の周囲に厚肉部が設けられてお
り、円形樹脂基板D1,D2の中心部は、この厚肉部に
支持され配置される。
台23に取り付けられている。一方、受け部2の中央穴
21に挿入配置されているボス体1は、記憶ディスクD
(円形樹脂基板D1,D2)が受け部2に載置された
際、その中心穴DHに挿入される部分である。ボス体1
はシリンダーチャック15により、後述するように放射
状に拡開することができる。
は、縮小した状態を、また(B)は、拡開した状態を示
す。ボス体1は、独立した3つのL字状の各ブロック1
Aに分割されており、図のように、各ブロック1Aが半
径方向外方に移動することで、(A)から(B)の状態
に、ボス体全体が放射状に拡開することができる。
1Aを拡大して示したものである。ブロック1Aは垂直
部10Aと水平部10Bとを有し、L字形に形成されて
いる。垂直部10Aと水平部10Bには、両者を貫通す
る吸引流路12が設けられており、垂直部10Aには、
表面側から切り込みを設けることにより周囲にスリット
状の吸引溝11が形成される。
末端13は、図示しないパイプに連結されて制御可能な
負圧源に通じる。この吸引溝11が設けられている理由
は、後述するように、中心方向にも接着剤Rが十分延展
できるように、ボス体1により円形樹脂基板間の接着剤
Rを吸引して引き込むためである。そのため、吸引溝の
間隙幅は、0.5mm程度のものが採用される。
見て120度の扇形を形成しており、3つの各ブロック
1Aを組み合わせることで一つのボス体1が構成され
る。ボス体1においては、ブロック1Aの水平部の底面
14がシリンダーチャック15、詳しくは、シリンダー
チャック15の移動ジョー15Aに固定されている。移
動ジョー15Aは、シリンダーチャック15内に組み込
まれた図示しないピストンにより半径方向に移動するこ
とができる。
移動ジョー15Aを有することから、これらに各ブロッ
ク1Aが固定されることで、移動ジョー15Aの移動と
共に、各ブロックは半径方向に移動可能となる。従っ
て、ボス体1は全体として放射状に拡開することができ
る。ボス体1の各ブロック間において、間隙Wが閉じら
れた状態から間隙Wが形成された状態に、また間隙Wが
形成された状態から間隙Wが閉じられた状態に、前記シ
リンダーチャック15を使って自由に切り換えることが
できる。
15は、公知のものを適用すればよい。ボス体1はこの
ように縮小状態と拡開状態との両方の状態を作ることに
より、2枚の円形樹脂基板D1,D2のズレを解消する
ための芯出しを行うことができる。縮小状態では、ボス
体1の径は2枚の円形樹脂基板D1,D2の中心穴DH
の径より僅かに狭く(例えば、0.5mm程度狭く)設
定する。
の円形樹脂基板D1,D2の中心穴DHの径に匹敵する
大きさ(例えば15mm)に設定する。尚、ボス体1に
は上部に傾斜面Tを設けるが、このように形成すること
によって、ボス体1が上記中心穴DHに挿入し易くな
る。このような構造をした芯出し保持台を使って、2枚
の円形樹脂基板の中心穴の芯出しが可能となりズレが修
正されることになる。
正方法は、例えば、上述の芯出し保持台X1を使って行
うことが、より好適である。次ぎに、その芯出し保持台
X1を使ったズレの修正方法を述べる。ここで、図4お
よび図5は、ズレの修正原理を説明する図であり、それ
ぞれ(A)は、ボス体の拡開状態を、また(B)は円形
樹脂基板とボス体との関係を示す。
樹脂基板D2にズレが生じた状態を示す。ボス体1は、
各ブロックの1Aの半径方向外方の移動により、全体と
して放射状に押し広げられ、両円形樹脂基板D1,D2
の中心穴DHの内端を押圧する。従って、各円形樹脂基
板D1,D2は、この押圧力により芯出しが行われる。
の芯出しが行われてズレが修正された後の状態を示す。
拡開したボス体1により、両円形樹脂基板間のズレが消
失しているのが理解できよう。
状態で、後述するように、両円形樹脂基板の中心付近に
例えば紫外線が部分的に照射され仮固定がなされる。図
6は、ズレ修正方法を遂行する上での各工程を説明する
図である。また、図7は、2通りのズレ修正方法をブロ
ック図で示したものである。
する接着剤は、前の工程で、既に延展された状態となっ
ている。先ず、前工程である延展工程を終了した光ディ
スク(2枚の円形樹脂基板)は、一旦、前述した芯出し
保持台X1の真上に供給され、そのまま降下して芯出し
保持台の上に載置される〔図6(A)〕。2枚の円形樹
脂基板D1,D2が芯出し保持台に載置される際に、該
円形樹脂基板D1,D2の中心穴DHにボス体1が挿入
配置されることで、両円形樹脂基板D1,D2は、概略
的に位置決めされる。
15が起動し移動ジョー15Aが半径方向外方に移動す
ると、それと共に、ボス体1の各ブロック1Aが半径外
方向に広がる〔図6(B)〕。結果的にボス体全体は、
拡開、すなわち外方に押し広げられる。
樹脂基板D1,D2の中心穴の内端を強く押圧する。こ
の押圧力によりズレていた両円形樹脂基板D1,D2の
中心が芯出し(同心化)される。この芯出しにより両円
形樹脂基板D1,D2の相互のズレは完全に修正される
のである。
1の吸引溝11から的確な吸引が行われるとより好適で
ある。この場合、吸引は、芯出しと同時に、又は芯出し
が完了した後、速やかに行われる〔図7(A)参照〕。
この吸引は、光ディスクが芯出し保持台X1に載せられ
た後、次の仮固定工程における紫外線照射がされる前の
間に行われる。図8及び図9は、その吸引作用を示した
ものである。
了な状態(A)から吸引することで完了させた状態にす
る場合(B)であり、図9は、中心穴DHの内端までの
延展が未完了な状態(A)から吸引することで完了させ
た状態(B)にする場合である。光ディスクの種類によ
っては、その延展状態の規格を異にするため、規格に合
致するように、上記図8又は図9に示すような延展状態
が達成される。なお、吸引溝11は、両樹脂基板の厚み
より小さい幅を持っており、両円形樹脂基板D1,D2
の間にある接着剤の位置に相対することで吸引が的確に
行われる。このように吸引により、前の工程である延展
工程での延展不足を十分補完することができるのであ
る。
D1,D2の中心付近に紫外線を照射させ、結果的に仮
固定させる〔図6(C)〕。ここでの紫外線の照射は、
光ディスクに対して部分的に行われる。具体的には、紫
外線の照射は、芯出し保持台の真上に供給された紫外線
照射装置3、例えば、メタルハロイドランプ等により2
枚の円形樹脂基板D1,D2の中心付近に紫外線が照射
されることで行われる。
けられた位置より幾分広い領域に紫外線が照射されるよ
うに行われる。液止め溝の幾分外方、或いは液止め溝の
内方は、円形樹脂基板は透明になっているので、紫外線
が容易に通過して、接着剤を硬化させることができる。
そのため2枚の円形樹脂基板D1,D2の中心付近に介
在する接着剤が硬化されて、両円形樹脂基板が部分的に
仮固定される。具体的にいうと、図8(B)の場合は、
液止め溝の僅か数mm外方が硬化されて仮固定される。
また、図9(B)の場合は、液止め溝の僅か数mmから
内方が硬化されて仮固定される。このような仮固定が終
わった後、2枚の円形樹脂基板D1,D2は芯出し保持
台から取り除かれ、次の紫外線照射による2枚の円形樹
脂基板の全面硬化工程に移動される〔図6(D)〕。
て行われるが、移動の際に、両円形樹脂基板D1,D2
に多少、無理な力が加わっても、両円形樹脂基板は仮固
定されているので、再度ズレることはない。このように
仮固定された後の両円形樹脂基板は、中心がズレること
がなく、同心化された状態が維持され扱いが容易であ
る。以上、本発明を述べてきたが、本発明は実施の形態
にのみ限定されるものではなく、その本質から逸脱しな
い範囲で、他の種々の実施の形態が可能であることはい
うまでもない。
クより構成されているが、その数は限定されなく、要は
芯出しができればよい。また、ブロックを外方への押し
広げるについては、シリンダーチャック15を使用した
が、他の手段を使用してもよい。要するに、ボス体の各
ブロックを半径方向に移動することができる機能を有す
るものであればよい。また、記憶ディスクの種類も、光
ディスクを含む他の記憶ディスクにも十分適応可能であ
る。
基板の相互のズレが修正され極めて品質が良好となる。
しかも、記憶ディスクの中心穴に挿入されたボス体を使
用したものであり、装置的に複雑にならなく、コスト的
にも有利である。
は平面図、(B)は一部断面を含む側面図である。
した状態を、また(B)は、拡開した状態を示す。
ある。
る図であり、(A)はボス体の拡閉状態を、また(B)
は円形樹脂基板とボス体との関係を示す。
理図であり、(A)はボス体の拡開状態を、また(B)
は円形樹脂基板とボス体との関係を示す。
図である。
図である。
展未完了の状態、(B)は延展完了の状態を示す。
展未完了の状態、(B)は延展完了の状態を示す。
(平面図及び断面図)を示す図である。
であるDVD)を示す概略断面図である。
示す概略図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 中心穴を有する2枚の円形樹脂基板から
なる記憶ディスクのズレ修正方法であって、 間に接着剤を介在させた2枚の円形樹脂基板をボス体が
備わった芯出し保持台に載せる工程、前記中心穴に挿入
されたボス体を外方に押し広げて円形樹脂基板の相互の
芯出しを行う工程、及び2枚の円形樹脂基板の間に介在
する該接着剤に部分的に紫外線を照射させて中心付近を
硬化させ仮止めする工程とを、この順序で有し、前記芯
出しを行う工程にあっては、ボス体が複数ブロックより
なり、該各ブロックが半径方向外方に押し広げられるこ
とにより芯出しを行うものであり、且つ芯出しと同時に
ボス体から吸引を行い接着剤を中心方向に引き込むこと
を特徴とする記憶ディスクのズレ修正方法。 - 【請求項2】 請求項1記載のズレ修正方法が、接着剤
の延展工程の後、別の位置にて行われることを特徴とす
る記憶ディスクのズレ修正方法。 - 【請求項3】 請求項1記載のズレ修正方法が遂行され
た後、記憶ディスク全体に紫外線が照射されて接着剤が
硬化されることを特徴とする記憶ディスクのズレ修正方
法。 - 【請求項4】 中心穴を有する2枚の円形樹脂基板から
なる記憶ディスクのズレ修正方法であって、 間に接着剤を介在させた2枚の円形樹脂基板をボス体が
備わった芯出し保持台に載せる工程、前記中心穴に挿入
されたボス体を外方に押し広げて円形樹脂基板の相互の
芯出しを行う工程、前記芯出しと同時に、ボス体から吸
引を行い接着剤を中心方向に引き込む工程、及び2枚の
円形樹脂基板の間に介在する該接着剤に部分的に紫外線
を照射させて中心付近を硬化させ仮止めする工程、とを
この順序で有することを特徴とする記憶ディスクのズレ
修正方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21804697A JP3277989B2 (ja) | 1996-07-31 | 1997-07-29 | 記憶ディスクにおけるズレ修正方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21946796 | 1996-07-31 | ||
JP8-219467 | 1996-07-31 | ||
JP21804697A JP3277989B2 (ja) | 1996-07-31 | 1997-07-29 | 記憶ディスクにおけるズレ修正方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1097740A JPH1097740A (ja) | 1998-04-14 |
JP3277989B2 true JP3277989B2 (ja) | 2002-04-22 |
Family
ID=26522360
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21804697A Expired - Fee Related JP3277989B2 (ja) | 1996-07-31 | 1997-07-29 | 記憶ディスクにおけるズレ修正方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3277989B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040134603A1 (en) | 2002-07-18 | 2004-07-15 | Hideo Kobayashi | Method and apparatus for curing adhesive between substrates, and disc substrate bonding apparatus |
-
1997
- 1997-07-29 JP JP21804697A patent/JP3277989B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH1097740A (ja) | 1998-04-14 |
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