JP3276707B2 - 光学活性β−ヒドロキシケトンの製造法 - Google Patents
光学活性β−ヒドロキシケトンの製造法Info
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- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/30—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は次の一般式（Ｉ）、
【化５】 （式中、Ｒ1、Ｒ2は同一または異なって水素原子または
低級アルキル基を、Ｒ3は低級アルキル基、低級アルキ
ルオキシ基、フェニル基、フェニルオキシ基または低級
アルキルチオ基を示し、Ｒ4は低級アルキルオキシメチ
ル基、ベンジルオキシメチル基、低級アルキルオキシカ
ルボニル基を示す） で表される光学活性β−ヒドロキシケトンを触媒的不斉
アルドール反応により製造する方法に関する。
低級アルキル基を、Ｒ3は低級アルキル基、低級アルキ
ルオキシ基、フェニル基、フェニルオキシ基または低級
アルキルチオ基を示し、Ｒ4は低級アルキルオキシメチ
ル基、ベンジルオキシメチル基、低級アルキルオキシカ
ルボニル基を示す） で表される光学活性β−ヒドロキシケトンを触媒的不斉
アルドール反応により製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、触媒的不斉アルドール反応によ
り、光学活性β−ヒドロキシケトン（光学活性アルコー
ル）を製造する方法としては、(1) アルデヒドとシリル
エノールエーテルとを、ビナフトールのオキソチタニウ
ム錯体の存在下反応せしめて光学活性アルコールを製造
する方法［T. Mukaiyamaら、Chem. Lett.,1990年、1015
-1018頁］、(2) アルデヒドとシリルエノールエーテル
とを、酒石酸由来のほう素錯体の存在下反応せしめて光
学活性アルコールを製造する方法［K. Furutaら、Synle
tt, 1991年、439-440頁］、(3) アルデヒドとシリルエ
ノールエーテルとを、メントン由来のほう素錯体の存在
下反応せしめて光学活性アルコールを製造する方法［E.
R. Parmeeら、Tetrahedron Lett., 33巻、1729-1732
頁、1992年］、(4) アルデヒドとニトロメタンとを、ビ
ナフトールのランタノイド錯体の存在下反応せしめて光
学活性アルコールを製造する方法［H. Sakaiら、J. Am.
Chem.Soc., 114巻、4418-4420頁、1992年］が報告され
ている。しかしながら、上記の各方法では触媒活性、不
斉収率共に満足が得られるものではなかった。
り、光学活性β−ヒドロキシケトン（光学活性アルコー
ル）を製造する方法としては、(1) アルデヒドとシリル
エノールエーテルとを、ビナフトールのオキソチタニウ
ム錯体の存在下反応せしめて光学活性アルコールを製造
する方法［T. Mukaiyamaら、Chem. Lett.,1990年、1015
-1018頁］、(2) アルデヒドとシリルエノールエーテル
とを、酒石酸由来のほう素錯体の存在下反応せしめて光
学活性アルコールを製造する方法［K. Furutaら、Synle
tt, 1991年、439-440頁］、(3) アルデヒドとシリルエ
ノールエーテルとを、メントン由来のほう素錯体の存在
下反応せしめて光学活性アルコールを製造する方法［E.
R. Parmeeら、Tetrahedron Lett., 33巻、1729-1732
頁、1992年］、(4) アルデヒドとニトロメタンとを、ビ
ナフトールのランタノイド錯体の存在下反応せしめて光
学活性アルコールを製造する方法［H. Sakaiら、J. Am.
Chem.Soc., 114巻、4418-4420頁、1992年］が報告され
ている。しかしながら、上記の各方法では触媒活性、不
斉収率共に満足が得られるものではなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】それ故、上記方法によ
る光学活性体の製法の欠陥である、錯体の調製方法が煩
雑であったり、ジアステレオ選択性やエナンチオ選択性
が充分でなかったりするという欠点を改善する事が強く
求められていた。
る光学活性体の製法の欠陥である、錯体の調製方法が煩
雑であったり、ジアステレオ選択性やエナンチオ選択性
が充分でなかったりするという欠点を改善する事が強く
求められていた。
【０００４】
【課題を解決するための手段】かかる実状において、本
発明者らは、上記問題点を解決せんと鋭意研究を行った
結果、光学活性なビナフトール−チタン錯体を触媒とし
て使用し、下記式
発明者らは、上記問題点を解決せんと鋭意研究を行った
結果、光学活性なビナフトール−チタン錯体を触媒とし
て使用し、下記式
【化６】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は前記と同じものを示
し、３つのＲ'は同一または異なって低級アルキル基ま
たはフェニル基を示す） に従って反応させれば、効率よく、しかもジアステレオ
選択的かつエナンチオ選択的に光学活性β−ヒドロキシ
ケトンが得られることを見い出し、本発明を完成した。
し、３つのＲ'は同一または異なって低級アルキル基ま
たはフェニル基を示す） に従って反応させれば、効率よく、しかもジアステレオ
選択的かつエナンチオ選択的に光学活性β−ヒドロキシ
ケトンが得られることを見い出し、本発明を完成した。
【０００５】すなわち本発明は、シリルエノールエーテ
ル（II）と置換アルデヒド（III）とを、ビナフトール
−チタン錯体の存在下反応せしめて、前記光学活性β−
ヒドロキシケトン（I）を製造する方法である。
ル（II）と置換アルデヒド（III）とを、ビナフトール
−チタン錯体の存在下反応せしめて、前記光学活性β−
ヒドロキシケトン（I）を製造する方法である。
【０００６】本発明の原料であるシリルエノールエーテ
ル（II）の置換基であるＲ1およびＲ2は、同一または異
なって水素原子、低級アルキル基を示し、Ｒ3は、低級
アルキル基、低級アルキルオキシ基、フェニル基、フェ
ニルオキシ基または低級アルキルチオ基を示す。ここ
で、「低級」とは、炭素数１〜５の分枝してもよい炭素
鎖を意味する。
ル（II）の置換基であるＲ1およびＲ2は、同一または異
なって水素原子、低級アルキル基を示し、Ｒ3は、低級
アルキル基、低級アルキルオキシ基、フェニル基、フェ
ニルオキシ基または低級アルキルチオ基を示す。ここ
で、「低級」とは、炭素数１〜５の分枝してもよい炭素
鎖を意味する。
【０００７】また、シリルエノールエーテル（II）のシ
リル基（−ＳiＲ'3）としては、トリメチルシリル基、
トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、ト
リ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−ｎ−ペンチルシリル
基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシ
リル基、ジメチルイソプロピルシリル基、フェニルジメ
チルシリル基、トリフェニルシリル基等が挙げられる。
リル基（−ＳiＲ'3）としては、トリメチルシリル基、
トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、ト
リ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−ｎ−ペンチルシリル
基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシ
リル基、ジメチルイソプロピルシリル基、フェニルジメ
チルシリル基、トリフェニルシリル基等が挙げられる。
【０００８】シリル基がトリメチルシリル基である場合
について、シリルエノールエーテル（II）を具体的に例
示すれば、プロピオン酸メチル−（Ｅ）−トリメチルシ
リルエノールエーテル、プロピオン酸メチル−（Ｚ）−
トリメチルシリルエノールエーテル、プロピオン酸イソ
プロピル−（Ｅ）−トリメチルシリルエノールエーテ
ル、プロピオン酸イソプロピル−（Ｚ）−トリメチルシ
リルエノールエーテル、プロピオン酸フェニル−（Ｅ）
−トリメチルシリルエノールエーテル、プロピオン酸フ
ェニル−（Ｚ）−トリメチルシリルエノールエーテル、
イソ酪酸フェニル−トリメチルシリルエノールエーテ
ル、３−ペンタノン−（Ｅ）−トリメチルシリルエノー
ルエーテル、３−ペンタノン−（Ｚ）−トリメチルシリ
ルエノールエーテル、２−ペンタノン−トリメチルシリ
ルエノールエーテル、プロピオフェノン−（Ｅ）−トリ
メチルシリルエノールエーテル、プロピオフェノン−
（Ｚ）−トリメチルシリルエノールエーテル、チオプロ
ピオン酸ｔ−ブチル−（Ｅ）−トリメチルシリルエノー
ルエーテル、チオプロピオン酸ｔ−ブチル−（Ｚ）−ト
リメチルシリルエノールエーテル、チオプロピオン酸−
エチル−（Ｅ）−トリメチルシリルエノールエーテル、
チオプロピオン酸−エチル−（Ｚ）−トリメチルシリル
エノールエーテル、チオ酢酸Ｓ−エチル−トリメチルシ
リルエノールエーテル等が挙げられる。
について、シリルエノールエーテル（II）を具体的に例
示すれば、プロピオン酸メチル−（Ｅ）−トリメチルシ
リルエノールエーテル、プロピオン酸メチル−（Ｚ）−
トリメチルシリルエノールエーテル、プロピオン酸イソ
プロピル−（Ｅ）−トリメチルシリルエノールエーテ
ル、プロピオン酸イソプロピル−（Ｚ）−トリメチルシ
リルエノールエーテル、プロピオン酸フェニル−（Ｅ）
−トリメチルシリルエノールエーテル、プロピオン酸フ
ェニル−（Ｚ）−トリメチルシリルエノールエーテル、
イソ酪酸フェニル−トリメチルシリルエノールエーテ
ル、３−ペンタノン−（Ｅ）−トリメチルシリルエノー
ルエーテル、３−ペンタノン−（Ｚ）−トリメチルシリ
ルエノールエーテル、２−ペンタノン−トリメチルシリ
ルエノールエーテル、プロピオフェノン−（Ｅ）−トリ
メチルシリルエノールエーテル、プロピオフェノン−
（Ｚ）−トリメチルシリルエノールエーテル、チオプロ
ピオン酸ｔ−ブチル−（Ｅ）−トリメチルシリルエノー
ルエーテル、チオプロピオン酸ｔ−ブチル−（Ｚ）−ト
リメチルシリルエノールエーテル、チオプロピオン酸−
エチル−（Ｅ）−トリメチルシリルエノールエーテル、
チオプロピオン酸−エチル−（Ｚ）−トリメチルシリル
エノールエーテル、チオ酢酸Ｓ−エチル−トリメチルシ
リルエノールエーテル等が挙げられる。
【０００９】これらシリルエノールエーテル類は、対応
するケトン、エステル、チオエステルから（Silicon in
Organic Synthesis, E. W. Colvin, Butterworths(Lon
don),1981年、198-287頁）の方法およびＮ.スロウグイ
（N.Slougui）らの方法（SYNTHESIS 58頁 JANUARY 1982
年）により容易に合成できる。
するケトン、エステル、チオエステルから（Silicon in
Organic Synthesis, E. W. Colvin, Butterworths(Lon
don),1981年、198-287頁）の方法およびＮ.スロウグイ
（N.Slougui）らの方法（SYNTHESIS 58頁 JANUARY 1982
年）により容易に合成できる。
【００１０】シリルエノールエーテルの一般的合成法と
しては、まず、ジアルキルアミンをテトラヒドロフラン
に溶かし、０℃程度に冷却した後、ｎ−ブチルリチウム
のテトラヒドロフラン溶液等を滴下してリチウムジアル
キルアミド溶液を作り、ついで、これを−７８℃程度に
冷却し、これに反応させるケトン類、エステル類、チオ
エステル類を滴下し、約３０分後にシリルクロリド誘導
体を滴下してそのままの温度で十分反応させ、反応後、
生成した塩を濾過して除き、塩および容器をペンタンで
洗浄して濾液に加え、濾液中のペンタンを留去後、蒸留
し生成物としてシリルエノールエーテルを得る方法が挙
げられる。
しては、まず、ジアルキルアミンをテトラヒドロフラン
に溶かし、０℃程度に冷却した後、ｎ−ブチルリチウム
のテトラヒドロフラン溶液等を滴下してリチウムジアル
キルアミド溶液を作り、ついで、これを−７８℃程度に
冷却し、これに反応させるケトン類、エステル類、チオ
エステル類を滴下し、約３０分後にシリルクロリド誘導
体を滴下してそのままの温度で十分反応させ、反応後、
生成した塩を濾過して除き、塩および容器をペンタンで
洗浄して濾液に加え、濾液中のペンタンを留去後、蒸留
し生成物としてシリルエノールエーテルを得る方法が挙
げられる。
【００１１】また、もう一方の原料である置換アルデヒ
ド（III）のＲ4は、低級アルキル基、低級アルキルオキ
シメチル基、ベンジルオキシメチル基、低級アルキルオ
キシカルボニル基を示す。 ここで「低級」とは、前記
と同様の意味を有する。
ド（III）のＲ4は、低級アルキル基、低級アルキルオキ
シメチル基、ベンジルオキシメチル基、低級アルキルオ
キシカルボニル基を示す。 ここで「低級」とは、前記
と同様の意味を有する。
【００１２】具体的な置換アルデヒド（III）の例とし
ては、アセトアルデヒド、エタナール、プロパナール、
ブタナール、メトキシメチルアルデヒド、エトキシメチ
ルアルデヒド、プロピルオキシメチルアルデヒド、ブチ
ルオキシメチルアルデヒド、ベンジルオキシメチルアル
デヒド、グリオキシル酸メチル、グリオキシル酸エチ
ル、グリオキシル酸イソプロピル、グリオキシル酸−ｎ
−ブチル、グリオキシル酸−ｔ−ブチル等が挙げられ、
これらグリオキシル酸エステルは、例えば、Ｔ.ロス ケ
リー（T. Ross Kelly）らの方法（Synthesis, 544-545
頁、1972年）によって製造される。
ては、アセトアルデヒド、エタナール、プロパナール、
ブタナール、メトキシメチルアルデヒド、エトキシメチ
ルアルデヒド、プロピルオキシメチルアルデヒド、ブチ
ルオキシメチルアルデヒド、ベンジルオキシメチルアル
デヒド、グリオキシル酸メチル、グリオキシル酸エチ
ル、グリオキシル酸イソプロピル、グリオキシル酸−ｎ
−ブチル、グリオキシル酸−ｔ−ブチル等が挙げられ、
これらグリオキシル酸エステルは、例えば、Ｔ.ロス ケ
リー（T. Ross Kelly）らの方法（Synthesis, 544-545
頁、1972年）によって製造される。
【００１３】触媒として使用される光学活性ビナフトー
ル−チタン錯体は、次の一般式（IV）
ル−チタン錯体は、次の一般式（IV）
【化７】 （式中、Ｘは塩素原子または臭素原子を示す）で表され
る化合物である。
る化合物である。
【００１４】このビナフトール−チタン錯体（IV）は、
例えば特開平２−４０３４４号公報記載の方法によって
調製することができる。 すなわち、まず四ハロゲン化
チタン（ハロゲンは塩素または臭素）とテトライソプロ
ポキシチタンをヘキサン中で混合してジイソプロポキシ
−ジハロゲノチタンの結晶を調製し、これをトルエンに
溶解する。別に基質１ミリモルに対し０.５ｇ以上の量
の粉末のモレキュラーシブ４Ａ（市販品）を塩化メチレ
ンに加え、これに上で調製したジイソプロポキシ−ジハ
ロゲノチタンのトルエン溶液、次いでビナフトールを加
えて約１時間攪拌すればビナフトール−チタン錯体（I
V）を得ることができる。
例えば特開平２−４０３４４号公報記載の方法によって
調製することができる。 すなわち、まず四ハロゲン化
チタン（ハロゲンは塩素または臭素）とテトライソプロ
ポキシチタンをヘキサン中で混合してジイソプロポキシ
−ジハロゲノチタンの結晶を調製し、これをトルエンに
溶解する。別に基質１ミリモルに対し０.５ｇ以上の量
の粉末のモレキュラーシブ４Ａ（市販品）を塩化メチレ
ンに加え、これに上で調製したジイソプロポキシ−ジハ
ロゲノチタンのトルエン溶液、次いでビナフトールを加
えて約１時間攪拌すればビナフトール−チタン錯体（I
V）を得ることができる。
【００１５】また、ビナフトール−チタン錯体（IV）に
は、（Ｒ）−ビナフトールから合成される（Ｒ）体と、
（Ｓ）−ビナフトールから合成される（Ｓ）体が存在
し、これらは目的とする生成物の光学活性β−ヒドロキ
シケトン（I）の絶対配置に応じて使いわけることがで
きる。
は、（Ｒ）−ビナフトールから合成される（Ｒ）体と、
（Ｓ）−ビナフトールから合成される（Ｓ）体が存在
し、これらは目的とする生成物の光学活性β−ヒドロキ
シケトン（I）の絶対配置に応じて使いわけることがで
きる。
【００１６】本発明方法を実施するには、ビナフトール
−チタン錯体の有機溶媒溶液にシリルエノールエーテル
（II）および置換アルデヒド（III）を各々ほぼ等モル
加えて反応せしめる。 有機溶媒中のシリルエノールエ
ーテル（II）および置換アルデヒド（III）の濃度は０.
１〜５モル／ｌ程度である。
−チタン錯体の有機溶媒溶液にシリルエノールエーテル
（II）および置換アルデヒド（III）を各々ほぼ等モル
加えて反応せしめる。 有機溶媒中のシリルエノールエ
ーテル（II）および置換アルデヒド（III）の濃度は０.
１〜５モル／ｌ程度である。
【００１７】使用する有機溶媒としては、塩化メチレ
ン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水
素；ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素；テトラヒ
ドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン等の
非プロトン性溶媒等が挙げられる。
ン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水
素；ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素；テトラヒ
ドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン等の
非プロトン性溶媒等が挙げられる。
【００１８】触媒のビナフトール−チタン錯体（IV）は
原料（II）および（III）に対し０.０２〜１モル倍程
度、特に０.０５〜０.１モル倍程度使用するのが高い光
学収率の生成物を得る上で好ましい。
原料（II）および（III）に対し０.０２〜１モル倍程
度、特に０.０５〜０.１モル倍程度使用するのが高い光
学収率の生成物を得る上で好ましい。
【００１９】また、反応温度は−５０〜０℃程度、特に
−３０〜−１０℃程度が好ましく、反応時間は、３〜２
０時間程度が好ましい。
−３０〜−１０℃程度が好ましく、反応時間は、３〜２
０時間程度が好ましい。
【００２０】反応後、反応混合物に炭酸水素ナトリウム
水溶液等のアルカリ剤を加え、ジエチルエーテル、酢酸
エチル等の溶媒で抽出し、乾燥後溶媒を留去し、残留物
をシリカゲルカラム等のカラムクロマトグラフィーで精
製すれば、目的とする光学活性β−ヒドロキシケトン
（I）を高収率で得ることができる。
水溶液等のアルカリ剤を加え、ジエチルエーテル、酢酸
エチル等の溶媒で抽出し、乾燥後溶媒を留去し、残留物
をシリカゲルカラム等のカラムクロマトグラフィーで精
製すれば、目的とする光学活性β−ヒドロキシケトン
（I）を高収率で得ることができる。
【００２１】
【実施例】次に実施例を挙げて本発明を具体的に説明す
るが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。
るが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。
【００２２】尚、実施例中の分析は次の分析機器を用い
て行った。1 Ｈ核磁気共鳴スペクトル（以下1Ｈ−ＮＭＲと略す）： ＧＥＭＩＮＩ ３００型（300MHz）（バリアン社製）13 Ｃ核磁気共鳴スペクトル（以下13Ｃ−ＮＭＲと略
す）： ＧＥＭＩＮＩ ３００型（75MHz）（バリアン社製） 旋光度計： ＤＩＰ−３７０型（日本電子株式会社製）
て行った。1 Ｈ核磁気共鳴スペクトル（以下1Ｈ−ＮＭＲと略す）： ＧＥＭＩＮＩ ３００型（300MHz）（バリアン社製）13 Ｃ核磁気共鳴スペクトル（以下13Ｃ−ＮＭＲと略
す）： ＧＥＭＩＮＩ ３００型（75MHz）（バリアン社製） 旋光度計： ＤＩＰ−３７０型（日本電子株式会社製）
【００２３】なお、シン（Ｓｙｎ）とアンチ（Ａｎｔ
ｉ）の比は、Ｊ.キャンセイリ（J.Canceill）らの方法
（Bull.Soc.Chim.Fr.1024-1030頁,1967年 "Topics in S
tereochemistry" 13巻 , 1頁 ,1982年 Jhon Wiley & So
ns.Inc.発行）により、ＮＭＲの積分値より決定した。
またｅｅ％は、α−メトキシ−α−トリフルオロメチル
フェニル酢酸にして、Ｄ. パーカー（D.Parker）らの方
法（Chem. Rev. 91巻 1441-1457頁 1991年）またはＪ.
Ａ. デイル（J.A.Dale）らの方法（J. Org. Chem. 34巻
2543-2549頁 1969年）に従い、1Ｈ−ＮＭＲにより決定
した。
ｉ）の比は、Ｊ.キャンセイリ（J.Canceill）らの方法
（Bull.Soc.Chim.Fr.1024-1030頁,1967年 "Topics in S
tereochemistry" 13巻 , 1頁 ,1982年 Jhon Wiley & So
ns.Inc.発行）により、ＮＭＲの積分値より決定した。
またｅｅ％は、α−メトキシ−α−トリフルオロメチル
フェニル酢酸にして、Ｄ. パーカー（D.Parker）らの方
法（Chem. Rev. 91巻 1441-1457頁 1991年）またはＪ.
Ａ. デイル（J.A.Dale）らの方法（J. Org. Chem. 34巻
2543-2549頁 1969年）に従い、1Ｈ−ＮＭＲにより決定
した。
【００２４】実 施 例 １ 予め、アルゴン置換を行った５０ｍｌのシュレンク管
に、チタンテトライソプロポキシド ２.９８ｍｌ（１０
ｍＭ）とヘキサン ５ｍｌを加え、これに四塩化チタン
１.１０ｍｌ（１０ｍＭ）を加え、室温で１０分間攪拌
する。 その後、室温で３時間放置すると白色の結晶が
沈殿する。 溶媒をシリンジで抜き取り、ヘキサン５ｍ
ｌを加え、再結晶を行う。 この操作を２回繰り返し、
減圧下で乾燥すると白色のジイソプロポキシジクロロチ
タン ３.０９ｇが得られた。 これに、トルエン ４３ｍ
ｌを加えて、０.３モル／ｌの溶液を調製する。
に、チタンテトライソプロポキシド ２.９８ｍｌ（１０
ｍＭ）とヘキサン ５ｍｌを加え、これに四塩化チタン
１.１０ｍｌ（１０ｍＭ）を加え、室温で１０分間攪拌
する。 その後、室温で３時間放置すると白色の結晶が
沈殿する。 溶媒をシリンジで抜き取り、ヘキサン５ｍ
ｌを加え、再結晶を行う。 この操作を２回繰り返し、
減圧下で乾燥すると白色のジイソプロポキシジクロロチ
タン ３.０９ｇが得られた。 これに、トルエン ４３ｍ
ｌを加えて、０.３モル／ｌの溶液を調製する。
【００２５】２５ｍｌのフラスコに、モレキュラーシー
ブ４Ａ（アルドリッチ社製）の粉末０.５ｇを入れ、ア
ルゴン置換を充分行った後、トルエン ３ｍｌを加え、
さらに上記で調製したジイソプロポキシジクロロチタン
のトルエン溶液を６.７ｍｌ（２ｍＭ）、（Ｒ）−ビナ
フトール ５７３ｍｇ（２ｍＭ）を加え、室温で１時間
攪拌し、（Ｒ）−ビナフトール−チタン錯体を調製す
る。
ブ４Ａ（アルドリッチ社製）の粉末０.５ｇを入れ、ア
ルゴン置換を充分行った後、トルエン ３ｍｌを加え、
さらに上記で調製したジイソプロポキシジクロロチタン
のトルエン溶液を６.７ｍｌ（２ｍＭ）、（Ｒ）−ビナ
フトール ５７３ｍｇ（２ｍＭ）を加え、室温で１時間
攪拌し、（Ｒ）−ビナフトール−チタン錯体を調製す
る。
【００２６】この溶液０.５ｍｌ（０.１ｍＭ）を氷浴で
０℃に冷却し、（Ｚ）−３−トリメチルシリルオキシ−
２−ペンテン（８６％ Ｚ）１５７ｍｇ（１ｍＭ）を加
え、つづいて新たに蒸留した、グリオキシル酸 ｎ−ブ
チル １３０ｍｇ（１ｍＭ）と塩化メチレン ０.５ｍｌ
を加え０℃で０.５時間反応させた。
０℃に冷却し、（Ｚ）−３−トリメチルシリルオキシ−
２−ペンテン（８６％ Ｚ）１５７ｍｇ（１ｍＭ）を加
え、つづいて新たに蒸留した、グリオキシル酸 ｎ−ブ
チル １３０ｍｇ（１ｍＭ）と塩化メチレン ０.５ｍｌ
を加え０℃で０.５時間反応させた。
【００２７】反応液を０℃に冷却した１０％塩酸−メタ
ノール中に注ぐ。 その溶液をセライト上で濾過し、濾
液をジエチルエーテルで３回（１５ｍｌ）抽出した。
有機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。 溶媒を留去し、残った溶液をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン／酢
酸エチル＝１５／１）で精製すると、１３５ｍｇの２−
ヒドロキシ−３−メチル−４−オキソヘキサン酸 ｎ−
ブチルが得られた。
ノール中に注ぐ。 その溶液をセライト上で濾過し、濾
液をジエチルエーテルで３回（１５ｍｌ）抽出した。
有機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。 溶媒を留去し、残った溶液をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン／酢
酸エチル＝１５／１）で精製すると、１３５ｍｇの２−
ヒドロキシ−３−メチル−４−オキソヘキサン酸 ｎ−
ブチルが得られた。
【００２８】収 率 ： ６３％ ［α］D 26 ＋５.０（ｃ １.０, ＣＨＣｌ3）（９８％
ｓｙｎ, ９９％ｅｅ） ＩＲ（neat）： ３５００, ２９７０, １７３０, １４６０, １２６０,
７６０ｃｍ-1
ｓｙｎ, ９９％ｅｅ） ＩＲ（neat）： ３５００, ２９７０, １７３０, １４６０, １２６０,
７６０ｃｍ-1
【００２９】ｓｙｎ体1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： ０.９４（ｔ, Ｊ＝７.４Ｈｚ, ３Ｈ）, １.０７（ｔ,
Ｊ＝７.０Ｈｚ,３Ｈ）,１.１５（ｄ, Ｊ＝７.３Ｈｚ,
３Ｈ）, １.３８（ｍ, ２Ｈ）,１.６５（ｍ, ２Ｈ）,
２.５６（q, Ｊ＝７.０Ｈｚ, ２Ｈ）, ２.９４（ｄｑ,
Ｊ＝３.９, ７.４Ｈｚ, １Ｈ）, ３.１２（ｄ, Ｊ＝４.
６Ｈｚ,１Ｈ）, ４.２０（ｄ, Ｊ＝６.７Ｈｚ, ２Ｈ）,
４.５６（ｄｄ, Ｊ＝３.９, ４.６Ｈｚ, １Ｈ）.13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： ７.６, １０.８, １３.７, １９.１, ３０.６, ３４.
２, ４９.２,６５.９, ７１.２, １７３.５, ２１１.８
Ｊ＝７.０Ｈｚ,３Ｈ）,１.１５（ｄ, Ｊ＝７.３Ｈｚ,
３Ｈ）, １.３８（ｍ, ２Ｈ）,１.６５（ｍ, ２Ｈ）,
２.５６（q, Ｊ＝７.０Ｈｚ, ２Ｈ）, ２.９４（ｄｑ,
Ｊ＝３.９, ７.４Ｈｚ, １Ｈ）, ３.１２（ｄ, Ｊ＝４.
６Ｈｚ,１Ｈ）, ４.２０（ｄ, Ｊ＝６.７Ｈｚ, ２Ｈ）,
４.５６（ｄｄ, Ｊ＝３.９, ４.６Ｈｚ, １Ｈ）.13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： ７.６, １０.８, １３.７, １９.１, ３０.６, ３４.
２, ４９.２,６５.９, ７１.２, １７３.５, ２１１.８
【００３０】ａｎｔｉ体1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： ３.０４（ｍ, １Ｈ）, ３.３０（ｄ, Ｊ＝７.６Ｈｚ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： ７.５, １３.１, １５.３, １９.０, ３０.５, ３４.
８, ４９.１,６５.６, ７２.８, １７３.５, ２１１.
７.
８, ４９.１,６５.６, ７２.８, １７３.５, ２１１.
７.
【００３１】実 施 例 ２ 実施例１と同様に調製した（Ｒ）−ビナフトール−ジク
ロロチタン錯体溶液０.５ｍｌ（０.１ｍＭ）を０℃に冷
却し、２−トリメチルシリルオキシ−１−ペンテン１５
７ｍｇ（１ｍＭ）を加え、つづいて新たに蒸留した、グ
リオキシル酸ｎ−ブチル １３０ｍｇ（１ｍＭ）と塩化
メチレン０.５ｍｌを加え、０℃で０.５時間反応させ
た。
ロロチタン錯体溶液０.５ｍｌ（０.１ｍＭ）を０℃に冷
却し、２−トリメチルシリルオキシ−１−ペンテン１５
７ｍｇ（１ｍＭ）を加え、つづいて新たに蒸留した、グ
リオキシル酸ｎ−ブチル １３０ｍｇ（１ｍＭ）と塩化
メチレン０.５ｍｌを加え、０℃で０.５時間反応させ
た。
【００３２】反応液を０℃に冷却した１０％塩酸−メタ
ノール中に注ぐ。その溶液をセライト上で濾過し、濾液
をジエチルエーテルで３回（１５ｍｌ）抽出した。 有
機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。 溶媒を留去し、残った溶液をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン／酢酸
エチル＝１５／１）で精製すると、１４３ｍｇの２−ヒ
ドロキシ−４−オキソヘプタン酸 ｎ−ブチルが得られ
た。
ノール中に注ぐ。その溶液をセライト上で濾過し、濾液
をジエチルエーテルで３回（１５ｍｌ）抽出した。 有
機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。 溶媒を留去し、残った溶液をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン／酢酸
エチル＝１５／１）で精製すると、１４３ｍｇの２−ヒ
ドロキシ−４−オキソヘプタン酸 ｎ−ブチルが得られ
た。
【００３３】収 率 ： ６７％ ［α］D 25 ＋５.９（ｃ １.０, ＣＨＣｌ3）（９９％ｅ
ｅ） ＩＲ（neat）： ３４７０, ２９７０, １７２０, １４６０, １２６０,
７６０ｃｍ-1
ｅ） ＩＲ（neat）： ３４７０, ２９７０, １７２０, １４６０, １２６０,
７６０ｃｍ-1
【００３４】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： ０.９１（ｔ, Ｊ＝７.４Ｈｚ, ３Ｈ）, ０.９２（ｔ,
Ｊ＝７.３Ｈｚ,３Ｈ）, １.３７（ｍ, ３Ｈ）, １.６１
（ｍ, ２Ｈ）, １.６２（ｍ,２Ｈ）, ２.４２（ｑ, Ｊ
＝７.３Ｈｚ, ２Ｈ）, ２.６７（ｂｒ,１Ｈ）,２.８５
（ｄｄ, Ｊ＝６.０, １７.３Ｈｚ, １Ｈ）,２.９３（ｄ
ｄ, Ｊ＝４.５, １７.３ Ｈｚ, １Ｈ）, ４.１８（ｔ,
Ｊ＝６.７ Ｈｚ, ２Ｈ）,４.４５（ｄｄ, Ｊ＝４.５,
６.０ Ｈｚ,１Ｈ）.
Ｊ＝７.３Ｈｚ,３Ｈ）, １.３７（ｍ, ３Ｈ）, １.６１
（ｍ, ２Ｈ）, １.６２（ｍ,２Ｈ）, ２.４２（ｑ, Ｊ
＝７.３Ｈｚ, ２Ｈ）, ２.６７（ｂｒ,１Ｈ）,２.８５
（ｄｄ, Ｊ＝６.０, １７.３Ｈｚ, １Ｈ）,２.９３（ｄ
ｄ, Ｊ＝４.５, １７.３ Ｈｚ, １Ｈ）, ４.１８（ｔ,
Ｊ＝６.７ Ｈｚ, ２Ｈ）,４.４５（ｄｄ, Ｊ＝４.５,
６.０ Ｈｚ,１Ｈ）.
【００３５】13Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： １３.７, １７.０, １９.１, ３０.６, ４５.４, ４６.
０, ６５.８,６７.１, １７３.９, ２０８.５
０, ６５.８,６７.１, １７３.９, ２０８.５
【００３６】実 施 例 ３ 実施例１と同様に調製した（Ｒ）−ビナフトール−ジク
ロロチタン錯体溶液０.５ｍｌ（０.１ｍＭ）溶液を０℃
に冷却し、（Ｅ）−１−エチルチオ−１−トリメチルシ
リルオキシ−１−プロペン（７７％ Ｅ）１９０ｍｇ
（１ｍＭ）を加え、つづいて新たに蒸留した、グリオキ
シル酸 ブチル １３０ｍｇ（１ｍＭ）とトルエン０.５
ｍｌを加え０℃で０.５時間反応させた。
ロロチタン錯体溶液０.５ｍｌ（０.１ｍＭ）溶液を０℃
に冷却し、（Ｅ）−１−エチルチオ−１−トリメチルシ
リルオキシ−１−プロペン（７７％ Ｅ）１９０ｍｇ
（１ｍＭ）を加え、つづいて新たに蒸留した、グリオキ
シル酸 ブチル １３０ｍｇ（１ｍＭ）とトルエン０.５
ｍｌを加え０℃で０.５時間反応させた。
【００３７】反応液を０℃に冷却した１０％塩酸−メタ
ノール中に注ぐ。 その溶液をセライト上で濾過し、濾
液をジエチルエーテルで３回（１５ｍｌ）抽出した。
有機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。 溶媒を留去し、残った溶液をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン／酢
酸エチル＝１５／１）で精製すると、１５８ｍｇの４−
エチルチオ−２−ヒドロキシ−３−メチル−４−オキソ
酪酸 ｎ−ブチルが得られた。
ノール中に注ぐ。 その溶液をセライト上で濾過し、濾
液をジエチルエーテルで３回（１５ｍｌ）抽出した。
有機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。 溶媒を留去し、残った溶液をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン／酢
酸エチル＝１５／１）で精製すると、１５８ｍｇの４−
エチルチオ−２−ヒドロキシ−３−メチル−４−オキソ
酪酸 ｎ−ブチルが得られた。
【００３８】収 率 ： ６４％. ［α］D 26 ＋５.０（ｃ １.０, ＣＨＣｌ3）（９８％ｓ
ｙｎ,＞９９％ｅｅ） ＩＲ（neat）： ３５００, ２９７０, １７３０, １４６０, １２６０,
７６０ｃｍ-1
ｙｎ,＞９９％ｅｅ） ＩＲ（neat）： ３５００, ２９７０, １７３０, １４６０, １２６０,
７６０ｃｍ-1
【００３９】ｓｙｎ体1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： ０.９４（ｔ, Ｊ＝７.４Ｈｚ, ３Ｈ）, １.２３（ｄ,
Ｊ＝７.２Ｈｚ,３Ｈ）, １.２７（ｔ, Ｊ＝７.５Ｈｚ,
３Ｈ）, １.３９（ｍ, ２Ｈ）,１.６６（ｍ, ２Ｈ）,
２.９１（ｑ, Ｊ＝７.５Ｈｚ, ２Ｈ）, ３.０６（ｄｑ,
Ｊ＝３.６, ７.２Ｈｚ, １Ｈ）, ３.１９（ｂｒ, １
Ｈ）,４.２２（ｔ, Ｊ＝６.７Ｈｚ, ２Ｈ）, ４.５９
（ｄ, Ｊ＝３.６,１Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： １１.５, １３.７, １４.６, １９.１, ２３.５, ３０.
６, ５１.３,７１.６, １７３.２, ２００.９.
Ｊ＝７.２Ｈｚ,３Ｈ）, １.２７（ｔ, Ｊ＝７.５Ｈｚ,
３Ｈ）, １.３９（ｍ, ２Ｈ）,１.６６（ｍ, ２Ｈ）,
２.９１（ｑ, Ｊ＝７.５Ｈｚ, ２Ｈ）, ３.０６（ｄｑ,
Ｊ＝３.６, ７.２Ｈｚ, １Ｈ）, ３.１９（ｂｒ, １
Ｈ）,４.２２（ｔ, Ｊ＝６.７Ｈｚ, ２Ｈ）, ４.５９
（ｄ, Ｊ＝３.６,１Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： １１.５, １３.７, １４.６, １９.１, ２３.５, ３０.
６, ５１.３,７１.６, １７３.２, ２００.９.
【００４０】ａｎｔｉ体1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： ０.９４（ｔ, Ｊ＝７.４Ｈｚ, ３Ｈ）, １.３５（ｄ,
Ｊ＝７.３Ｈｚ,３Ｈ）, １.３８（ｍ, ２Ｈ）, １.６７
（ｍ, ２Ｈ）, ２.０８（ｄ,Ｊ＝７.５ Ｈｚ, ２Ｈ）,
３.１２（ｍ, １Ｈ）, ３.３５（ｂｒ, １Ｈ） ４.１８（ｍ, ２Ｈ）, ４.２５（ｍ, １Ｈ）.13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： １４.１, ２３.４, ５１.２, ６５.８, ７２.８, １７
３.１, ２００.７
Ｊ＝７.３Ｈｚ,３Ｈ）, １.３８（ｍ, ２Ｈ）, １.６７
（ｍ, ２Ｈ）, ２.０８（ｄ,Ｊ＝７.５ Ｈｚ, ２Ｈ）,
３.１２（ｍ, １Ｈ）, ３.３５（ｂｒ, １Ｈ） ４.１８（ｍ, ２Ｈ）, ４.２５（ｍ, １Ｈ）.13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： １４.１, ２３.４, ５１.２, ６５.８, ７２.８, １７
３.１, ２００.７
【００４１】実 施 例 ４ 実施例３と同様に調製した（Ｓ）−ビナフトール−ジク
ロロチタン錯体溶液５ｍｌ（０.１ｍＭ）を０℃に冷却
し、（Ｅ）−４−ｔ−ブチルチオ−４−トリメチルシリ
ルオキシ−１−プロペン（９３％ Ｅ） ２１８ｍｇ（１
ｍＭ）を加え、つづいて新たに蒸留した、グリオキシル
酸 メチル ８８ｍｇ（１ｍＭ）とトルエン０.５ｍｌを
加え、０℃で２時間反応させた。
ロロチタン錯体溶液５ｍｌ（０.１ｍＭ）を０℃に冷却
し、（Ｅ）−４−ｔ−ブチルチオ−４−トリメチルシリ
ルオキシ−１−プロペン（９３％ Ｅ） ２１８ｍｇ（１
ｍＭ）を加え、つづいて新たに蒸留した、グリオキシル
酸 メチル ８８ｍｇ（１ｍＭ）とトルエン０.５ｍｌを
加え、０℃で２時間反応させた。
【００４２】反応液を０℃に冷却した１０％塩酸−メタ
ノール中に注ぐ。 その溶液をセライト上で濾過し、濾
液をジエチルエーテルで３回（１５ｍｌ）抽出した。
有機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。 溶媒を留去し、残った溶液をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン／酢
酸エチル＝１５／１）で精製すると、１８６ｍｇの４−
ｔ−ブチルチオ−２−ヒドロキシ−３−メチル−４−オ
キソ酪酸 メチルが得られた。
ノール中に注ぐ。 その溶液をセライト上で濾過し、濾
液をジエチルエーテルで３回（１５ｍｌ）抽出した。
有機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。 溶媒を留去し、残った溶液をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン／酢
酸エチル＝１５／１）で精製すると、１８６ｍｇの４−
ｔ−ブチルチオ−２−ヒドロキシ−３−メチル−４−オ
キソ酪酸 メチルが得られた。
【００４３】収 率 ： ８０％（１６％ ｓｙｎ, ８４
％ｅｅ; ８４％ ａｎｔｉ, ９３％ｅｅ） ＩＲ（neat）： ３５００, ２９７０, １７２０, １４６０, １２６０,
１１９０, ７６０ｃｍ-1
％ｅｅ; ８４％ ａｎｔｉ, ９３％ｅｅ） ＩＲ（neat）： ３５００, ２９７０, １７２０, １４６０, １２６０,
１１９０, ７６０ｃｍ-1
【００４４】ｓｙｎ体1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： １.３０（ｄ, Ｊ＝７.２Ｈｚ, ３Ｈ）, １.４５（ｓ,
９Ｈ）, ３.０２（ｄｑ, Ｊ＝４.４, ７.２Ｈｚ, １
Ｈ）, ３.１２（ｂｒ, １Ｈ）,３.７９（ｓ, ３Ｈ）,
４.２３（ｄ, Ｊ＝４.４Ｈｚ, １Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： １４.１, ２９.８, ４８.５, ５１.５, ５２.６, ７３.
１, １７３.５,２０１.９.
９Ｈ）, ３.０２（ｄｑ, Ｊ＝４.４, ７.２Ｈｚ, １
Ｈ）, ３.１２（ｂｒ, １Ｈ）,３.７９（ｓ, ３Ｈ）,
４.２３（ｄ, Ｊ＝４.４Ｈｚ, １Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： １４.１, ２９.８, ４８.５, ５１.５, ５２.６, ７３.
１, １７３.５,２０１.９.
【００４５】ａｎｔｉ体1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： １.２０（ｄ, Ｊ＝７.１ Ｈｚ, ３Ｈ）, １.４７（ｓ,
９Ｈ）, ２.９７（ｍ, １Ｈ）, ３.８０（ｓ, ３Ｈ）,
４.５４（ｄ, Ｊ＝４.１Ｈｚ,１Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： １１.９, ５１.７, ５２.８, ７１.８.
９Ｈ）, ２.９７（ｍ, １Ｈ）, ３.８０（ｓ, ３Ｈ）,
４.５４（ｄ, Ｊ＝４.１Ｈｚ,１Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： １１.９, ５１.７, ５２.８, ７１.８.
【００４６】実 施 例 ５〜１２ 基質、溶媒を変えたほかは、実施例１に準じて操作を行
ない、第１表に示す化合物を得た。
ない、第１表に示す化合物を得た。
【００４７】
【表１】
【００４８】
【発明の効果】本発明は、不斉アルドール反応の触媒と
して光学活性のビナフトール−チタン錯体を選択、使用
することにより、シリルエノールエーテルと置換アルデ
ヒドとから効率よく、しかもジアステレオ選択的かつエ
ナンチオ選択的に、光学活性β−ヒドロキシケトンを製
造することのできるものであり、工業的に優れた方法で
ある。 以 上
して光学活性のビナフトール−チタン錯体を選択、使用
することにより、シリルエノールエーテルと置換アルデ
ヒドとから効率よく、しかもジアステレオ選択的かつエ
ナンチオ選択的に、光学活性β−ヒドロキシケトンを製
造することのできるものであり、工業的に優れた方法で
ある。 以 上
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 69/675 Ｃ０７Ｃ 69/675 69/708 69/708 Ｚ 69/712 69/712 Ｚ 69/732 69/732 Ｚ 69/734 69/734 Ｚ 319/20 319/20 323/22 323/22 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 寺田 眞浩 東京都目黒区大岡山２丁目12番１号 東 京工業大学工学部化学工学科内 (72)発明者 佐用 昇 東京都大田区蒲田５丁目36番31号 高砂 香料工業株式会社基礎研究所内 (56)参考文献 Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．，（1990）, （６），ｐ．1015−1018 Ｃｈｅｍ．Ｉｎｄ．（Ｌｏｎｄｏ ｎ），（1986），（23），ｐ．824 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07C 45/00 C07B 53/00 C07C 67/00 C07C 69/00 C07C 319/00 C07C 323/00 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】 下記一般式（II） 【化１】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2は同一または異なって水素原子また
は低級アルキル基を、Ｒ3は低級アルキル基、低級アル
キルオキシ基、フェニル基、フェニルオキシ基または低
級アルキルチオ基を示し、３つのＲ'は同一または異な
って低級アルキル基またはフェニル基を示す） で表されるシリルエノールエーテルと、一般式（II
I）、 【化２】 （式中、Ｒ4は低級アルキルオキシメチル基、ベンジル
オキシメチル基、低級アルキルオキシカルボニル基を示
す） で表される置換アルデヒドとを、式（IV）、 【化３】 （式中、Ｘは塩素原子または臭素原子を示す） で表されるビナフトール−チタン錯体を式（II）化合物
および式（III）化合物 に対して０．０５〜０．１モル
倍存在させて反応せしめることを特徴とする一般式
（I） 【化４】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ 3 およびＲ 4 は前記と同じ意味を
有する） で表される光学活性β−ヒドロキシケトンを触媒的不斉
アルドール反応により製造する方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07639193A JP3276707B2 (ja) | 1993-03-11 | 1993-03-11 | 光学活性β−ヒドロキシケトンの製造法 |
| US08/208,379 US5434289A (en) | 1993-03-11 | 1994-03-10 | Process for producing optically active β-hydroxyketone |
| DE69410856T DE69410856T2 (de) | 1993-03-11 | 1994-03-11 | Verfahren zur Herstellung von optisch aktiven Beta-hydroxy-ketonen |
| EP94301766A EP0614871B1 (en) | 1993-03-11 | 1994-03-11 | Process for producing optically active beta-hydroxyketone |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07639193A JP3276707B2 (ja) | 1993-03-11 | 1993-03-11 | 光学活性β−ヒドロキシケトンの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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