JPH1087568A - 光学活性δ−ヒドロキシ−β−ケトエステルの製造法 - Google Patents
光学活性δ−ヒドロキシ−β−ケトエステルの製造法Info
- Publication number
- JPH1087568A JPH1087568A JP26514296A JP26514296A JPH1087568A JP H1087568 A JPH1087568 A JP H1087568A JP 26514296 A JP26514296 A JP 26514296A JP 26514296 A JP26514296 A JP 26514296A JP H1087568 A JPH1087568 A JP H1087568A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydroxy
- optically active
- formula
- ethyl acetate
- added
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 コレステロール合成阻害剤の合成中間体であ
る光学活性δ−ヒドロキシ−β−ケトエステルの製造法
を提供する。 【解決手段】光学活性β−トリクロロメチル−β−プロ
ピオラクトンをアシル化剤に用い、酢酸ｔ−ブチルリチ
ウムエノラートと反応させることで解決できる。
る光学活性δ−ヒドロキシ−β−ケトエステルの製造法
を提供する。 【解決手段】光学活性β−トリクロロメチル−β−プロ
ピオラクトンをアシル化剤に用い、酢酸ｔ−ブチルリチ
ウムエノラートと反応させることで解決できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、（Ｓ）−６，６，
６−トリクロロ−５−ヒドロキシ−３−オキソヘキサン
酸エステル（以下、δ−ヒドロキシ−β−ケトエステル
と言うこともある。）の製造法に関する。この化合物
は、天然物合成において有用な合成中間体である。
６−トリクロロ−５−ヒドロキシ−３−オキソヘキサン
酸エステル（以下、δ−ヒドロキシ−β−ケトエステル
と言うこともある。）の製造法に関する。この化合物
は、天然物合成において有用な合成中間体である。
【０００２】
【従来の技術】β−プロピオラクトンは３炭素増反応の
有用なビルディングブロックとして知られており、求核
剤の攻撃を受けて、ａ）β−炭素−酸素結合、もしくは
ｂ）アシル炭素−酸素結合の開裂を起こす。同時に不斉
炭素の導入もできる。光学活性β−トリクロロメチル−
β−プロピオラクトンをアシル化剤に用いての炭素鎖伸
長反応は、本発明らによるフリーデル・クラフツタイプ
の反応が知られているだけである。
有用なビルディングブロックとして知られており、求核
剤の攻撃を受けて、ａ）β−炭素−酸素結合、もしくは
ｂ）アシル炭素−酸素結合の開裂を起こす。同時に不斉
炭素の導入もできる。光学活性β−トリクロロメチル−
β−プロピオラクトンをアシル化剤に用いての炭素鎖伸
長反応は、本発明らによるフリーデル・クラフツタイプ
の反応が知られているだけである。
【０００３】
【化３】
【０００４】一方、生理活性を持つ様々な天然物の中
で、コレステロールの合成阻害作用を持つものには、コ
ンパクチン（Compactin)を始め、様々な構造を持つもの
が知らている。これらの化合物に共通することは、光学
活性δ−バレロラクトンを基本骨格に持つことであり、
従って立体選択的にβ位、δ位に不斉炭素を持つδ−バ
レロラクトン骨格を構築することは、有用なことであ
る。しかし、これまでは、光学活性δ−バレロラクトン
を合成するのに多段階の操作が必要であった。
で、コレステロールの合成阻害作用を持つものには、コ
ンパクチン（Compactin)を始め、様々な構造を持つもの
が知らている。これらの化合物に共通することは、光学
活性δ−バレロラクトンを基本骨格に持つことであり、
従って立体選択的にβ位、δ位に不斉炭素を持つδ−バ
レロラクトン骨格を構築することは、有用なことであ
る。しかし、これまでは、光学活性δ−バレロラクトン
を合成するのに多段階の操作が必要であった。
【０００５】
【化４】
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、短工程で効
率的に合成できるδ−ヒドロキシ−β−ケトエステルの
製造法を提供することである。
率的に合成できるδ−ヒドロキシ−β−ケトエステルの
製造法を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、式
（１）
（１）
【０００８】
【化５】
【０００９】の化合物に、ＣＨ3 ＣＯＯＲ（ＲはＣ1-4
のアルキル基を示す。）とリチウムジイソプロピルアミ
ドを反応させることを特徴とする式（２）
のアルキル基を示す。）とリチウムジイソプロピルアミ
ドを反応させることを特徴とする式（２）
【００１０】
【化６】
【００１１】（式中、Ｒは前記と同じ意味を示す。）で
表される（Ｓ）−６，６，６−トリクロロ−５−ヒドロ
キシ−３−オキソヘキサン酸エステルの製造法である。
表される（Ｓ）−６，６，６−トリクロロ−５−ヒドロ
キシ−３−オキソヘキサン酸エステルの製造法である。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明において、Ｃ1-4 のアルキ
ル基としては、メチル基，エチル基，プロピル基，イソ
プロピル基，ブチル基，イソブチル基，ｓ−ブチル基，
ｔ−ブチル基を例示できるが、ｔ−ブチル基が好まし
い。以下ｔ−ブチル基の場合について記載する。反応溶
媒としては、ＴＨＦ、ジオキサンなどの環状エーテルを
例示できるが、ＴＨＦが好ましい。（Ｓ）−β−トリク
ロロメチル−β−プロピオラクトンは、−７８℃程度
で、酢酸ｔ−ブチルと、リチウムジイソプロピルアミド
（ＬＤＡ）からできる酢酸ｔ−ブチルリチウムエノラー
トによって、光学活性なδ−ヒドロキシ−β−ケトエス
テルが得られる。なお、ＬＤＡはジイソプロピルアミン
とｎ−ブチルリチウムから調製される。この反応におい
て、酢酸ｔ−ブチルリチウムエノラートは、生成したδ
−ヒドロキシ−β−ケトエステルの活性なα位のプロト
ンを引き抜くこと、酢酸ｔ−ブチル同志のクライゼン縮
合が起こるので、過剰量必要で、酢酸ｔ−ブチルリチウ
ムエノラートの当量を増やすことで収率が向上し、５当
量用いたとき、光学活性なδ−ヒドロキシ−β−ケトエ
ステルが最も良い収率で得られる。いずれの場合も反応
終了後は通常の後処理を行うことにより目的物を得るこ
とができる。化合物の構造は、ＩＲ，ＮＭＲ等から決定
した。
ル基としては、メチル基，エチル基，プロピル基，イソ
プロピル基，ブチル基，イソブチル基，ｓ−ブチル基，
ｔ−ブチル基を例示できるが、ｔ−ブチル基が好まし
い。以下ｔ−ブチル基の場合について記載する。反応溶
媒としては、ＴＨＦ、ジオキサンなどの環状エーテルを
例示できるが、ＴＨＦが好ましい。（Ｓ）−β−トリク
ロロメチル−β−プロピオラクトンは、−７８℃程度
で、酢酸ｔ−ブチルと、リチウムジイソプロピルアミド
（ＬＤＡ）からできる酢酸ｔ−ブチルリチウムエノラー
トによって、光学活性なδ−ヒドロキシ−β−ケトエス
テルが得られる。なお、ＬＤＡはジイソプロピルアミン
とｎ−ブチルリチウムから調製される。この反応におい
て、酢酸ｔ−ブチルリチウムエノラートは、生成したδ
−ヒドロキシ−β−ケトエステルの活性なα位のプロト
ンを引き抜くこと、酢酸ｔ−ブチル同志のクライゼン縮
合が起こるので、過剰量必要で、酢酸ｔ−ブチルリチウ
ムエノラートの当量を増やすことで収率が向上し、５当
量用いたとき、光学活性なδ−ヒドロキシ−β−ケトエ
ステルが最も良い収率で得られる。いずれの場合も反応
終了後は通常の後処理を行うことにより目的物を得るこ
とができる。化合物の構造は、ＩＲ，ＮＭＲ等から決定
した。
【００１３】
【実施例】次に実施例、参考例を挙げ、本発明を更に詳
しく説明するが、本発明はこれにより何ら限定されるも
のでない。
しく説明するが、本発明はこれにより何ら限定されるも
のでない。
【００１４】参考例１ （Ｓ）−β−トリクロロメチル−β−プロピオラクトン
の合成
の合成
【００１５】
【化７】
【００１６】１ｌ三口フラスコにキニーネ1.４７ｇ（２
ｍｏｌ％）を入れ、減圧乾燥後アルゴン置換し、トルエ
ン２８０ｍｌを加えて攪拌し、溶解した。系内を−５０
℃に冷し、アセトンの熱分解より得られたケテンを３０
分間吹き込んだ。そしてクロラール３3.４ｇ（２２７ｍ
ｍｏｌ）を含むトルエン溶液を7.５時間かけて滴下、攪
拌した。室温まで自然昇温し、４規定の塩酸で反応を停
止し、エーテルで抽出、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃
縮後、ｂｕｌｂ−ｔｏ−ｂｕｌｂ蒸留にて精製し、メチ
ルシクロヘキサンを用いて再結晶を行った。 収量 １4.５ｇ，収率 ３３％ Ｒｆ 0.３（ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ 3.68(ddd,J=3.96,5.61,1
7.16Hz,2H),5.04(dd,J=3.96,5.61Hz) ＩＲ（neat) 1858, 1405, 1095, 920,795cm -1 ［α］D 23 + １1.６（ｃ 0.96,シクロヘキサン） b.p.: 120℃（0.５ｍｍＨｇ）
ｍｏｌ％）を入れ、減圧乾燥後アルゴン置換し、トルエ
ン２８０ｍｌを加えて攪拌し、溶解した。系内を−５０
℃に冷し、アセトンの熱分解より得られたケテンを３０
分間吹き込んだ。そしてクロラール３3.４ｇ（２２７ｍ
ｍｏｌ）を含むトルエン溶液を7.５時間かけて滴下、攪
拌した。室温まで自然昇温し、４規定の塩酸で反応を停
止し、エーテルで抽出、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃
縮後、ｂｕｌｂ−ｔｏ−ｂｕｌｂ蒸留にて精製し、メチ
ルシクロヘキサンを用いて再結晶を行った。 収量 １4.５ｇ，収率 ３３％ Ｒｆ 0.３（ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ 3.68(ddd,J=3.96,5.61,1
7.16Hz,2H),5.04(dd,J=3.96,5.61Hz) ＩＲ（neat) 1858, 1405, 1095, 920,795cm -1 ［α］D 23 + １1.６（ｃ 0.96,シクロヘキサン） b.p.: 120℃（0.５ｍｍＨｇ）
【００１７】実施例１ ｔ−ブチル（Ｓ）−６，６，６−トリクロロ−５−ヒド
ロキシ−３−オキソヘキサノエートの合成
ロキシ−３−オキソヘキサノエートの合成
【００１８】
【化８】
【００１９】アルゴン雰囲気下、乾燥させた１００ｍｌ
二口ナスフラスコにＴＨＦ ２８ｍｌを入れ、次いでジ
イソプロピルアミン4.４２ｍｌ（３1.５ｍｍｏｌ）を加
えた。−７８℃に冷却して、1.４７規定のｎ−ブチルリ
チウムヘキサン溶液１9.８ｍｌ（３1.５ｍｍｏｌ）を加
えた。３０分後酢酸ｔ−ブチル4.２２ｍｌ（３1.５ｍｍ
ｏｌ）をゆっくり滴下し、さらに３０分後、ＴＨＦ3.５
ｍｌに溶かしたβ−プロピオラクトン１２００ｍｇ（6.
３ｍｍｏｌ）を滴下し、３時間攪拌した。飽和塩化アン
モニウム水溶液で反応を停止させ、酢酸エチルで抽出、
無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮後、シリカゲルのフラ
ッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝
５：１）で精製した。 収量 1.３５ｇ，収率 ７０％ Ｒｆ 0.３（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ 1.48(s,9H),3.13(ddd,J=
2.14,8.19,17.15Hz,2H),3.47(d,J=1.32Hz,2H),4.68(d,J
=8.91Hz,1H) ＩＲ（neat) 3475, 1720,1150, 818cm -1 ［α］D 23 −4.２４（ｃ 0.57, CHCl3)
二口ナスフラスコにＴＨＦ ２８ｍｌを入れ、次いでジ
イソプロピルアミン4.４２ｍｌ（３1.５ｍｍｏｌ）を加
えた。−７８℃に冷却して、1.４７規定のｎ−ブチルリ
チウムヘキサン溶液１9.８ｍｌ（３1.５ｍｍｏｌ）を加
えた。３０分後酢酸ｔ−ブチル4.２２ｍｌ（３1.５ｍｍ
ｏｌ）をゆっくり滴下し、さらに３０分後、ＴＨＦ3.５
ｍｌに溶かしたβ−プロピオラクトン１２００ｍｇ（6.
３ｍｍｏｌ）を滴下し、３時間攪拌した。飽和塩化アン
モニウム水溶液で反応を停止させ、酢酸エチルで抽出、
無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮後、シリカゲルのフラ
ッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝
５：１）で精製した。 収量 1.３５ｇ，収率 ７０％ Ｒｆ 0.３（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ 1.48(s,9H),3.13(ddd,J=
2.14,8.19,17.15Hz,2H),3.47(d,J=1.32Hz,2H),4.68(d,J
=8.91Hz,1H) ＩＲ（neat) 3475, 1720,1150, 818cm -1 ［α］D 23 −4.２４（ｃ 0.57, CHCl3)
【００２０】酢酸ｔ−ブチルリチウムエノラートの当量
［酢酸ｔ−ブチルとＬＤＡ（リチウムジイソプロピルア
ミドの当量）］と収率の関係を表１に示す。
［酢酸ｔ−ブチルとＬＤＡ（リチウムジイソプロピルア
ミドの当量）］と収率の関係を表１に示す。
【００２１】
【表１】
【００２２】参考例２ ｔ−ブチル（３Ｒ，５Ｓ）−６，６，６−トリクロロ−
３，５−ジヒドロキシヘキサノエートの合成
３，５−ジヒドロキシヘキサノエートの合成
【００２３】
【化９】
【００２４】３０ｍｌ二口ナスフラスコにβ−ケトエス
テル７7.１ｍｇ（0.２５２ｍｍｏｌ）を入れて、減圧乾
燥、アルゴン置換した後、ＴＨＦ２ｍｌに溶かし、２３
℃で1.０規定のトリエチルボランヘキサン溶液0.６０５
ｍｌ（0.６０５ｍｍｏｌ）を加えた。１５分攪拌した
後、−７８℃に冷却し、水素化ホウ素ナトリウム２8.６
ｍｇ（0.７５７ｍｍｏｌ）を加え、さらにメタノール0.
５２５ｍｌを１時間かけて滴下した後、９時間攪拌し
た。水で反応を停止させ、酢酸エチルで抽出、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。得られた粗生成物を大気中でＴ
ＨＦに溶かし、過酸化水素水を加え、３０分攪拌した。
水で希釈して、酢酸エチルで抽出後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、シリカゲルのフラッシュクロマトグラフィ
ー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製した。 収量 ５1.２ｍｇ，収率 ６６％ Ｒｆ 0.２５（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3) δ 1.55(s,9H)1.93-2.01(m,
2H),2.58(d,J=5.93Hz,2H),4.40(br,1H),4.43(br,1H) ＩＲ（neat) 3350, 1735, 1370, 1150, 800cm -1 ［α］D 23 −１9.７（ｃ 0.73,ＣＨＣｌ3)
テル７7.１ｍｇ（0.２５２ｍｍｏｌ）を入れて、減圧乾
燥、アルゴン置換した後、ＴＨＦ２ｍｌに溶かし、２３
℃で1.０規定のトリエチルボランヘキサン溶液0.６０５
ｍｌ（0.６０５ｍｍｏｌ）を加えた。１５分攪拌した
後、−７８℃に冷却し、水素化ホウ素ナトリウム２8.６
ｍｇ（0.７５７ｍｍｏｌ）を加え、さらにメタノール0.
５２５ｍｌを１時間かけて滴下した後、９時間攪拌し
た。水で反応を停止させ、酢酸エチルで抽出、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。得られた粗生成物を大気中でＴ
ＨＦに溶かし、過酸化水素水を加え、３０分攪拌した。
水で希釈して、酢酸エチルで抽出後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、シリカゲルのフラッシュクロマトグラフィ
ー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製した。 収量 ５1.２ｍｇ，収率 ６６％ Ｒｆ 0.２５（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3) δ 1.55(s,9H)1.93-2.01(m,
2H),2.58(d,J=5.93Hz,2H),4.40(br,1H),4.43(br,1H) ＩＲ（neat) 3350, 1735, 1370, 1150, 800cm -1 ［α］D 23 −１9.７（ｃ 0.73,ＣＨＣｌ3)
【００２５】参考例３ （４Ｒ，６Ｓ）−６−トリクロロメチル−４−ヒドロキ
シ−テトラヒドロ−２−ピロンの合成
シ−テトラヒドロ−２−ピロンの合成
【００２６】
【化１０】
【００２７】５０ｍｌナスフラスコにβ，δ−ジヒドロ
キシエステル４2.９ｍｇ（0.１３９ｍｍｏｌ）を入れ、
減圧乾燥、アルゴン置換した後、塩化メチレン１0.７ｍ
ｌに溶かした。氷浴で０℃に冷却してから、トリフルオ
ロ酢酸1.０６ｍｌ（１3.９ｍｍｏｌ）を加え、１２時間
攪拌した。１，２−ジクロロエタンを加え、溶媒をエバ
ポレーターで除去した。この粗生成物にあらかじめ塩酸
にてｐＨ3.４１に調製したトルエン8.８ｍｌと、乾燥さ
せたモレキュラーシーブズ３Ａ１３２ｍｇを入れ、５０
℃で２４時間攪拌した。反応終了後、セライト濾過でモ
レキュラーシーブズを除去、溶液を濃縮して、シリカゲ
ルのフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エ
チル＝１：１）で精製した。 収量 ２8.３ｍｇ，収率 ８５％ Ｒｆ 0.３（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ 2.03-2.63(m,2H),2.75(d
d,J=3.30,3.63Hz,2H),4.57(ddd,J=3.30,3.63,6.27Hz,1
H),5.18(dd,J=3.63,11.21Hz,1H)s ＩＲ（neat) 3510, 1730, 1240, 1080, 795cm -1 ［α］D 23 −１0.８（ｃ 0.78,ＣＨＣｌ3)
キシエステル４2.９ｍｇ（0.１３９ｍｍｏｌ）を入れ、
減圧乾燥、アルゴン置換した後、塩化メチレン１0.７ｍ
ｌに溶かした。氷浴で０℃に冷却してから、トリフルオ
ロ酢酸1.０６ｍｌ（１3.９ｍｍｏｌ）を加え、１２時間
攪拌した。１，２−ジクロロエタンを加え、溶媒をエバ
ポレーターで除去した。この粗生成物にあらかじめ塩酸
にてｐＨ3.４１に調製したトルエン8.８ｍｌと、乾燥さ
せたモレキュラーシーブズ３Ａ１３２ｍｇを入れ、５０
℃で２４時間攪拌した。反応終了後、セライト濾過でモ
レキュラーシーブズを除去、溶液を濃縮して、シリカゲ
ルのフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エ
チル＝１：１）で精製した。 収量 ２8.３ｍｇ，収率 ８５％ Ｒｆ 0.３（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ 2.03-2.63(m,2H),2.75(d
d,J=3.30,3.63Hz,2H),4.57(ddd,J=3.30,3.63,6.27Hz,1
H),5.18(dd,J=3.63,11.21Hz,1H)s ＩＲ（neat) 3510, 1730, 1240, 1080, 795cm -1 ［α］D 23 −１0.８（ｃ 0.78,ＣＨＣｌ3)
【００２８】参考例４ （４Ｒ，６Ｓ）−４−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−６
−トリクロロメチル−テトラヒドロ−２−ピロンの合成
−トリクロロメチル−テトラヒドロ−２−ピロンの合成
【００２９】
【化１１】
【００３０】３０ｍｌ二口ナスフラスコに６−トリクロ
ロ−δ−バレロラクトン１６6.４ｍｇ（0.６９５ｍｍｏ
ｌ）を入れ、減圧乾燥、アルゴン置換後、ＤＭＦ2,５ｍ
ｌに溶解した。次にイミダゾール３３5.７ｍｇ（4.８６
ｍｍｏｌ）、ｔ−ブチルジメチルクロロシロキサン５２
4.５ｍｇ（3.４８ｍｍｏｌ）を入れ、１0.５時間攪拌し
た。飽和食塩水で反応を停止し、酢酸エチルで抽出、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮し、シリカゲルのフラ
ッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝
５：１）で精製した。 収量 １3.８ｍｇ，収率 ９３％ Ｒｆ 0.２５（ヘキサン：酢酸エチル＝８：１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ 0.78(s,9H),1.86-2.38
(m,2H),2.53(d,J=2.64,2H),4.35(m,1H),4.96(dd,J=3.6
3,11.05Hz,1H)) ＩＲ（neat) 1745, 1250, 1085, 778cm -1 ［α］D 23 −１2.９（ｃ 1.02,ＣＨＣｌ3)
ロ−δ−バレロラクトン１６6.４ｍｇ（0.６９５ｍｍｏ
ｌ）を入れ、減圧乾燥、アルゴン置換後、ＤＭＦ2,５ｍ
ｌに溶解した。次にイミダゾール３３5.７ｍｇ（4.８６
ｍｍｏｌ）、ｔ−ブチルジメチルクロロシロキサン５２
4.５ｍｇ（3.４８ｍｍｏｌ）を入れ、１0.５時間攪拌し
た。飽和食塩水で反応を停止し、酢酸エチルで抽出、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮し、シリカゲルのフラ
ッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝
５：１）で精製した。 収量 １3.８ｍｇ，収率 ９３％ Ｒｆ 0.２５（ヘキサン：酢酸エチル＝８：１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ 0.78(s,9H),1.86-2.38
(m,2H),2.53(d,J=2.64,2H),4.35(m,1H),4.96(dd,J=3.6
3,11.05Hz,1H)) ＩＲ（neat) 1745, 1250, 1085, 778cm -1 ［α］D 23 −１2.９（ｃ 1.02,ＣＨＣｌ3)
【００３１】参考例５ （４Ｒ，６Ｓ）−４−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−６
−モノクロロメチル−テトラヒドロ−２−ピロンの合成
−モノクロロメチル−テトラヒドロ−２−ピロンの合成
【００３２】
【化１２】
【００３３】３０ｍｌ二口ナスフラスコに４−ｔ−ブチ
ルジメチルシロキシ−６−トリクロロ−δ−バレロラク
トン５3.３ｍｇ（0.１５ｍｍｏｌ）を入れ、減圧乾燥、
アルゴン置換後、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）１ｍｌで
溶かした。次に水素化トリｎ−ブチルスズ１４９ｍｇ
（0.５１２ｍｍｏｌ）のＤＭＥ１ｍｌ溶液を加えて、１
１時間加熱還流した。そのまま濃縮し、得られた粗生成
物をＮＨ4 Ｆ３７9.４ｍｇとエーテル８ｍｌで処理し
た。セライト濾過、酢酸エチルで抽出した後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルのフラッシュ
クロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）
で精製した。 収量 ４8.８ｍｇ，収率 ９２％ Ｒｆ 0.２５（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ 0.79(s,9H),1.77-1.91
(m,2H),3.64(ddd,J=3.96,5.28.11.55Hz,2H),4.28-4.30
(m,1H),4.80-4.89(m.1H) ＩＲ（neat) 1740, 1260, 1090, 840cm -1 ［α］D 23 −１2.６（ｃ 0.86,ＣＨＣｌ3)
ルジメチルシロキシ−６−トリクロロ−δ−バレロラク
トン５3.３ｍｇ（0.１５ｍｍｏｌ）を入れ、減圧乾燥、
アルゴン置換後、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）１ｍｌで
溶かした。次に水素化トリｎ−ブチルスズ１４９ｍｇ
（0.５１２ｍｍｏｌ）のＤＭＥ１ｍｌ溶液を加えて、１
１時間加熱還流した。そのまま濃縮し、得られた粗生成
物をＮＨ4 Ｆ３７9.４ｍｇとエーテル８ｍｌで処理し
た。セライト濾過、酢酸エチルで抽出した後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルのフラッシュ
クロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）
で精製した。 収量 ４8.８ｍｇ，収率 ９２％ Ｒｆ 0.２５（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ 0.79(s,9H),1.77-1.91
(m,2H),3.64(ddd,J=3.96,5.28.11.55Hz,2H),4.28-4.30
(m,1H),4.80-4.89(m.1H) ＩＲ（neat) 1740, 1260, 1090, 840cm -1 ［α］D 23 −１2.６（ｃ 0.86,ＣＨＣｌ3)
【００３４】これから先の反応はすでに知られており、
コンパクチン誘導体へと導くことができる。
コンパクチン誘導体へと導くことができる。
【００３５】
【化１３】
【００３６】
【発明の効果】（Ｓ）−β−トリクロロメチル−β−プ
ロピオラクトンをアシル化剤に用いて反応を行った結
果、 １．（Ｓ）−β−トリクロロメチル−β−プロピオラク
トンをアシル化剤に用いて酢酸エステルリチウムエノラ
ートと反応を行うことで、１工程で光学活性δ−ヒドロ
キシ−β−ケトエステルを提供できる。 ２．（Ｓ）−β−トリクロロメチル−β−プロピオラク
トンを出発原料に用いたδ−ヒドロキシ−β−ケトエス
テルを原料に用いることで、簡単な操作で目的のδ−バ
レロラクトンを得ることができる。 ３．光学活性δ−バレロラクトンはコンパクチオン誘導
体などの合成中間体に導くことのできる有用な化合物で
ある。 このように光学活性β−トリクロロメチル−β−プロピ
オラクトンをアシル化剤に用いることは、不斉炭素を保
持しつつ、３炭素増炭できる有用な方法である。
ロピオラクトンをアシル化剤に用いて反応を行った結
果、 １．（Ｓ）−β−トリクロロメチル−β−プロピオラク
トンをアシル化剤に用いて酢酸エステルリチウムエノラ
ートと反応を行うことで、１工程で光学活性δ−ヒドロ
キシ−β−ケトエステルを提供できる。 ２．（Ｓ）−β−トリクロロメチル−β−プロピオラク
トンを出発原料に用いたδ−ヒドロキシ−β−ケトエス
テルを原料に用いることで、簡単な操作で目的のδ−バ
レロラクトンを得ることができる。 ３．光学活性δ−バレロラクトンはコンパクチオン誘導
体などの合成中間体に導くことのできる有用な化合物で
ある。 このように光学活性β−トリクロロメチル−β−プロピ
オラクトンをアシル化剤に用いることは、不斉炭素を保
持しつつ、３炭素増炭できる有用な方法である。
Claims (1)
- 【請求項１】式（１） 【化１】 の化合物に、ＣＨ3 ＣＯＯＲ（ＲはＣ1-4 のアルキル基
を示す。）とリチウムジイソプロピルアミドを反応させ
ることを特徴とする式（２） 【化２】 （式中、Ｒは前記と同じ意味を示す。）で表される
（Ｓ）−６，６，６−トリクロロ−５−ヒドロキシ−３
−オキソヘキサン酸エステルの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26514296A JPH1087568A (ja) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | 光学活性δ−ヒドロキシ−β−ケトエステルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26514296A JPH1087568A (ja) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | 光学活性δ−ヒドロキシ−β−ケトエステルの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1087568A true JPH1087568A (ja) | 1998-04-07 |
Family
ID=17413221
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26514296A Withdrawn JPH1087568A (ja) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | 光学活性δ−ヒドロキシ−β−ケトエステルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1087568A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007509105A (ja) * | 2003-10-24 | 2007-04-12 | ロンザ ア−ゲ− | ６，６，６−トリハロ−３，５−ジオキソヘキサン酸エステルの生産方法 |
| JP2007513077A (ja) * | 2003-11-11 | 2007-05-24 | ラティオファルム ゲー・エム・ベー・ハー | スタチン類の製造方法 |
-
1996
- 1996-09-13 JP JP26514296A patent/JPH1087568A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007509105A (ja) * | 2003-10-24 | 2007-04-12 | ロンザ ア−ゲ− | ６，６，６−トリハロ−３，５−ジオキソヘキサン酸エステルの生産方法 |
| JP2007513077A (ja) * | 2003-11-11 | 2007-05-24 | ラティオファルム ゲー・エム・ベー・ハー | スタチン類の製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| HU207288B (en) | Process for enenthioselective producing phenyl-isoserine derivatives | |
| JP4659309B2 (ja) | ５−ヒドロキシ−３−オキソペンタン酸誘導体の製造法 | |
| JPH1087568A (ja) | 光学活性δ−ヒドロキシ−β−ケトエステルの製造法 | |
| KR100208312B1 (ko) | 2,4- 디히드록시아디프산 유도체 | |
| US5292946A (en) | In-situ preparation of diisopinocamphenyl chloroborane | |
| JP3276707B2 (ja) | 光学活性β−ヒドロキシケトンの製造法 | |
| JPH0592963A (ja) | Ｐａｆ拮抗剤として有用な２，５−ジアリールテトラヒドロフラン類及びその類縁体の製造方法 | |
| JP2006527751A (ja) | ラセミ体の２−｛［２−（４−ヒドロキシフェニル）エチル］チオ｝−３−［４−（２−｛４−［（メチルスルホニル）オキシ］フェノキシ｝エチル）フェニル］プロパン酸を製造するための方法 | |
| JP4399885B2 (ja) | ４−メチルテトラフルオロベンジルアルコール誘導体の製造法 | |
| EP0232822B1 (en) | Process for preparing optically active fluorine-containing compounds | |
| JP3541417B2 (ja) | フェニル置換ヒドロキシシクロペンテノン類、ペンタノン類及びフェニル置換プロスタグランジンｉ２類中間体並びにその製造法及び光学分割法 | |
| US4709064A (en) | β-N-substituted aminothiol ester and process for preparing the same | |
| Fox et al. | An Enantioconvergent Synthesis of (R)‐4‐Aryloxy‐1‐butyne‐3‐ols for Prostanoid Side Chains | |
| US4501909A (en) | Aminopolyol derivatives | |
| JP3748933B2 (ja) | １−置換アゼチジノン誘導体の製造法 | |
| JP3605855B2 (ja) | α−デヒドロアミノ酸エステルの製造法 | |
| EP1293494B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von alpha-Halogenketonen | |
| JP2558491B2 (ja) | α，βー不飽和カルボニル化合物のオルガノチオメチル化方法 | |
| JP2582809B2 (ja) | 新規ピロリジン誘導体およびその製法 | |
| JP3403761B2 (ja) | ３，５―ジヒドロキシ―１―オクテン―７―イン類及びその製造方法 | |
| JP4157175B2 (ja) | ２′−ピロリジンプロパン酸誘導体の製造方法 | |
| JPS62221665A (ja) | アゼチジノンの製造法及び中間体 | |
| JPH07238045A (ja) | フェニル置換ヒドロキシシクロペンテノン類及びその製造方法並びにフェニル置換ヒドロキシシクロペンタノンの製造方法 | |
| JPH1087645A (ja) | β−アミノエステルの製造法 | |
| JPH0770053A (ja) | フッ素化ビタミンｄ誘導体および製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20031202 |