JP3275380B2 - 触媒被覆層の形成方法 - Google Patents
触媒被覆層の形成方法Info
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- JP3275380B2 JP3275380B2 JP22816092A JP22816092A JP3275380B2 JP 3275380 B2 JP3275380 B2 JP 3275380B2 JP 22816092 A JP22816092 A JP 22816092A JP 22816092 A JP22816092 A JP 22816092A JP 3275380 B2 JP3275380 B2 JP 3275380B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】 本発明は、灯油等の液体燃料や
都市ガス等の気体燃料を空気と混合させた後に触媒燃焼
させるために使用する触媒燃焼用触媒、あるいは家電住
設機器、自動車等から発生する排ガスを無害化するため
に使用する浄化用触媒の製造方法に関するものである。
都市ガス等の気体燃料を空気と混合させた後に触媒燃焼
させるために使用する触媒燃焼用触媒、あるいは家電住
設機器、自動車等から発生する排ガスを無害化するため
に使用する浄化用触媒の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】 従来、一般的に用いられている触媒は
ハニカム状セラミックス、あるいは金属ハニカムにウォ
ッシュコートと呼ばれる活性アルミナ等から成る被覆層
を形成させている。その結果、比表面積を通常１０〜５
０ｍ2／ｇに増大させることがで き、前記担体被覆層
に白金族金属等の触媒金属を被覆層形成後に担持あるい
は形成前の粉末に吸着担持して調製することができる。
ここで被覆層活性アルミナには耐熱性を向上させるため
にアルカリ土類金属を添加したり、助触媒として希土類
金属酸化物（酸化セリウム、酸化ランタン等）を添加す
る場合が多い。
ハニカム状セラミックス、あるいは金属ハニカムにウォ
ッシュコートと呼ばれる活性アルミナ等から成る被覆層
を形成させている。その結果、比表面積を通常１０〜５
０ｍ2／ｇに増大させることがで き、前記担体被覆層
に白金族金属等の触媒金属を被覆層形成後に担持あるい
は形成前の粉末に吸着担持して調製することができる。
ここで被覆層活性アルミナには耐熱性を向上させるため
にアルカリ土類金属を添加したり、助触媒として希土類
金属酸化物（酸化セリウム、酸化ランタン等）を添加す
る場合が多い。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このような従来の触媒
被覆層の形成方法では、以下の点が問題となっていた。
ハニカム状セラミックスあるいは金属ハニカムをウォッ
シュコートスラリーに浸漬、乾燥、焼成して、触媒被覆
層形成すると、その被覆層は強い固体塩基性を示す。す
なわち活性アルミナの耐熱性を向上させるために添加さ
れたアルカリ土類金属や助触媒（希土類金属酸化物）の
影響である。これを無視して触媒被覆層の形成を継続す
ると、ウォッシュコートスラリーは通常約ｐＨ３〜４
（粘度が最も低い領域）にコントロールされなければな
らないのに、次第に中性側にシフトし、スラリー粘度は
急激に上昇し、ハニカム状セラミックスあるいは金属ハ
ニカムに触媒被覆層を形成する作業が困難になってい
た。
被覆層の形成方法では、以下の点が問題となっていた。
ハニカム状セラミックスあるいは金属ハニカムをウォッ
シュコートスラリーに浸漬、乾燥、焼成して、触媒被覆
層形成すると、その被覆層は強い固体塩基性を示す。す
なわち活性アルミナの耐熱性を向上させるために添加さ
れたアルカリ土類金属や助触媒（希土類金属酸化物）の
影響である。これを無視して触媒被覆層の形成を継続す
ると、ウォッシュコートスラリーは通常約ｐＨ３〜４
（粘度が最も低い領域）にコントロールされなければな
らないのに、次第に中性側にシフトし、スラリー粘度は
急激に上昇し、ハニカム状セラミックスあるいは金属ハ
ニカムに触媒被覆層を形成する作業が困難になってい
た。
【０００４】本発明は上記課題を解決するものであり、
連通孔を有する構造体に触媒被覆層を作業性、生産性よ
く均一に形成することができる製造方法を提供すること
を目的としている。
連通孔を有する構造体に触媒被覆層を作業性、生産性よ
く均一に形成することができる製造方法を提供すること
を目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、連通孔を有する構造体をスラリー中に浸
漬、乾燥、焼成して触媒被覆層を形成し、前記構造体に
さらに触媒被覆層を形成させる際、構造体に形成した触
媒被覆層を酸性水溶液に浸漬し、中性あるいは弱酸性に
した後、スラリー中に浸漬、乾燥、焼成して触媒被覆層
を形成させる。
するために、連通孔を有する構造体をスラリー中に浸
漬、乾燥、焼成して触媒被覆層を形成し、前記構造体に
さらに触媒被覆層を形成させる際、構造体に形成した触
媒被覆層を酸性水溶液に浸漬し、中性あるいは弱酸性に
した後、スラリー中に浸漬、乾燥、焼成して触媒被覆層
を形成させる。
【０００６】
【作用】本発明は上記した構成により、ハニカム状セラ
ミックスに触媒被覆層を形成した後、酸性水溶液に浸漬
し、触媒被覆層を中性あるいは弱酸性にし、その後スラ
リーに浸漬、乾燥、焼成して触媒被覆層を形成するの
で、焼成後の触媒被覆層が強い固体塩基性であってもス
ラリーのｐＨに焼成後の触媒被覆層が影響を与えること
はなくなる。
ミックスに触媒被覆層を形成した後、酸性水溶液に浸漬
し、触媒被覆層を中性あるいは弱酸性にし、その後スラ
リーに浸漬、乾燥、焼成して触媒被覆層を形成するの
で、焼成後の触媒被覆層が強い固体塩基性であってもス
ラリーのｐＨに焼成後の触媒被覆層が影響を与えること
はなくなる。
【０００７】
【実施例】以下、具体的な実施例を数字を挙げながら説
明する。
明する。
【０００８】（実施例１） ハニカム状セラミックス（１０６φmm×９１mm、４００
セル／inch2、リフ゛厚0.15mm）１０個を、ＢａＯ・Ａｌ2Ｏ3
・ＣｅＯ2粉末（比表面積１２０ｍ2／ｇ）１５００ｇ、
硝酸アルミニウム９水塩６０ｇ、水２５００ｇおよびジ
ニトロジアンミン白金水溶液とジニトロジアンミンパラ
ジウム水溶液をそれぞれＰｔ、Ｐｄ換算で５ｇ、１０ｇ
加えてなるウォッシュコートスラリーに順次浸漬した
後、引き上げて余分なスラリーをエアーガンで除き、乾
燥、５００℃、１時間焼成した。その結果それぞれのハ
ニカム状セラミックスには触媒被覆層が約３５ｇ形成さ
れた。その後触媒被覆層が形成されたハニカム状セラミ
ックスをｐＨ３にコントロールされた硝酸塩水溶液に浸
漬して触媒被覆層を中性あるいは弱酸性にした後、触媒
被覆層が形成されたハニカム状セラミックスを上記ウォ
ッシュコートスラリーに順次浸漬した後、引き上げて余
分なスラリーをエアーガンで除き、乾燥、５００℃、１
時間焼成した。その結果それぞれのハニカム状セラミッ
クスには触媒被覆層が計約５５ｇ形成された。さらに触
媒被覆層が形成されたハニカム状セラミックスをｐＨ３
にコントロールされた硝酸塩水溶液に浸漬して触媒被覆
層を中性あるいは弱酸性にした後、触媒被覆層が形成さ
れたハニカム状セラミックスを上記ウォッシュコートス
ラリーに順次浸漬した後、引き上げて余分なスラリーを
エアーガンで除き、乾燥、５００℃、１時間焼成した。
その結果それぞれのハニカム状セラミックスには触媒被
覆層が計約８０ｇ形成された。
セル／inch2、リフ゛厚0.15mm）１０個を、ＢａＯ・Ａｌ2Ｏ3
・ＣｅＯ2粉末（比表面積１２０ｍ2／ｇ）１５００ｇ、
硝酸アルミニウム９水塩６０ｇ、水２５００ｇおよびジ
ニトロジアンミン白金水溶液とジニトロジアンミンパラ
ジウム水溶液をそれぞれＰｔ、Ｐｄ換算で５ｇ、１０ｇ
加えてなるウォッシュコートスラリーに順次浸漬した
後、引き上げて余分なスラリーをエアーガンで除き、乾
燥、５００℃、１時間焼成した。その結果それぞれのハ
ニカム状セラミックスには触媒被覆層が約３５ｇ形成さ
れた。その後触媒被覆層が形成されたハニカム状セラミ
ックスをｐＨ３にコントロールされた硝酸塩水溶液に浸
漬して触媒被覆層を中性あるいは弱酸性にした後、触媒
被覆層が形成されたハニカム状セラミックスを上記ウォ
ッシュコートスラリーに順次浸漬した後、引き上げて余
分なスラリーをエアーガンで除き、乾燥、５００℃、１
時間焼成した。その結果それぞれのハニカム状セラミッ
クスには触媒被覆層が計約５５ｇ形成された。さらに触
媒被覆層が形成されたハニカム状セラミックスをｐＨ３
にコントロールされた硝酸塩水溶液に浸漬して触媒被覆
層を中性あるいは弱酸性にした後、触媒被覆層が形成さ
れたハニカム状セラミックスを上記ウォッシュコートス
ラリーに順次浸漬した後、引き上げて余分なスラリーを
エアーガンで除き、乾燥、５００℃、１時間焼成した。
その結果それぞれのハニカム状セラミックスには触媒被
覆層が計約８０ｇ形成された。
【０００９】ウォッシュコートスラリーのｐＨは１０個
のハニカム状セラミックスに触媒被覆層を形成した後も
ほとんど最初の値と同じであった。
のハニカム状セラミックスに触媒被覆層を形成した後も
ほとんど最初の値と同じであった。
【００１０】実施例１では、触媒被覆層を中和するのに
硝酸塩水溶液を使用したが、その他酢酸塩水溶液、蓚酸
塩水溶液でもよい。またその酸性水溶液のｐＨは３にコ
ントロールしたものを使用したが、ウォッシュコートス
ラリーのｐＨに近いものであることが好ましい。
硝酸塩水溶液を使用したが、その他酢酸塩水溶液、蓚酸
塩水溶液でもよい。またその酸性水溶液のｐＨは３にコ
ントロールしたものを使用したが、ウォッシュコートス
ラリーのｐＨに近いものであることが好ましい。
【００１１】なお、比較例として実施例１と同様にハニ
カム状セラミックス（１０６φmm×９１mm、４００セル／
inch2、リフ゛厚0.15mm）１０個に触媒被覆層を計約８０ｇ
形成する作業を行った。
カム状セラミックス（１０６φmm×９１mm、４００セル／
inch2、リフ゛厚0.15mm）１０個に触媒被覆層を計約８０ｇ
形成する作業を行った。
【００１２】しかし、触媒被覆層形成を２回行った後、
スラリーのｐＨは約６まで変化し、粘度はかなり上昇し
ていた。したがってそのままで３回目の触媒被覆を行う
ことは無理であった。
スラリーのｐＨは約６まで変化し、粘度はかなり上昇し
ていた。したがってそのままで３回目の触媒被覆を行う
ことは無理であった。
【００１３】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によればハニカム状セラミックスに触媒被覆層を形成し
た後、酸性水溶液に浸漬し、触媒被覆層を中性あるいは
弱酸性にし、その後スラリーに浸漬、乾燥、焼成して触
媒被覆層を形成するので、焼成後の触媒被覆層が強い固
体塩基性であってもスラリーのｐＨに焼成後の触媒被覆
層が影響を与えることはなくなる。
によればハニカム状セラミックスに触媒被覆層を形成し
た後、酸性水溶液に浸漬し、触媒被覆層を中性あるいは
弱酸性にし、その後スラリーに浸漬、乾燥、焼成して触
媒被覆層を形成するので、焼成後の触媒被覆層が強い固
体塩基性であってもスラリーのｐＨに焼成後の触媒被覆
層が影響を与えることはなくなる。
【００１４】よって、触媒被覆層を作業性、生産性よく
均一に形成するための製造方法を提供することができ
る。
均一に形成するための製造方法を提供することができ
る。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B01J 21/00 - 38/74 B01D 53/86
Claims (1)
- 【請求項１】連通孔を有する構造体を、スラリー中に浸
漬、乾燥、焼成して触媒被覆層を形成する工程の後、前
記構造体にさらに触媒被覆層を形成させる工程の前に、
酸性水溶液に浸漬する工程を設け、前記構造体に形成し
た触媒被覆層を中性あるいは弱酸性にすることを特徴と
する触媒被覆層の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22816092A JP3275380B2 (ja) | 1992-08-27 | 1992-08-27 | 触媒被覆層の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22816092A JP3275380B2 (ja) | 1992-08-27 | 1992-08-27 | 触媒被覆層の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0671186A JPH0671186A (ja) | 1994-03-15 |
| JP3275380B2 true JP3275380B2 (ja) | 2002-04-15 |
Family
ID=16872175
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22816092A Expired - Fee Related JP3275380B2 (ja) | 1992-08-27 | 1992-08-27 | 触媒被覆層の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3275380B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4716010B2 (ja) * | 2005-09-08 | 2011-07-06 | 株式会社豊田中央研究所 | 触媒の製造方法 |
| JP2010247079A (ja) * | 2009-04-16 | 2010-11-04 | Denso Corp | 排ガス浄化触媒の製造方法 |
-
1992
- 1992-08-27 JP JP22816092A patent/JP3275380B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0671186A (ja) | 1994-03-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |