JP3262815B2 - 平滑ガラス基板およびその製造方法 - Google Patents
平滑ガラス基板およびその製造方法Info
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Description
【０００１】
【発明の技術分野】本発明は、液晶表示素子、プラズマ
ディスプレイ、光ディスク、磁気ディスク等に用いられ
ている平滑ガラス基板およびその製造方法に関し、さら
に詳しくは、膜形成時の収縮ストレスに基づくクラック
の発生がなく、しかも塗布液組成物の分解による被膜の
ボイドがなく、緻密なシリカ系被膜が、表面の平滑化膜
として表面上に形成されたガラス基板、およびこの平滑
ガラス基板の製造方法に関する。本発明は、さらに、こ
のような平滑ガラス基板を用いて形成された透明電極基
板を有する液晶表示装置にも関する。
ディスプレイ、光ディスク、磁気ディスク等に用いられ
ている平滑ガラス基板およびその製造方法に関し、さら
に詳しくは、膜形成時の収縮ストレスに基づくクラック
の発生がなく、しかも塗布液組成物の分解による被膜の
ボイドがなく、緻密なシリカ系被膜が、表面の平滑化膜
として表面上に形成されたガラス基板、およびこの平滑
ガラス基板の製造方法に関する。本発明は、さらに、こ
のような平滑ガラス基板を用いて形成された透明電極基
板を有する液晶表示装置にも関する。
【０００２】
【発明の技術的背景】液晶表示素子、プラズマディスプ
レイ、光ディスク、磁気ディスク等の基板としてガラス
基板等が用いられている。
レイ、光ディスク、磁気ディスク等の基板としてガラス
基板等が用いられている。
【０００３】このような基板としてガラス基板を用いた
場合、ガラス表面の微細なうねりや凹凸が、表示素子や
記録素子の形成時に悪影響を及ぼすことがあった。この
ためガラス基板の表面を平滑にする必要があり、平滑化
の方法として、ガラス表面を物理的、化学的に研磨する
方法が知られている。
場合、ガラス表面の微細なうねりや凹凸が、表示素子や
記録素子の形成時に悪影響を及ぼすことがあった。この
ためガラス基板の表面を平滑にする必要があり、平滑化
の方法として、ガラス表面を物理的、化学的に研磨する
方法が知られている。
【０００４】しかしながら、これらの研磨法によりガラ
ス表面を平滑化すると、コストが高くなり、また、生産
効率が悪くなるという問題点がある。このため、ガラス
表面に塗布液を塗布することによって被膜を形成し、ガ
ラス表面を平滑にする方法が望まれているが、満足な平
滑表面を形成し得るような塗布液は得られていない。
ス表面を平滑化すると、コストが高くなり、また、生産
効率が悪くなるという問題点がある。このため、ガラス
表面に塗布液を塗布することによって被膜を形成し、ガ
ラス表面を平滑にする方法が望まれているが、満足な平
滑表面を形成し得るような塗布液は得られていない。
【０００５】
【発明の目的】本発明は、上記のような従来技術におけ
る問題点を解決しようとするものであって、ボイド、ピ
ンホール、クラック等のない緻密なシリカ系被膜で表面
が平滑化された平滑ガラス基板を提供することを目的と
し、またこのような平滑ガラス基板の製造方法を提供す
ることを目的としている。
る問題点を解決しようとするものであって、ボイド、ピ
ンホール、クラック等のない緻密なシリカ系被膜で表面
が平滑化された平滑ガラス基板を提供することを目的と
し、またこのような平滑ガラス基板の製造方法を提供す
ることを目的としている。
【０００６】
【発明の概要】本発明に係る平滑ガラス基板は、下記一
般式（Ｉ）
般式（Ｉ）
【０００７】
【化３】
【０００８】（ただし、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は、それ
ぞれ独立して水素原子または炭素原子数１〜８のアルキ
ル基である。）で表わされる繰り返し単位を有し、重量
平均分子量が５００〜２７００の範囲にあるポリシラザ
ンの１種または２種以上を含む塗布液を、ガラス基板に
塗布したのち、得られた塗膜を酸化雰囲気中で紫外線照
射したのち、加熱することにより硬化して形成されたシ
リカ系被膜で、ガラス基板の表面が被覆されることを特
徴としている。
ぞれ独立して水素原子または炭素原子数１〜８のアルキ
ル基である。）で表わされる繰り返し単位を有し、重量
平均分子量が５００〜２７００の範囲にあるポリシラザ
ンの１種または２種以上を含む塗布液を、ガラス基板に
塗布したのち、得られた塗膜を酸化雰囲気中で紫外線照
射したのち、加熱することにより硬化して形成されたシ
リカ系被膜で、ガラス基板の表面が被覆されることを特
徴としている。
【０００９】またこのような平滑ガラス基板は、前記塗
布液をガラス基板に塗布したのち、得られた塗膜を酸化
雰囲気中での加熱および／または酸化雰囲気中での紫外
線照射により硬化して、シリカ系被膜をガラス基板上に
形成する工程を含んで製造される。
布液をガラス基板に塗布したのち、得られた塗膜を酸化
雰囲気中での加熱および／または酸化雰囲気中での紫外
線照射により硬化して、シリカ系被膜をガラス基板上に
形成する工程を含んで製造される。
【００１０】
【発明の具体的説明】以下本発明に係る平滑ガラス基板
およびその製造方法について、具体的に説明する。
およびその製造方法について、具体的に説明する。
【００１１】本発明に係る平滑ガラス基板は、ガラス基
板の表面が、
板の表面が、
【００１２】
【化４】
【００１３】（ただし、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は、それ
ぞれ独立して水素原子または炭素原子数１〜８のアルキ
ル基である。）で表わされる繰り返し単位を有するポリ
シラザンの１種または２種以上を含む塗布液から形成さ
れたシリカ系被膜で被覆されている。
ぞれ独立して水素原子または炭素原子数１〜８のアルキ
ル基である。）で表わされる繰り返し単位を有するポリ
シラザンの１種または２種以上を含む塗布液から形成さ
れたシリカ系被膜で被覆されている。
【００１４】ガラス基板を形成するガラスとしては、特
に制限はなく用いられ、具体的には、ソーダライムガラ
ス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラ
ス、ホウ珪酸ガラス、結晶化ガラスなどが例示される。
に制限はなく用いられ、具体的には、ソーダライムガラ
ス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラ
ス、ホウ珪酸ガラス、結晶化ガラスなどが例示される。
【００１５】本発明の平滑ガラス基板では、通常ガラス
基板の片面が上記のようなシリカ系被膜で被覆されてい
るが、両面が上記のようなシリカ系被膜で被覆されてい
てもよい。
基板の片面が上記のようなシリカ系被膜で被覆されてい
るが、両面が上記のようなシリカ系被膜で被覆されてい
てもよい。
【００１６】前記式（１）においてＲ1 、Ｒ2 およびＲ
3 がアルキル基である場合、アルキル基としてはメチル
基、エチル基およびプロピル基から選ばれる１種が好ま
しい。特にＲ1 、Ｒ2 およびＲ3 がいずれも水素原子で
ある場合が好ましく、この場合には、加熱時に分解する
アルキル基がなく、膜収縮が少なく、このため膜形成時
の収縮ストレスに基づくクラックが生じることが少なく
なり、クラックのほとんどない平滑ガラス基板が得られ
る。
3 がアルキル基である場合、アルキル基としてはメチル
基、エチル基およびプロピル基から選ばれる１種が好ま
しい。特にＲ1 、Ｒ2 およびＲ3 がいずれも水素原子で
ある場合が好ましく、この場合には、加熱時に分解する
アルキル基がなく、膜収縮が少なく、このため膜形成時
の収縮ストレスに基づくクラックが生じることが少なく
なり、クラックのほとんどない平滑ガラス基板が得られ
る。
【００１７】また、上記式（１）で表わされる繰り返し
単位を有するポリシラザンは、直鎖状であっても、環状
であってもよく、直鎖状のポリシラザンと環状のポリシ
ラザンの両者が含まれていてもよい。
単位を有するポリシラザンは、直鎖状であっても、環状
であってもよく、直鎖状のポリシラザンと環状のポリシ
ラザンの両者が含まれていてもよい。
【００１８】さらに、このようなポリシラザンの重量平
均分子量は、５００〜２，７００、好ましくは１，００
０〜２，７００の範囲にあることが望ましい。重量平均
分子量が５００未満では、加熱硬化時に低分子量のポリ
シラザンが揮発し、得られたシリカ系被膜が多孔質にな
りやすく、また、分子量が２，７００を越えると、塗布
液の流動性が低下し、被膜の平滑性が悪くなるという傾
向がある。
均分子量は、５００〜２，７００、好ましくは１，００
０〜２，７００の範囲にあることが望ましい。重量平均
分子量が５００未満では、加熱硬化時に低分子量のポリ
シラザンが揮発し、得られたシリカ系被膜が多孔質にな
りやすく、また、分子量が２，７００を越えると、塗布
液の流動性が低下し、被膜の平滑性が悪くなるという傾
向がある。
【００１９】本発明において用いられる被膜形成用塗布
液は、通常、有機溶媒中に上記ポリシラザンを溶解して
形成される。このような有機溶媒としては、ポリシラザ
ンを溶解し、塗布液に流動性を付与するものであれば特
に制限はなく、具体的には、シクロヘキサン、トルエ
ン、キシレン、ヘキシレン等の炭化水素、塩化メチレ
ン、塩化エチレン、トリクロロエタン等のハロゲン化炭
化水素、エチルブチルエーテル、ジブチルエーテル、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類等が挙げ
られる。これらの有機溶媒は、単独もしくは２種以上を
混合して用いることができる。
液は、通常、有機溶媒中に上記ポリシラザンを溶解して
形成される。このような有機溶媒としては、ポリシラザ
ンを溶解し、塗布液に流動性を付与するものであれば特
に制限はなく、具体的には、シクロヘキサン、トルエ
ン、キシレン、ヘキシレン等の炭化水素、塩化メチレ
ン、塩化エチレン、トリクロロエタン等のハロゲン化炭
化水素、エチルブチルエーテル、ジブチルエーテル、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類等が挙げ
られる。これらの有機溶媒は、単独もしくは２種以上を
混合して用いることができる。
【００２０】また、被膜形成用塗布液中のポリシラザン
の濃度は、３〜３５重量％であることが望ましい。本発
明に係る平滑ガラス基板の製造方法では、上記塗布液を
ガラス基板上に塗布し、得られた塗膜を酸化雰囲気中で
加熱するか、または得られた塗膜を酸化雰囲気中で紫外
線照射するか、あるいは得られた塗膜を酸化雰囲気中で
加熱および紫外線照射することにより、塗膜を硬化させ
てシリカ系被膜が形成される。
の濃度は、３〜３５重量％であることが望ましい。本発
明に係る平滑ガラス基板の製造方法では、上記塗布液を
ガラス基板上に塗布し、得られた塗膜を酸化雰囲気中で
加熱するか、または得られた塗膜を酸化雰囲気中で紫外
線照射するか、あるいは得られた塗膜を酸化雰囲気中で
加熱および紫外線照射することにより、塗膜を硬化させ
てシリカ系被膜が形成される。
【００２１】上記の製造方法において、塗膜を加熱およ
び紫外線照射するとは、塗膜を加熱しながら紫外線照射
すること、または塗膜を加熱後紫外線照射すること、あ
るいは塗膜を紫外線照射後加熱することなどを意味す
る。
び紫外線照射するとは、塗膜を加熱しながら紫外線照射
すること、または塗膜を加熱後紫外線照射すること、あ
るいは塗膜を紫外線照射後加熱することなどを意味す
る。
【００２２】ここで塗布液をガラス基板上に塗布して塗
膜を形成する際には、スプレー法、スピンコート法、デ
ィップコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法、
転写印刷法などの塗布方法を用いることができる。
膜を形成する際には、スプレー法、スピンコート法、デ
ィップコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法、
転写印刷法などの塗布方法を用いることができる。
【００２３】上記のような酸化雰囲気としては、たとえ
ば、酸素含有ガス、水蒸気含有ガス、オゾン含有ガスな
どが挙げられる。平滑ガラス基板の製造方法における塗
膜の硬化方法について具体的に説明すると、酸化雰囲気
中での塗膜の加熱は、１５０℃〜８００℃好ましくは３
５０℃〜８００℃の温度で行われることが望ましい。
ば、酸素含有ガス、水蒸気含有ガス、オゾン含有ガスな
どが挙げられる。平滑ガラス基板の製造方法における塗
膜の硬化方法について具体的に説明すると、酸化雰囲気
中での塗膜の加熱は、１５０℃〜８００℃好ましくは３
５０℃〜８００℃の温度で行われることが望ましい。
【００２４】また塗膜を酸化雰囲気中で紫外線を照射
し、その後、１５０℃〜４５０℃で加熱して、塗膜を硬
化することもできる。さらに塗膜を酸化雰囲気中で紫外
線照射することによって硬化させることもできる。
し、その後、１５０℃〜４５０℃で加熱して、塗膜を硬
化することもできる。さらに塗膜を酸化雰囲気中で紫外
線照射することによって硬化させることもできる。
【００２５】本発明に係る平滑ガラス基板の製造方法で
は、塗膜を酸化雰囲気中での加熱のみによっても被膜を
得ることもできるが、塗膜に紫外線照射を施すことによ
り、被膜の形成時における加熱温度を低くすることがで
き、また加熱時間を短縮できるので好ましい。
は、塗膜を酸化雰囲気中での加熱のみによっても被膜を
得ることもできるが、塗膜に紫外線照射を施すことによ
り、被膜の形成時における加熱温度を低くすることがで
き、また加熱時間を短縮できるので好ましい。
【００２６】この塗膜を酸化雰囲気中での加熱および／
または紫外線照射によって硬化させると、ほとんどの−
ＳｉＮ−骨格は酸化されて−ＳｉＯ−骨格に変化する。
従来、アルコキシシラン系塗布液を塗布し加熱硬化さ
せてシリカ系被膜を形成した場合、加熱硬化時にアルコ
キシシランのＳｉＯＨ基同士の縮合反応等により被膜の
収縮が生じるといったことがあった。
または紫外線照射によって硬化させると、ほとんどの−
ＳｉＮ−骨格は酸化されて−ＳｉＯ−骨格に変化する。
従来、アルコキシシラン系塗布液を塗布し加熱硬化さ
せてシリカ系被膜を形成した場合、加熱硬化時にアルコ
キシシランのＳｉＯＨ基同士の縮合反応等により被膜の
収縮が生じるといったことがあった。
【００２７】しかし本発明では、上記のようなポリシラ
ザン溶液からなる塗布液をガラス基板上に塗布し、次い
で酸化雰囲気中での加熱および／または紫外線照射によ
りシリカ系被膜を形成しているため、Ｓｉ−Ｎ結合がＳ
ｉ−Ｏ結合に変化するだけで結合間距離がほとんど変化
せず、このため得られる被膜の収縮が起こらないと考え
られる。
ザン溶液からなる塗布液をガラス基板上に塗布し、次い
で酸化雰囲気中での加熱および／または紫外線照射によ
りシリカ系被膜を形成しているため、Ｓｉ−Ｎ結合がＳ
ｉ−Ｏ結合に変化するだけで結合間距離がほとんど変化
せず、このため得られる被膜の収縮が起こらないと考え
られる。
【００２８】したがって、上記のようなシリカ系被膜で
被覆されたガラス基板の製造方法では、従来のアルコキ
シシラン系塗布液からシリカ系保護膜を形成する方法に
比較して、膜形成時の収縮ストレスに基づくクラックの
発生が少なく、しかも塗布液組成物の分解による被膜の
ボイドがなく、緻密なシリカ系被膜を形成することが可
能となる。
被覆されたガラス基板の製造方法では、従来のアルコキ
シシラン系塗布液からシリカ系保護膜を形成する方法に
比較して、膜形成時の収縮ストレスに基づくクラックの
発生が少なく、しかも塗布液組成物の分解による被膜の
ボイドがなく、緻密なシリカ系被膜を形成することが可
能となる。
【００２９】また、上述のようなポリシラザン溶液から
なる塗布液を、凹凸のあるガラス基板に、その凹凸を平
坦化する程度に厚く塗布してもクラックの発生等がな
く、その表面がシリカ系被膜により平滑化されたガラス
基板を得ることが可能となる。
なる塗布液を、凹凸のあるガラス基板に、その凹凸を平
坦化する程度に厚く塗布してもクラックの発生等がな
く、その表面がシリカ系被膜により平滑化されたガラス
基板を得ることが可能となる。
【００３０】さらにこのようにしてガラス基板上に形成
されたシリカ系被膜は、その緻密性に優れているため、
ガラス基板からアルカリ成分が溶出するのを防止し、こ
の平滑ガラス基板上に形成される導電膜、電極膜などが
アルカリ成分によって悪影響を受けることが防止され
る。
されたシリカ系被膜は、その緻密性に優れているため、
ガラス基板からアルカリ成分が溶出するのを防止し、こ
の平滑ガラス基板上に形成される導電膜、電極膜などが
アルカリ成分によって悪影響を受けることが防止され
る。
【００３１】すなわちこのシリカ系被膜は、アルカリパ
ッシベーション膜として優れた特性を示す。本発明に係
る平滑ガラス基板は、液晶表示用ガラス基板、プラズマ
ディスプレイ用基板、光ディスク用基板あるいは磁気デ
ィスク用基板等平滑化が要求される場合に優れた効果を
発揮する。
ッシベーション膜として優れた特性を示す。本発明に係
る平滑ガラス基板は、液晶表示用ガラス基板、プラズマ
ディスプレイ用基板、光ディスク用基板あるいは磁気デ
ィスク用基板等平滑化が要求される場合に優れた効果を
発揮する。
【００３２】たとえば、本発明に係る平滑ガラス基板を
用いて、スパッタリング等常法にしたがいＩＴＯなどの
透明導電膜を平滑ガラス基板のシリカ系被膜上に形成す
ると、凹凸のほとんどない平滑な透明電極基板が得られ
る。この平滑性に優れた一対の透明電極基板を有する液
晶表示装置では、電極間距離にむらがなく、このため濃
度むらおよび色むらのない画像が得られる。
用いて、スパッタリング等常法にしたがいＩＴＯなどの
透明導電膜を平滑ガラス基板のシリカ系被膜上に形成す
ると、凹凸のほとんどない平滑な透明電極基板が得られ
る。この平滑性に優れた一対の透明電極基板を有する液
晶表示装置では、電極間距離にむらがなく、このため濃
度むらおよび色むらのない画像が得られる。
【００３３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
特定のポリシラザンを含む塗布液をガラス基板上に塗布
したのち、得られた塗膜を酸化雰囲気中での加熱および
／または紫外線照射により硬化して、被膜を形成してい
るので、得られるシリカ系被膜には、塗布液組成物の分
解によるボイドがほとんど発生せず、また膜形成時の収
縮ストレスが少なくなり、このため膜形成時の収縮スト
レスに起因するクラック等が防止され、表面が平滑で緻
密なシリカ系被膜がガラス基板上に形成できる。このた
め上記のようなガラス基板上に形成されたシリカ系被膜
は、ガラス基板の表面を平滑化する上で効果的であり、
さらにアルカリパッシベーション膜としても優れた特性
を示す。
特定のポリシラザンを含む塗布液をガラス基板上に塗布
したのち、得られた塗膜を酸化雰囲気中での加熱および
／または紫外線照射により硬化して、被膜を形成してい
るので、得られるシリカ系被膜には、塗布液組成物の分
解によるボイドがほとんど発生せず、また膜形成時の収
縮ストレスが少なくなり、このため膜形成時の収縮スト
レスに起因するクラック等が防止され、表面が平滑で緻
密なシリカ系被膜がガラス基板上に形成できる。このた
め上記のようなガラス基板上に形成されたシリカ系被膜
は、ガラス基板の表面を平滑化する上で効果的であり、
さらにアルカリパッシベーション膜としても優れた特性
を示す。
【００３４】また、この平滑ガラス基板を用いた液晶表
示装置においては、液晶の配向乱れや色むらがなく安定
な液晶画像が得られる。以下本発明を実施例により説明
するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。
示装置においては、液晶の配向乱れや色むらがなく安定
な液晶画像が得られる。以下本発明を実施例により説明
するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。
【００３５】
【参考例Ａ】１リットルの四ツ口フラスコ内に塩化メチ
レン３００ｍｌを入れ、−５℃に冷却した。次いでこの
フラスコ内にジクロロシラン３０．０ｇを加え、攪拌し
ながらさらにＮＨ3 ガスを２時間吹き込んでジクロロシ
ランとＮＨ3 との反応生成物を含む溶液を得た。得られ
た溶液から沈澱をろ過して除去した後、ろ液を減圧して
溶媒を除去することにより、樹脂状のポリシラザンＡ
（分子量２，７００）を得た。
レン３００ｍｌを入れ、−５℃に冷却した。次いでこの
フラスコ内にジクロロシラン３０．０ｇを加え、攪拌し
ながらさらにＮＨ3 ガスを２時間吹き込んでジクロロシ
ランとＮＨ3 との反応生成物を含む溶液を得た。得られ
た溶液から沈澱をろ過して除去した後、ろ液を減圧して
溶媒を除去することにより、樹脂状のポリシラザンＡ
（分子量２，７００）を得た。
【００３６】得られたポリシラザンＡをキシレンに溶解
して固形分濃度２０重量％であるポリシラザンＡを含む
塗布液（Ａ）を調製した。この塗布液（Ａ）をガラス基
板上にディッピング法により塗布し、２００℃で乾燥
後、湿潤Ｎ2 （酸素濃度１％）中で４５０℃１時間焼成
して、膜厚２，０００オングストロームのシリカ系被膜
を形成し、平滑ガラス基板を作成した。
して固形分濃度２０重量％であるポリシラザンＡを含む
塗布液（Ａ）を調製した。この塗布液（Ａ）をガラス基
板上にディッピング法により塗布し、２００℃で乾燥
後、湿潤Ｎ2 （酸素濃度１％）中で４５０℃１時間焼成
して、膜厚２，０００オングストロームのシリカ系被膜
を形成し、平滑ガラス基板を作成した。
【００３７】この平滑ガラス基板の表面平滑性、光透過
率および被膜の緻密性、表面硬度、密着性を下記のよう
にして評価した。 （１）表面平滑性 触針式表面粗さ計（東京精密社製サーフコム５７０Ａ）
により、平滑ガラス基板表面の微細なうねり（凹凸）を
測定した。
率および被膜の緻密性、表面硬度、密着性を下記のよう
にして評価した。 （１）表面平滑性 触針式表面粗さ計（東京精密社製サーフコム５７０Ａ）
により、平滑ガラス基板表面の微細なうねり（凹凸）を
測定した。
【００３８】（２）光透過率 平滑ガラス基板を透過する５５０ｎｍの光透過率を分光
光度計で測定した。 （３）アルカリ処理による膜厚変化 平滑ガラス基板を５重量％ＮａＯＨ水溶液に６０℃で２
０分間浸漬したのち、膜厚をエリプソメーターで測定
し、処理前後の膜厚変化を評価した。
光度計で測定した。 （３）アルカリ処理による膜厚変化 平滑ガラス基板を５重量％ＮａＯＨ水溶液に６０℃で２
０分間浸漬したのち、膜厚をエリプソメーターで測定
し、処理前後の膜厚変化を評価した。
【００３９】（４）フッ酸処理による膜厚変化 平滑ガラス基板を５５重量％ＨＦ水溶液と濃硫酸の混合
水溶液に２５℃で１分間浸漬したのち、膜厚をエリプソ
メーターで測定し、処理前後の膜厚変化を評価した。
水溶液に２５℃で１分間浸漬したのち、膜厚をエリプソ
メーターで測定し、処理前後の膜厚変化を評価した。
【００４０】（５）表面硬度 プラスチック製消しゴムに１ｋｇの荷重をかけて、平滑
ガラス基板表面を２０回摺動したのち、その表面状態を
目視観察した。
ガラス基板表面を２０回摺動したのち、その表面状態を
目視観察した。
【００４１】（６）密着性 セロハンテープによるピーリングテストにより、被膜の
剥離の有無を目視観察した。
剥離の有無を目視観察した。
【００４２】結果を表１および図１に示す。
【００４３】
【実施例１】参考例Ａと同様にガラス基板に塗布液
（Ａ）を塗布し、１２０℃で乾燥後、高圧水銀ランプと
オゾナイザーを備えた紫外線照射装置で紫外線を５分間
照射した。
（Ａ）を塗布し、１２０℃で乾燥後、高圧水銀ランプと
オゾナイザーを備えた紫外線照射装置で紫外線を５分間
照射した。
【００４４】その後、３５０℃で３０分間酸素濃度１％
のＮ2 中で加熱して、膜厚１５００オングストロームの
シリカ系被膜を形成し、平滑ガラス基板を作成した。こ
の平滑ガラス基板について参考例Ａと同様の評価を行っ
た。
のＮ2 中で加熱して、膜厚１５００オングストロームの
シリカ系被膜を形成し、平滑ガラス基板を作成した。こ
の平滑ガラス基板について参考例Ａと同様の評価を行っ
た。
【００４５】結果を表１および図２に示す。
【００４６】
【実施例２】ジクロロシラン３０．０ｇに代えてメチル
ジクロロシラン３４．２ｇを用いた以外は参考例Ａと同
様にしてポリシラザンＢ（分子量１，２００）を得た。
次いで得られたポリシラザンＢを含む塗布液（Ｂ）を、
参考例Ａと同様にして調製した。
ジクロロシラン３４．２ｇを用いた以外は参考例Ａと同
様にしてポリシラザンＢ（分子量１，２００）を得た。
次いで得られたポリシラザンＢを含む塗布液（Ｂ）を、
参考例Ａと同様にして調製した。
【００４７】この塗布液を用いて実施例１と同様にして
シリカ系被膜を形成し、平滑ガラス基板を作成した。こ
の平滑ガラス基板について参考例Ａと同様の評価を行っ
た。
シリカ系被膜を形成し、平滑ガラス基板を作成した。こ
の平滑ガラス基板について参考例Ａと同様の評価を行っ
た。
【００４８】結果を表１および図３に示す。
【００４９】
【比較例１】テトラメトキシシラン１００ｇにエチルセ
ロソルブ２００ｇを加えて希釈し、この溶液に０．０１
重量％ＨＣｌ水溶液９６ｇを加えてテトラメトキシシラ
ンの加水分解を行った。室温で１時間反応させて、アル
コキシシラン（分子量２，５００）を含む塗布液を調製
した。
ロソルブ２００ｇを加えて希釈し、この溶液に０．０１
重量％ＨＣｌ水溶液９６ｇを加えてテトラメトキシシラ
ンの加水分解を行った。室温で１時間反応させて、アル
コキシシラン（分子量２，５００）を含む塗布液を調製
した。
【００５０】この塗布液を用いて実施例１と同様にして
ガラス基板に被膜を形成し、参考例Ａと同様の評価を行
った。結果を表１および図４に示す。
ガラス基板に被膜を形成し、参考例Ａと同様の評価を行
った。結果を表１および図４に示す。
【００５１】
【実施例３】参考例Ａと同様にして２枚の平滑ガラス基
板を製造した。それぞれの平滑ガラス基板のシリカ系被
膜上に、スパッタリング法によりＩＴＯ透明導電膜を形
成した。次いでこのＩＴＯ透明導電膜にホトレジストを
施して、シリカ系被膜上に液晶表示装置用に液透明電極
が形成された一対の透明電極基板を得た。
板を製造した。それぞれの平滑ガラス基板のシリカ系被
膜上に、スパッタリング法によりＩＴＯ透明導電膜を形
成した。次いでこのＩＴＯ透明導電膜にホトレジストを
施して、シリカ系被膜上に液晶表示装置用に液透明電極
が形成された一対の透明電極基板を得た。
【００５２】このようにして得られた一対の透明電極基
板を用いて液晶表示装置を製造した。なお透明電極間の
距離は均一な粒径を有する絶縁性球状粒子スペーサによ
りほぼ６μｍ程度に調整し、液晶化合物としては市販の
ネマチック液晶を用いた。この液晶表示装置を駆動し
て、その表示画像を観察したところ、色むら、濃度むら
は見られなかった。
板を用いて液晶表示装置を製造した。なお透明電極間の
距離は均一な粒径を有する絶縁性球状粒子スペーサによ
りほぼ６μｍ程度に調整し、液晶化合物としては市販の
ネマチック液晶を用いた。この液晶表示装置を駆動し
て、その表示画像を観察したところ、色むら、濃度むら
は見られなかった。
【００５３】
【比較例２】ガラス基板上に直接透明電極を形成した以
外は実施例３と同様にして液晶表示装置を製造した。
外は実施例３と同様にして液晶表示装置を製造した。
【００５４】この液晶表示装置を駆動して、その表示画
像を観察したところ、表示画像に一部色むら、濃度むら
が見られた。
像を観察したところ、表示画像に一部色むら、濃度むら
が見られた。
【００５５】
【表１】
【００５６】上記の実施例１〜２により、本発明に係る
方法で得られたシリカ系被膜付ガラス基板は、その表面
がきわめて平滑であることがわかる。
方法で得られたシリカ系被膜付ガラス基板は、その表面
がきわめて平滑であることがわかる。
【００５７】さらに、アルカリまたは酸による被膜の膜
厚変化が少ない。すなわち、本発明に係るシリカ系被膜
は緻密な膜であり、この被膜はアルカリパッシベーショ
ン膜としても優れていることがわかる。
厚変化が少ない。すなわち、本発明に係るシリカ系被膜
は緻密な膜であり、この被膜はアルカリパッシベーショ
ン膜としても優れていることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【図１】参考例Ａで得られた平滑ガラス基板の平滑性を
測定したチャート。
測定したチャート。
【図２】実施例１で得られた平滑ガラス基板の平滑性を
測定したチャート。
測定したチャート。
【図３】実施例２で得られた平滑ガラス基板の平滑性を
測定したチャート。
測定したチャート。
【図４】比較例１で得られたガラス基板の平滑性を測定
したチャート。
したチャート。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−169426（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−132635（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−88157（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−339032（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−119307（ＪＰ，Ａ) 特表 平３−500766（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C03C 15/00 - 23/00 G02F 1/1333 G02F 1/1337
Claims (3)
- 【請求項１】下記一般式（１） 【化１】 （ただし、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は、それぞれ独立して
水素原子または炭素原子数１〜８のアルキル基であ
る。）で表わされる繰り返し単位を有し、重量平均分子
量が５００〜２７００の範囲にあるポリシラザンの１種
または２種以上を含む塗布液を、ガラス基板に塗布した
のち、得られた塗膜を酸化雰囲気中で紫外線照射したの
ち、加熱することにより硬化して形成されたシリカ系被
膜で、ガラス基板の表面が被覆されていることを特徴と
する平滑ガラス基板。 - 【請求項２】下記一般式（１） 【化２】 （ただし、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は、それぞれ独立して
水素原子または炭素原子数１〜８のアルキル基であ
る。）で表わされる繰り返し単位を有し、重量平均分子
量が５００〜２７００の範囲にあるポリシラザンの１種
または２種以上を含む塗布液を、ガラス基板に塗布した
のち、得られた塗膜を酸化雰囲気中で紫外線照射したの
ち、加熱することにより硬化して、ガラス基板の表面に
シリカ系被膜を形成する工程を含むことを特徴とする平
滑ガラス基板の製造方法。 - 【請求項３】請求項１に記載の平滑ガラス基板に形成さ
れたシリカ系被膜上に、透明導電膜が形成されてなる透
明電極基板を有することを特徴とする液晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27294491A JP3262815B2 (ja) | 1991-10-21 | 1991-10-21 | 平滑ガラス基板およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27294491A JP3262815B2 (ja) | 1991-10-21 | 1991-10-21 | 平滑ガラス基板およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05105486A JPH05105486A (ja) | 1993-04-27 |
| JP3262815B2 true JP3262815B2 (ja) | 2002-03-04 |
Family
ID=17520950
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27294491A Expired - Lifetime JP3262815B2 (ja) | 1991-10-21 | 1991-10-21 | 平滑ガラス基板およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3262815B2 (ja) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3696939B2 (ja) * | 1995-08-11 | 2005-09-21 | 東京応化工業株式会社 | シリカ系被膜の形成方法 |
| KR100479000B1 (ko) * | 1996-05-15 | 2005-08-01 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 박막디바이스,액정패널및전자기기및박막디바이스의제조방법 |
| JP3899566B2 (ja) | 1996-11-25 | 2007-03-28 | セイコーエプソン株式会社 | 有機ｅｌ表示装置の製造方法 |
| JPH10279362A (ja) * | 1997-03-31 | 1998-10-20 | Tonen Corp | ＳｉＯ２系セラミックス膜の形成方法 |
| CN100561304C (zh) * | 2004-06-25 | 2009-11-18 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 液晶封装用玻璃基板及液晶显示装置 |
| JP5160880B2 (ja) * | 2007-12-26 | 2013-03-13 | 日揮触媒化成株式会社 | イオン拡散防止膜の製造方法、イオン拡散防止膜付基材および液晶表示セル |
| JP4808827B1 (ja) * | 2010-03-30 | 2011-11-02 | 東洋ガラス株式会社 | ガラス容器の内面処理方法及びガラス容器 |
| US8389052B2 (en) | 2010-03-30 | 2013-03-05 | Toyo Glass Co., Ltd. | Method for treating inside surface of glass container and glass container |
| WO2011125241A1 (ja) * | 2010-04-07 | 2011-10-13 | 東洋ガラス株式会社 | ガラス容器の内面処理方法及びガラス容器 |
| US20130122217A1 (en) | 2010-07-22 | 2013-05-16 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Method of manufacturing gas barrier film |
| GB201411822D0 (en) * | 2014-07-02 | 2014-08-13 | Pilkington Group Ltd | Planarisation of a coating |
| GB201515985D0 (en) * | 2015-09-09 | 2015-10-21 | Pilkington Group Ltd | Deposition process |
| EP3448820B1 (en) * | 2016-04-26 | 2023-07-12 | Pilkington Group Limited | Corrosion resistant coated glass substrate |
| JP7016832B2 (ja) * | 2019-04-19 | 2022-02-07 | 信越化学工業株式会社 | ポリシラザン硬化被膜のパターニング方法 |
| CN114538790A (zh) * | 2021-12-31 | 2022-05-27 | 安徽登云玻璃科技有限公司 | 温玻璃容器的内表面处理方法及玻璃容器 |
-
1991
- 1991-10-21 JP JP27294491A patent/JP3262815B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05105486A (ja) | 1993-04-27 |
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