JP3261676B2 - 電気ニッケルめっき浴。 - Google Patents
電気ニッケルめっき浴。Info
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Description
き浴に係り、特に、クエン酸ニッケルまたはクエン酸を
含む電気ニッケルめっき浴に関するものである。
硫酸ニッケル、塩化ニッケル、ほう酸からなるワット浴
が、装飾用、防食用をはじめ電子部品のニッケルめっき
等に広く用いられている。また、硫酸ニッケル、塩化ニ
ッケル、酢酸ニッケルからなる電気ニッケルめっき浴に
ついての検討もなされている。
気めっきのワット浴に含まれているほう酸は、めっき液
のpH緩衝作用やめっき皮膜の物性を改善する役割を持
つとされ、ニッケルめっきには欠かせない成分である。
ところで、めっき作業で生じためっき排水は、その有害
成分の除去を行い処理している。めっき排水中のほう素
を除去する技術についても提案がなされている。しかし
ながら、めっき排水中のほう酸やほう素の除去は難く、
またその除去設備も必要でコストがかかるという問題が
ある。また、硫酸ニッケル、塩化ニッケル、酢酸ニッケ
ルからなる電気ニッケルめっき浴では、ほう酸を含んで
いないので、その除去処理は容易であるが、良好な品質
のニッケルめっき皮膜は得られず、生産性、品質の観点
からほう酸を共に加える必要があり、ほう酸を使用しな
い電気ニッケルめっき浴とすることはできないものであ
る。本発明は、従来技術の課題であるめっき排水中のほ
う酸やほう素の除去処理を行わなくてもよい、ほう酸を
使用しないめっき浴で、緻密で欠陥の少ないニッケルめ
っき皮膜が得られる電気ニッケルめっき浴を提供するも
のである。
解決するためのもので、硫酸ニッケル:200〜360
g/L、塩化ニッケル:30〜90g/L、クエン酸ニ
ッケル:24〜42g/Lを含み、pH:3〜5である
ことを特徴とする電気ニッケルめっき浴である。また本
発明は、硫酸ニッケル:200〜360g/L、塩化ニ
ッケル:30〜90g/L、クエン酸:12〜21g/
Lを含む、pH:3〜5であることを特徴とする電気ニ
ッケルめっき浴である。また本発明は、硫酸ニッケル:
200〜360g/L、塩化ニッケル:30〜90g/
L、クエン酸:12〜21g/Lを含む溶液に塩基性炭
酸ニッケル又は水酸化ニッケルでpH:3〜5とし、め
っき浴中にクエン酸ニッケルを存在させることを特徴と
する電気ニッケルめっき浴である。また本発明の電気ニ
ッケルめっき浴は、光沢剤を含むことを特徴とするもの
である。
ル:200〜360g/L、塩化ニッケル:30〜90
g/L、クエン酸ニッケル:24〜42g/Lまたはク
エン酸:12〜21g/Lを含み、pH:3〜5である
ことにより、形成されたニッケルめっき皮膜が緻密で、
ピットやピンホール欠陥が殆どなく、また共析物質が少
ないためニッケルめっき皮膜の純度が高く、耐食性が良
好なものである。また本発明の電気ニッケルめっき浴
は、ほう酸を使用しないので、めっき排水中のほう酸や
ほう素の除去処理を行わなくてもよいものである。
おいて、硫酸ニッケル:200〜360g/Lとは、N
iSO4・6H2O:200〜360g/Lであり、塩
化ニッケル:30〜90g/LとはNiCl2・6H2
O:30〜90g/Lであり、クエン酸ニッケル:24
〜42g/LとはNi3(C6H5O7)2・14H2
O(クエン酸ニッケルの十四水塩):24〜42g/L
であり、またクエン酸:12〜21g/LとはHOOC
CH2C(OH)(COOH)CH2COOH・H2O
(クエン酸一水和物)(分子式C6H8O7・H
2O):12〜21g/Lである。本発明の電気ニッケ
ルめっき浴について、成分の役割と作用を説明する。硫
酸ニッケルは、めっき浴のニッケルイオンの主供給源で
ある。硫酸ニッケルが200g/L以下では、陰極面に
充分なニッケルイオンを供給することができず、また焦
げの発生や電流効率の低下を招くことになる。360g
/L以上では、めっき浴の粘度が高くなり、ピットを発
生しやすくなるので、硫酸ニッケルは、200〜360
g/Lにした。塩化ニッケルは、めっき浴に塩化物イオ
ンを供給し陽極が不動態化して不溶化するのを防止し、
まためっき浴の電導性をよくし、陰極電流効率を高める
ものである。同時にニッケルイオンをめっき浴に供給す
るものである。塩化ニッケルが30g/L以下では、め
っき浴に必要な塩化物イオンを供給することができず、
めっき浴の電導性や陽極の溶解効率が低下する。また9
0g/L以上では、ニッケルめっき膜の内部応力を増大
させることになるので塩化ニッケルは30〜90g/L
とした。
クエン酸ニッケルは、電気ニッケルめっき浴において、
pHを緩衝する作用を有し、めっき浴のpHの変動を防
ぐものであり、クエン酸ニッケルを24〜42g/Lに
より、めっき浴のpHの変動を防き、緻密でピットやピ
ンホール欠陥が殆どない、耐食性が良好なニッケルめっ
き皮膜を得ることができるものである。
pH緩衝剤としての役割である陰極に接近した陰極膜内
でpH5以下に抑えることができず、水酸化ニッケルの
沈殿を生ずることになる。また皮膜には、焦げ、条跡が
生じることになる。42g/L以上では、浴電圧の上
昇、陰極電流効率が低下する。また、ニッケルの電気め
っきは、陰極での反応は主としてニッケルめっき反応で
あるが、同時に水素発生反応も伴うものであり、本発明
の電気ニッケルめっき浴において、pHが3以下では、
水素発生反応が多くなり、ピットが生じやすい。pHが
5を越えると高電流部に焦げを生じやすく、内部応力が
大きく、めっき皮膜が硬いものとなる。
いて、クエン酸は、電気ニッケルめっき浴のpHを緩衝
する作用を有し、めっき浴のpHの変動を防ぐものであ
り、クエン酸が12g/L以下では、陰極に接近した陰
極膜内でpH5に押さえることができず、水酸化ニッケ
ルの沈殿を生じる。また皮膜には、焦げ、条跡が生じる
ことになる。21g/L以上では、浴電圧の上昇、陰極
電流効率が低下する。また、本発明の電気ニッケルめっ
き浴は、硫酸ニッケル:200〜360g/L、塩化ニ
ッケル:30〜90g/L、クエン酸:12〜21g/
Lを含む溶液に塩基性炭酸ニッケル又は水酸化ニッケル
でpH:3〜5とし、めっき浴中にクエン酸ニッケルを
存在させるものである。めっき浴中に存在するクエン酸
ニッケルは、pHを緩衝する作用を有し、めっき浴のp
Hの変動を防ぎ、緻密でピットやピンホール欠陥が殆ど
なく、純度の高い耐食性が良好なニッケルめっき皮膜の
形成に有用なものである。そしてクエン酸ニッケルを2
4〜42g/L含むようにし、pHを3〜5にするもの
である。
エン酸を含む電気ニッケルめっき浴に光沢剤を用いて、
例えば光沢剤としてブチンジオール、サッカリンを用い
て光沢めっきを行った場合、共折する光沢剤が少ないニ
ッケルめっき皮膜が得られる。光沢剤成分の共析物質が
少く平滑でよい光沢のものあり、また光沢剤成分の共析
物質が少ないため、硬さや応力が小さいものが得られ
た。また、ニッケルめっき皮膜は、光沢剤成分の共折量
が少ないため、硬さや応力が小さいもので、めっき後に
二次加工する場合に、皮膜の割れが生じ難く、二次加工
性に優れたものが得られる。
公報)で、電解質としてクエン酸を用いたニッケルの電
気めっき浴が知られているが、これは不溶性陽極を使用
するに適した電気メッキ浴で、本発明の硫酸ニッケル:
200〜360g/L、塩化ニッケル:30〜90g/
Lを含むものとは浴組成の配合割合が異なり、またクエ
ン酸の配合割合も異なるものである。また、従来例(特
開昭53−87942号公報)に、クエン酸を用いたニ
ッケルの電気めっき浴が記載されているが、本発明の硫
酸ニッケル:200〜360g/L、塩化ニッケル:3
0〜90g/Lを含むものとは浴組成の配合割合が異な
り、またクエン酸の配合割合も相違し、、めっき浴のp
Hの変動を防き、緻密でピットやピンホール欠陥が殆ど
ない、耐食性が良好なニッケルめっき皮膜を得るものと
は異なるものである。また、スルファミン酸ニッケル、
およびクエン酸ニッケルを2〜4g/L含むめっき浴
(例えば、特開昭63−243294号公報)が知られ
ているが、本発明の電気ニッケルめっき浴とは、浴組成
が異なるものである。また、ニッケル系の合金のめっき
浴でクエン酸を使用している例があるが、これは、ニッ
ケル外の金属をニッケルと共析させて合金を得るための
錯化剤成分として使用されているもので、本発明の電気
ニッケルめっき浴とは、浴組成、またクエン酸ニッケル
によりpHを緩衝する作用を有し、めっき浴のpHの変
動を防ぎ、および良質の単一のニッケルめっき皮膜を得
るものとは異なるものである。また、無電解ニッケルめ
っき浴でクエン酸を使用しているものがあるが、無電解
ニッケルめっきは、ニッケル電気めっきとは異なり、ま
た浴組成の配合割合も異なるものである。
いて、具体的に説明する。クエン酸ニッケルを用いる場
合、まず硫酸ニッケル:200〜360g/L、塩化ニ
ッケル:30〜90g/Lの範囲内の所定量の硫酸ニッ
ケルと塩化ニッケルを水に溶解し、次に24〜42g/
Lの範囲内の所定量のクエン酸ニッケルを溶解する。こ
のときにめっき液のpHは3以下となり、めっき液は懸
濁する。これを放置して、硫酸ニッケル、塩化ニッケル
が溶けている液にクエン酸ニッケルが溶け込んで安定化
させる。安定化させた後にめっき液のpH調整を行う。
pH調整は、水でペースト状にした塩基性炭酸ニッケル
をpH:3〜5の範囲内の所定のpHになるまで添加す
る。次いで吸引ろ過して不溶性分をろ別除去する。ろ液
であるめっき液は、希硫酸にて所定のpH値に微調整す
る。必要があれば、弱電解活性炭処理を行ってもよい。
/L、塩化ニッケル:30〜90g/L、クエン酸:1
2〜21g/Lを含む溶液に塩基性炭酸ニッケルを添加
してpH:3〜5とするもので、水でペースト状にした
塩基性炭酸ニッケルを用いる場合を示す。まず、硫酸ニ
ッケル:200〜360g/L、塩化ニッケル:30〜
90g/Lの範囲内の所定量の硫酸ニッケルと塩化ニッ
ケルを水に溶解し、次に12〜21g/Lの範囲内の所
定量のクエン酸を溶解する。めっき液のpHは2以下に
低下する。なお、めっき液は懸濁しなかった。
ニッケルをpH:3〜5の範囲内の所定のpHになるま
で添加する。次いで吸引ろ過して不溶性分をろ別除去す
る。ろ液であるめっき液は懸濁する。この液に希硫酸を
添加して、所定のpH値に調整する。この懸濁している
めっき液は、しばらくすると液は澄む。ここでpH値を
測定し、必要に応じて再度、希硫酸で所定のpH値にめ
っき液を調整する。必要があれば、弱電解活性炭処理を
行ってもよい。本発明の電気ニッケルめっき浴の調整に
ついて、塩基性炭酸ニッケルを水でペースト状にして用
いる場合を示したが、粉末状で用いてもよい。
24〜42g/Lのクエン酸ニッケルを用いる場合、め
っき液のpHを調整するために用いる塩基性炭酸ニッケ
ルは、その塩基性炭酸ニッケル中のニッケルの溶解量は
少なく、吸引ろ過するため塩基性炭酸ニッケルによるニ
ッケルイオン濃度の増加は少ない。一方、クエン酸を用
い、水でペースト状にした塩基性炭酸ニッケルをpH:
3〜5の範囲内の所定のpHになるまで添加し、ろ過し
て建浴する場合には、塩基性炭酸ニッケル中のニッケル
の溶解量が少ないため、建浴時のニッケルイオンの供給
源としての硫酸ニッケル濃度を考慮する必要がある。こ
の場合には、クエン酸濃度の1.5倍モル分だけ建浴時
の硫酸ニッケルからのニッケルイオンがクエン酸ニッケ
ルとして使用される。また、本発明の電気ニッケルめっ
き浴の調整について、塩基性炭酸ニッケルを水でペース
ト状にして用いる場合を示したが、粉末の塩基性炭酸ニ
ッケルを直接添加し用いてもよい。例えば、pH4に調
整する場合、クエン酸濃度1モルに対して約1/2モル
の塩基性炭酸ニッケルを要するものであり、この塩基性
炭酸ニッケルは全て溶解するため、建浴時の硫酸ニッケ
ル濃度を考慮する必要はないものである。また、水酸化
ニッケルも塩基性炭酸ニッケルと同様の作用効果を有す
るものである。
を備えためっき槽での電気ニッケルめっき浴として用い
られるもので、温度は40〜60℃、電流密度は0.1
〜15A/dm2である。標準的な静止(引っかけ)め
っきでの設定電流密度1〜5A/dm2、回転(バレ
ル)めっきで設定電流密度0.1〜1A/dm2でめっ
き作業を行うことが好ましい。
図2を参照して説明する。表1に示す電気ニッケルめっ
き浴について、ハルセル試験を行った。ハルセル試験
は、図1に示す、めっき槽(1)に、ハルセル黄銅板の
試験片(2)、ニッケル陽極板(3)を挿入して、通電
して、めっきを施した。めっき槽(1)の短辺(4)は
47.6mm、長辺(5)は127mm、深さは63.
5mmであり、試験片(2)は100mm×65mm、
陽極板(3)は63.5mmであり、めっき液は、めっ
き槽(1)に267mL入れた。めっき条件は、めっき
浴の初期のpH4、めっき浴温度;50℃、電流:3A
で、5分電気めっきを行い、試験片(2)の皮膜を観察
し、図2に示す。
は、No1のクエン酸を含まない電気ニッケルめっき浴
では、焦げ、条跡、が生じた。またNo2のクエン酸:
4.2g/L、No3のクエン酸:8.4g/Lでは、
電流密度の高いときに、焦げが生じた。これに対して、
本発明の電気ニッケルめっき浴であるNo4のクエン
酸:12.6g/L、No5のクエン酸:16.8g/
L、No6のクエン酸:21.0g/Lでは、焦げ、条
跡の発生がなく、無光沢、半光沢の良好な皮膜が形成さ
れた。また、めっきの電流は3Aとしたが、めっき槽
(1)の短辺(4)に近いところでは、電流密度が15
A/dm2にもなる。また長辺(5)に近いところで
は、電流密度が0.1A/dm2にもなる。このハルセ
ル試験の結果から、使用する電流密度範囲は、焦げや条
痕、ビリやクラックがなく、半光沢から無光沢めっき面
が得られる、0.1〜15A/dm2の範囲が好まし
い。
説明する。実施例2はクエン酸ニッケルを含む電気ニッ
ケルめっき浴について、実施例1同じ条件で、ハルセル
試験を行い、試験片の皮膜を観察した。
まない電気ニッケルめっき浴では、焦げ、条跡、が生じ
た。またNo8のクエン酸ニッケル:8.1g/L、N
o9のクエン酸:16.1g/Lでは、電流密度の高い
ときに、焦げが生じた。これに対して、本発明の電気ニ
ッケルめっき浴であるNo10のクエン酸ニッケル:2
4.2g/L、No11のクエン酸:32.2g/L、
No12のクエン酸:40.3g/Lでは、焦げ、条跡
の発生がなく、無光沢、半光沢の良好な皮膜が形成され
た。
ケルめっき浴によれば、ほう酸を使用しないので、めっ
き排水中のほう酸やほう素の除去処理を行わなくてもよ
いものであり、また得られたニッケルめっきは、その皮
膜が、緻密でピットやピンホール欠陥が殆どなく、また
共析物質がないため純度が高く、耐食性が良好なニッケ
ル皮膜が得られるという効果を奏するものである。
図
片の皮膜を観察した図
Claims (4)
- 【請求項1】 硫酸ニッケル:200〜360g/L、
塩化ニッケル:30〜90g/L、クエン酸ニッケル:
24〜42g/Lを含み、pH:3〜5であることを特
徴とする電気ニッケルめっき浴。 - 【請求項2】 硫酸ニッケル:200〜360g/L、
塩化ニッケル:30〜90g/L、クエン酸:12〜2
1g/Lを含む、pH:3〜5であることを特徴とする
電気ニッケルめっき浴。 - 【請求項3】 塩基性炭酸ニッケル又は水酸化ニッケル
でpH:3〜5とし、めっき浴中にクエン酸ニッケルを
存在させることを特徴とする請求項2に記載の電気ニッ
ケルめっき浴。 - 【請求項4】 めっき浴が、光沢剤を含むことを特徴と
する請求項1〜3のいずれかに記載の電気ニッケルめっ
き浴。
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Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4666134B2 (ja) * | 2004-09-13 | 2011-04-06 | 株式会社村田製作所 | ニッケルめっき浴、及び電子部品 |
JP4904933B2 (ja) | 2005-09-27 | 2012-03-28 | 日立電線株式会社 | ニッケルめっき液とその製造方法、ニッケルめっき方法およびプリント配線板用銅箔 |
JP2011208175A (ja) * | 2010-03-29 | 2011-10-20 | Asahi Plating Co Ltd | めっき物の製造方法及びめっき物 |
JP5675303B2 (ja) * | 2010-11-30 | 2015-02-25 | 日東光学株式会社 | ニッケルめっき浴およびこれを用いた電鋳型の製造方法 |
JP5452458B2 (ja) * | 2010-12-14 | 2014-03-26 | メルテックス株式会社 | ニッケルめっき液及びニッケルめっき方法 |
JP6374217B2 (ja) * | 2014-05-19 | 2018-08-15 | 株式会社ボンマーク | メタルマスク及びその製造方法 |
WO2016095896A1 (de) * | 2014-12-15 | 2016-06-23 | Harting Ag & Co. Kg | Verfahren zur elektrolytischen abscheidung eines nickelüberzuges auf ein elektrisches kontaktelement in einem borsäurefreien elektrolytischen bad |
JP2018070907A (ja) | 2016-10-24 | 2018-05-10 | ローム・アンド・ハース電子材料株式会社 | ニッケルめっき液 |
WO2018234229A1 (en) * | 2017-06-23 | 2018-12-27 | Atotech Deutschland Gmbh | NICKEL ELECTROPLACING BATH FOR DEPOSITION OF A DECORATIVE NICKEL COATING ON A SUBSTRATE |
CN111926352B (zh) * | 2018-06-12 | 2023-04-07 | 北京航空航天大学 | 一种镀镍溶液 |
-
1999
- 1999-12-16 JP JP35748099A patent/JP3261676B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108998817A (zh) * | 2018-07-06 | 2018-12-14 | 鹤山市精工制版有限公司 | 一种打底镀镍液用添加剂及其应用 |
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