JPS63114997A - 電気めつき方法 - Google Patents

電気めつき方法

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JPS63114997A
JPS63114997A JP26163586A JP26163586A JPS63114997A JP S63114997 A JPS63114997 A JP S63114997A JP 26163586 A JP26163586 A JP 26163586A JP 26163586 A JP26163586 A JP 26163586A JP S63114997 A JPS63114997 A JP S63114997A
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electroplating
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Hiroshi Uotani
魚谷 鴻
Toru Murakami
透 村上
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Uemera Kogyo Co Ltd
C Uyemura and Co Ltd
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Uemera Kogyo Co Ltd
C Uyemura and Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はニッケル、コバルト、鉄又はこれらを含む合金
の均一電着性に優れた電気めっき膜を与えるこ−とがで
きる電気めっき方法に関する。
皿米勿茨亙 従来より、耐食性、エツチングレジスト用、ボンディン
グや半田付けの下地被膜用等の種々の目的で各種電子部
品などの表面に電気ニッケルめっき膜を形成することが
行われているが、従来の電気ニッケルめっき方法は、ワ
ットタイプのニッケルめっき浴やスルファミン酸ニッケ
ルめっき浴等の金属ニッケル濃度が通常50〜120 
g / D、のめつき液を使用し、陰極電流密度3〜8
A/dm”程度の電流で電気めっきを行うのが通常であ
る。
明が解決しようとする問題点 しかしながら、従来の電気ニッケルめっき方法は、均一
電着性に劣り、例えば後述する実験の結果にも見られる
通り、ハーリングセルを使用し。
陽極と2個の陰極との距雅比を5=1に設定した場合の
均一電着性は20%以下である。従って。
電子部品などにめっきを施した場合、電子部品の高電流
密度部分と低電流密度部とのめっき膜厚に大きな差が生
じ、めっき品質を損なう場合がある。
即ち、最近においては電子部品の表面処理に際してより
一層の高品質化が望まれ、電気めっきを施す場合でもめ
っき膜厚の部分的ばらつきをできるだけ少なくし、厚さ
の均一な電気めっき膜を形成することが強く望まれてい
るが、上述したような均一電着性に劣る電気めっき液を
使用する場合には高電流密度部分と低電流密度部分との
めっき膜厚差を解消し、めっき膜厚を均一化することは
困難である。勿論、補助陽極や補助陰極を使用したり、
被めっき物を保持するラックを改良するなど、めっき装
置面を工夫することによって均一電着性をある程度改善
することは可能であるが、それにも限度があり1通常の
電気ニッケルめっき方法で均一電着性を50%以上にす
ることは実際上非常に田辺である。
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、均一電着性に
非常に優れ、ハーリングセルを用いて陽極と2個の陰極
との距離比を5;1に設定した比較的過酷な均一電着性
測定条件下においても50%以上の均一電着性を達成し
得、それ放液めっき物に対して高電流密度部分と低電流
密度部分との膜厚差を可及的になくして、膜厚の均一な
ニッケル、コバルト、鉄或いはこれらを含む合金の電気
めっき膜を形成することができる電気めっき方法を提供
することを目的とする。
。1 慨を解決するための手段及び作 本発明者らは、上記目的を達成するため種々検討を行っ
た結果、めっき液として、ニッケル、コバルト及び鉄か
ら選ばれる少なくとも1種の金属イオンを含む全金属イ
オン濃度が1〜15 g / Qの低濃度で、かつアル
カリ金属、アルカリ土類金属及びアルミニウムから選ば
れる金属の水溶性ハロゲン化物、硫酸塩及びスルファミ
ン酸塩の少なくとも1種の導電性塩の濃度が150〜8
00g/lの高濃度であるものを使用し、このめっき液
中で被めっき物を陰極電流密度0.1〜4 A / d
m”において電気めっきを行うことにより、非常に均一
電着性の高い電気めっきが施され、後述する実験の結果
からも明らかなように、50%以上の均一電着性が達成
されることを知見し、本発明をなすに至ったものである
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の電気めっき方法は、ニッケル、コバルト及び鉄
から選ばれる少なくとも1種の金属イオンを含む全金属
イオン濃度が1〜15 g / Qであり、かつアルカ
リ金属、アルカリ土類金属及びアルミニウムから選ばれ
る金属の水溶性ハロゲン化物、硫酸塩及びスルファミン
酸塩の少なくとも1種の導電性塩を150〜800g/
(l溶解してなる電気めっき液中で被めっき物に対し陰
極電流密度0.1〜4 A / dm”の電流で電気め
っきを施して、ハーリングセルを用いて陽極と2個の陰
極との距離比を5=1とした場合の均一電着性を50%
以上としたものである。
ここで、ニッケル、コバルト及び鉄から近ばれる金属イ
オンは、これら金属の水溶性塩として供給され、例えば
ニッケル、コバルト、鉄の硫酸塩、スルファミン酸塩、
ハロゲン化物等、具体的には硫酸ニッケル、硫酸第1鉄
、硫酸コバルト、臭化ニッケル、塩化ニッケル、塩化第
1鉄、塩化コバルト、スルファミン酸ニッケル、スルフ
ァミン酸第1鉄、スルファミン酸コバルトなどが挙げら
れる。また、本発明のめっき方法は、これらの金属を含
む合金めっき膜を形成することができ、かかる合金めっ
き膜を得る場合には、上記水溶性金属塩の2種以上、あ
るいは上記水溶性金属塩を主成分とし、これにタングス
テン酸及びその塩、モリブデン酸及びその塩、硫酸亜鉛
、塩化亜鉛などの亜鉛金属塩、硫酸銅、塩化銅などの銅
金属塩、硫酸錫、塩化錫などの錫金属塩、更にリン化合
物やホウ素化合物等のニッケル、コバルト、鉄と合金化
すべき所望の金属の水溶性塩の1種又は2種以上を選択
して使用する。
この場合、本発明に係るめっき液においては、上述した
金属の総金属イオン量を1〜15 g / Q、好まし
くは、3〜8g/lとするものであり、かかる低金属濃
度とすることにより、高均一電着性が達成されるが、上
記範囲より金属濃度が高くなると均一電着性が低下し、
本発明の目的を達成し得ない。なお、総金属イオン中に
占めるニンケル。
コバルト、鉄イオンの量は50%以上とすることが好ま
しい。
本発明においては、上記水溶性金属塩をめっきすべき金
属のイオン源とするめっき液中に導電性塩としてアルカ
リ金属、アルカリ土類金属、アルミニウムから選ばれる
金属のハロゲン化物、硫酸塩及びスルファミン酸塩の1
種又は2種以上添加する。具体的には、塩化リチウム、
塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化アルミニウム、塩
化アンモニウム、塩化マグネシウム、臭化ナトリウム、
臭化カリウム、硫酸リチウム、硫酸ナトリウム、硫酸カ
リウム、硫酸アルミニウム、スルファミン酸ナトリウム
、スルファミン酸カリウムなどが例示される。
これらの導電性塩の使用量は150〜800g/lとす
ることが必要であり、これら導電性塩を150 g /
 0以上の高濃度で使用することにより高均一電着性が
達成される。これに対し、その配合量が150 g /
 Qより少ない場合は均一電着性の向上に対する効果が
乏しく、本発明の目的を達成し得ない。なお、前記導電
性塩のより好ましい使用量は200〜500 g / 
Qである。
本発明で用いるめっき液には、上記成分に加えて更に緩
衝剤として有機カルボン酸及びその塩、ホウ酸、水酸化
アンモニウム、アンモニウム塩並びにアミン類から選ば
れる1種又は2種以上の水溶性化合物を添加することが
好ましく、前記導電性塩にこれら緩衝剤を併用すること
により、均一電着性を更に向上させることができる。よ
り具体的に例示すると、緩衝剤としては、リンゴ酸、リ
ンゴ酸アンモニウム、コハク酸、コハク酸アンモニウム
、酢酸カリウム、酢酸ナトリウム、酒石酸アンモニウム
、アスコルビン酸、クエン酸、クエン酸アンモニウム、
乳酸、ピルビン酸、プロピオン酸、酪酸、ギ酸、酢酸、
グリコール酸、オキサル酢酸、ホウ酸、アンモニア水、
エチレンジアミン、トリエタノールアミン、エタノール
アミン、塩化アンモニウム、臭化アンモニウムなどが挙
げられる。これらの中では、めっき物性面からホウ酸が
最適であるが、更にカルボン酸及びその塩、特にクエン
酸及びその塩が好適であり、その塩としてはアンモニウ
ム塩が好ましい。とりわけクエン酸三アンモニウムがめ
つき外観、物性(低応力、柔軟性)の点からも有効であ
る。
上記緩衝剤の使用量は必ずしも制限されないが、有機カ
ルボン酸及びその塩を用いる場合は5〜300 g /
 Q、特に10〜200 g / Qとすることが好ま
しい。また、ホウ酸を用いる場合は20〜50 g /
 Q、特に30〜45 g / Q、水酸化アンモニウ
ム、カルボン酸アンモニウム以外のアンモニウム塩、ア
ミン類を用いる場合は10〜100 g / fl、特
に10〜50g/lとすることが好ましい。
なお、上記電気めっき液には、塩酸や硫酸、更に光沢剤
、レベリング剤などの添加剤として通常用いられる添加
剤、例えばサッカリン、ナフタレンジスルホン酸ナトリ
ウム、ナフタレントリスルホン酸ナトリウム、アリルス
ルホミン酸ナトリウム、プロパギルスルホミン酸ナトリ
ウム、ブチンジオール、プロパギルアルコール、クマリ
ン、ホルマリンなどを適量添加することができる。
また、めっき液のpHは1〜12、特に1〜10が好適
であり、酸性浴、中性浴、アルカリ性浴のいずれであっ
てもよいが、とりわけ酸性めっきにおいてその効果を有
効に発揮する。
本発明は、上述しためっき液を使用して被めっき物に電
気めっきを施すものであるが、この場合陰極電流密度(
Dk)を0.1〜4A/dm2、好ましくは0 、3−
2 A/dm”、より好ましくは0.3〜LA/dm”
とするものであり、このような低電流密度で電気めっき
を行うことにより、高均一電着性が達成され、特に低電
流密度にする程均−電着性が向上する。
また、めっき温度は3o〜65℃、特に45〜60℃と
することが好ましい。更に、めっき液は空気攪拌、カソ
ードロッキング、ポンプ等による液循環、プロペラ攪拌
などの方法で攪拌を行うことができるが、攪拌の程度は
均一電着性の点からゆるい方が好ましく、カソードロッ
キング、あるいはバレルめっきにおけるバレルの回転に
よる品物の攪拌程度が特に好ましい。アノードはそのめ
っき液の種類に応じ選定され、例えば電気ニッケル、硫
黄含有ニッケル、カーボナイズドニッケル、鉄、コバル
ト、合金アノード等の可溶性陽極が用いられ、また場合
によっては白金、カーボン等の不溶性陽極を使用するこ
ともできる。
本発明において、被めっき物の材質に制限はなく、電気
めっき可能な材質であればいずれのものもめっきし得、
例えば金属や導電化されたプラスチック、セラミック等
がめっきされる。これらは公知の前処理を施し、所望の
下地めっきを施した後、本発明のめっき液を用いてめっ
きすることができ、また本発明のめっき液によるめっき
後、その上にクロムめっき、金めつき、その他の所望の
めっきを施すなどの公知の後処理を施すことができる。
なお、これらの被めっき物にめっきを施す場合、ラック
めっき法を採用することができるが、バレルめっきに特
に好適であり、更にその他の種々のめっき態様をも有効
に採用し得る。
発」Bη婁釆− 本発明の電気めっき方法によれば、ハーリングセルを用
いて陽極と2枚の陰極との距離比を5=1に設定した場
合の均一電着性が50%以上、多くは60%以上という
非常に高い均一電着性を達成することができ、このため
高電流密度部分と低電流密度部分との膜厚差の少ないめ
っき被膜が得られる。このため、本発明めっき方法は電
子部品のめっきなどに好適に採用される。
以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明す
るが1本発明は下記の実施例に制限されるものではない
なお、下記の例において、めっきは山水鍍金試験器社製
改良型ハーリングセルを使用して行った。
この場合、陽極には電気ニッケル板、陰極にはそれぞれ
裏面にテープコーティングを施した61×100X0.
3a+サイズの銅板2枚を用い、陽極と一方の陰極との
間及び陽極と他方の陰極との間の距離比を5=1にて、
電気めっき液を液温55℃に保ち、ゆるい空気攪拌を行
いながら総電流0.5Aにて30分間通電した。なお、
この総電流0.5Aは平均陰極電流密度約0.42A/
da”に相当する。
また、上記方法でめっきを行った後、陰極に析出しため
っき被膜重量を秤量し、下記の式に従いめっきの均一電
着性(T(%))を算出した。
但し、T:均一電着性 P:距離比(本実験では5) M:陰極に析出しためっき被膜重量比 〔実施例1〕 N a CQ         250 g / n塩
化ニッケル       16 〃 (Ni             4  #)ホウ酸 
        45 〃 pH4,2 T=90% 電流効率=95% 〔実施例2〕 Na、So、        285g/l塩化ニッケ
ル       30 〃 (Ni             7  n)ホウ酸 
        4511 pH4,2 T=70% 電流効率=90% 〔実施例3〕 N a CQ         125 g / QN
a、So、        14On塩化ニッケル  
     30n (Ni            7  /l)ホウ11
           4511p H4,2 T=80% 電流効率=92% 〔実施例4〕 KCu      ’     250g/lスルファ
ミン酸ニッケル  18 〃 (Ni             4  u)クエン酸
3アンモニウム  10 〃 p H5,0 T=95% 電流効率=92% 〔実施例5〕 Na25o、        285g/l塩化ニッケ
ル       30 〃 (Ni            7  n)クエン酸三
アンモニウム  10 〃 p H5,0 T=75% 電流効率=90% 〔比較例1〕 N a CQ          10 g / Q塩
化ニッケル       16 〃 (Ni            4  #)ホウ酸  
       45 〃 pH4,2 T=14% 電流効率=93% 〔比較例2〕 硫酸ニッケル      280g/l塩化ニッケル 
      45 〃 ホウ酸         4Qn pH4,2 T= 13% 電流効率=100% 〔比較例3〕 スルファミン酸ニッケル 450 g / Q塩化ニッ
ケル       15 〃 ホウ酸         4On pH4,2 T= 16% 電流効率=100%

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、ニッケル、コバルト及び鉄から選ばれる少なくとも
    1種の金属イオンを含む全金属イオン濃度が1〜15g
    /lであり、かつアルカリ金属、アルカリ土類金属及び
    アルミニウムから選ばれる金属の水溶性ハロゲン化物、
    硫酸塩及びスルファミン酸塩の少なくとも1種の導電性
    塩を150〜800g/l溶解してなる電気めっき液中
    で被めっき物に対し陰極電流密度0.1〜4A/dm^
    2の電流で電気めっきを施して、ハーリングセルを用い
    て陽極と2個の陰極との距離比を5:1とした場合の均
    一電着性を50%以上としたことを特徴とする電気めっ
    き方法。
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