JP3261624B2 - 光誘起の崩壊に対して安定化された塗料 - Google Patents

光誘起の崩壊に対して安定化された塗料

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、4位および6位におい
てフェニル基またはトリル基により置換された2−(2
−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジンの種
類の紫外線吸収剤の添加による塗料の安定化、並びにか
かる塗料の自動車用ラッカーとしての使用に関する。
【0002】
【従来の技術】2−(2−ヒドロキシフェニル)−1,
3,5−トリアジン類はプラスチック材料およびペイン
トおよびワニスを含む有機材料のための光安定剤として
使用することができる紫外線吸収剤であることは知られ
ている(参照 US-A-3118887 、US-A-3244708、CH-A-480
091 )。また立体障害性アミンとの組合せでのこれらの
使用も知られている( US-A-4619956 )。
【0003】これまでに調べられた2−(2−ヒドロキ
シフェニル)−1,3,5−トリアジン類においては、
4位および6位のトリアジンが通常、2−ヒドロキシフ
ェニル基または2,4−ジメチルフェニル基のいずれか
により置換されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】驚くべきことに、本発
明者は、今、4位および6位においてフェニル基または
p−トリル基のいずれかを有する2−(2−ヒドロキシ
フェニル)−1,3,5−トリアジン類は、4位および
6位において2,4−ジメチルフェニル基を有するヒド
ロキシフェニルトリアジンよりもより良好な安定化作用
をなすことを見出した。
【0005】またそれらは、高い耐熱性および光化学反
応耐性によって特徴付けられる。
【0006】
【課題を解決するための手段】したがって、本発明は、 a)フィルム形成性バインダー、 b)安定剤として、少なくとも一種の式I
【化2】 [式中、R1 は水素原子またはメチル基を表わし、mは
を表わし、そしてR 2 は、水素原子、炭素原子数1な
いし18のアルキル基、炭素原子数6ないし20のアル
キルシクロアルキル基、−CH 2 CO−フェニル基を表
すかまたは炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基
(シクロヘキシル基を除く。)を表わす。]で表わされ
るヒドロキシフェニルトリアジンより成る光、酸素およ
び熱により誘起された崩壊に対して安定化された塗料に
関する。
【0007】成分a)のフィルム形成性バインダーは、熱
可塑性樹脂または熱硬化性樹脂であり得、とりわけ熱硬
化性樹脂である。かかる樹脂の典型例は、アルキド樹
脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、フェノール樹
脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂およびポリウレタン樹
脂並びにこれらの混合物である。
【0008】特定のバインダーを含む塗料の実際例は、
次の通りである。
【0009】1.常温架橋性または高温架橋性 アルキド
樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂
もしくはメラミン樹脂またはこれら樹脂の混合物をベー
スとするペイントまたはワニス組成物;これに所望の酸
硬化触媒が加えられる。
【0010】2.ヒドロキシル化アクリレート、ポリエス
テル樹脂またはポリエーテル樹脂および脂肪族または芳
香族ポリイソシアネートをベースとする二成分ポリウレ
タンペイントまたはワニス組成物。
【0011】3.焼付けの間に脱ブロックされるブロック
トポリイソシアネートをベースとする一成分ポリウレタ
ンペイントまたはワニス組成物。
【0012】4.(ポリ)ケチミンおよび脂肪族または芳
香族ポリイソシアネートをベースとする二成分ペイント
またはワニス組成物。
【0013】5.(ポリ)ケチミンおよび不飽和アクリル
樹脂またはポリアセトアセテート樹脂またはメチルアク
リルアミドグリコレートメチルエステルをベースとする
二成分ペイントまたはワニス組成物。
【0014】6.カルボキシル基またはアミノ基含有ポリ
アクリレートおよびポリエポキシドをベースとする二成
分ペイントまたはワニス組成物。
【0015】7.酸無水物基含有アクリル樹脂およびポリ
ヒドロキシ成分またはポリアミノ成分をベースとする二
成分ペイントまたはワニス組成物。
【0016】8.(ポリ)オキサゾリジンおよび酸無水物
基含有アクリル樹脂または不飽和アクリル樹脂または脂
肪族もしくは芳香族ポリイソシアネートをベースとする
二成分ペイントまたはワニス組成物。
【0017】9.不飽和ポリアクリレートおよびポリマロ
ネートをベースとする二成分ペイントまたはワニス組成
物。
【0018】10. エーテル化メラミン樹脂との組合せで
熱可塑性アクリル樹脂または非自己架橋性アクリル樹脂
をベースとする熱可塑性ポリアクリレートペイントまた
はワニス組成物。
【0019】11. シロキサン変性またはフッ素変性アク
リル樹脂をベースとするペイントまたはワニス組成物。
【0020】式Iで表わされる安定剤は、公知の化合物
であるかまたは公知の方法と類似の方法により製造する
ことができる化合物である。これらは普通式I(式中、
2は水素原子を表わす。)で表わされる化合物から、
置換基R2 を、好都合にはフェノール性ヒドロキシル基
のエーテル化、エステル化、ヒドロキシアルキル化また
はカルバモイル化により、2−ヒドロキシフェニル環の
4位に導入することにより、製造することができる。2
−ヒドロキシ基は、水素結合によってブロックされてい
るので、この方法において適当な反応条件下でも反応し
ない。かかる方法は、 US-A-3118887 、US-A-3244708ま
たはUS-A-3423360において記載されている。
【0021】出発物質、式I(式中、R2 は水素原子を
表わす。)で表わされる化合物は、対応するジアリール
クロロトリアジンをレソルシノールとフリーデルクラフ
ツ条件下で(Helv. Chim. Acta 55 ,1566 (1972))反応
させることにより、またはベンズアミジンおよびフェニ
ルレソルシレートより( US-A-3118887 )、製造するこ
とができる。
【0022】式Iにおける、炭素原子数1ないし18の
アルキル基としてのR2 またはR3は、直鎖アルキル基
でも、または枝分れアルキル基でもよく、典型的には、
メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル
基、n−ブチル基、第二ブチル基、第三ブチル基、ペン
チル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エ
チルヘキシル基、1,1,3,3−テトラメチルブチル
基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、テトラデシ
ル基、ヘキサデシル基またはオクタデシル基であり得
る。
【0023】炭素原子数6ないし20のアルキルシクロ
アルキル基としてのR2 は、好ましくはメチルシクロヘ
キシル基である。
【0024】成分b)は、好ましくは式 I[式中、 1
水素原子またはメチル基を表わし、およびR 2 は炭素原
子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし8
のシクロアルキル基(シクロヘキシル基を除く。)、ま
たは−CH 2 CO−フェニル基を表わす。]で表わされ
る化合物である。
【0025】本発明の塗料は、別の安定剤、好都合には
以下の種類の安定剤を含有することができる。
【0026】1.酸化防止剤 1.アルキル化モノフェノール 、例えば、2,6−ジ−第
三ブチル−4−メチルフェノール、2−第三ブチル−
4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル
−4−エチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−4
−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−4
−イソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチル−
4−メチルフェノール、2−(α−メチルシクロヘキシ
ル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオクタ
デシル−4−メチルフェノール、2,4,6−トリシク
ロヘキシルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−4−
メトキシメチルフェノール、2,6−ジ−ノニル−4−
メチルフェノール。
【0027】1.2.アルキル化ヒドロキノン、例えば、
2,6−ジ−第三ブチル−4−メトキシフェノール、
2,5−ジ−第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ−第
三アミルヒドロキノン、2,6−ジ−フェニル−4−オ
クタデシルオキシフェノール。
【0028】1.3.ヒドロキシル化チオジフェニルエーテ
、例えば、2,2´−チオビス(6−第三ブチル−4
−メチルフェノール)、2,2´−チオビス(4−オク
チルフェノール)、4,4´−チオビス(6−第三ブチ
ル−3−メチルフェノール)、4,4´−チオビス(6
−第三ブチル−2−メチルフェノール)。
【0029】1.4.アルキリデンビスフェノール、例え
ば、2,2´−メチレンビス(6−第三ブチル−4−メ
チルフェノール)、2,2´−メチレンビス(6−第三
ブチル−4−エチルフェノール)、2,2´−メチレン
ビス[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)
フェノール]、2,2´−メチレンビス(4−メチル−
6−シクロヘキシルフェノール)、2,2´−メチレン
ビス(6−ノニル−4−メチルフェノール)、2,2´
−メチレンビス(4,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル)、2,2´−エチリデンビス(4,6−ジ−第三ブ
チルフェノール)、2,2´−エチリデンビス(6−第
三ブチル−4−イソブチルフェノール)、2,2´−メ
チレンビス[6−(α−メチルベンジル)−4−ノニル
フェノール]、2,2´−メチレンビス[6−(α,α
−ジメチルベンジル)−4−ノニルフェノール]、4,
4´−メチレンビス(2,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル)、4,4´−メチレンビス(6−第三ブチル−2−
メチルフェノール)、1,1−ビス(5−第三ブチル−
4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、2,6
−ビス(3−第三ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシ
ベンジル)−4−メチルフェノール、1,1,3−トリ
ス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェ
ニル)ブタン、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシ−2−メチルフェニル)−3−n−ドデシルメ
ルカプトブタン、エチレングリコールビス[3,3−ビ
ス(3´−第三ブチル−4´−ヒドロキシフェニル)ブ
チレート]、ビス(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−
5−メチルフェニル)ジシクロペンタジエン、ビス[2
−(3´−第三ブチル−2´−ヒドロキシ−5´−メチ
ルベンジル)−6−第三ブチル−4−メチルフェニル]
テレフタレート。
【0030】1.5.ベンジル化合物、例えば、1,3,5
−トリス−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン、ビス
(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
スルフィド、イソオクチル3,5−ビス(第三ブチル−
4−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート)、ビス
(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチル
ベンジル)ジチオテレフタレート、1,3,5−トリス
−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)イソシアヌレート、1,3,5−トリス−(4−第
三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジ
ル)イソシアヌレート、ジオクタデシル3,5−ジ−第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、モノ
エチル3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ルホスホネートのカルシウム塩、1,3,5−トリス−
(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシベンジ
ル)イソシアヌレート。
【0031】1.6.アシルアミノフェノール、例えば、ラ
ウリン酸4−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸4−ヒ
ドロキシアニリド、2,4−ビス(オクチルメルカプ
ト)−6−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
アニリノ)−s−トリアジン、オクチルN−(3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−カルバメ
ート。
【0032】1.7.β−(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の以下の一価または
多価アルコールとのエステル、アルコールの例:メタノ
ール、ジエチレングリコール、オクタデカノール、トリ
エチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ペン
タエリトリトール、ネオペンチルグリコール、トリス
(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、チオジエチレ
ングリコール、N,N´−ビス(ヒドロキシエチル)シ
ュウ酸ジアミド。
【0033】1.8.β−(5−第三ブチル−4−ヒドロキ
シ−3−メチルフェニル)プロピオン酸の以下の一価ま
たは多価アルコールとのエステル、アルコールの例:メ
タノール、ジエチレングリコール、オクタデカノール、
トリエチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、
ペンタエリトリトール、ネオペンチルグリコール、トリ
ス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、チオジエチ
レングリコール、N,N´−ビス(ヒドロキシエチル)
シュウ酸ジアミド。
【0034】1.9.β−(3,5−ジシクロヘキシル−4
−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の以下の一価また
は多価アルコールとのエステル、アルコールの例:メタ
ノール、ジエチレングリコール、オクタデカノール、ト
リエチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ペ
ンタエリトリトール、ネオペンチルグリコール、トリス
(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、チオジエチレ
ングリコール、N,N´−ビス(ヒドロキシエチル)シ
ュウ酸ジアミド。
【0035】1.10. β−(3,5−ジ−第三ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸のアミド、例え
ば、N,N´−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジアミ
ン、N,N´−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミ
ン、N,N´−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン。
【0036】2.紫外線吸収剤および光安定剤 2.2.2−ヒドロキシ−ベンゾフェノン 、例えば、4−ヒ
ドロキシ−、4−メトキシ−、4−オクトキシ−、4−
デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ−、4−ベンジル
オキシ−、4,2´,4´−トリヒドロキシ−および2
´−ヒドロキシ−4,4´−ジメトキシ誘導体。
【0037】2.3.置換されたおよび非置換安息香酸のエ
ステル、例えば、4−第三ブチルフェニルサリチレー
ト、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレ
ート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4−第三ブ
チルベンゾイル)レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシ
ノール、2,4−ジ−第三ブチル−フェニル3,5−ジ
−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、およびヘ
キサデシル3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベ
ンゾエート。
【0038】2.4.アクリレート、例えば、α−シアノ−
β,β−ジフェニル−アクリル酸エチルエステル、α−
シアノ−β,β−ジフェニル−アクリル酸イソオクチル
エステル、α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステ
ル、α−シアノ−β−メチル−p−メトキシ−桂皮酸メ
チルエステル、α−シアノ−β−メチル−p−メトキシ
−桂皮酸ブチルエステル、α−カルボメトキシ−p−メ
トキシ−桂皮酸メチルエステル、およびN−(β−カル
ボメトキシ−β−シアノビニル)−2−メチルインドリ
ン。
【0039】2.5.ニッケル化合物、例えば、2,2´−
チオビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチ
ル)−フェノール]のニッケル錯体、例えば1:1また
は1:2錯体であって、所望によりn−ブチルアミン、
トリエタノールアミンもしくはN−シクロヘキシル−ジ
−エタノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニ
ッケルジブチルジチオカルバメート、4−ヒドロキシ−
3,5−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキ
ルエステル、例えばメチルもしくはエチルエステルのニ
ッケル塩、2−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルウン
デシルケトキシムのよなケトキシムのニッケル錯体、1
−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシ−ピラゾ
ールのニッケル錯体であって、所望により他の配位子を
伴うもの。
【0040】2.6.立体障害性アミン、例えば、ビス
(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)セバケー
ト、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジ
ル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメ
チルピペリジル)−n−ブチル−3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、1−ヒドロキ
シエチル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロ
キシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、N,N´−
ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)ヘキサメチレンジアミンと4−第三オクチルアミノ
−2,6−ジクロロ−−s−1,3,5−トリアジンと
の縮合生成物、トリス(2,2,6,6−テトラメチル
−4−ピペリジル)ニトリロトリアセテート、テトラキ
ス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)
−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、
1,1´−(1,2−エタンジイル)−ビス(3,3,
5,5−テトラメチルピペラジノン)。
【0041】2.7.シュウ酸ジアミド、例えば、4,4´
−ジ−オクチルオキシオキサニリド、2,2´−ジ−オ
クチルオキシ−5,5´−ジ−第三ブチル−オキサニリ
ド、2,2´−ジ−ドデシルオキシ−5,5´−ジ−第
三ブチル−オキサニリド、2−エトキシ−2´−エチル
オキサニリド、N,N´−ビス(3−ジメチルアミノプ
ロピル−オキサルアミド、2−エトキシ−5−第三ブチ
ル−2´−エチル−オキサニリドおよび該化合物と2−
エトキシ−2´−エチル−5,4´−ジ−第三ブチル−
オキサニリドとの混合物、o−およびp−メトキシ−二
置換オキサニリドの混合物、およびo−およびp−エト
キシ−二置換オキサニリドの混合物。
【0042】2.8.2−(2−ヒドロキシフェニル)−
1,3,5−トリアジン、例えば、2,4,6−トリス
(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−
オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジ
メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−
(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキ
シフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−
オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(4−メチル
フェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒド
ロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)−4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン。
【0043】3.金属奪活剤、例えば、N,N´−ジフェ
ニルシュウ酸ジアミド、N−サリチラル−N´−サリチ
ロイルヒドラジン、N,N´−ビス(サリチロイル)ヒ
ドラジン、N,N´−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−
4−ヒドロキシフェニル−プロピオニル)ヒドラジン、
3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾール、
ビス(ベンジリデン)オキサロジヒドラジド。
【0044】4.ホスフィットおよびホスホナイト、例え
ば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホ
スフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス
(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホスフ
ィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリル
ペンタエリトリトールジホスフィット、トリス(2,4
−ジ−第三ブチル−フェニル)ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリト−ルジホスフィット、ビス(2,
4−ジ−第三ブチル−フェニル)ペンタエリトリト−ル
ジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホス
フィット、テトラキス(2,4−ジ−第三ブチル−フェ
ニル)−4,4´−ビフェニレンジホスホナイト、3,
9−ビス(2,4−ジ−第三ブチル−フェノキシ)−
2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファ
スピロ[5.5]ウンデカン。
【0045】本発明塗料は、別の安定剤として立体障害
性アミンの種類の光安定剤、好ましくは少なくとも一個
の式
【0046】
【化3】 で表わされる基を含む光安定剤を含むことができる。か
かる光安定剤の例は、上記に項2.6.の下挙げられてい
る。
【0047】本発明の要旨は、塗料に、少なくとも一種
の式Iで表わされるヒドロキシフェニルトリアジンを添
加することより成る、光、酸素および熱の劣化作用に対
して塗料を安定化する方法をも包含する。
【0048】添加する安定剤の量は、バインダーの種類
にまた塗料の予想される最終用途にも依る。塗料は、好
ましくは、バインダー[成分a)]の量に基づいて、0.
1ないし5重量%の式Iで表わされる安定剤を含み得
る。
【0049】また立体障害性アミンを添加した場合に
は、その量は、好ましくはバインダー[成分a)]の量に
基づいて、0.01ないし2重量%であり得る。
【0050】さらに好ましい共安定剤は、2−(2’−
ヒドロキシフェニル)ベンズトリアゾールの種類の光安
定剤である。
【0051】本塗料は、有機溶剤、典型的には芳香族ま
たは脂肪族炭化水素、ケトン、アルコール、エステルま
たはエーテルまたはそれらの混合物を含むことができ
る。塗料は水性分散液または水溶液の形態であってもよ
く、また塗料は溶剤または分散剤が無くともよい。最後
に述べた場合は、塗料が粉末コーティング組成物または
光硬化性コーティング組成物の形態にある場合に適用さ
れる。水性分散液または水溶液は、典型的には電気泳動
塗装コーティングに使用される。
【0052】本塗料は、顔料、好都合には有機または無
機顔料または金属粉顔料を含有することができる。しか
しながら、本塗料はまた顔料を含まなくともよい(透明
ワニス)。
【0053】本塗料は、塗装工学において通常使用され
る別の添加剤、典型的には充填剤、均展剤、チキソトロ
ープ剤、分散剤、粘着促進剤、腐食抑制剤または硬化触
媒を含有することができる。
【0054】本塗料は、単層コーティングまたは二層コ
ーティングとして適用することができる。二層系の場合
においては、本発明の安定化コーティングは好ましくは
顔料非着色のトップコートとして適用される。
【0055】本塗料は、金属、木材、プラスチックまた
はセラミックを含む種々の基材に適用することができ
る。これら基材への塗布は、塗装技術において慣用され
る技術によって、典型的にはナイフ塗工、噴霧、キャス
ティング、浸漬コーティング、電気泳動またはスピン−
コーティングによりなすことができる。
【0056】本発明の塗料は、ラッカーの光安定性につ
き作られた過酷な要求品質を考慮して、特に自動車用ラ
ッカーとしての使用に適するものである。
【0057】
【実施例】以下の非制限な的実施例によって本発明をさ
らに説明する。以下において、部および百分率は重量部
および重量百分率を表わす。
【0058】実施例: アクリル樹脂(Uracon R 2263XB ,DSM Resin BV )(キシレン中50%溶液) 54.5部 メラミン樹脂(Cymel R 237 ,Amer. Cyanamid Co. )(90%溶液) 16.3部 キシレン 19.4部 ブチルグリコールアセテート 5.5部 ブタノール 3.3部 均展剤(Baysilon R A ,Bayer AG)(キシレン中1%溶液) 1.0部 これらより透明ラッカーを作った。
【0059】表1ないし表3に掲げた紫外線吸収剤をキ
シレン中に溶解しそして透明ラッカーに、固形分に基づ
いて、1.5%の量添加した。
【0060】こうして作られたラッカー試料を、キシレ
ン、ブタノールおよびブチルグリコールアセテートの混
合物(13:6:1)で希釈して、噴霧可能なコンシス
テンシーとし、そして調製されたアルミニウムシート
(被覆コイル、自動車充填剤、シルバーメタリック プ
ライマーラッカー)およびガラス板の上に噴霧した。1
5分間の貯蔵の後、試料を130℃にて30分間硬化し
た。
【0061】その後試料を、Atlas UVCON 装置( UVB-3
13ランプ)の中で、70℃で8時間紫外線照射と50℃
で4時間の凝縮とのサイクルにて屋外曝露した。
【0062】以下のトリアジン類を試験した。
【0063】
【化4】
【表1】 シルバーメタリック プライマーラッカー上の試料の表
面光沢を定例の間隔で測定した( DIN67530 による20
°光沢)。これらの測定の結果は、表1および表2に報
告して示す。表1における試料のラッカーフィルムの硬
化後の厚さは約20μmでありそして表2における試料
のそれは約43μmであった。
【0064】さらに、ガラス板上に噴霧された試料(硬
化後のラッカーフィルムの厚さ 約20μm)につい
て、800時間屋外曝露後の紫外線吸収剤の損失を分光
分析法により測定した。これらの測定の結果を表3に示
す。
【0065】表1 :シルバーメタリック プライマーラッカー上の2
0μm透明ラッカーについて、屋外曝露前と曝露後の D
IN67530 による20°光沢
【表2】
【0066】表2 :シルバーメタリック プライマーラッカー上の4
3μm透明ラッカーについて、屋外曝露前と曝露後の D
IN67530 による20°光沢
【表3】
【0067】表3 :屋外曝露後の紫外線吸収剤の損失、ガラス板につ
き、波長λmax/nmにて測定。
【表4】
フロントページの続き (72)発明者 ジャーン−ルーク ビァバウム スイス国 ,1700 フライボルク 4 ,プランヘ ズーパー 2 (72)発明者 マリオ スロンゴ スイス国 ,1712 ターフェルス ,ザ ーゲトラインヴェーク 6 (56)参考文献 特開 平2−222457(JP,A) 特開 昭61−293239(JP,A) 特許2779981(JP,B2) 米国特許5096781(US,A) 米国特許4740542(US,A) 米国特許3242175(US,A) 欧州特許出願公開502816(EP,A 1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C09D 7/12

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 a)フィルム形成性バインダー、 b)安定剤として、少なくとも一種の式I 【化1】 [式中、R1 は水素原子またはメチル基を表わし、 mは1を表わし、そしてR 2 は、水素原子、炭素原子数
    1ないし18のアルキル基、炭素原子数6ないし20の
    アルキルシクロアルキル基、−CH 2 CO−フェニル基
    を表すかまたは炭素原子数5ないし8のシクロアルキル
    基(シクロヘキシル基を除く。)を表わす。]で表わさ
    れるヒドロキシフェニルトリアジンより成る光、酸素お
    よび熱により誘起された崩壊に対して安定化された塗
    料。
  2. 【請求項2】 成分a)はアルキド樹脂、アクリル樹脂、
    ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エ
    ポキシ樹脂およびポリウレタン樹脂並びにこれらの混合
    物からなる群より選択されるところの請求項1記載の塗
    料。
  3. 【請求項3】 成分b)は、式 I[式中、R 1 は水素原子
    またはメチル基を表 わし、およびR 2 は炭素原子数1な
    いし18のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロ
    アルキル基(シクロヘキシル基を除く。)、または−C
    2 CO−フェニル基を表わす。]で表わされる化合物
    であるところの請求項1記載の塗料。
  4. 【請求項4】 別の安定剤として立体障害性アミンの種
    類の光安定剤を含む、請求項1記載の塗料。
  5. 【請求項5】 成分a)に基づいて、0.1ないし5重量
    %の式Iで表わされる安定剤を含む、請求項1記載の塗
    料。
  6. 【請求項6】 成分a)に基づいて、0.01ないし2重
    量%の立体障害性アミンの種類の光安定剤を含む、請求
    項4記載の塗料。
  7. 【請求項7】 別の安定剤として2−(2’−ヒドロキ
    シフェニル)ベンズトリアゾールの種類の光安定剤を含
    、請求項1記載の塗料。
  8. 【請求項8】 成分a)および成分b)の水性分散液または
    水溶液であるところの請求項1記載の塗料。
  9. 【請求項9】 自動車用ラッカーであるところの請求項
    1記載の塗料。
  10. 【請求項10】 二層コーティングのトップコートであ
    るところの請求項1記載の顔料非着色の塗料。
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