JP4332819B2 - ヒドロキシフェニルトリアジン - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、1種以上の2−(2’−ヒドロキシフェニル)−4,6−ジアリール−1,3,5−トリアジンを添加することにより合成有機ポリマー又はプレポリマー、特に塗料材料;この型のトリアジン新規化合物、並びにこれらの化合物の安定剤としての使用に関する。
【0002】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】
有機材料、例えば塗料の光安定性を増すことを所望する場合は、光安定剤を添加するのが普通である。光安定剤の非常に頻繁に使用される類の一つは紫外線吸収剤であって、それは発色団を介して有害な放射線を吸収することにより材料を保護する。紫外線吸収剤の一つの重要な基はトリフェニルトリアジンであって;酸基又はエステル基を有するこの型の化合物は特に下記の刊行物に記載されているUS−A−3244708、US−A−3249608、CH−A−484695、GB−A−1321561とUS−A−4826978。
【0003】
EP−A−434608、EP−A−530135、US−A−5364749とGB−A−2273498も分枝した側鎖を持つこの類の具体的化合物を記述している。
【0004】
安定剤として効果的である化合物については、特に重大な性質はそのスペクトルと抗酸化的作用ばかりではなく、特に、安定化される物質との相溶性、及びその溶解性である。
【0005】
【課題を解決するための手段】
特定のある種の分枝した酸又はエステル側鎖を持つ、2−(2’−ヒドロキシフェニル)−4,6−ジアリール−1,3,5−トリアジン型のある種のものが、驚くべきことに、合成有機ポリマーとプレポリマーのための特に優れた安定剤性能を持つことが見出された。
【0006】
本発明は従って第一に、
A)合成有機ポリマー又はプレポリマー及び
B)光、酸素及び/又は熱の損傷影響に対する安定剤としての、式I
【化9】
Figure 0004332819
〔式中、Zは式II
【化10】
Figure 0004332819
の基を表すか、又は式III
【化11】
Figure 0004332819
の基を表し;
1 、R5 、R11とR15は、互いに独立して、H、炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数3ないし6のアルケニル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、炭素原子数3ないし6のアルケノキシ基、ハロゲン原子又は−CNを表し;
2 、R3 、R4 、R12、R13とR14は、互いに独立して、H、炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数2ないし6のアルケニル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、炭素原子数3ないし6のアルケノキシ基、フェニル基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基;炭素原子数7ないし11のフェニルアルキル基;フェニルオキシ基;又は−CNを表し;
7 とR17は、互いに独立して、式IV、VとVI
【化12】
Figure 0004332819
(式中、mは1ないし12の範囲の数を表し;
6 は炭素原子数1ないし16のアルキル基、−COOR8 又はフェニル基を表し;
8 はH、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、(炭素原子数1ないし4のアルキル)シクロヘキシル基、フェニル基、(炭素原子数7ないし14のアルキル)フェニル基、炭素原子数6ないし15のビシクロアルキル基、炭素原子数6ないし15のビシクロアルケニル基、炭素原子数6ないし15のトリシクロアルキル基、炭素原子数6ないし15のビシクロアルキル−アルキル基又は炭素原子数7ないし11のフェニルアルキル基を表し、そして、Zが式IIの基を表す場合は、追加してOにより中断されている炭素原子数2ないし50のアルキル基を包含し;
9 は炭素原子数2ないし14のアルキル基、フェニル基、又はOにより中断されている炭素原子数2ないし50のアルキル基を表すか;又はフェニル基で、フェノキシ基で、(炭素原子数1ないし4のアルキル)シクロヘキシル基で、(炭素原子数1ないし4のアルキル)シクロヘキシルオキシ基で、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基で又は炭素原子数5ないしシクロアルコキシ基で置換された炭素原子数1ないし14のアルキル基を表し;
10はH、炭素原子数1ないし17のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、フェノキシ基、フェニル基、炭素原子数7ないし11のフェニルアルキル基、炭素原子数7ないし14のアルキルフェノキシ基、炭素原子数7ないし11のフェニルアルコキシ基、炭素原子数6ないし12のシクロアルキル基、(炭素原子数1ないし4のアルキル)−シクロヘキシルオキシ基、炭素原子数6ないし12のシクロアルコキシ基、炭素原子数7ないし11のシクロヘキシルアルキル基、炭素原子数7ないし11のシクロヘキシルアルコキシ基、炭素原子数6ないし15のビシクロアルキル基、炭素原子数6ないし15のビシクロアルケニル基、炭素原子数6ないし15のトリシクロアルキル基、炭素原子数6ないし15のビシクロアルコキシ基、炭素原子数6ないし15のビシクロアルケノキシ基、炭素原子数6ないし15のトリシクロアルコキシ基又はフェニル−NH−を表し;
16は水素原子を表すか又はR6 についてと同じに定義され;又は
6 とR16は一緒になって炭素原子数4ないし11のアルキレン基を表し;
そしてR18は炭素原子数3ないし10のアルキレン基を表す。)のうち一つで表される基を表す。〕により表される化合物(但し、式中、Zが式III の基を表しそしてR1 とR5 の両方がアルキル基を表す化合物、及び式中、R3 又はR13がフェニル基を表しそしてR7 又はR17が式VIの基を表すか又はR16が水素原子を表す化合物を除外する。)により表される化合物からなる組成物を提供する。
【0007】
【発明の実施の形態】
特に工業的に重要なのは、成分Bの化合物中、
1 、R5 、R11とR15は、互いに独立して、H、炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数3ないし6のアルケニル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、炭素原子数3ないし6のアルケノキシ基、ハロゲン原子又は−CNを表し;
2 、R3 、R4 、R12、R13とR14は、互いに独立して、H、炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数2ないし6のアルケニル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、炭素原子数3ないし6のアルケノキシ基、フェニル基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基;炭素原子数7ないし11のフェニルアルキル基;フェニルオキシ基;又は−CNを表し;
7 とR17は、互いに独立して、式IV、VとVI
【化13】
Figure 0004332819
(式中、mは1ないし12の範囲の数を表し;
6 は炭素原子数1ないし16のアルキル基、−COOR8 又はフェニル基を表し;
8 はH、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、(炭素原子数1ないし4のアルキル)シクロヘキシル基、フェニル基、(炭素原子数7ないし14のアルキル)フェニル基又は炭素原子数7ないし11のフェニルアルキル基を表しそして、Zが式IIの基を表す場合は、追加してOにより中断されている炭素原子数2ないし18のアルキル基を包含し;
9 は炭素原子数2ないし14のアルキル、フェニル基又はOにより中断されている炭素原子数2ないし14のアルキル基を表すか;又はフェニル基で、フェノキシ基で、(炭素原子数1ないし4のアルキル)シクロヘキシル基で、(炭素原子数1ないし4のアルキル)シクロヘキシルオキシ基で、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基で又は炭素原子数5ないし12のシクロアルコキシ基で置換された炭素原子数1ないし14のアルキル基を表し;
10はH、炭素原子数1ないし17のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、フェノキシ基、フェニル基、炭素原子数7ないし11のフェニルアルキル基、炭素原子数7ないし14のアルキルフェノキシ基、炭素原子数7ないし11のフェニルアルコキシ基、炭素原子数6ないし12のシクロアルキル基、(炭素原子数1ないし4のアルキル)−シクロヘキシルオキシ基、炭素原子数6ないし12のシクロアルコキシ基、炭素原子数7ないし11のシクロヘキシルアルキル基、炭素原子数7ないし11のシクロヘキシルアルコキシ基又はフェニル−NH−を表し;
16は水素原子を表すか又はR6 についてと同じに定義され;そして
18は炭素原子数3ないし10のアルキレン基を表す。)のうち一つで表される基を表す化合物(但し、式中、Zが式III の基を表しそしてR1 とR5 の両方がアルキル基を表す化合物、及び式中、R3 又はR13がフェニル基を表しそしてR7 又はR17が式VIの基を表すか又はR16が水素原子を表す化合物を除外する。)からなる組成物である。
【0008】
上述の成分(A)は、ハロゲン化銀エマルジョン層を含有する写真感光性材料を含有しない。
【0009】
上述のプレポリマーは、モノマー又はオリゴマー化合物であってそれらは、熱又は放射線例えば紫外放射線、電子線又はX線の影響下、及び/又は架橋剤、カップラー又は触媒の影響下、高分子量物質型(ポリマー)に変換され得るものである。
【0010】
本発明は、合成有機ポリマー又はプレポリマーのための光、酸素及び/又は熱による損傷に対する安定剤としての式Iの化合物の使用を提供する。式Iの化合物は光安定剤(紫外線吸収剤)として特に適当である。特に興味のあるのは、プラスチック、ゴム、接着剤又は、特に塗料材料中に存在するような合成有機ポリマー又はプレポリマーにおけるそれらの使用である。この方法で安定化できるポリマーの例を下記する:
【0011】
1.モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−1、ポリ−4−メチルペンテン−1、ポリイソプレンまたはポリブタジエン、並びにシクロオレフィン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマー、(所望により架橋結合できる)ポリエチレン、例えば高密度ポリエチレン(HDPE)、高密度及び高分子量ポリエチレン(HDPE−HMW)、高密度そして超高分子量ポリエチレン(HDPE−UHMW)、中密度ポリエチレン(MDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)、線状低密度ポリエチレン(LLDPE)、分枝低密度ポリエチレン(BLDPE)。
【0012】
ポリオレフィン、即ち前出の文節に例示したモノオレフィン類のポリマー、好ましくはポリエチレンとポリプロピレンは、いろいろの方法、そして特に下記の方法により製造できる:
a)ラジカル重合(通常は高圧下そして高温下で);
b)通常周期表の第IVb、Vb、VIb又はVIII族の一種以上の金属を含有する触媒を使用する触媒重合。これらの金属は通常は、π−又はσ−配位していてよい一種以上のリガンド、典型的にはオキシド、ハライド、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び/又はアリールを持つ。これらの金属錯体は、遊離型であってもよく又は担体上、典型的には活性化塩化マグネシウム、塩化チタン(III )、アルミナ又は酸化ケイ素上に固定された形であってもよい。これらの触媒は重合媒体中に溶解性又は不溶性であってもよい。その触媒は、重合中にそれ自体が使用されてもよく又は別の活性剤、典型的にはアルキル金属、金属水素化物、アルキル金属ハライド、アルキル金属オキシド又はアルキル金属オキサン(これら金属は周期表の第Ia、IIa 及び/又はIIIaの元素である。) であってよい。活性剤は、別のエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル基で有利に変形されてもよい。これらの触媒系は通常は、フィリップス触媒、スタンダード・オイル・インジアナ触媒、チーグラー(−ナッター)触媒、TNZ(デュポン)触媒、メタロセン触媒又は単座触媒(SSC)と呼ばれる。
【0013】
2. 1)に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物(例えばPP/HDPE,PP/LDPE)およびポリエチレンの異なるタイプの混合物(例えば、LDPE/HDPE)。
【0014】
3.モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン−プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン(LLDPE)およびその低密度ポリエチレン(LDPE)との混合物、プロピレン−ブテン−1・コポリマー、プロピレン−イソブチレン・コポリマー、エチレン−ブテン−1・コポリマー、エチレン−ヘキセン・コポリマー、エチレン−メチルペンテン・コポリマー、エチレン−ヘプテン・コポリマー、エチレン−オクテン・コポリマー、プロピレン−ブタジエン・コポリマー、イソブチレン−イソプレン・コポリマー、エチレン−アルキルアクリレート・コポリマー、エチレン−アルキルメタクリレート・コポリマー、エチレン−ビニルアセテート・コポリマー及び一酸化炭素とのそれらのコポリマーまたはエチレン−アクリル酸・コポリマーおよびそれらの塩類(アイオノマー)、並びにエチレンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボルネンのようなものとのターポリマー;並びにそのようなコポリマーの混合物と1)に記載したポリマーとのそれらの混合物、例えばポリプロピレン/エチレン−プロピレン・コポリマー、LDPE/エチレン−酢酸ビニル−コポリマー(EVA)、LDPE/エチレン−アクリル酸−コポリマー(EAA)、LLDPE/EVA,LLDPE/EAAおよび交互のまたはランダムなポリアルキレン/一酸化炭素−コポリマー並びに他のポリマー、例えばポリアミドとのそれらの混合物。
【0015】
4. 炭化水素樹脂(例えばC5 −C9 )およびそれらの水素化変性体(例えば粘着付与剤)およびポリアルキレンと澱粉との混合物。
【0016】
5.ポリスチレン、ポリ−(p−メチルスチレン)、ポリ−(α−メチルスチレン)。
【0017】
6.スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン−ブタジエン、スチレン−アクリロニトリル、スチレン−アルキルメタクリレート、スチレン−ブタジエン−アルキルアクリレート、スチレン/ブタジエン/アルキルメタアクリレート、スチレン−無水マレイン酸、スチレン−アクリロニトリル−メチルアクリレート;スチレンコポリマーと別のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン−プロピレン−ジエンターポリマーからの高耐衝撃性混合物;およびスチレンのブロックコポリマー例えばスチレン−ブタジエン−スチレン、スチレン−イソプレン−スチレン、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンまたはスチレン−エチレン−プロピレン−スチレン。
【0018】
7.スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−アクリロニトリル・コポリマーにスチレン;ポリブタジエンにスチレンおよびアクリロニトリル(またはメタアクリロニトリル);ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタクリレート;ポリブタジエンにスチレンおよび無水マレイン酸;ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸またはマレインイミド;ポリブタジエンにスチレンとマレインイミド;ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルアクリレート又はアルキルメタクリレート;エチレン−プロピレン−ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル;ポリアルキルアクリレートまたはポリアルキルメタクリレートにスチレンおよびアクリロニトリル;アクリレート/ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、並びにこれらと6)に列挙したコポリマーとの混合物、例えばABS−、MBS−、ASA−またはAES−ポリマーとして知られているコポリマー混合物。
【0019】
8.ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩素化又は臭素化コポリマー(ハロブチルゴム)、塩素化またはクロロスルホン化ポリエチレン、エチレンと塩素化エチレンのコポリマー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩化ビニル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマー。
【0020】
9.α,β−不飽和酸およびその誘導体から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタアクリレート、アクリル酸ブチルで耐衝撃化改質したポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニトリル。
【0021】
10. 前項9)に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル−ブタジエン・コポリマー、アクリロニトリル−アルキルアクリレート・コポリマー、アクリロニトリル/アルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル/ハロゲン化ビニル・コポリマーまたはアクリロニトリル/アルキルメタアクリレート/ブタジエン・ターポリマー。
【0022】
11.不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン;並びにそれらと上記1)に記載したオレフィンとのコポリマー。
【0023】
12. 環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グリシジルエーテルとのコポリマー。
【0024】
13. ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシメチレン;熱可塑性ポリウレタン、アクリレートまたはMBSで変性させたポリアセタール。
【0025】
14. ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、並びにポリフェニレンオキシドとスチレンポリマーまたはポリアミドとの混合物。
【0026】
15. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから誘導されたポリウレタン並びにその前駆物質。
【0027】
16. ジアミンおよびジカルボン酸および/またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリアミド4、ポリアミド6、ポリアミド6/6、6/10、6/9、6/12、4/6、12/12、ポリアミド11、ポリアミド12、m−キシレンジアミンおよびアジピン酸から出発する芳香族ポリアミド;ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸および/またはテレフタル酸および所望により変性剤としてのエラストマーから製造されるポリアミド、例えはポリ(2,4,4−トリメチルヘキサメチレン)テレフタルアミドまたはポリ−m−フェニレンイソフタルアミド。前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグラフトしたエラストマーとのグラフトコポリマー;または前記ポリアミドとポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコールとのグラフトコポリマー。更に、EPDMまたはABSで変性させたポリアミドまたはコポリアミド。加工の間に縮合させたポリアミド(RIM−ポリアミド系)。
【0028】
17. ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミドおよびポリベンズイミダゾール。
【0029】
18. ジカルボン酸およびジオールおよび/ またはヒドロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1, 4−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレートおよびポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシ末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル;そしてポリカーボネートまたはMBSで変性したポリエステルも。
【0030】
19. ポリカーボネートおよびポリエステル−カーボネート。
【0031】
20. ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエーテルケトン。
【0032】
21. 一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分としてフェノール、尿素およびメラミンから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹脂、尿素/ ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン/ホルムアルデヒド樹脂。
【0033】
22. 乾性および不乾性アルキド樹脂。
【0034】
23. 飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールのコポリエステル、および架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変性物。
【0035】
24. 置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリレート、ウレタン−アクリレートまたはポリエステル−アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
【0036】
25. メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネートまたはエポキシ樹脂と架橋してあるアルキド樹脂、ポリエステル樹脂またはアクリレート樹脂。
【0037】
26. 脂肪族、脂環式、複素環式又は芳香族グリシジル化合物から誘導された架橋エポキシ樹脂、例えば、酸無水物又はアミンのような常用の硬化剤で、促進剤を使用してまたは使用しないで架橋してある、ビスフェノールAとビスフェノールFのジグリシジルエーテルの生成物。
【0038】
27. 天然ポリマー、例えばセルロース、天然ゴム、ゼラチンおよびこれらの化学的に変性させた誘導体のようなもの、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよび酪酸セルロースのようなもの、またはセルロースエーテル、例えばメチルセルロースのようなもの;並びにロジンおよびそれらの誘導体。
【0039】
28. 前記したポリマーの混合物(ポリブレンド)、例えばPP/EPDM、ポリアミド/EPDMまたはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/ASA、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/アクリレート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性PUR、POM/アクリレート、POM/MBS、PPO/HIPS、PPO/PA6.6およびコポリマー、PA/HDPE、PA/PP、PA/PPO、PBT/PC/ABSまたはPBT/PET/PC。
【0040】
本発明は、光、酸素及び/又は熱による損傷に対して合成有機ポリマー又はプレポリマーを安定化する方法であって、安定剤として式Iの化合物を有機合成ポリマー又はプレポリマーに添加することからなる方法も提供する。
【0041】
使用される安定剤の量は、安定化される有機材料と安定化された有機材料の意図する使用に依存する。概して、新規の組成物は、成分Aの100重量部当たり0.01ないし15重量部、特に0.05ないし10重量部、特別に0.1ないし5重量部の安定剤(成分B)からなる。
【0042】
新規の組成物は、式Iの安定剤に加えて、他の安定剤又は他の添加剤、例えば抗酸化剤、別の光安定剤、金属不活性化剤、亜リン酸エステル又はホスフィン酸エステル類も含有する。それらの例は、下記する安定剤である:
【0043】
1.酸化防止剤
1.1 アルキル化モノフェノール類、例えば、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2−tert−ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−イソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチル−4−メチルフェノ−ル、2−(α−メチルシクロヘキシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオクタデシル−4−メチルフェノ−ル、2,4,6−トリシクロヘキシルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メトキシメチルフェノール,側鎖が直鎖又は分枝鎖であるノニルフェノール例えば、2,6−ジノニル−4−メチルフェノール、2,4−ジメチル−6−(1′−メチルウンデカン−1′−イル)フェノール、2,4−ジメチル−6−(1′−メチルヘプタデカン−1′−イル)フェノール,2,4−ジメチル−6−(1′−メチルトリデカン−1′−イル)−フェノールおよびそれらの混合物。
【0044】
1.2.アルキルチオメチルフェノール類、例えば2,4−ジオクチルチオメチル−6−tert−ブチルフェノール、2,4−ジオクチルチオメチル−6−メチルフェノール、2,4−ジオクチルチオメチル−6−エチルフェノール、2,6−ジ−ドデシルチオメチル−4−ノニルフェノール。
【0045】
1.3.ハイドロキノン類とアルキル化ハイドロキノン類、例えば、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メトキシフェノール、2,5−ジ−tert−ブチルハイドロキノン、2,5−ジ−tert−アミルハイドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オクタデシルオキシフェノール,2,6−ジ−tert−ブチル−ハイドロキノン,2,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシアニソール、ステアリン酸3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル、アジピン酸ビス−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)。
【0046】
1.4.トコフェロール、例えばα−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びそれらの混合物(ビタミンE)。
【0047】
1.5.ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル類、例えば、2,2′−チオビス(6−tert−ブチル−4−メチルフェノール)、2,2′−チオビス(4−オクチルフェノール)、4,4′−チオビス(6−tert−ブチル−3−メチルフェノール)、4,4′−チオビス(6−tert−ブチル−2−メチルフェノール)、4,4′−チオ−ビス(3,6−ジ−sec−アミルフェノール)、4,4′−ビス(2,6−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ジスルフィド。
【0048】
1.6.アルキリデンビスフェノール類、例えば、2,2′−メチレンビス(6−tert−ブチル−4−メチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(6−tert−ブチル−4−エチルフェノール)、2,2′−メチレンビス[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)フェノール]、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、2,2′−メチレンビス(6−ノニル−4−メチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、2,2′−エチリデンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、2,2′−エチリデンビス(6−tert−ブチル−4−イソブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス[6−(α−メチルベンジル)−4−ノニルフェノール]、2,2′−メチレンビス[6−(α,α−ジメチルベンジル)−4−ノニルフェノール]、4,4′−メチレンビス(2,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、4,4′−メチレンビス(6−tert−ブチル−2−メチルフェノール)、1,1−ビス(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、2,6−ビス(3−tert−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェノール、1,1,3−トリス(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビス(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−3−n−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス[3,3−ビス(3′−tert−ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)ブチレート]、ビス(3−tert−ブチル−4ーヒドロキシ−5−メチルフェニル)ジシクロペンタジエン、ビス[2−(3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−メチルベンジル)−6−tert−ブチル−4−メチルフェニル]テレフタレート、1,1−ビス(3,5−ジメチル−2−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−4−n−ドデシルメルカプトブタン、1,1,5,5−テトラ(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−ペンタン。
【0049】
1.7.O - ,N - およびS - ベンジル化合物、例えば、3,5,3′,5′−テトラ−tert−ブチル−4,4′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジル−メルカプト酢酸オクタデシル、4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジル−メルカプト酢酸トリデシル、トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)アミン、ジチオテレフタル酸ビス(4−tert−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)、ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)スルフィド、イソオクチル=3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル−メルカプトアセテート。
【0050】
1.8.ヒドロキシベンジル化マロン酸エステル類、例えば、2,2−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−2−ヒドロキシベンジル)マロン酸ジオクタデシル、2−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)マロン酸ジオクタデシル、2,2−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロン酸=ジ−ドデシルメルカプトエチル、2,2−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロン酸=ビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−フェニル]。
【0051】
1.9.ヒドロキシベンジル芳香族化合物、例えば、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン、1,4−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,3,5,6−テトラメチルベンゼン、2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)フェノール。
【0052】
1.10.トリアジン化合物、例えば、
2,4−ビスオクチルメルカプト−6−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5−トリアジン、
2−オクチルメルカプト−4,6−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5−トリアジン、
2−オクチルメルカプト−4,6−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1,3,5−トリアジン、
2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1,3,5−トリアジン、
1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、
1,3,5−トリス(4−tert−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシアヌレート、
2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルエチル)−1,3,5−トリアジン、
1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジン、
1,3,5−トリス−(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート。
【0053】
1.11.ベンジルホスホン酸エステル類、例えば、2,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸ジメチル、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸ジエチル、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンジルホスホン酸ジオクタデシル、5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルベンジルホスホン酸ジオクタデシル、
3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエチルエステルのカルシウム塩。
【0054】
1.12.アシルアミノフェノール類、例えば、ラウリン酸4−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸4−ヒドロキシアニリド、オクチル N−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−カルバメート。
【0055】
1.13.β−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル類、
アルコールの例:メタノール、エタノール、n−オクタノール、i−オクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
【0056】
1.14.β−(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロピオン酸の以下の一価または多価アルコールとのエステル類、
アルコールの例:メタノール、エタノール、n−オクタノール、i−オクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
【0057】
1.15.β−(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の以下の一価または多価アルコールとのエステル類、
アルコールの例:メタノール、エタノール、n−オクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
【0058】
1.16.3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル酢酸の以下の一価または多価アルコールとのエステル類、
アルコールの例:メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
【0059】
1.17.β−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸のアミド類、例えばN,N′−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジアミン、N,N′−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミン、N,N′−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン。
【0060】
1.18.アスコルビン酸(ビタミンC)
【0061】
1.19.アミン系抗酸化剤
N,N’−ジイソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジ−sec−ブチル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス−(1,4−ジメチルペンチル)−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1−エチル−3−メチルペンチル)−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1−メチルヘプチル)−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジシクロヘキシル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(2−ナフチル)−p−フェニレンジアミン、N−イソプロピル−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−(1,3−ジメチルブチル)−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−(1−メチルヘプチル)−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−シクロヘキシル−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、4−(p−トルエンスルファモイル)ジフェニルアミン、N,N’−ジメチル−N,N’−ジ−sec−ブチル−p−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、N−アリルジフェニルアミン、4−イソプロポキシジフェニルアミン、N−フェニル−1−ナフチルアミン、N−(4−tert−オクチルフェニル)−1−ナフチルアミン、N−フェニル−2−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばp,p’−ジ−第三ブチル−オクチルジフェニルアミン、4−n−ブチルアミノフェノール、4−ブチリルアミノフェノール、4−ノナノイルアミノフェノール、4−ドテカノイルアミノフェノール、4−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス(4−メトキシフェニル)アミン、2,6−ジ−第三ブチル−4−ジメチルアミノメチルフェノール、2,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、N,N,N’,N’−テトラメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、1,2−ビス[(2−メチルフェニル)アミノ]エタン、1,2−ビス(フェニルアミノ)プロパン、(o−トリル)ビグアニド、ビス[4−(1’,3’−ジメチルブチル)フェニル]アミン、tert−オクチル化N−フェニル−1−ナフチルアミン、モノ−およびジアルキル化tert−ブチル/tert−オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化イソプロピル/イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化tert−ブチルジフェニルアミンの混合物、2,3−ジヒドロ−3,3−ジメチル−4H−1,4−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−およびジアルキル化tert−ブチル/tert−オクチルフェノチアジン、モノ−およびジアルキル化tert−オクチルフェノチアジン、N−アリルフェノチアジン、N,N,N’,N’−テトラフェニル−1,4−ジアミノブテン−2、N,N−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン−4−イル−ヘキサメチレンジアミン,セバシン酸ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オン、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オール。
【0062】
2. 紫外線吸収剤および光安定剤
2.1.2− ( 2′−ヒドロキシフェニル ) ベンゾトリアゾール類、例えば、
2−( 2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル) ベンゾトリアゾール、2−( 3′,5′−ジ−tert−ブチル−2′−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾール、2−( 5′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾール、2−( 2′−ヒドロキシ−5′−(1,1,3,3−テトラメチルブチル) フェニル) ベンゾトリアゾール、2−( 3′,5′−ジ−tert−ブチル−2′−ヒドロキシフェニル) −5−クロロ−ベンゾトリアゾール類、2−( 3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−メチル−フェニル) −5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−( 3′−sec−ブチル−5′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾール、2−( 2′−ヒドロキシ−4′−オクチルオキシ−フェニル) ベンゾトリアゾール、2−( 3′,5′−ジ−tert−アミル−2′−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾール、2−( 3′,5′−ビス(α,α−ジメチルベンジル)−2′−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾール、2−( 3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−オクチルカルボニルエチル)フェニル) −5−クロロ−ベンゾトリアゾールの混合物、2−( 3′−tert−ブチル−5′−[2−(2−エチルヘキシルオキシ)−カルボニルエチル]−2′−ヒドロキシフェニル) −5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−( 3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル) −5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−( 3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル) ベンゾトリアゾール、2−( 3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル) ベンゾトリアゾール、2−( 3′−tert−ブチル−5′−[2−(2−エチルヘキシルオキシ)−カルボニルエチル]−2′−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾール、2−( 3′−ドデシル−2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル) ベンゾトリアゾールおよび2−( 3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニル) ベンゾトリアゾール、2,2′−メチレン−ビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−ベンゾトリアゾール−2−イル−フェノール];ポリエチレングリコール300との2−[3′−tert−ブチル−5′−(2−メトキシカルボニルエチル)−2′−ヒドロキシ−フェニル]−2H−ベンズトリアゾールのエステル交換生成物;[R−CH2 CH2 −COO(CH2 3 −]2 (式中、R=3′−tert−ブチル−4′−ヒドロキシ−5′−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル−フェニル)。
【0063】
2.2.2−ヒドロキシ−ベンゾフェノン類、例えば
4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オクトキシ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ−、4−ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒドロキシ−および2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。
【0064】
2.3.置換されたおよび非置換安息香酸のエステル類、例えば
サリチル酸4−tert−ブチルフェニル、サリチル酸フェニル、サリチル酸オクチルフェニル、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4−tert−ブチルベンゾイル)レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸2,4−ジ−tert−ブチルフェニル、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシル、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸オクタデシル、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸2−メチル−4,6−ジ−tert−ブチルフェニル。
【0065】
2.4.アクリレート類、、例えば
α−シアノ−β, β−ジフェニルアクリル酸エチル、α−シアノ−β, β−ジフェニルアクリル酸イソオクチル、α−カルボメトキシ−桂皮酸メチル、α−シアノ−β−メチル−p−メトキシ桂皮酸メチル、α−シアノ−β−メチル−p−メトキシ桂皮酸ブチル、α−カルボメトキシ−p −メトキシ桂皮酸メチル、およびN−(β−カルボメトキシ−β−シアノビニル) −2−メチルインドリン。
【0066】
2.5.ニッケル化合物、例えば
2,2′−チオビス−[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル) −フェノール]のニッケル錯体、例えば1:1または1:2錯体であって、所望によりn−ブチルアミン、トリエタノールアミンもしくはN−シクロヘキシル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うもの;ニッケルジブチルジチオカルバメート、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステルのニッケル塩、2−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのようなケトキシムのニッケル錯体、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体であって、所望により他の配位子を伴うもの。
【0067】
2.6.立体障害性アミン、例えば
セバシン酸ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)、
コハク酸ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)、
セバシン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)、
セバシン酸ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)、n−ブチル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロン酸=ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)、
1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、
N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−tert−オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの縮合生成物、ニトリロトリ酢酸トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)、1,1′−(1,2−エタンジイル)−ビス(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン)、4−ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、2−n−ブチル−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルベンジル)マロン酸=ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)、3−n−オクチル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4−ジオン、セバシン酸ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)、コハク酸ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)、N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの縮合生成物、2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合生成物、2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチルアミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合生成物、8−アセチル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4−ジオン、3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン、3−ドデシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン、4−ヘキサデシルオキシおよび4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンの混合物、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−シクロヘキシルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンの縮合生成物、1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンと2,4,6−トリクロロ−1,3,5−トリアジンの縮合生成物並びに4−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン(CAS,Reg.No.[136504─96─6]); N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−n−ドデシルコハク酸イミド、N−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−n−ドデシルコハク酸イミド、2−ウンデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソ−スピロ[4,5]デカン、7,7,9,9−テトラメチル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソ−スピロ[4,5]デカンとエピクロルヒドリンの反応生成物、
プロパンジオイック酸(4−メトキシフェニル)−メチレン−ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)エステル;
N,N’−ビス−ホルミル−N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−ヘキサメチレンジアミン、
ポリ−[メチルプロピル−3−オキシ−4−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)]−シロキサン、
マレイン酸−α−オレフィン・コポリマーと2,2,6,6−テトラメチル−4−アミノピペリジン又は1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−アミノピペリジンとの反応生成物。
【0068】
2.7.シュウ酸ジアミド類、、例えば、4,4′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、2,2’−ジエトキシオキサニリド、2,2′−ジ−オクチルオキシ−5,5′−ジ−tert−ブチルオキサニリド、2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−tert−ブチルオキサニリド、2−エトキシ−2′−エチルオキサニリド、N,N′−ビス(3−ジメチルアミノプロピル)オキサミド、2−エトキシ−5−tert−ブチル−2′−エチルオキサニリドおよび該化合物と2−エトキシ−2′−エチル−5,4′−ジ−tert−ブチル−オキサニリドとの混合物、およびo−およびp−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物、およびo−およびp−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【0069】
2.8.2−(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、例えば
2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル) −1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、
2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル) −4,6−ビス(4−メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル) −4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−トリデシルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ブチルオキシ−プロピルオキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−オクチルオキシ−プロピルオキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリアジン、2−[4−(ドデシルオキシ/トリデシルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)−2−ヒドロキシ−フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシ−プロポキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシ)フェニル−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス[2−ヒドロキシ−4−(3−ブトキシ−2−ヒドロキシ−プロポキシ)フェニル]−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシフェニル)−4−(4−メトキシフェニル)−6−フェニル−1,3,5−トリアジン。
【0070】
3.金属不活性化剤、例えば
N,N′−ジフェニルシュウ酸ジアミド、N−サリチラル−N′−サリチロイルヒドラジン、N,N′−ビス(サリチロイル)ヒドラジン、N,N′−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾール、ビス(ベンジリデン)オキサリルジヒドラジッド、オキサニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸ビスフェニルヒドラジド、N,N′−ジアセチル−アジピン酸ジヒドラジド、N,N′−ビスサリチロイル−シュウ酸ジヒドラジド、N,N′−ビスサリチロイル−チオプロピオン酸ジヒドラジド。
【0071】
4.亜リン酸エステル類およびホスホナイト類、例えば亜リン酸トリフェニル、亜リン酸ジフェニル=アルキル、亜リン酸フェニル=ジアルキル、亜リン酸トリス(ノニルフェニル)、亜リン酸トリラウリル、亜リン酸トリオクタデシル、ジステアリル=ペンタエリトリトール=ジホスフィット、亜リン酸トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)、ジイソデシル=ペンタエリトリトール=ジホスフィット、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)=ペンタエリトリトール=ジホスフィット、ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル)=ペンタエリトリトール=ジホスフィット、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリスリトール=ジホスフィット、ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)=ペンタエリスリトール=ジホスフィット、ビス(2,4,6−トリ−tert−ブチルフェニル)=ペンタエリスリトール=ジホスフィット、トリステアリル=ソルビトール=トリホスフィット、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)=4,4′−ビフェニレン=ジホスホナイト、6−イソオクチルオキシ−2,4,8,10−テトラ−tert−ブチル−12H−ジベンズ[d,g]−1,3,2−ジオキサホスホシン、6−フルオロ−2,4,8,10−テトラ−tert−ブチル−12−メチル−ジベンズ[d,g]−1,3,2−ジオキサホスホシン、ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)メチルホスフィット、ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスフィット。
【0072】
5.ヒドロキシルアミン、例えば
N,N−ジベンジルヒドロキシルアミン、N,N−ジエチルヒドロキシルアミン、N,N−ジオクチルヒドロキシルアミン、N,N−ジラウリルヒドロキシルアミン、N,N−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、N,N−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、N,N−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、N−ヘキサデシル−N−オクタデシルヒドロキシルアミン、N−ヘプタデシル−N−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化獣脂アミンから誘導したN,N−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【0073】
6.ニトロン類、例えばN−ベンジル−α−フェニルニトロン、N−エチル−α−メチルニトロン、N−オクチル−α−ヘプチルニトロン、N−ラウリル−α−ウンデシルニトロン、N−テトラデシル−α−トリデシルニトロン、N−ヘキサデシル−α−ペンタデシルニトロン、N−オクタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、N−ヘキサデシル−α−ヘプタデシルニトロン、N−オクタデシル−α−ペンタデシルニトロン、N−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、N−オクタデシル−α−ヘキサデシルニトロン、水素化した獣脂から誘導したN,N−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
【0074】
7.チオ相乗剤 (thiosynergists) 例えば、チオジプロピオン酸ジラウリルまたはチオジプロピオン酸ジステアリル。
【0075】
8. 過酸化物スカベンジャー、例えば、β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール、または2−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトール=テトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオネート。
【0076】
9.ポリアミド安定剤、例えば、ヨウ化物および/またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価マンガンの塩。
【0077】
10. 塩基性補助安定剤、例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウムおよびパルミチン酸カリウム、ピロカテコール酸アンチモン、またはピロカテコール酸錫。
【0078】
11. 核剤、例えば、無機物質、例えばタルク、二酸化チタンまたは酸化マグネシウムのような金属酸化物; 好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸塩または硫酸塩のようなもの; モノ−またはポリカルボン酸またはそれらの塩の有機化合物、例えば4−tert−ブチル安息香酸、アジピン酸およびジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウムまたは安息香酸ナトリウム; イオン性コポリマー(「イオノマー」)のような高分子化合物。
【0079】
12. 充填剤および強化剤、例えば炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、ガラス球(glass bulbs) 、アスベスト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カーボンブラックおよびグラファイト、毛細粉と他の天然産品の細粉と繊維、合成繊維。
【0080】
13.他の添加剤、例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流れ調節剤、光沢剤、難燃剤、静電防止剤および発泡剤。
【0081】
14.ベンゾフラノン類とインドリノン類、例えばUS−A−4325863、US−A−4338244、US−A−5175312、US−A−5216052、US−A−5252643、DE−A−4316611、DE−A−4316622、DE−A−4316876、EP−A−0589839またはEP−A−0591102またはは3−[4−(2−アセトキシエトキシ)フェニル]−5,7−ジ−tert−ブチル−ベンゾフラン−2−オン、5,7−ジ−tert−ブチル−3−[4−(2−ステアロイルオキシエトキシ)フェニル]ベンゾフラン−2−オン、3,3′−ビス[5,7−ジ−tert−ブチル−3−(4−[2−ヒドロキシエトキシ]フェニル)ベンゾフラン−2−オン]、5,7−ジ−tert−ブチル−3−(4−エトキシフェニル)ベンゾフラン−2−オン、3−(4−アセトキシ−3,5−ジメチルフェニル)−5,7−ジ−tert−ブチル−ベンゾフラン−2−オン、3−(3,5−ジメチル−4−ピバロイルオキシフェニル)−5,7−ジ−tert−ブチルベンゾフラン−2−オン。
【0082】
添加される別の安定剤の型と量は、安定化される基材の型と意図する使用に依存し、安定化されるポリマーを基準にして、頻繁に0.1ないし5重量%使用される。
【0083】
式Iの新規の化合物は、成分Aとして、合成有機ポリマー、特に熱可塑性ポリマー、塗料例えばペイントのための結合剤に特に有利に使用され得る。
【0084】
適当な熱可塑性ポリマーの例は、主鎖中にヘテロ原子を含有するポリオレフィンとポリマー、例えば主鎖中に窒素、酸素及び/又は硫黄、特に窒素又は酸素を含有する熱可塑性ポリマーである。
【0085】
合成有機ポリマー又はプレポリマーへの混和は、工業で常用されている方法による、新規の化合物と所望の場合は他のいずれかの添加剤の添加により実施できる。混和は、成型の前又は間に、例えば微粉末成分を混合することにより、又はポリマーの溶融体又は溶液への安定剤の添加により、又は必要ならば溶媒をその次に蒸発する、ポリマーへの溶解した又は分散した化合物の適用により、実施できる。エラストマーの場合は、ラテックスとしても安定化できる。ポリマー中への新規化合物の混和の方法は、該当するモノマーの重合前又は間の又は架橋前の、それら化合物の添加による。
【0086】
新規化合物又はその混合物は、その化合物を、例えば、2.5ないし25重量%の濃度で含有するマスターバッチの型式で安定化されるプラスチックに添加してもよい。
【0087】
新規化合物は下記の方法により便利に混和され得る:
−エマルジョン又は分散液として(例えばラテックス又はエマルジョンポリマーへ)
−追加成分又はポリマー混合物の混合の間の乾燥混合物として
−加工装置(例えば押出機、内部混合機等)中への直接添加により
−溶液又は溶融体として。
【0088】
この方法で得られた安定化されたポリマー組成物は、成型した物品、例えば繊維、フィルム、テープ、シート、多層シート、容器、管及び他の形材に、常法、例えば熱プレス、紡糸、押し出し又は射出成型により変形され得る。
【0089】
従って、本発明は成型品の製造のために新規ポリマー組成物を使用する方法に関する。
【0090】
新規化合物を多層系に使用することも興味あることである。その場合、式Iの安定剤を比較的高い含量、例えば1−15重量%で含有する新規ポリマー組成物は、薄層(10−100μm)で、式Iの安定剤を殆ど含有しないか又は含有してないポリマーから製造された成型品に適用される。適用は基材構造(base structure)の成型と同時に、例えば同時押出により実施できる。しかし、適用はその仕上げ形の基材構造(base structure)へ、例えばフィルムを使用する積層化により又は溶液の塗布により、実施できる。仕上げ品の外層又は外層群は、紫外線に対して成型品の内部を保護する紫外線フィルタの機能を持つ。外層は、式Iの安定剤を少なくとも一種、好ましくは1−15重量%、特に5−10重量%含有する。
【0091】
従って、厚みが10−100μmである外層が新規のポリマー組成物を含有するが、他方内層は式Iの安定剤を殆ど含有しないか又は含有してない多層系の製造のための新規のポリマー組成物の使用は、本発明により提供される。
【0092】
この方法で安定化されたポリマーは、高い耐候性、特に紫外線に対する高い抵抗性により特徴付けられる。かくして、それらポリマーは、それらの機械的性能とそれらの色調と光沢を、例えば屋外で長期間使用されようとも維持する。
【0093】
同様にして特に興味のあるのは、塗料例えばペイントのための安定剤として式Iの化合物の使用である。従って、本発明は成分Aがフィルム形成結合剤である組成物も提供する。
【0094】
新規の塗料組成物は、固形結合剤Aの100重量部当たり、好ましくはBを0.01−10重量部、特にBを0.05−10重量部、特別には0.1−5重量部含有する。
【0095】
外層中の式I(成分B)の化合物の濃度はより高く、例えば、固形結合剤Aの100重量部当たり、Bが1ないし15重量部、特別にはBが3−10重量部である多層系もここでは可能である。
【0096】
塗料中の安定剤としての式Iの化合物の使用は、離層、即ち、基板からの塗膜の剥離を防げるという追加の利点を持つ。この利点は、金属基板上の多層系の場合を包含する金属基板の場合に、特に重要である。
【0097】
適当な結合剤(成分A)は、原則的には、工業的に常用される結合剤であればどれでもよく、それらは例えば「Ullmann’s Encyclodepedia of Industrial Chemistry,第5版,第A18巻,368−426頁,VCH,Weinheim 1991」に記載されている。概して、これは、熱可塑性又は熱硬化製樹脂を基材とし、熱硬化性樹脂を主要成分とするフィルム形成結合剤である。それらの例は、アルキド、アクリル、ポリエステル、フェノール、メラミン、エポキシ及びポリウレタン樹脂及びそれらの混合物である。
【0098】
成分Aは常温硬化性又は熱硬化性結合剤であって;硬化触媒を添加することは有利であり得る。結合剤の硬化を促進する適当な触媒は、例えば「Ullmann’s Encyclodepedia of Industrial Chemistry,第5版,第A18巻,469頁,VCH出版社,Weinheim 1991」に記載されている。
【0099】
成分Aが官能性アクリル樹脂と架橋剤からなる結合剤である塗料組成物が好ましい。
【0100】
特定の結合剤を含有する塗料組成物の例を下記する:
1.所望ならば硬化触媒を添加してある、常温−又は高温−架橋性の、アルキド、アクリレート、ポリエステル、エポキシ又はメラミン樹脂、又はそのような樹脂の混合物を基材にしたペイント;
2.ヒドロキシル基を含むアクリレート、ポリエステル又はポリエーテル、及び脂肪族又は芳香族のイソシアナート、イソシアヌレート又はポリイソシアヌレートを基材にした二成分ポリウレタンペイント;
3.焼付の間に脱ブロック化される、ブロック化されたイソシアナート、イソシアヌレート又はポリイソシアナートを基材にした一成分ポリウレタン;
4.(ポリ)ケチミンと脂肪族又は芳香族イソシアナート、イソシアヌレート又はポリイソシアナートを基材にした二成分ペイント;
5.(ポリ)ケチミンと不飽和アクリレート樹脂又はポリアセトアセテート樹脂又はメチルメタクリアミドグリコレートを基材にした二成分ペイント;
6.カルボキシル基又はアミノ基を含むポリアクリレートとポリエポキシドを基材にした二成分ペイント;
7.酸無水物基を含有するアクリレート樹脂、及びポリヒドロキシル又はポリアミノ成分を基材にした二成分ペイント;
8.酸無水物とポリエポキシドを含有するアクリレートを基材にした2成分ペイント:
9.(ポリ)オキサゾリンと、酸無水物基を含有するアクリレート樹脂又は不飽和アクリレート樹脂、又は脂肪族又は芳香族イソシアナート、イソシアヌレート又はポリイソシアヌレートを基材にした二成分ペイント;
10.不飽和ポリアクリレートとポリマロネートを基材にした二成分ペイント;
11.エーテル化したメラミン樹脂と組み合わせた、熱可塑性ポリアクリレート樹脂又は非自己架橋性アクリレート樹脂を基材にした熱可塑性ポリアクリレートペイント;
12.シロキサン改質した又はフッ素改質したアクリレート樹脂を基材にしたペイントシステム。
【0101】
新規の塗料組成物は、放射線硬化性であってもよい。この場合、結合剤は実質的にはエチレン性不飽和結合を持つモノマー又はオリゴマー化合物であって、適用後、紫外線照射又は電子線により硬化する、即ち、架橋した高分子量型に変化する、化合物からなる。相当する系は上述の刊行物、「Ullmann’s Encyclodepedia of Industrial Chemistry,第5版,第A18巻,451−453頁」に記載されている。放射線硬化性塗料組成物では、式Iの化合物は、立体障害アミンを添加しないでも使用できる。
【0102】
成分AとBに加えて、新規の塗料組成物は好ましくは成分Cとして、立体障害アミンの光安定剤、2−(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン及び/又は2−ヒドロキシフェニル−2H−ベンゾトリアゾール型、例えば上述の2.1、2.6と2.8の部で述べたようなものも含有する。特にここで興味があるのは、2−モノレゾルシニル−4,6−ジアリール−1,3,5−トリアジン及び/又は2−ヒドロキシフェニル−2H−ベンゾトリアゾールである。
【0103】
最大の光安定性を実現するためには、例えば上述のリストの2.6で記述した立体障害アミンを添加することに特別な興味がある。従って、本発明は、成分AとBに加えて、成分Cとして、立体障害アミン型の光安定剤を含有する組成物にも関係する。
【0104】
これは好ましくは、式
【化14】
Figure 0004332819
(式中、Rは水素原子又はメチル基、特に水素原子を表す。)の基を少なくとも1個含む2,2,6,6−テトラアルキルピリジン誘導体である。
【0105】
成分Cは、固形結合剤100重量部に基づいて、0.05−5重量部の量で使用されるのが好ましい。
【0106】
成分Cとして使用できるテトラアルキルピペリジン誘導体はEP−A−356677、3−17頁、文節(section)a)ないしf)に記載されている。このEP−A−文献のこれらの文節は本発明の明細書の部分として見做される。下記のテトラアルキルピペリジン誘導体を使用すると、特に便利である:
【0107】
コハク酸ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)、
セバシン酸ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)、
セバシン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリン−4−イル)、
ブチル(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロン酸=ジ(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペン−4−イル)、
セバシン酸ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)、
ブタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸=テトラ(1,2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)、
2,2,4,4−テトラメチル−7−オキサ−3,20−ジアザ−21−オキソジスピロ[5.1.11.2]ヘンアイコサン、
8−アセチル−3−ドデシル−1,3,8−トリアザ−7,7,9,9−テトラメチルスピロ[4.5]デカン−2,4−ジオン、
又は下記の式の化合物:
【0108】
【化15】
Figure 0004332819
【0109】
【化16】
Figure 0004332819
【0110】
【化17】
Figure 0004332819
【0111】
【化18】
Figure 0004332819
【0112】
【化19】
Figure 0004332819
(式中、mは5ないし50を表す。)
【0113】
成分A、Bと、使用されるならばCに加えて、塗料組成物は更に他の成分、例えば溶媒、顔料、染料、可塑剤、安定剤、チキソトロピー剤、乾燥化触媒及び/又は均展助剤を含有することができる。可能な成分の例は、「Ullmann’s Encyclodepedia of Industrial Chemistry,第5版,第A18巻,429−471頁,VCH,Weinheim1991」に記載されている。
【0114】
可能な乾燥化触媒又は硬化触媒は、例えば、有機金属化合物、アミン、アミノ基含有樹脂及び/又はホスフィンである。有機金属化合物の例は、金属のカルボン酸塩、特に金属Pb、Mn、Co、Zn、Zr及びCuのそれら、又は金属キレート、特に金属Al、Ti及びZrのそれら、又は有機金属化合物、例えば有機錫化合物である。
【0115】
金属のカルボン酸塩の例は、Pb Mn及びZnのステアリン酸塩、Co、Zn及びCuのオクタン酸塩、MnとCoのナフテン酸塩並びに該当するリノレイン酸塩、樹脂酸塩と獣脂酸塩である。
【0116】
金属キレートの例は、アセチルアセトン、アセト酢酸エチル、サリチルアルデヒド、サリチルアルドキシム、o−ヒドロキシアセトフェノンとトリフルオロアセチル酢酸エチルのアルミニウム、チタニウムとジルコニウム−キレート、並びにこれら金属のアルコキサイドである。
【0117】
有機錫化合物の例は、ジブチル錫オキシド、ジブチル錫ジラウレートとジブチル錫ジオクタノエートである。
【0118】
アミンの例は特に第3級アミン、例えばトリブチルアミン、トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−ジメチルエタノールアミン、N−エチルモルホリンとジアザビシクロオクタン(トリエチレンジアミン)とそれらの塩である。
【0119】
別の例は第4級アンモニウム塩、例えば塩化トリメチルベンジルアンモニウムである。
【0120】
アミノ基含有樹脂は同時に結合剤と硬化触媒である。その例はアミノ基含有アクリルレート・コポリマーである。
【0121】
使用される硬化触媒はホスフィン、例えばトリフェニルホスフィンであってもよい。
【0122】
新規の塗料組成物は、放射硬化性塗料組成物であってもよい。この場合には結合剤はエチレン性不飽和結合を持つモノマー性又はオリゴマー性の化合物から実質的になっており、それらは適用の後、化学線放射により硬化される(即ち、架橋した、高分子量の物質に変化する)。関与する系が紫外線硬化系である場合、それは概して追加して光開始剤を含有する。相当する系は上述の刊行物「Ullmann’s Encyclodepedia of IndustrialChemistry,第5版,第A18巻,451−453頁」に記述されている。放射硬化性塗料組成物の場合には、新規の安定剤混合物は立体障害アミンの添加が無い場合ですら使用できる。
【0123】
新規の塗料組成物は、所望の基材に、例えば金属、木材、プラスチック又はセラミック材に適用できる。それらを、自動車のペインティングでトップコートとして使用するのが好ましい。トップコートが2層を含む場合は、その下層には顔料が添加されそして上層には添加されず、新規の塗料組成物は上層と下層のいずれか又はその両方のために使用できるが、上層のために使用するのが好ましい。
【0124】
新規の組成物は、基材へ、常法により、例えば刷毛、散布、流し塗、浸漬又は電気泳動により適用されてよい:「Ullmann’s Encyclodepedia of Industrial Chemistry,第5版,第A18巻,491−500頁」も参照。
【0125】
塗膜は、結合剤系に依存して、室温で又は加熱により硬化され得る。塗膜は、好ましくは50−150℃で硬化され、粉末塗膜も高い温度で硬化される。
【0126】
本発明に従って得られる塗膜は、光、酸素及び熱の有害な影響に対して優れた抵抗性を持つ:特記すべきことは、この方法で得られた塗膜、例えばペイント塗膜の光と天候に対する優れた抵抗性である。
【0127】
従って、本発明は、式Iの化合物の添加により、光、酸素及び熱の有害な影響に対して安定化された塗膜、特にペイント塗膜を提供する。ペイント塗膜は、好ましくは、自動車のためのトップコートである。更に、本発明は、光、酸素及び/又は熱による損傷に対して、有機ポリマーを基材にした塗膜を安定化する方法であって、塗料組成物に式Iの化合物を混合することからなる方法、並びに光、酸素及び/又は熱による損傷に対する安定剤としての塗料組成物中の、式Iの化合物の使用のための方法も提供する。
【0128】
塗料組成物は、通常は結合剤が溶解できる有機溶媒又は溶媒混合物を含有する。しかし、塗料組成物は、水性溶液又は懸濁液でもあり得る。賦形剤も有機溶媒又は水であり得る。塗料組成物は、ハイソリッドペイントでもあり得るし又は溶媒を含有していなくてもよい(粉末塗料)。
【0129】
顔料は、無機、有機又は金属顔料であり得る。新規の塗料組成物は、好ましくは、顔料を含有せずそして透明塗料として使用される。
【0130】
同様に好ましいのは、自動車工業における適用のためのトップコートとしての、特に仕上げの顔料添加した又は顔料無添加のトップコートとしての塗料組成物の使用である。しかし、下層のための使用も可能である。
【0131】
安定剤(成分B)は式Iの2種以上の化合物の混合物であってもよい。
【0132】
式Iの同じ化合物中同じ名称の2個以上の基がある場合は、それらは同一であるか又は上述した定義の可能な範囲内で異なっていてもよい。
【0133】
置換基ハロゲン原子は、−F、−Cl、−Br又は−I;好ましくは−F、−Cl、又は−Br、特に−Clである。
【0134】
アルキルフェニル基は、アルキル基で置換されているフェニル基である;炭素原子数7ないし14のアルキルフェニル基は、例えば、メチルフェニル基(トリル基)、ジメチルフェニル基(キシリル基)、トリメチルフェニル基(メシチル基)、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ジブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、ヘプチルフェニル基及びオクチルフェニル基を包含する。
【0135】
フェニル−アルキル基は、フェニル基で置換されているアルキル基である;炭素原子数7ないし11のフェニルアルキル基は、例えば、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α,α−ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基そしてフェニルペンチル基である。
【0136】
グリシジル基は2,3−エポキシプロピル基である。
【0137】
n−アルキル基又はアルキル−nは未分枝のアルキル基である。
【0138】
Oにより中断されているアルキル基は、通常は、1個以上のヘテロ原子を含有していてよく、2個以上の場合酸素原子は隣接していない。好ましくはアルキル鎖の一つの炭素原子は1個より多い酸素原子には結合していない。
【0139】
上述の定義内では、アルキル基であるR1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R8 、R9 、R10、R11、R12、R13、R14、R15及びR16は、分枝した又は未分枝のアルキル基であって、例えば下記のようものである:メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、2−エチルブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、1−メチルペンチル基、1,3−ジメチルペンチル基、n−ヘキシル基、1−メチルヘキシル基、n−ヘプチル基、イソヘプチル基、1,1,3,3−テトラメチルブチル基、1−メチルヘプチル基、3−メチルヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、1,1,3−トリメチルヘキシル基、1,1,3,3−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、1−メチルデシル基、ドデシル基、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基又はオクタデシル基である。アルキル基としてのR1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R11、R12、R13、R14及びR15は、短鎖の、例えば、炭素原子数1ないし8のアルキル基、特に炭素原子数1ないし4のアルキル基、例えばメチル基又はブチル基のようなものである。R1 、R11、R3 、R13、R5 とR15は、特に、好ましくはメチル基、エチル基又はイソプロピル基である。
【0140】
1 、R11、R3 、R13、R5 、R15、R2 、R12、R4 とR14は、好ましくはH、炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基;特にH、炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ;特にH、メチル基又はメトキシ基である。特別に重要なのは、式中、R2 、R12、R4 及び/又はR14がフェニル基である式Iの化合物である。
【0141】
炭素原子数1ないし4のアルキル基は、特に、メチル基、エチル基、イソプロピル基、n−ブチル基、2−ブチル基、2−メチルプロピル基又はtert−ブチル基である。
【0142】
上述の定義の範囲内では、アルケニル基としてのR1 、R11、R3 、R13、R5 、R15、R2 、R12、R4 とR14は、特に、アリル基、イソプロペニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、イソブテニル基、n−ペンタ−2,4−ジエニル基、3−メチルブト−2−エニル基であり;R8 は追加してn−オクト−2−エニル基、n−ドデク−2−エニル基、イソドデセニル基、n−オクタデク−2−エニル基及びn−オクタデク−4−エニル基を包含する。R2 、R12、R3 、R13、R4 とR14の場合は、例えばビニル基の定義も可能である。
【0143】
9 は好ましくは炭素原子数2ないし14のアルキル基、フェニル基又は−CH2 −O−R19、特に炭素原子数2ないし14のアルキル基又は−CH2 −O−R19であり;R19はここではフェニル基、炭素原子数7ないし11のフェニルアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキルシクロヘキシル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数2ないし13のアルキル基又は−O−により中断されている炭素原子数2ないし13のアルキル基である。アルキル基R9 は特に好ましくは炭素原子数3ないし13のアルキル基、特に炭素原子数4ないし13のアルキル基である。
【0144】
10は好ましくは炭素原子数1ないし17のアルキル基、シクロヘキシル基又はフェニル基である。
【0145】
18はそれに結合している炭素原子と一緒になってシクロアルキル環を形成する;好ましいのはシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基及びシクロドデシル基、特にシクロペンチル基とシクロヘキシル基である。
【0146】
好ましい新規の組成物は、組成物中、式Iの化合物において、
1 、R5 、R11とR15は、互いに独立して、H、炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数3のアルケニル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、炭素原子数3ないし6のアルケノキシ基、−F又は−Clを表し;
2 、R3 、R4 、R12、R13とR14は、互いに独立して、H、炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数3ないし6のアルケニル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、炭素原子数3ないし6のアルケノキシ基、フェニル基、−F、−Cl又は−CNを表し;
6 は炭素原子数1ないし16のアルキル基又はフェニル基を表し;
8 はH、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし8のアルケニル基、シクロヘキシル基、(炭素原子数1ないし4のアルキル)シクロヘキシル基、フェニル基、ノルボルン−2−イル基、ノルボルン−5−エン−2−イル基、ノルボルン−2−メチル基、ノルボルン−5−エン−2−メチル基又は炭素原子数7ないし11のフェニルアルキル基を表しそして、Zが式IIの基を表す場合は、追加してOにより中断されている炭素原子数2ないし18のアルキル基を包含し;
9 は炭素原子数2ないし14のアルキル基又はOにより中断されている炭素原子数3ないし14のアルキル基を表すか、又はフェニル基を表し;
10はH、炭素原子数1ないし17のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、フェノキシ基、フェニル基、炭素原子数7ないし11のフェニルアルキル基、シクロヘキシル基、炭素原子数7ないし11のシクロヘキシルアルキル基、ノルボルニル基、ノルボルネニル基、1−アダマンチル基又はフェニル−NH−を表し;
16は水素原子を表すか又はR6 についてと同じに定義され;そして
18は炭素原子数3ないし10のアルキレン基を表す組成物である。
【0147】
特に好ましいのは、組成物中、式Iの化合物において、
6 は炭素原子数1ないし16のアルキル基を表し;
8 は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3のアルケニル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、フェニル基又はベンジル基を表しそして、Zが式IIの基を表す場合は、追加してOにより中断されている炭素原子数3ないし13のアルキル基を包含し;
9 は炭素原子数2ないし14のアルキル基又はOにより中断されている炭素原子数3ないし14のアルキル基を表すか、又はフェニル基を表し;
10は炭素原子数1ないし17のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、フェニル基、炭素原子数7ないし11のフェニルアルキル基、シクロヘキシル基又はフェニル−NH−を表し;
16は水素原子を表すか又はR6 についてと同じに定義され;そして
18は炭素原子数3ないし10のアルキレン基を表す新規の組成物である。
【0148】
特に重要なのは、組成物中、式Iの化合物において、
1 、R5 、R11とR15は、互いに独立して、H、炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し;
2 、R3 、R4 、R12、R13とR14は、互いに独立して、H、炭素原子数1ないし4のアルキル基、メトキシ基、フェニル基、−F、−Cl又は−CNを表し;
mは1ないし8の数を表し;
6 は炭素原子数1ないし16のアルキル基を表し;
8 は炭素原子数1ないし15のアルキル基、炭素原子数3のアルケニル基、シクロヘキシル基又はフェニル基を表しそして、Zが式IIの基を表す場合は、追加してOにより中断されている炭素原子数3ないし13のアルキル基を包含し;R9 は炭素原子数2ないし8のアルキル基又はOにより中断されている炭素原子数3ないし12のアルキル基を表し;
10は炭素原子数1ないし17のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基又はシクロヘキシル基を表し;
16は水素原子を表すか又はR6 についてと同じに定義され;そして
18は炭素原子数3ないし6のアルキレン基を表す新規の組成物である。
【0149】
特別に好ましいのは、組成物中、式Iの化合物において、
1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R11、R12、R13、R14とR15は、互いに独立して、H又はメチル基を表し;
7 とR17は、互いに独立して、式IV、VとVIの一つの基を表し;
mは1を表し;
6 は炭素原子数1ないし8のアルキル基を表し;
8 は炭素原子数1ないし10のアルキル基を表し、そして、Zが式IIの基を表す場合は、追加してOにより中断されている炭素原子数3ないし8のアルキル基を包含し;
9 は−CH2 −O−R19を表し;
10は炭素原子数1ないし17のアルキル基又は炭素原子数2ないし8のアルコキシ基を表し;
16は水素原子又は炭素原子数1ないし8のアルキル基を表し;
18は炭素原子数3ないし6のアルキレン基を表しそして
19は炭素原子数2ないし13のアルキル基を表す新規の組成物である。
【0150】
式Iの化合物の製造は、EP−A−434608又はH.Brunettiand C.E.Luthi,Helv.Chim.Acta 55,1566(1972)の刊行物に示されれている方法の一つと同様にして、相当するフェノール上へのハロトリアジンのフリーデルクラフト付加により実施できる。これに続けて、既知の方法による別の反応により、式中、R7 が水素原子以外である場合の式Iの化合物を得ることができる;そのような方法は、例えばEP−A−434608、第15頁11行ないし第17頁1行に記載されている。
【0151】
式Iの化合物の製造は式(A)
【化20】
Figure 0004332819
(式中、R’は式
【化21】
Figure 0004332819
の基を表し、
1 、R2 、R3 、R4 とR5 の各々は上述の式Iについてと同じに定義されそしてZ’はR’についてと同じに定義されるか又は塩素原子を表す。)により表される化合物の1当量から出発しそして、この化合物をレゾルシンの1当量(Z’=R’である場合)又は2当量(Z’=Clである場合)と反応させて実施するのが都合よい。
【0152】
その反応はそれ自体知られている方法で出発物質を不活性溶媒中で無水AlCl3 の存在下で反応させることにより実施される。この反応では、三塩化アルミニウムとレゾルシンは過剰に使用するのが都合よく;例えば三塩化アルミニウムは5−15%のモル過剰でそしてレゾルシンは1−30%、特に5−20%のモル過剰で使用してよい。
【0153】
適当な溶媒の例は、炭化水素、塩素化炭化水素、SO基又はSO2 基を含む炭化水素、又はニトロ化炭化水素であり;好ましいのはリグロイン、石油エーテル、トルエン又はキシレン、又はスルホランのような高沸炭化水素である。
【0154】
温度は概して重要でない。20℃と溶媒の沸点の間の温度、例えば50℃と150℃の間の温度で実施するのが普通である。仕上げは普通の方法、例えば抽出と分別段階、ろ過と乾燥;所望により、更に別の精製段階、例えば再結晶のような段階を採用することも可能である。
【0155】
反応生成物の、トリアジン環に関してp−位にある遊離フェノール性ヒドロキシル基は、既知の方法で次にエーテル化され得る。
【0156】
かくして、式中、R7 、そして所望ならばR17が式IV
【化22】
Figure 0004332819
の基である式Iの化合物は、上述のフェノール性中間体を式IV−Hal
【化23】
Figure 0004332819
のα−ハロゲン化エステルと反応させることにより有利に製造され得る。
【0157】
Halはハロゲン原子、例えばCl又はBr、好ましくはBrであり;他の記号は上と同じに定義される。反応は酸結合剤と適当な溶媒の存在下で実施するのが都合よい。例えばジグライムのような非プロントン性溶媒を使用するのが有利である。適当であると証明されている酸結合剤は炭酸塩又は重炭酸塩例えばK2 CO3 を包含する。
【0158】
式中、R7 、そして所望ならばR17が式V又はVI
【化24】
Figure 0004332819
である式Iの化合物は、追加の中間体としてのアルコールと次のエステル化により都合よく製造される。
【0159】
第1段階であるアルコールの製造のためには、下に列記の方法が可能である:i)上述のフェノール性中間体を式VI-Hal
【化25】
Figure 0004332819
(式中、式VI−Hal 中のmは1−12の範囲内の数を表す。Halはハロゲン原子例えばCl又はBr、好ましくはBrを表し;残りの記号は上述と同じに定義される。)のハロゲン化アルコールと反応させる。反応は酸結合剤と適当な溶媒の存在下で実施するのが都合よい。例えばジグライムのような非プロントン性溶媒を使用するのが有利である。適当であると証明されている酸結合剤は炭酸塩又は重炭酸塩例えばKOH又はK2 CO3 を包含する。
【0160】
ii) 上述のフェノール性中間体を式V−EpとVI−Ep
【化26】
Figure 0004332819
の一つのエポキシドと反応させる。反応は適当な触媒例えば第四級アンモニウム又はホスホニウム塩の存在下で実施される。その例は、ハロゲン化アルキルトリフェニルホスホニウム、ハロゲン化テトラアルキルアンモニウム、ジアルキルフェニルアンモニウムハロゲン化水素塩である。エポキシドVI−Epは、例えば式VI−Gly
【化27】
Figure 0004332819
(式中、R9 ’は炭素原子数1ないし11のアルキル基を表す。)のグリシジル化合物であってもよい。
【0161】
iii)上述のフェノール性中間体を、式VI-Cb
【化28】
Figure 0004332819
のハロゲン化アルコールと加熱し、CO2 を脱離して反応させる。この反応も適当な触媒例えば第四級アンモニウム塩の存在下で実施させるのが都合よい。
【0162】
上述の反応は80−200℃の温度範囲に加熱して、都合よくは適当な溶媒例えば非プロトン性溶媒の存在下で頻繁に起こる。例えば反応ii) は臭化トリフェニルエチルホスホニウムを使用してメシチレン中で150℃で実施され得る。
【0163】
脂肪族OH基のエステル化は、例えば式V−AC又はV−An
【化29】
Figure 0004332819
の酸クロライド又は酸無水物との反応により、都合よくは塩基性触媒と適当な溶媒を使用して実施し得る。20−25℃、例えば50−150の範囲内で実施するのが普通である。適当な触媒は、トリエチルアミン又はピリジンであって、好ましくはアミンの触媒量のみを使用する。使用される溶媒は、非プロトン性化合物、例えば適当な沸点範囲を持つ、トルエン又はキシレンのようなものである。
【0164】
式(A)の出発化合物は、例えば塩化シアヌールを適当な置換フェニルマグネシウムハライドと反応させる(グリニャール反応)ことにより製造できる。反応は同様にして既知の方法に従って、例えばEP−A−577559に記載の方法と同様にして実施され得る。これは、最初に式
【化30】
Figure 0004332819
(式中、X’はCl又はBrを表す。)の化合物のマグネシウムとの、エーテル例えばジエチルエーテル又はテトラヒドロフラン(THF)中の反応により実施される。次いでこの試薬は式(A)の化合物を形成するために塩化シアヌールと、好ましくは酸素と湿気を排除して例えば窒素下で、反応させる。それに次ぐ仕上げの後処理は既知の方法例えば有機溶媒例えばトルエンによる希釈、そして水性HClによるフェニルマグネシウムハライドの加水分解、そして単離、有機相の乾燥と濃縮により実施され得る。
【0165】
式(A)の出発化合物も式
【化31】
Figure 0004332819
の化合物のAlCl3 と塩化シアヌールとのフリーデルクラフト反応、例えばGB−A−884802に記載の方法と同様にして製造され得る。
【0166】
式Iにより表される化合物は殆ど新規の化合物である。本発明は従って式I’
【化32】
Figure 0004332819
(式中、Zは式II
【化33】
Figure 0004332819
を表すか、又は式III’
【化34】
Figure 0004332819
の基を表し;
1 、R5 、R11とR15は、互いに独立して、H、炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数3ないし6のアルケニル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、炭素原子数3ないし6のアルケノキシ基、ハロゲン原子又は−CNを表し;
2 、R3 、R4 、R12、R13とR14は、互いに独立して、H、炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数2ないし6のアルケニル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、炭素原子数3ないし6のアルケノキシ基、フェニル基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基;炭素原子数7ないし11のフェニルアルキル基;フェニルオキシ基又は−CNを表し;
7 とR17は、互いに独立して、式IV’、V’とVI’
【化35】
Figure 0004332819
(式中、mは1ないし12の範囲の数を表し;
6 は炭素原子数1ないし16のアルキル基、−COOR8 又はフェニル基を表し;
8 はH、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、(炭素原子数1ないし4のアルキル)シクロヘキシル基、フェニル基、(炭素原子数7ないし14のアルキル)フェニル基、炭素原子数6ないし15のビシクロアルキル基、炭素原子数6ないし15のビシクロアルケニル基、炭素原子数6ないし15のトリシクロアルキル基、炭素原子数6ないし15のビシクロアルキル−アルキル基又は炭素原子数7ないし11のフェニルアルキル基を表し、そして、Zが式IIの基を表す場合は、追加してOにより中断されている炭素原子数2ないし18のアルキル基を包含し;
9 は炭素原子数2ないし14のアルキル基又はフェニル基を表すか;又はフェニル基で、フェノキシ基で、(炭素原子数1ないし4のアルキル)シクロヘキシル基で、(炭素原子数1ないし4のアルキル)シクロヘキシルオキシ基で、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基で又は炭素原子数5ないし12のシクロアルコキシ基で置換された炭素原子数1ないし14のアルキル基を表し;
10はH、炭素原子数1ないし17のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、フェノキシ基、フェニル基、炭素原子数7ないし11のフェニルアルキル基、炭素原子数7ないし14のアルキルフェノキシ基、炭素原子数7ないし11のフェニルアルコキシ基、炭素原子数6ないし12のシクロアルキル基、(炭素原子数1ないし4のアルキル)−シクロヘキシルオキシ基、炭素原子数6ないし12のシクロアルコキシ基、炭素原子数7ないし11のシクロヘキシルアルキル基、炭素原子数7ないし11のシクロヘキシルアルコキシ基、炭素原子数6ないし15のビシクロアルキル基、炭素原子数6ないし15のビシクロアルケニル基、炭素原子数6ないし15のトリシクロアルキル基、炭素原子数6ないし15のビシクロアルコキシ基、炭素原子数6ないし15のビシクロアルケノキシ基、炭素原子数6ないし15のトリシクロアルコキシ基又はフェニル−NH−を表し;
16はR6 についてと同じに定義されそして、Zが式IIの基を表す場合は、追加して水素原子を表し;そして
18は炭素原子数3ないし10のアルキレン基を表す。)のうち一つで表される基を表す。〕により表される化合物(但し、式中、Zが式III の基を表しそしてR1 とR5 の両方がアルキル基を表す化合物、及び式中、R3 又はR13がフェニル基を表しそしてR7 又はR17が式VI’の基を表すか又はR16が水素原子を表す化合物を除外する。)も提供する。
【0167】
好ましい新規の化合物は、式I’について与えられた定義の範囲内で、式Iについて上述したのは同じである;それに相当する興味のあるのは、更に、
式中、R1 、R5 、R11とR15は、互いに独立して、H、炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数3のアルケニル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、炭素原子数3ないし6のアルケノキシ基、−F又は−Clを表し;
2 、R3 、R4 、R12、R13とR14は、互いに独立して、H、炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数3ないし6のアルケニル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、炭素原子数3ないし6のアルケノキシ基、フェニル基、−F、−Cl又は−CNを表し;
6 は炭素原子数1ないし16のアルキル基又はフェニル基を表し;
8 はH、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし8のアルケニル基、シクロヘキシル基、(炭素原子数1ないし4のアルキル)シクロヘキシル基、フェニル基又は炭素原子数7ないし11のフェニルアルキル基を表しそして、Zが式IIの基を表す場合は、追加してOにより中断されている炭素原子数2ないし18のアルキル基を包含し;
9 は炭素原子数2ないし14のアルキル基を表し;
10はH、炭素原子数1ないし17のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、フェノキシ基、フェニル基、炭素原子数7ないし11のフェニルアルキル基、シクロヘキシル基、炭素原子数7ないし11のシクロヘキシルアルキル基、又はフェニル−NH−を表し;
16はR6 についてと同じに定義され;そして、Zが式IIの基を表す場合は、追加して水素原子を包含し;そして
18は炭素原子数3ないし10のアルキレン基を表す新規の式I’の化合物である。
【0168】
特に好ましいのは、
式中、R6 は炭素原子数1ないし16のアルキル基を表し;
8 は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3のアルケニル基、シクロヘキシル基、フェニル基又はベンジル基を表しそして、Zが式IIの基を表す場合は、追加してOにより中断されている炭素原子数3ないし13のアルキル基を包含し;
10は炭素原子数1ないし17のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、フェニル基、炭素原子数7ないし11のフェニルアルキル基、シクロヘキシル基又はフェニル−NH−を表し;そして
18は炭素原子数3ないし6のアルキレン基を表す式I’の新規の化合物である。
【0169】
特別に重要なのは、式中、
1 、R5 、R11とR15は、互いに独立して、H又は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し;
2 、R3 、R4 、R12、R13とR14は、互いに独立して、H、炭素原子数1ないし4のアルキル基、メトキシ基、フェニル基、−F、−Cl又は−CNを表し;
mは1ないし8の範囲の数を表し;
6 は炭素原子数1ないし16のアルキル基を表し;
8 は炭素原子数1ないし15のアルキル基、炭素原子数3のアルケニル基、シクロヘキシル基又はフェニル基を表しそして、Zが式IIの基を表す場合は、追加してOにより中断されている炭素原子数3ないし13のアルキル基を包含し;
9 は炭素原子数2ないし8のアルキル基を表し;
10は炭素原子数1ないし17のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基又はシクロヘキシル基を表し;そして
18は炭素原子数3ないし6のアルキレン基を表す式I’の新規の化合物であり;
【0170】
特に、
1 、R3 、R11とR13は、互いに独立して、H又はメチル基を表し;そしてR2 、R4 、R5 、R12、R14とR15はHを表し;
7 とR17は、互いに独立して、式IV、VとVIの一つの基を表し;
mは1を表し;
6 は炭素原子数1ないし8のアルキル基を表し;
8 は炭素原子数1ないし10のアルキル基を表し、そして、Zが式IIの基を表す場合は、追加してOにより中断されている炭素原子数3ないし8のアルキル基を包含し;
9 は炭素原子数2ないし8のアルキル基を表し;
10は炭素原子数1ないし17のアルキル基又は炭素原子数2ないし8のアルコキシ基を表し;そして
18は炭素原子数3ないし6のアルキレン基を表す式I’の新規の化合物である。
【0171】
本発明は、追加して、
A)光、酸素及び/又は熱による損傷を受け易い有機材料、及び
B)安定剤として、式I’の化合物少なくとも1種
からなる組成物、並びに
光、酸素及び/又は熱による損傷に対して合成有機ポリマー又はプレポリマーを安定化する方法であって、安定剤として式I’の化合物をこの材料に混合することからなる方法を提供し、並びに
光、酸素及び/又は熱による損傷に対して式I’の化合物を使用する方法を提供する。
【0172】
式I’の化合物を添加することにより本発明に従って安定化されるそのような材料の可能な例は、油、脂肪、蝋、写真材料、化粧品又は殺生物剤である。特に興味のあるのは、プラスチック、ゴム、塗料材料又は接着剤中に存在する重合性物質における使用である。安定化される材料が写真材料を含む場合は、その構造は米国特許 US−5538840、第25欄60行ないし第106欄35頁に記載されており、そして式Iの新規の化合物は、US−5538840に記載されている式(I)の化合物の適用及び/又はそれらから製造されたポリマーへの適用と同様にして適用される;US−5538840のここで記述した部分はこの引用によりこの明細書に包含されるものとする。
【0173】
下記の化合物は式Iにより表される化合物の実施例である;各々の場合における接尾辞nは直鎖基を意味し、接尾辞iはいろいろの異性体基の混合物を意味する:
【化36】
Figure 0004332819
【0174】
【化37】
Figure 0004332819
【0175】
【化38】
Figure 0004332819
【0176】
【化39】
Figure 0004332819
【0177】
【化40】
Figure 0004332819
【0178】
【実施例】
下記の実施例は、限定を構成することなしに本発明を更に詳細に説明するものである。実施例中、部とパーセント(%)は重量による;実施例が室温を記述している場合は、これは20−25℃の範囲内の温度を意味する。溶媒混合物の場合、例えばクロマトグラフィー用の場合は、体積による部を示してある。これらの定義は他に記述のない限り適用される。
【0179】
下記の略号を使用する:
THF テトラヒドロフラン
abs. 無水
m.p. 融点又は融点範囲
NMR 核磁気共鳴
torr= mmHg(1torrは約133Paに相当する)
g ガラス転移温度
【0180】
A)製造実施例
実施例A1:2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−[(1−メトキシカルボニル)エトキシ]フェニル)−1,3,5−トリアジン
20.0g(0.0596モル)の2,4−ジフェニル−6−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、8.1g(0.0586モル)の無水K2 CO3 (メルク,99%)と0.3g(1.8ミリモル)の沃化カリウム(メルク,99.5%)の100mlのジエチレングリコールジメチルエーテル(ジグライム,Fluka,99.5%)中の懸濁液を、窒素下60℃まで加熱する。10.3g(61.9ミリモル)の2−ブロモプロピオン酸メチル(Fluka,99%)を添加する。混合物を110℃で攪拌しながら16時間加熱する。ろ過とろ液のロータリエバポレータ上での蒸発濃縮をして、27.3gの粗生成物を得る。その粗生成物を次に80mlのエチルセロソルブ(2−エトキシエタノール)から再結晶しそして14時間にわたり100℃/60torrで乾燥し、18.5gの下式
【化41】
Figure 0004332819
の表題化合物(化合物1)を得る:融点140−142℃。
【0181】
同じ方法を下記の表A1の化合物2−11、15−22、26−36と40−48を得るのに使用し、相当するフェノールを各々の場合記述したハライドと反応させた。化合物40−51のためのビスレゾルシル前駆体を使用する場合は、示したハロゲン化合物の2倍量を使用する。粗生成物は上述したようにエチルセロソルブからの再結晶(精製法R)により又はカラムクロマトグラフィー〔シリカゲル60,230−400メッシュ,トルエン/酢酸エチル(体積比9:1)で溶離〕(精製法C)により精製した。特定のための融点を℃で記述する;他の特定パラメータを欄中に記載する。分析データは重量%で示してある。
【0182】
【表1】
Figure 0004332819
【0183】
【表2】
Figure 0004332819
【0184】
化合物37−39のための出発物質(EP−A−434608、実施例1)
23.6g(0.06モル)の2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン(US−A−3244708,実施例16に従って合成)を300mlのキシレン中に懸濁する。12.1g(0.09モル)の97%のブチルグリコールエーテルと0.75g(0.006モル)のジメチルベンジルアミンを添加しそして混合物を還流する。5時間後に、褐色の溶液を冷却しそして100gのシリカゲルを通してろ過する。黄色の溶液を濃縮しそして残留分をヘキサン/トルエンから再結晶する。これは、融点80−83℃の2−[2−ヒドロキシ−4−(3−ブトキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン 27.3g(=86%)を与える。
【0185】
同様の方法を化合物12−14,23−25と52−54のための式:
【表3】
Figure 0004332819
の出発物質を得るために使用する。
【0186】
実施例A2:化合物12、23、37と52
250mlのトルエン(Fluka,99.5%)中の、20.0g(31.6ミリモル)の2−フェニル−4,6−ビス[2−ヒドロキシ−4−(3−ブトキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)フェニル]−1,3,5−トリアジン、7.4g(94.8ミリモル)の塩化アセチル(Fluka,99%)と0.8g(10ミリモル)のピリジンの混合物を窒素下攪拌しそして60℃に14時間保つ。
冷却後、溶媒をロータリエバポレータ上で除きそして粗生成物をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル60,230−400メッシュ;石油エーテル/酢酸エチル[2:1]で溶離)する。これにより、2−フェニル−4,6−ビス[2−ヒドロキシ−4−(3−n−ブトキシ−2−アセチルオキシプロポキシ)フェニル]−1,3,5−トリアジン(化合物52)を主フラクションとして得、そしてこのフラクションを80℃/0.01torrで2時間にわたり乾燥する。
【0187】
同様の方法を下記の表A2の化合物12,13と37を得るために使用し、その中で相当するフェノール化合物を各々の場合上述したハライドと共に70時間続けて延長反応の中で反応させる。モノレゾルシニル出発物質が使用される場合は、上述したハロゲン化合物の量の半分が使用される。特定のために示された融点範囲を℃で示す;他の特定パラメータを欄中に記載する。
分析データは実測量を重量%で示す。
【0188】
【表4】
表A2:化合物12、23、37と52の特定値
Figure 0004332819
【0189】
実施例A3:化合物13、24、38と53
250mlのトルエン(Fluka,99.5%)中の、20.0g(31.6ミリモル)の2−フェニル−4,6−ビス[2−ヒドロキシ−4−(3−ブトキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)フェニル]−1,3,5−トリアジン、16.3g(135.3ミリモル)の塩化ピバロイル(Fluka,98%)と0.8g(10ミリモル)のピリジンの混合物を窒素下攪拌しそして100℃に14時間保つ。
冷却後、溶媒をロータリエバポレータ上で除きそして粗生成物をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル60,230−400メッシュ;カラム h=4cm,d=6cm;酢酸エチルで溶離)する。これにより、2−フェニル−4,6−ビス[2−ヒドロキシ−4−(3−n−ブトキシ−2−ピバロイルオキシプロポキシ)フェニル]−1,3,5−トリアジン(化合物53)を主フラクションとして得、そしてこのフラクションを100℃/0.01torrで3時間にわたり乾燥する。
【0190】
同様の方法を下記の表A3の化合物13,24と38を得るために使用し、その中で相当するフェノール化合物を各々の場合上述したハライドと反応させる。モノレゾルシニル出発物質が使用される場合は、上述したハロゲン化合物の量の半分が使用される。特定のために示された融点範囲を℃で示す;他の特定パラメータを欄中に記載する。
分析データは実測量を重量%で示す。
【0191】
【表5】
表A3:化合物13、24、38と53の特定値
Figure 0004332819
【0192】
実施例A4:化合物14、25、39、166、167と54と又162、163と165
150mlのトルエン(Fluka,99.5%)中の、14.0g(22.0ミリモル)の2−フェニル−4,6−ビス[2−ヒドロキシ−4−(3−ブトキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)フェニル]−1,3,5−トリアジン、10.6g(48.5ミリモル)のドデカノイル ラウリン酸クロライド(Fluka,98%)と0.8g(10ミリモル)のピリジンの混合物を窒素下攪拌しそして90−100℃に5時間保つ。
冷却後、溶媒をロータリエバポレータ上で除きそして粗生成物をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル60,230−400メッシュ;カラム h=4cm,d=6cm;酢酸エチルで溶離)する。これにより、2−フェニル−4,6−ビス[2−ヒドロキシ−4−(3−n−ブトキシ−2−ドデカノイルオキシプロポキシ)フェニル]−1,3,5−トリアジン(化合物54)を主フラクションとして得、そしてこのフラクションを100℃/0.01torrで3時間にわたり乾燥する。
【0193】
同様の方法を下記の表A4の化合物14、25、39、54、166と167を得るために使用し、その中で相当するフェノール化合物を各々の場合適当なハライドと反応させる。化合物162、163と165は、下記の実施例A5cに記載されている出発物質を適当なハライドと反応させることにより製造される。モノレゾルシニル出発物質が使用される場合は、上述したハロゲン化合物の量の半分が使用される。特定のために示された融点範囲を℃で示す;他の特定パラメータを欄中に記載する。
分析データは実測量を重量%で示す。
【0194】
【表6】
表A4:化合物14、25、39、162、163、165、166、167と54の特定値
Figure 0004332819
【0195】
実施例A5
a)化合物141、142、143、145のための出発物質:
2,4−ジフェニル−6−(2’−ヒドロキシ−4’−(2" −ヒドロキシシクロヘキシルオキシ)フェニル)−1,3,5−トリアジン
窒素下、65mlのトルエン(メルク,99.5%)中の、13.0g(29.6ミリモル)の2,4−ジフェニル−6−(2’,4’−ジヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、7.50g(76.4ミリモル)のシクロヘキセンオキシド(Fluka,99%)と2.2g(5.9ミリモル)のエチルトリフェニルホスホニウムブロミド(Fluka,97%)を100℃に保持して42時間攪拌する。オレンジ色の溶液を80℃でろ過する。0℃で2時間冷却した後、固体をろ過して取りそして80℃/50torrで14時間乾燥し、融点169−171℃の表題の化合物10.1g(77.8%)を得る。
【0196】
b)化合物151、152、153、155の出発物質
2,4−ビス(2’,4’−ジメチルフェニル)−6−(2’−ヒドロキシ−4’−(2" −ヒドロキシシクロヘキシルオキシ)フェニル)−1,3,5−トリアジン
2,4−ジフェニル−6−(2’,4’−ジヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジンに換えて当量の2,4−ビス(2’,4’−ジメチルフェニル)−6−(2’,4’−ジヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジンを使用するa)の方法により、トルエンからの再結晶の後、融点160−161℃の表題化合物を得る。
【0197】
c)化合物161、162、163、165の出発物質
2−フェニル−4,6−ビス(2’−ヒドロキシ−4’−(2" −ヒドロキシシクロヘキシルオキシ)フェニル)−1,3,5−トリアジン
1当量の2−フェニル−4,6−ビス(2’,4’−ジヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジンの、3当量のシクロヘキセンオキシドとの、0.1当量のエチルトリフェニルホスホニウムブロミドの存在下での130℃におけるメシチレン中の24時間の反応をa)の方法に従って行い、融点137−143℃の表題化合物を得る。
【0198】
実施例A6:2,4−ジフェニル−6−(2’−ヒドロキシ−4’−(2" −アセトキシシクロヘキシルオキシ)フェニル)−1,3,5−トリアジン(化合物141)
140mlのトルエン(Merck,99.5%)中の、13.0g(29.6ミリモル)の2,4−ジフェニル−6−(2’−ヒドロキシ−4’−(2" −ヒドロキシシクロヘキシルオキシ)フェニル)−1,3,5−トリアジン、7.0g(89.2ミリモル)の塩化アセチル(Fluka,99%)と0.6g(7.6ミリモル)のピリジンの混合物を窒素下攪拌しそして50℃に6時間保つ。
冷却後、5.0gの漂白土(Tonsil(登録商標名))を添加し、混合物を15分間攪拌し、そして漂白土をろ過して除く。溶媒をロータリエバポレータ上で除きそして生成物を130℃/0.1torrで8時間乾燥して、表題の化合物13.3g(93.6g)を得る;Tg =60.4℃(DSC)。
【0199】
同じ方法と相当ずく出発物質を使用して(実施例A5、bとcを参照)、下記の表A6の化合物151と161を得る。特定のために示された融点範囲を℃で示す;他の特定パラメータを欄中に記載する。分析データは実測量を重量%で示す。
【0200】
【表7】
表A6:化合物151と161の特定値
Figure 0004332819
【0201】
実施例A7:
2,4−ジフェニル−6−(2’−ヒドロキシ−4’−(2" −ドデカノイルオキシシクロヘキシルオキシ)フェニル)−1,3,5−トリアジン(化合物143)
60mlのトルエン中の、5.0g(11.3ミリモル)の2,4−ジフェニル−6−(2’−ヒドロキシ−4’−(2" −ヒドロキシシクロヘキシルオキシ)フェニル)−1,3,5−トリアジン、5.7g(26ミリモル)の塩化ドデカノイル(Fluka,98%)と0.1g(1.3ミリモル)のピリジンの混合物を窒素下攪拌しそして50℃に20時間保つ。
冷却後、5.0gの漂白土(Prolith Rapid(登録商標名))を添加し、混合物を3分間攪拌し、そして漂白土をろ過して除く。ろ液を蒸発して濃縮して、乾燥する。100mlのヘキサンから再結晶して10.6gの粗生成物を得る。60℃/5torrで14時間乾燥して、5.6gの表題の生成物を得る;m.p.82−95℃。
【0202】
同様の方法と相当するハライドを使用して、下記の表A7の化合物142、145、146と147を得る。実施例A5bからの出発物質を使用して、表示した化合物152、153、155、156と157を得る。精製は、ある場合にはヘキサンからの再結晶にりよりそしてある場合にはカラムクロマトグラフィーにより実施される。特定のために示された融点範囲を℃で示す;他の特定パラメータを欄中に記載する。分析データは実測量を重量%で示す。
【0203】
【表8】
表A7:化合物142、145、146、147、152、153、155、156と157の特定値
Figure 0004332819
【0204】
実施例A8:
2,4−ジフェニル−6−(2’−ヒドロキシ−4’−(2" −エトキシカルボニルプロプ−2" −イルオキシ)フェニル)−1,3,5−トリアジン
12.7g(37.2ミリモル)の2,4−ジフェニル−6−(2’,4’−ジヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、12.0g(61.5ミリモル)のエチル α−ブロモイソブタノアート(Fluka,97%)、10.3g(74.5ミリモル)の無水K2 CO3 (メルク,99%)と0.3g(2ミリモル)の沃化カリウム(メルク,99.5%)の混合物の、60mlのトルエンと80mlのジエチレングリコールジメチルエーテル(ジグライム,Fluka,99.5%)中の混合物を、窒素下攪拌しそして100−110℃で30時間加熱する。80℃でろ過する。ろ液を蒸発、濃縮して、14.0gの粗生成物を得る。カラムクロマトグラフィー(250gのシリカゲル60/230−400メッシュ;溶離液:トルエン/ヘキサン 1:1)の後、主フラクションを50℃/50torrで24時間乾燥して、m.p.131−132℃の表題化合物9.8gを得る。
【0205】
同様の方法と適当な量の実施例A5からの相当する出発物質を使用して、表A8に示した化合物154と164を得る。特定のために示された融点範囲を℃で示す;他の特定パラメータを欄中に記載する。分析データは実測量を重量%で示す。
【0206】
【表9】
表A8:化合物154と164の特定値
Figure 0004332819
【0207】
B)使用実施例
実施例B1:2層金属光沢系(metallic system) の安定化
試験する化合物をキシレン5−10g中へ混和しそして下記の組成(重量部)を持つ透明塗料中で試験する:
【表10】
実施例B1:
─────────────────────────────────
(登録商標)ウラクロン(Uracron)2263B1) 59.2
(登録商標)シメル(Cymel)3272) 11.6
キシレン 19.4
ブチルグリコール アセタート 5.5
ブタノール 3.3
均展補助剤(登録商標)バイシロン(Baysilon)A6) 1.0
アルミニウム トリアセチルアセトナート(硬化触媒) 1.6
─────────────────────────────────
101.6
1)アクリレート樹脂、DSM 樹脂 NV
2)メラミン樹脂、アメリカン シアナミド コーポレーション
6)製造者:Bayer AG;1%キシレン溶液
【0208】
塗料材料の固形分を基準にして試験される化合物1.5%と式
【化42】
Figure 0004332819
の化合物(化合物A)0.7%も、透明塗料に添加する。使用される対照は、光安定剤を含有していない。
【0209】
透明塗料を、散布できる粘度まで(登録商標)ソルベッソ(Solvesso)100で希釈しそして用意したアルミニウムシート(コイルコート、サーフェーサー(surfacer)、銀光沢コート)上に塗布しそして130℃で30分間にわたり焼き付ける。乾燥膜厚40−50μmの透明塗膜を得る。
【0210】
次いで、試料をAtlas CorporationからのUVCON(登録商標)耐候ユニット(UVB−313ランプ)内で、8時間にわたる70℃におけるUV照射と4時間にわたる50℃における凝縮の周期で、耐候試験をする。試料を通常間隔で表面光沢(DIN67530により20°光沢)と亀裂の有無について検査する。結果を下記の表B1に示す。
【0211】
【表11】
表B1:表中記載の期間にわたるUVCON耐候試験後の20°光沢と亀裂
Figure 0004332819
本発明に従って安定化された試料は、安定化されていない対照試料より顕著に優れた耐候安定性(光沢維持、亀裂抵抗性)を持つ。化合物Aの追加使用により更に顕著に改善される。
【0212】
実施例B2:粉末塗料の安定化
試験される化合物はグリシジル・メタクリレート−官能化ポリアクリレートを基材にした透明塗膜中で試験する。この目的のために下記の成分を混合機中で混合しそしてゾーン1と2内で40℃と80℃であり、125回転/分のBussPLK46Lコクニーダ(cokneader)を使用して2回押し出す:
【表12】
Figure 0004332819
1)ヘキスト社(Hoechst AG);
2)フィアノバ社(Vianova AG);
3)ジ(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−4−イル)(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−n−ブチルマロナート
【0213】
上述した量に加えて、混合物は表B2に示した新規の安定剤20gを含有する。別の製剤は示したように調製されるが新規の安定剤を含有していない。
【0214】
押出物を冷却し、微粉砕し、Retsch ZM−1超遠心分離ミル中と1.0mm篩で、段階1に粉砕し、そして最後に90μm回転篩中を通過させる。得られた粉末は31μmの平均粒径を持つ。
【0215】
コイルコートしたアルミニウムの試験パネルは、水を基材としたプライマーの塗膜(35−40μm)に続けて銀色光沢プライマーを適用することにより製造される。試験パネルの表面は130℃で30分間にわたり硬化される。透明塗膜にはそこでESB−Wagner(登録商標)型コロナ銃装置を使用して145℃で30分間硬化する。得られたフィルム厚は約60μmの透明塗膜である。
【0216】
次いで、試料をAtlas CorporationからのUVCON(登録商標)耐候ユニット(UVB−313nmランプ)内で、8時間にわたる70℃におけるUV照射と4時間にわたる50℃における凝縮の周期で、耐候試験をする。試料を400時間毎に亀裂について検査する:亀裂はTNOスケール型353に従って評価する。
結果を表B2に示す。
【0217】
【表13】
表B2:粉末塗膜の亀裂する迄の耐候時間、とTNOに従った評価
安定剤 時間 TNO評価
───────────────────────
なし 2800h E4b
化合物(21) >10000h 無亀裂
───────────────────────
本発明に従って安定化された試料は、安定化されてない対照より優れた耐候性を示す。
【0218】
実施例B3:2層金属光沢系(metallic system) 安定化
試験する化合物をキシレン5−10g中へ溶解しそして下記の組成(重量部)を持つワニス中で試験する:
【0219】
【表14】
Figure 0004332819
【0220】
1)アクリレート樹脂、ヘキストAG製;キシレン/ブタノール(26:9)中の65%溶液
2)アクリレート樹脂、ヘキストAG製;ソルベッソ(Solvesso)(登録商標)1004)中の75%溶液
3)メラミン樹脂、ヘキストAG製;イソブタノール中の55%溶液
4)芳香族炭化水素混合物、沸点範囲182−203℃(ソルベッソ(Solvesso)(登録商標)150)又は161−178℃(ソルベッソ(Solvesso)(登録商標)100)、エッソー製
5)脂肪族炭化水素混合物、沸点範囲145−200℃;シェル製
6)ソルベッソ(Solvesso)(登録商標)1504);バイエルAG製
【0221】
塗料材料の固形分を基準にして試験される化合物1.5%と化合物A(実施例B1を参照)0.7%を透明塗料に添加する。使用される対照は、光安定剤を含有していない透明塗料である。
【0222】
透明塗料を、散布できる粘度までソルベッソ(Solvesso)(登録商標)100で希釈しそして用意したアルミニウムシート(コイルコート、サーフェイサー(surfacer) 、銀光沢コート)上に塗布しそして130℃で30分間にわたり焼き付ける。得られたものは、乾燥膜厚40−50μmの透明塗膜である。
【0223】
試料を、実施例B1に記載されたようにして耐候試験に処しそして評価する。結果を下記の表B3に記載する。
【表15】
表B3:表中記載の期間にわたるUVCON耐候試験後の20°光沢と亀裂
Figure 0004332819
【0223】
実施例B4:実施例B3に記載されているようにして透明塗料を調製し、適用しそして耐候試験する。結果を表B4に記載する。
【表16】
表B4:表中記載の期間にわたるUVCON耐候試験後の20°光沢と亀裂
Figure 0004332819
【0224】
実施例B5:実施例B3の方法を繰り返すが、透明塗膜は化合物A0.7%の代わりに、式
【化43】
Figure 0004332819
(化合物B)の化合物1.0重量%を含み、そして塗料材料を明緑色金属様下塗りに適用する。結果を表B5に記載する。
【0225】
【表17】
表B5:表中記載の期間にわたるUVCON耐候試験後の20°光沢と亀裂
Figure 0004332819

Claims (4)

  1. 式I’
    Figure 0004332819
    (式中、
    Zは式II’
    Figure 0004332819
    の基を表すか、又は式III'
    Figure 0004332819
    の基を表し;
    1、R5、R11とR15は、互いに独立して、H、炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数3のアルケニル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、炭素原子数3ないし6のアルケノキシ基、−F又は−Clを表し;
    2、R3、R4、R12、R13とR14は、互いに独立して、H、炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数3ないし6のアルケニル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、炭素原子数3ないし6のアルケノキシ基、フェニル基、−F、−Cl又は−CNを表し;
    7とR17は、互いに独立して、式IV'
    Figure 0004332819
    (式中、
    6は炭素原子数1ないし16のアルキル基又はフェニル基を表し;
    8はH、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし8のアルケニル基、シクロヘキシル基、(炭素原子数1ないし4のアルキル)シクロヘキシル基、フェニル基又は炭素原子数7ないし11のフェニルアルキル基を表しそして、Zが式II'の基を表す場合は、追加してOにより中断されている炭素原子数2ないし18のアルキル基を包含し;そして
    16はR6についてと同じに定義され;そして、Zが式II'の基を表す場合は、追加して水素原子を包含する。)で表される基を表す。)
    により表される化合物(但し、式中、Zが式III'の基を表しそしてR1とR5の両方がアルキル基を表す化合物、及び式中、R3又はR13がフェニル基を表しそしてR16が水素原子を表す化合物を除外する。)。
  2. 式中、R1、R5、R11とR15は、互いに独立して、H又は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し;R2、R3、R4、R12、R13とR14は、互いに独立して、H、炭素原子数1ないし4のアルキル基、メトキシ基、フェニル基、−F、−Cl又は−CNを表し;R6は炭素原子数1ないし16のアルキル基を表し;R8は炭素原子数1ないし15のアルキル基、炭素原子数3のアルケニル基、シクロヘキシル基又はフェニル基を表しそして、Zが式II'の基を表す場合は、追加してOにより中断されている炭素原子数3ないし13のアルキル基を包含する、請求項1記載の式I'の化合物。
  3. A)光、酸素及び/又は熱による損傷を受け易い有機材料、及びB)安定剤として、請求項1記載の式I'の化合物少なくとも1種からなる組成物。
  4. 光、酸素及び/又は熱による損傷に対して有機材料を安定化する方法であって、安定剤として請求項1に定義された式I'の化合物を該有機材料に混合することからなる方法。
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