JP3251019B2 - 低インピーダンスcmos出力段および方法 - Google Patents

低インピーダンスcmos出力段および方法

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Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 本発明は、CMOS増幅器およびそのための低インピーダ
ンス出力段に関し、特に、動作温度、供給電圧、および
集積回路処理パラメータの通常の変動範囲では、その出
力トランジスタにおける静止バイアス電流(quiescent
bias current)の許容レベルを維持する、低インピーダ
ンス出力段に関するものである。
集積回路CMOS増幅器が理想的であれば、非常に低い出
力インピーダンス、正および負電源電圧レベル間の大き
な出力電圧のスイング(swing)、線形な出力信号、お
よび低歪みを与える出力段を有することになる。出力段
の出力トランジスタにおける選択DC即ち静止バイアス電
流は、本質的に、電源電圧、トランジスタ、抵抗および
回路のその他の構成部品間の不整合、ならびに種々の集
積回路処理パラメータの許容範囲に対して一定でなけれ
ばならない。
処理パラメータおよび回路動作状態の許容範囲全体に
おいて、低出力インピーダンスおよび一定静止電流(即
ち、無負荷電流)を有するCMOS増幅回路を提供すること
は、当業者にとって以前より特に興味をそそられること
であった。一方のチャネル型、例えば、N−チャネルの
大きな出力MOSFETを有する誤差増幅器(error amplifie
r)を含む「疑似デバイス(quasi−device)」を用い
て、反対のチャネル型(この場合P−チャネル)のMOSF
ETの挙動を「模擬」することは公知である。このような
「疑似デバイス」は、この図1Aに示すように、ソース・
フォロワ構成で用いる場合が多い。疑似デバイスで構成
した出力段は、ソース・フォロワと同様、低出力インピ
ーダンスを有し、しかもソース・フォロワよりも出力電
圧のスイングが大きいという更に別の利点を有する。
米国特許第4,480,230号(ブレーマその他(Brehmer e
t al.))では、クラスAB出力段に追加の回路を付加し
て、大きな静止電流が出力MOSFETに流れているときを検
知してフィードバックを与え、これを用いて出力MOSFET
における静止(無負荷)電流を減衰させるている。米国
特許第5,162,752号(コーラマバディ(Khorramabad
i))は、並列に接続し、別個の誤差増幅器で駆動する
ようにした、クラスB出力MOSFETとクラスAB出力MOSFET
の使用を開示している。しかしながら、ブレーマその他
およびコーラマバディの回路は双方とも複雑であり、温
度、電源電圧および集積回路プロセス・パラメータの典
型的な変動の関数として、出力MOSFETを流れる静止電流
量の大きな変動の問題は、いずれも解決していない。
図1を参照すると、図示のバイアス回路の内抵抗R1お
よびMOSFET M1〜M6を含む部分2は、従来技術のバイア
ス回路を構成し、MOSFET M1を強力な反転エッジ、即
ち、丁度「オン」に切り替えるエッジに保持するように
動作する。このバイアス回路2は、導体12および13上に
バイアス電流を供給し、図1におけるM9およびM10のよ
うなカレント・ミラー出力トランジスタを駆動するため
に、一般的に用いている。このようなカレント・ミラー
出力トランジスタは、差動増幅段3に対して定電流源と
して機能する。しかしながら、図1の従来技術の回路1
の部分2は、電源電圧、温度、およびCMOS処理パラメー
タの典型的な範囲にわたって、CMOS増幅器の出力トラン
ジスタにおける静止バイアス電流を一定に維持するとい
う前述の問題を解決する指標を与えるものではない。薄
膜抵抗のレーザ・トリミングによって、前述の集積回路
のプロセス・パラメータの変動のいくつかは補償できる
ものの、レーザ・トリミングは回避することが望まし
い。何故なら、これは非常にコストがかかるプロセスで
あるからである。
その結果、低インピーダンスCMOS出力段の改良、即
ち、正および負電源電圧間に大きな出力電圧のスイング
を与えることができ、出力MOSFETにおいて実質的に一定
の静止電流を有し、出力段の回路に不当な複雑性を追加
することなく、更に薄膜抵抗等のレーザ・トリミングに
伴うコストも発生しないことに対する要望は、満たされ
ていない。
発明の概要 したがって、本発明の目的は、低インピーダンスCMOS
出力段において、電源電圧、CMOS処理パラメータ、およ
びチップ温度の典型的な変動に対して、当該出力段の出
力トランジスタにおける低インピーダンス負荷および定
常DCバイアス電流に、大きな出力電圧のスイングを与え
るために使用可能な低インピーダンスCMOS出力段を提供
することである。
本発明の別の目的は、前述の種類の低インピーダンス
CMOS出力段において、許容できない回路の複雑化や、抵
抗値のレーザ・トリミングの必要性を回避する、低イン
ピーダンスCMOS出力段を提供することである。
端的に述べれば、本発明は、その一実施形態によれ
ば、バイアス回路(2)、誤差増幅器(3)、および第
1P−チャネル・プルアップMOSFET(M11)を含むCMOS出
力回路を提供する。バイアス回路(2)は、第1供給電
圧導体(VDD)と第1導体(10)との間に結合した第1
抵抗(R1)と、前記第1供給電圧導体(VDD)に結合し
たソース、前記第1導体(10)に結合したゲート、およ
び第2導体(11)に結合したドレインを有する第1P−チ
ャネルMOSFET(M1)と、前記第1導体(10)に結合した
ソース、前記第2導体(11)に結合したゲート、および
第2供給電圧導体(8)にソースを結合した第1N−チャ
ネル・カレント・ミラー制御MOSFET(M4)のドレインと
ゲートとに結合したドレインを有する第2P−チャネルMO
SFET(M2)と、前記第1N−チャネル・カレント・ミラー
制御MOSFET(M4)の前記ゲートに結合したゲート、前記
第2供給電圧導体(8)に結合したソース、および前記
第2導体(11)に結合したドレインを有する第1N−チャ
ネル・カレント・ミラー出力MOSFET(M6)とを含む。誤
差増幅器(3)は、第1(M7)および第2(M8)N−チ
ャネル入力MOSFETを含む。第1N−チャネル入力MOSFET
(M7)のゲートは、第1入力端子(4)に結合してあ
り、第2N−チャネル入力MOSFET(M8)のゲートは第2入
力端子(5)に結合してある。第2N−チャネル・カレン
ト・ミラー出力トランジスタ(M10)は、第1N−チャネ
ル・カレント・ミラー制御トランジスタ(M4)のゲート
に結合したゲートと、第2供給電圧導体(8)に結合し
たソースと、第1(M7)および第2(M8)N−チャネル
入力MOSFETのソースに結合したドレインとを有する。第
1供給電圧導体(VDD)と第1(M7)および第2(M8)
N−チャネル入力MOSFETのドレインとの間に、それぞ
れ、第1(R2)および第2(R3)抵抗性負荷回路を結合
してある。第1P−チャネル・プルアップMOSFET(M11)
は、第2(M8)P−チャネル入力MOSFETのドレインに結
合したゲートと、第1供給電圧導体(VDD)に結合した
ソースと、出力端子(7)に結合したドレインとを有す
る。第1(R2)および第2(R3)抵抗性負荷回路の抵抗
を均衡化し、第1P−チャネル・プルアップMOSFET(M1
1)を強力な反転付近にバイアスし、これに第1バイア
ス電流を生成させる。第1バイアス電流は、第1P−チャ
ネルMOSFET(M1)を通過するバイアス電流の所定の倍数
である。第1バイアス電流は、第1P−チャネルMOSFET
(M1)をその強力な反転状態のエッジにおいてバイアス
することによって生成する。第2N−チャネル・カレント
・ミラー出力MOSFET(M10)のチャネル幅対チャネル長
比は、第1スケール・ファクタkに第1P−チャネル・カ
レント・ミラー制御トランジスタ(M4)のチャネル幅対
チャネル長比を乗算した値であり、第1(R2)および第
2(R3)抵抗性負荷回路の抵抗値は、第1抵抗(R1)の
抵抗値を所定のファクタkで除算した値に比例する。
別の実施形態では、第2抵抗性負荷回路(R3)は、第
1供給電圧導体(VDD)と第3導体(15)との間に結合
した第1負荷抵抗(R4)、および第3導体と第2N−チャ
ネル入力MOSFET(M8)のドレインとの間に結合した第2
負荷抵抗(R5)を含む。CMOS出力回路は、第1供給電圧
導体(VDD)に結合したソースと、第3導体(15)に結
合したゲートと、出力導体(7)に結合したドレインと
を有する、第2P−チャネル・プルアップMOSFET(M12)
を含む。第1負荷抵抗(R4)は、第1スケール・ファク
タkで除算した第1抵抗(R1)の抵抗値(R1)をファク
タ(1−c)と乗算した値に比例する抵抗値を有し、第
2負荷抵抗(R5)は、第1スケール・ファクタkで除算
した第1抵抗(R1)の抵抗値(R1)を第2スケール・フ
ァクタcと乗算した値に比例する抵抗値を有し、第2P−
チャネル・プルアップMOSFET(M12)に、第2静止バイ
アス電流を生成させる。第2静止バイアス電流は、弱い
反転状態にバイアスした第2P−チャネル・プルアップMO
SFET(M12)によって生成する。
別の実施形態では、請求項6のCMOS出力回路におい
て、前記第1(R2')および第2負荷回路(R6+R7)の
抵抗値を不均衡化して、前記第1(M11')および第2
(M12)P−チャネル・プルアップMOSFETに対するゲー
ト駆動電圧のスイングを増大させると共に、前記第1
(M13)および第2(M14)N−チャネル入力MOSFETのチ
ャネル幅対チャネル長比を不均衡化して、前記第1(M1
1')および第2(M12)P−チャネル・プルアップMOSFE
Tのゲート駆動電圧のスイングを増大させる。第1負荷
回路(R2')の抵抗値は、第1抵抗(R1)の抵抗値(R
1)を所定のファクタkおよび1+eの積で除算した値
に比例する。ここで、eは均衡定数である。第1負荷抵
抗(R6)の抵抗値は、第1抵抗(R1)の抵抗値と、所定
のファクタkと1−eとの積で1−cを除算した値との
積に比例する。ここで、cは入力オフセット補償定数で
ある。更に、第2負荷抵抗(図3におけるR7)の抵抗値
は、第1抵抗R1の抵抗値と、所定のファクタkと1−e
との積でオフセット補償定数cを除算した値との積に比
例する。
前述のP−チャネルMOSFET全てをN−チャネルMOSFET
と置換し、N−チャネルMOSFETも全てP−チャネルMOSF
ETと置換し、第1および第2供給電圧導体を相互交換す
ると、プルアップMOSFETはプルダウンMOSFETとなり、2
種類のCMOS出力回路を相互接続し、非常に安定な静止バ
イアス電流を有する高周波CMOSプッシュ・プル出力回路
を備えることができる。
図面の簡単な説明 図1は、本発明の第1実施形態の概略図である。
図1Aは、MOSソース・フォロア回路を模擬するために
使用可能な、従来技術の「疑似デバイス」を示す回路図
である。
図2は、本発明の第2実施形態の概略図である。
図3は、本発明の第3実施形態の概略図である。
図4は、図3の回路を用いたプッシュ・プルCMOS増幅
器、および全てのMOSFETのチャネル型を逆にした同様の
回路の概略図である。
図5は、本発明の低インピーダンスCMOS出力段を用い
たシグナル・エンド増幅器の図である。
図6は、本発明の低インピーダンスCMOS出力段を用い
た、差動入力差動出力増幅器の図である。
好適な実施形態の詳細な説明 図1を参照すると、低インピーダンスCMOS出力プルア
ップ回路1は、前述のバイアス回路2および差動増幅誤
差回路3、更に低インピーダンス出力プルアップ・トラ
ンジスタとして機能するP−チャネルMOSFETM11も含
む。バイアス回路2は、6キロオームの抵抗値を有し、
VDDと導体10と間に接続した抵抗R1を含む。導体10は、
P−チャネルMOSFET M1のゲートに接続してある。P−
チャネルMOSFET M1は、そのソースがVDDに接続してあ
り、更にそのドレインは導体11に接続してある。MOSFET
M1のチャネル幅およびチャネル長は、それぞれ、600
ミクロンおよび0.8ミクロンである。導体10は、P−チ
ャネルMOSFET M2のソースに接続してある。P−チャネ
ルMOSFET M2は、そのゲートが導体11に接続してあり、
そのドレインは導体12に接続してある。MOSFET M2のチ
ャネル幅およびチャネル長は、それぞれ、100ミクロン
および0.6ミクロンである。導体12は、N−チャネルMOS
FET M3のゲートおよびドレイン、ならびにN−チャネ
ルMOSFET M5のゲートに接続してある。N−チャネルMO
SFET M5のドレインは、導体11に接続してある。MOSFET
M3のソースは、導体13に接続してある。N−チャネル
MOSFET M4のゲートおよびドレインは、導体13に接続し
てあり、MOSFET M4のソースは、接地導体8に接続して
ある。接地導体8は、最も負側の供給電圧と言っても差
し支えない。N−チャネルMOSFET M6のソースは、接地
に接続してあり、そのドレインはMOSFET M5のソースに
接続してある。MOSFET M3〜M6の各々のチャネル幅およ
びチャネル長は、それぞれ、25ミクロンおよび0.6ミク
ロンとするとよい。
誤差増幅器3は、N−チャネル電流源MOSFET M10を
含み、そのソースは接地に接続してあり、そのゲートは
導体13に接続してあり、そのドレインは第2N−チャネル
電流源M9のソースに接続してある。MOSFET M4は、カレ
ント・ミラー制御トランジスタであり、MOSFETM6および
M10は、カレント・ミラー出力トランジスタである。MOS
FET M9は、そのゲートが導体12に接続してあり、その
ドレインがN−チャネル入力MOSFET M7およびM8のソー
スに接続してある。MOSFET M10は、そのゲートが導体1
3に接続してあり、そのドレインがMOSFET M9のソース
に接続してあり、そのソースが接地に接続してある。MO
SFET M9およびM10のチャネル幅は、MOSFETM3およびM4
のチャネル幅よりもk倍だけ拡張してあり、kの値は4
に等しい。また、MOSFET M9およびM10のチャネル幅
は、100ミクロンとすればよい(そのチャネル長は0.6ミ
クロンであり、MOSFETM3およびM4の場合と同一であ
る)。
入力MOSFET M7およびM8のゲートは、それぞれ、導体
4および5に接続してある。入力MOSFET7および8のチ
ャネル幅およびチャネル長は、それぞれ、200ミクロン
および0.6ミクロンである。入力導体4および5には、
それぞれ、VIN +およびVIN -を印加する。負荷抵抗R2は、
抵抗値2×R1/kを有するものとすればよく、VDDと入力M
OSFET M7のドレインとの間に接続してある。(好まし
くは、負荷抵抗R2およびR3の抵抗値は、少なくとも現ス
ケール・ファクタk分の1に減少させ、プルアップ回路
1の帯域幅を増大させる。)負荷抵抗R3は、負荷抵抗R2
と同じ抵抗値を有すればよく、VDDと導体6との間に接
続してある。導体6は、入力MOSFET M8のドレイン、お
よびP−チャネル出力MOSFET M11のゲートに接続して
あり、P−チャネル出力MOSFET M11は、そのソースがV
DDに接続してあり、そのドレインは出力導体7に接続し
てある。
バイアス回路2において、抵抗R1ならびにMOSFET M
2,M3,およびM4を含む第1脚部における電流は、MOSFET
M1のP−チャネル・スレシホルド電圧VTPを抵抗R1の
抵抗値R1で除算した値にほぼ等しい。MOSFET M1,M5,お
よびM6を含む第2脚部を通過する電流は、第1脚部にお
けるそれに等しい。何故なら、カレント・ミラー出力ト
ランジスタM6を通過する電流は、カレント・ミラー制御
トランジスタM4を通過する電流に等しいからである。R1
は、MOSFET M1を丁度強力な反転の開始時(onset)に
バイアスするように、即ち、大量の電流を丁度導通させ
始めるように、その値を選択する。
すると、抵抗R1を通過する電流にスケール・ファクタ
kを乗算した電流が、誤差増幅器3の定電流源MOSFET
M9およびM10を通過する。誤差増幅器3を通過する電流
をスケール・ファクタk倍に増大させることにより、抵
抗R2およびR3の抵抗値は、kに比例して減少し、これに
よって関連するRC時定数が減少し、出力回路1の帯域幅
が拡大する。次に、VIN +がVIN -に等しく、抵抗R2および
R3が先に示した抵抗値を有する場合、入力MOSFET M11
のゲート−ソース間電圧は、バイアス電流MOSFET M1の
ゲート−ソース電圧に完全に等しくなり、出力MOSFET
M11は正に強力な反転のエッジ上に来る。
これは非常に有用な成果である。何故なら、これによ
って、VDD、P−チャネルおよびN−チャネルMOSFETプ
ロセス・パラメータ、およびチップ温度の典型的な変動
には全く独立した、出力MOSFET M11の静止バイアス電
流が確立するからである。例えば、私のコンピュータ・
シミュレーションでは、P−チャネルおよびN−チャネ
ル・プロセス・パラメータの正常範囲およびチップ温度
の正常範囲において、図2の回路では、全静止電流の1.
5ないし2倍の近似変動(approximate variation)を示
した。これは、プロセス・パラメータおよびチップ温度
の正常範囲に対して全静止電流の約100倍もの変動が発
生する場合もある従来技術の回路と比較すると、非常に
優れている。
その結果、出力MOSFET M11は、最悪の場合のVDD
値、MOSFETスレシホルド電圧およびその他のCMOSプロセ
ス・パラメータに対して静止バイアス電流が過度に大き
くなるという虞れがなく、大きなチャネル幅対チャネル
長比(MOSFET M1のそれよりもはるかに大きい)を有
し、したがって低い出力インピーダンスを備えるように
設計することが可能となる。
典型的に、図1のプルアップ出力回路1は、その出力
導体7が負荷回路(図示せず)に接続してあると共に、
プルダウン出力回路にも接続してある。プルダウン出力
回路は、種々のP−チャネルMOSFETを対応するN−チャ
ネルMOSFETと置換し、N−チャネルMOSFETを対応するP
−チャネルMOSFETと置換するという意味で、接地とVDD
との間で回路構造を「逆転」させていることを除いて、
プルアップ・ドライバ回路1と同一である。これは、図
4に示す回路と同様、高周波数、低歪み、低出力インピ
ーダンスのプッシュプル出力回路を与える。
尚、集積回路チップのレイアウトでは、MOSFET M1は
物理的に出力MOSFET M11にできるだけ近づけて配置す
ることが望ましく、MOSFET M1およびM11双方を共通の
熱重心(thermal centroid)上で互いに対して配置し、
動作中バイアスMOSFET M1の温度がプルアップMOSFETM1
1の温度に精度高く追従するのを保証することが好まし
い。
図1の出力回路に伴う問題の1つとして、プルアップ
MOSFET M11にかけるバイアスが、誤差増幅器3の入力
オフセット電圧に左右されることがあげられる。この入
力オフセット電圧は、入力MOSFET M7およびM8間の整
合、特にそのスレシホルド電圧、ならびに負荷抵抗R2お
よびR3間の一致度にも左右される。このような入力オフ
セット電圧の極性が、入力MOSFET M8を通過する電流を
増大させるような場合、プルアップMOSFET M11を通過
する静止バイアス電流も増大し、静止電流の設計値が、
IDRAIN対MOSFET 11のVGS特性グラフの急峻な部分に位
置する場合、その増大は劇的となり得る(例えば、10倍
もの大きさ)。
この問題に対処するには、図2に示すプルアップ出力
ドライバ回路1Aを変更し、負荷抵抗R3を負荷抵抗R4およ
びR5の直列接続で置換し、抵抗R4をVDDと導体15との間
に接続する。すると、前述の図1のプルアップMOSFET11
を通過する静止バイアス電流の劇的な増大は、図2のプ
ルアップMOSFET M11'およびM12における結合静止電流
に対して、10倍ではなくわずかに約1.5ないし2倍とい
う、はるかに小さい増大となる。
図2において、抵抗R5は、導体6および15の間に接続
してある。図2のプルアップMOSFET M11'は、図1のMO
SFET M11と置換したものである(そして、MOSFET11と
全く同じ接続としてある)。図2において、追加のP−
チャネル・プルアップMOSFET M12は、そのソース電極
がVDDに接続してあり、そのドレイン電極が導体7に接
続してあり、そのゲートが導体15に接続してある。本質
的に、図1の出力プルアップMOSFET11は、2つの並列接
続したP−チャネルMOSFETプルアップM11'およびM12に
「分割」したものとなっている。一般的に、プルアップ
MOSFET M12のチャネル長対チャネル幅比は、プルアッ
プMOSFET M11'のそれよりもはるかに大きい(例えば、
10倍大きい)。抵抗R5の抵抗値は、典型的に、抵抗R4の
抵抗値よりもはるかに小さい。図2に示すように、R5の
抵抗値は2×c×R1/kとすることができ、抵抗R4の抵抗
値は2(1−c)R1/kとすることができる。cはスケー
ル・ファクタであり、抵抗R4およびR5間の関係を決定
し、誤差増幅器の入力オフセット電圧の正当な範囲にお
いて静止(即ち、無負荷)状態下でプルアップ・トラン
ジスタM12のオンへの切り替えが決して強すぎることが
ないように選択する。説明中の実施形態では、cは0.05
の値を有することができる。プルアップMOSFET M11'
は、誤差増幅器のオフセット電圧の結果として、そのオ
ンへの切り替えが強すぎることがあっても、図1のMOSF
ET M11と比較すると、そのサイズは大幅に縮小してい
る。図2の構成は、MOSFET M11'およびM12双方におけ
る静止バイアス電流の和が、過度に大きくなるのを防止
する。
図2の実施形態に更に改良を加えれば、出力プルアッ
プMOSFETを通過する静止電流の、誤差増幅器3の入力オ
フセット電流に対する強い依存性の問題を克服するが、
プルアップMOSFET M11'およびM12のゲート−ソース間
電圧を生成するために使用可能な「ゲート・ドライブ」
の量は、プルアップ抵抗R4およびR5の各々を通過する、
MOSFET M9およびM10からのバイアス電流の部分が決定
する。先に示した図2のR2,R4およびR5の値では、オフ
セット電圧がゼロの場合、定電流源MOSFET M9およびM1
0が供給する誤差増幅器のバイアス電流の半分が、誤差
増幅器3の各ブランチを通過し、その電流量に抵抗R3の
抵抗値を乗算すると、P−チャネル・プルアップMOSFET
M11'のスレシホルド電圧VTPに等しくなる。その結
果、大きな差動入力電圧に対して、抵抗R4およびR5を通
過する電流量が到達可能な増大は、抵抗R4およびR5を通
過する一定バイアス電流の全てについてその方向を制御
することにより、最大で約2倍となる。これによって、
プルアップMOSFETM11'に得られる最大ゲート駆動電圧
を、そのスレシホルド電圧VTPのおおよそ2倍に制限す
る。
これは、特に、実際のスレシホルド電圧VTPがその範
囲の下限にある場合、問題となり得る。図3の出力段1B
は、MOSFET M10が供給する電流の1/4のみがMOSFET M8
を通過し、残りがMOSFET M7を通過するように、MOSFET
M7およびM8を通過する電流を不均衡化することによっ
て、この問題に対する解決案を与える。
図3を参照すると、出力プルアップ回路1Bは、誤差増
幅器の抵抗負荷回路の抵抗値R2とR4+R5との間の関係を
変更し、入力MOSFET M7およびM8の相対的な幾何学的形
状も同様に変更したことを除いて、図2の回路1Aと同一
である。具体的には、図2の負荷抵抗R4(抵抗値2(1
−c)R1/kを有する)およびR5(抵抗値2cR1/kを有す
る)を、それぞれ、図3における負荷抵抗R6(抵抗値2
(1−c)R1/(k(1−e)を有する)およびR7(抵
抗値2cR1/k(1−e)を有する)と置換する。ここで、
eはスケール・ファクタであり、0.5の値を有するもの
とするとよい。図2の負荷抵抗R2(抵抗値2R1/kを有す
る)を、図3における負荷抵抗R2'(抵抗値2R1/(k
(1+e)を有する)と置換する。入力MOSFET M7およ
びM8(双方ともチャネル幅WDを有する)を、それぞれ、
N−チャネル入力MOSFET M13(チャネル幅が(1+
e)WD)およびM14(チャネル幅が(1−e)WD)と置
換する。ここで、WDは、図2におけるMOSFET M7および
M8の幅である。
こうして、図3における差動誤差増幅器3の2つのブ
ランチは、スケール・ファクタeに応じた不均衡状態と
なるので、静止状態(即ち、VIN +がVIN -に等しい)の下
では、入力MOSFET M14よりも十分に大きな電流が入力M
OSFET M13を通過する。この不均衡を得るには、図2の
MOSFET M7の幅にファクタ1+eを乗算して、MOSFET
M13のチャネル幅を求め、更に図2の抵抗R2の抵抗値を
ファクタ1+eで除算して図3における抵抗R2'の抵抗
値を求め、図2のMOSFET M8の幅にファクタ1−eを乗
算して図3のMOSFETM14のチャネル幅を求め、図2の抵
抗R4およびR5の各々の抵抗値を1−eで除算して、図3
のR6およびR7の抵抗値を求める。そして、eが0.5に等
しい場合、抵抗R6およびR7よりも3倍多い電流が抵抗R
2'を通過し、出力トランジスタM11'およびM12上のバイ
アス電圧は、図2におけると同じレベルに維持する。高
入力駆動状態の下では、抵抗R2'を通過する電流の全て
が、抵抗R6およびR7を通過することができる(VIN +がV
IN -に等しい)。その結果、プルアップMOSFET M11'上
のゲート駆動は、図2の回路におけるようなわずかに2
倍ではなく、その元のレベルVTPの約4倍に増大するこ
とができる。かくして、プルアップMOSFET M11'に対す
るゲート駆動は、スレシホルド電圧VTPの約4倍に達す
ることが可能となる。
導体6および15上で得られる最大ゲート駆動電圧の増
大により、プルアップMOSFETM11'およびM12にはかなり
小さめのトランジスタの使用が可能となる。これによっ
て、プルアップMOSFET M11'およびM12のゲート容量が
減少し、関連するRC時定数が減少し、回路の帯域幅が拡
大する一方、最悪の温度変動(−40℃ないし+125℃)
およびCMOSプロセス・パラメータ変動という状態におい
て、所望の低インピーダンス、ならびにプルアップ・ト
ランジスタM11'およびM12の最大全静止バイアス電流の
低下が得られる。
前述の「不均衡化」技法は、図1のR3をR4およびR5に
「分割する」ことなく、更に図2おけるようにプルアッ
プMOSFET M12を追加することもなく、使用可能である
ことが認められよう。例えば、MOSFET M12を除去し、
抵抗R6およびR7を、R6およびR7の抵抗値の和に等しい抵
抗値を有する単一の抵抗にすることによって図3の回路
を変更した場合、図1の回路を前述のように「不均衡化
した」変形に到達する。これにより、単一の抵抗は、抵
抗値2R1/(k(1−e))を有し、これは図3における
抵抗R6およびR7の抵抗値の和となる。入力MOSFET M12
およびM14のチャネル幅は、図3の場合と同一であり、
図1の回路に関して、出力MOSFET M11'の縮小による利
点およびそれに伴う帯域幅の改善が得られる。
図4は、図3の出力ドライバ回路1Bと、第2の「相
補」出力ドライバ回路1B'との接続を示し、この場合VDD
および接地導体、ならびに出力ドライバ回路1Bの全MOSF
ETのチャネル型を逆転させてプルダウン出力段回路を備
えることにより、プッシュ・プル出力段としたものであ
る。このようにP−チャネルMOSFETを「逆」のN−チャ
ネルMOSFETと交換し、更にその逆の交換を行って相補型
出力ドライバ回路1B'を得た場合、その幅は、勿論、N
−チャネルおよびP−チャネルMOSFETの異なる導電性を
考慮して調節しなければならない。追加のMOSFET、抵抗
およびPNPトランジスタもブロック20および20'に示すよ
うに付加し、バイアス回路2および2'の起動を確保す
る。
図4の回路1Bは、高利得差動前置増幅器21と共に用い
て、図5に示すバッファ増幅器を得ることができるもの
である。図4に示す2つの出力ドライバ1Bおよび1B'を
2つの前置増幅器21および21'と結合し、図6に示す差
動バッファ回路を得ることができる。図6に示す回路を
試験した。2つの出力段1Bおよび1B'ならびに前置増幅
器21および21'を含む、図6の回路の全バイアス電流を
測定して、典型的に、約11ミリアンペアが得られ、その
最大値は約14ミリアンペアであった。小信号帯域幅の測
定では、10メガヘルツを超え、出力VOUTが6ボルトのピ
ーク−ピーク100キロヘルツ正弦波出力信号を100オーム
負荷に駆動した場合、全高調波歪みレベルは−70dBより
低く、DC出力インピーダンスの測定値は、0.1オーム未
満であった。この回路は、デジタル加入者回線に適用す
るアナログ「フロント・エンド」集積チップの構成部品
として非常によく動作する。
以上のように、本発明は、最も近い従来技術の欠点を
解決するに際して、余分にバイアス検知制御回路を追加
することなく、既に信号経路の一部となっている構成部
品を用いて、出力プルアップおよびプルダウン・トラン
ジスタを通過する静止電流を制御し、負荷電流が流れる
出力MOSFETの温度およびCMOS処理パラメータにその性能
が密接に関係する基準デバイスに応答してこの静止電流
を確立する。出力MOSFETの静止バイアス電流が本質的に
一定であるために、クロスオーバ歪みが少なく線形性に
優れたVOUTが得られる。
以上、本発明をその特定の実施形態のいくつかを参照
しながら説明したが、当業者は、本発明の精神および範
囲から逸脱することなく、記載した本発明の実施形態に
種々の変更を行うことができよう。実質的に同じ方法で
実質的に同じ機能を行い、同じ結果を得るような要素お
よびステップの組み合わせは全て本発明の範囲内に該当
することを意図するものである。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H03K 5/02 H03K 5/08 H03K 19/0175 H03F 3/343

Claims (12)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】バイアス回路を含むCMOS出力回路におい
    て、前記バイアス回路が、第1供給電圧導体と第1導体
    との間に結合した第1抵抗と、前記第1供給電圧導体に
    結合したソース、前記第1導体に結合したゲート、およ
    び第2導体に結合したドレインを有する第1の第1導電
    型MOSFETと、前記第1導体に結合したソース、前記第2
    導体に結合したゲート、および第2供給電圧導体に結合
    したソースを有する第1の第2導電型カレント・ミラー
    制御MOSFETのドレインとゲートとに結合したドレインを
    有する第2の第1導電型MOSFETと、前記第1の第2導電
    型カレント・ミラー制御MOSFETのゲートに結合したゲー
    ト、前記第2供給電圧導体に結合したソース、および前
    記第2導体に結合したドレインを有する第1の第2導電
    型カレント・ミラー出力MOSFETとを含み、前記第1の第
    1導電型MOSFETをその強力な反転状態のエッジにてバイ
    アスするCMOS出力回路であって、改良が、 (a)誤差増幅器であって、 i.第1の第2導電型入力MOSFETであって、ゲートが第1
    入力端子に結合した第1の第2導電型入力MOSFETと、 ii.第2の第2導電型入力MOSFETであって、ゲートが第
    2入力端子に結合した第2の第2導電型入力MOSFETと、 iii.前記第1の第2導電型カレント・ミラー制御MOSFET
    のゲートに結合したゲートと、前記第2供給電圧導体に
    結合したソースと、前記第1および第2の第2導電型入
    力MOSFETのソースに結合したドレインとを有する第2の
    第2導電型カレント・ミラー出力MOSFETと、 iv.前記第1供給電圧導体と前記第1の第2導電型入力M
    OSFETのドレインとの間に結合した第1抵抗性負荷と、 v.前記第1供給電圧導体と前記第2の第2導電型入力MO
    SFETのドレインとの間に結合した第2抵抗性負荷と、 から成る誤差増幅器と、 (b)前記第2の第2導電型入力MOSFETのドレインに結
    合したゲートと、前記第1供給電圧導体に結合したソー
    スと、出力端子に結合したドレインとを有する第1導電
    型出力MOSFETと、 を含み、 前記第1導電型出力MOSFETのゲート上に前記誤差増幅器
    が生成する電圧が、前記第1導電型出力MOSFET内に、前
    記第1の第1導電型MOSFETを通過するバイアス電流の所
    定の倍数である、安定した静止バイアス電流を生成し、
    前記第1の第1導電型MOSFETと同様に、前記第1導電型
    出力MOSFETをその強力な反転状態のエッジにてバイアス
    すること、 を特徴とするCMOS出力回路。
  2. 【請求項2】請求項1記載のCMOS出力回路において、前
    記第1導電型がP型であり、前記第2導電型がN型であ
    り、前記出力MOSFETがプルアップMOSFETであること、を
    特徴とするCMOS出力回路。
  3. 【請求項3】請求項1記載のCMOS出力回路において、前
    記第1導電型がN型であり、前記第2導電型がP型であ
    り、前記出力MOSFETがプルダウンMOSFETであること、を
    特徴とするCMOS出力回路。
  4. 【請求項4】バイアス回路を含むCMOS出力回路におい
    て、前記バイアス回路が、第1供給電圧導体と第1導体
    との間に結合した第1抵抗と、前記第1供給電圧導体に
    結合したソース、前記第1導体に結合したゲート、およ
    び第2導体に結合したドレインを有する第1の第1導電
    型MOSFETと、前記第1導体に結合したソース、前記第2
    導体に結合したゲート、および第2供給電圧導体に結合
    したソースを有する第1の第2導電型カレント・ミラー
    制御MOSFETのドレインとゲートとに結合したドレインを
    有する第2の第1導電型MOSFETと、前記第1の第2導電
    型カレント・ミラー制御MOSFETのゲートに結合したゲー
    ト、前記第2供給電圧導体に結合したソース、および前
    記第2導体に結合したドレインを有する第1の第2導電
    型カレント・ミラー出力MOSFETとを含み、前記第1の第
    1導電型MOSFETをその強力な反転状態のエッジにてバイ
    アスする、前記のCMOS出力回路であって、改良が、 (a)誤差増幅器であって、 i.第1の第2導電型入力MOSFETであって、ゲートが第1
    入力端子に結合した第1の第2導電型入力MOSFETと、 ii.第2の第2導電型入力MOSFETであって、ゲートが第
    2入力端子に結合した第2の第2導電型入力MOSFETと、 iii.前記第1の第2導電型カレント・ミラー制御MOSFET
    のゲートに結合したゲートと、前記第2供給電圧導体に
    結合したソースと、前記第1および第2の第2導電型入
    力MOSFETのソースに結合したドレインとを有する第2の
    第2導電型カレント・ミラー出力MOSFETと、 iv.前記第1供給電圧導体と前記第1の第2導電型入力M
    OSFETのドレインとの間に結合した第1抵抗性負荷と、 v.前記第1供給電圧導体と前記第2の第2導電型入力MO
    SFETのドレインとの間に結合した第2抵抗性負荷と、 を含む誤差増幅器と、 (b)前記第2の第2導電型入力MOSFETのドレインに結
    合したゲートと、前記第1供給電圧導体に結合したソー
    スと、出力端子に結合したドレインとを有する第1導電
    型出力MOSFETと、 を含み、 前記第1導電型出力MOSFETのゲート上に前記誤差増幅器
    が生成する電圧が、前記第1導電型出力MOSFET内に、前
    記第1の第1導電型MOSFETを通過するバイアス電流の所
    定の倍数である、安定した静止バイアス電流を生成し
    て、前記第1の第1導電型MOSFETと同様に、前記第1導
    電型出力MOSFETをその強力な反転状態のエッジにバイア
    スすること、 前記第1抵抗性負荷の抵抗値の前記第2抵抗性負荷の抵
    抗値に対する比が、(1−e)/(1+e)に等しく、
    前記第1の第2導電型入力MOSFETのチャネル幅の前記第
    2の第2導電型MOSFETのチャネル幅に対する比が、(1
    +e)/(1−e)に等しく、eは0よりも大きく1未
    満の値を有して、前記第1導電型出力MOSFETを駆動する
    ために得られるゲート−ソース間電圧のスイング量を、
    eに比例して増大させること、 を特徴とするCMOS出力回路。
  5. 【請求項5】請求項4記載のCMOS出力回路において、前
    記第1導電型がP型であり、前記第2導電型がN型であ
    り、前記出力MOSFETがプルアップMOSFETであること、を
    特徴とするCMOS出力回路。
  6. 【請求項6】請求項4記載のCMOS出力回路において、前
    記第1導電型がN型であり、前記第2導電型がP型であ
    り、前記出力MOSFETがプルダウンMOSFETであること、を
    特徴とするCMOS出力回路。
  7. 【請求項7】バイアス回路を含むCMOS出力回路におい
    て、前記バイアス回路が、第1供給電圧導体と第1導体
    との間に結合した第1抵抗と、前記第1供給電圧導体に
    結合したソース、前記第1導体に結合したゲート、およ
    び第2導体に結合したドレインを有する第1の第1導電
    型MOSFETと、前記第1導体に結合したソース、前記第2
    導体に結合したゲート、および第2供給電圧導体に結合
    したソースを有する第1の第2導電型カレント・ミラー
    制御MOSFETのドレインとゲートとに結合したドレインを
    有する第2の第1導電型MOSFETと、前記第1の第2導電
    型カレント・ミラー制御MOSFETのゲートに結合したゲー
    ト、前記第2供給電圧導体に結合したソース、および前
    記第2導体に結合したドレインを有する第1の第2導電
    型カレント・ミラーMOSFETとを含み、改良が、 (a)誤差増幅器であって、 i.第1および第2の第2導電型入力MOSFETであって、該
    第1の第2導電型入力MOSFETのゲートを第1入力端子に
    結合し、前記第2の第2導電型入力MOSFETのゲートを第
    2入力端子に結合した、第1および第2の第2導電型入
    力MOSFETと、 ii.前記第1の第2導電型カレント・ミラー制御MOSFET
    のゲートに結合したゲートと、前記第2供給電圧導体に
    結合したソースと、前記第1および第2の第2導電型入
    力MOSFETのソースに結合したドレインとを有する第2の
    第2導電型カレント・ミラー出力トランジスタと、 iii.前記第1供給電圧導体と前記第1の第2導電型入力
    MOSFETのドレインとの間に結合した第1抵抗性負荷と、 iv.前記第2の第2導電型入力MOSFETのドレインと第3
    導体との間に結合した第2抵抗性負荷と、 v.前記第3導体と前記第1の供給電圧導体の間に結合し
    た第3抵抗性負荷と、 を含む誤差増幅器と、 (b)前記第2の第2導電型入力MOSFETのドレインに結
    合したゲートと、前記第1供給電圧導体に結合したソー
    スと、出力端子に結合したドレインとを有する第1の第
    1導電型出力MOSFETと、 (c)前記第1供給電圧導体に結合したソースと、前記
    第3導体に結合したゲートと、前記出力導体に結合した
    ドレインとを有する第2の第1導電型出力MOSFETと、 を含み、 前記第2の第1導電型出力MOSFETのゲート上に前記誤差
    増幅器が生成する電圧が、前記第2の第1導電型出力MO
    SFET内に、前記第1の第1導電型MOSFETを通過するバイ
    アス電流の所定の倍数である、安定した静止バイアス電
    流を生成し、前記第1の第1導電型MOSFETと同様に、前
    記第2の第1導電型出力MOSFETをその強力な反転状態の
    エッジにてバイアスすること、を特徴とするCMOS出力回
    路。
  8. 【請求項8】請求項7記載のCMOS出力回路において、前
    記第1の第1導電型出力MOSFETのチャネル幅対チャネル
    長比が、前記第2の第1導電型出力MOSFETのチャネル幅
    対チャネル長比よりも実質的に小さくて、前記第1の第
    1導電型出力MOSFET内の静止バイアス電流が、前記誤差
    増幅器における大きな入力オフセット電圧の場合に、過
    剰に大きくなるのを防止すること、を特徴とするCMOS出
    力回路。
  9. 【請求項9】請求項8記載のCMOS出力回路において、前
    記第1抵抗性負荷が、前記第1抵抗の抵抗値を第1スケ
    ール・ファクタkで除算した値に比例した抵抗値を有
    し、前記第2抵抗性負荷が、前記第1スケール・ファク
    タkで除算した前記第1抵抗の抵抗値と第2スケール・
    ファクタcを乗算した値に比例する抵抗値を有し、前記
    第3抵抗性負荷が、前記第1抵抗の抵抗値に(1−c)
    /kを乗算した値に比例する抵抗値を有して、前記第2の
    第1導電型出力MOSFETを、前記第1の第1導電型MOSFET
    と同様に、その強力な反転状態のエッジにてバイアスす
    ること、を特徴とするCMOS出力回路。
  10. 【請求項10】バイアス回路を含むCMOS出力回路におい
    て、前記バイアス回路が、第1供給電圧導体と第1導体
    との間に結合した第1抵抗と、前記第1供給電圧導体に
    結合したソース、前記第1導体に結合したゲート、およ
    び第2導体に結合したドレインを有する第1の第1導電
    型MOSFETと、前記第1導体に結合したソース、前記第2
    導体に結合したゲート、および第2供給電圧導体に結合
    したソースを有する第1の第2導電型カレント・ミラー
    制御MOSFETのドレインおよびゲートに結合したドレイン
    を有する第2の第1導電型MOSFETと、前記第1の第2導
    電型カレント・ミラー制御MOSFETのゲートに結合したゲ
    ート、前記第2供給電圧導体に結合したソース、および
    前記第2導体に結合したドレインを有する第1の第2導
    電型カレント・ミラー出力MOSFETとを含み、改良が、 (a)誤差増幅器であって、 i.第1および第2の第2導電型入力MOSFETであって、該
    第1の第2導電型入力MOSFETのゲートを第1入力端子に
    結合し、前記第2の第2導電型入力MOSFETのゲートを第
    2入力端子に結合した、第1および第2の第2導電型入
    力MOSFETと、 ii.前記第1の第2導電型カレント・ミラー制御MOSFET
    のゲートに結合したゲートと、前記第2供給電圧導体に
    結合したソースと、前記第1および第2の第2導電型入
    力MOSFETのソースに結合したドレインとを有する第2の
    第2導電型カレント・ミラー出力トランジスタと、 iii.前記第1供給電圧導体と前記第1の第2導電型入力
    MOSFETのドレインとの間に結合した第1抵抗性負荷と、 iv.前記2の第2導電型入力MOSFETのドレインと第3導
    体との間に結合した第2抵抗性負荷と、 v.前記第3導体と前記第1供給電圧導体との間に結合し
    た第3抵抗性負荷と、 を含む誤差増幅器と、 (b)前記第2の第2導電型入力MOSFETのドレインに結
    合したゲートと、前記第1供給電圧導体に結合したソー
    スと、出力端子に結合したドレインとを有する第1の第
    1導電型出力MOSFETと、 (c)前記第1供給電圧導体に結合したソースと、前記
    第3導体に結合したゲートと、前記出力導体に結合した
    ドレインとを有する第2の第1導電型出力MOSFETと、 を含み、 前記第2の第1導電型出力MOSFETのゲート上に前記誤差
    増幅器が生成する電圧が、前記第2の第1導電型出力MO
    SFET内に、前記第1の第1導電型MOSFETを通過するバイ
    アス電流の所定の倍数である、安定した静止バイアス電
    流を生成し、前記第1の第1導電型MOSFETと同様に、前
    記第2の第1導電型出力MOSFETを、その強力な反転状態
    のエッジにてバイアスすること、 前記第1抵抗性負荷の抵抗値の前記第2抵抗性負荷の抵
    抗値に対する比が、(1−e)/(1+e)に等しく、
    前記第1抵抗性負荷の前記第3抵抗性負荷の抵抗値に対
    する比も(1−e)/(1+e)に等しく、前記第1の
    第2導電型入力MOSFETのチャネル幅の前記第2の第2導
    電型MOSFETのチャネル幅に対する比が、(1+e)/
    (1−e)に等しく、eは0よりも大きく1未満の値を
    有して、前記第1導電型出力MOSFETを駆動するために得
    られるゲート−ソース間電圧のスイング量を、eに比例
    して増大させること、 を特徴とするCMOS出力回路。
  11. 【請求項11】請求項10記載のCMOS出力回路において、
    前記第1の第1導電型出力MOSFETのチャネル幅対チャネ
    ル長比が、前記第2の第1導電型出力MOSFETのチャネル
    幅対チャネル長比よりも実質的に小さくて、前記第1の
    第1導電型出力MOSFET内の静止バイアス電流が、前記誤
    差増幅器における大きな入力オフセット電圧の場合に、
    過剰に大きくなるのを防止すること、を特徴とするCMOS
    出力回路。
  12. 【請求項12】差動誤差増幅器を含むCMOS出力回路を動
    作させ、第1導電型出力MOSFET内に安定した静止バイア
    ス電流を供給する方法であって、 (a)第1導電型基準MOSFETのスレシホルド電圧を基準
    抵抗の抵抗値で除算した値に等しい第1電流を、第2導
    電型カレント・ミラー制御MOSFETに通過させるステップ
    と、 (b)前記第2導電型カレント・ミラー制御MOSFETのゲ
    ートに結合したゲートと、前記第1導電型基準MOSFETの
    ドレインに結合したドレインとを有する第1の第2導電
    型カレント・ミラー出力MOSFETによって、前記第1電流
    に比例する第2電流を、前記第1導電型基準MOSFETに通
    過させ、前記第1導電型基準MOSFETからのフィードバッ
    クに応答して、前記第1電流を制御するステップと、 (c)前記第2導電型カレント・ミラー制御MOSFETのゲ
    ートの電圧に応答して、誤差増幅器内のバイアス電流を
    制御するステップと、 (d)前記誤差増幅器のバイアス電流ならびに前記誤差
    増幅器の第1および第2抵抗性負荷デバイスの抵抗値を
    スケーリングして、駆動電圧を生成し、これを、第1導
    電型出力MOSFETへの前記基準MOSFETのゲート−ソース間
    電圧に実質的に等しく、これに追従する静止ゲート−ソ
    ース間電圧を印加するステップと、 から成る方法。
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