JP3240150B2 - 洗浄剤組成物 - Google Patents
洗浄剤組成物Info
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- JP3240150B2 JP3240150B2 JP09691691A JP9691691A JP3240150B2 JP 3240150 B2 JP3240150 B2 JP 3240150B2 JP 09691691 A JP09691691 A JP 09691691A JP 9691691 A JP9691691 A JP 9691691A JP 3240150 B2 JP3240150 B2 JP 3240150B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、アニオン系グリコシド
誘導体を含有する洗浄剤組成物に関し、詳しくは、クリ
ーミィーで良好な泡立ちを有し、皮膚及び毛髪に対して
低刺激性で角質洗浄性に優れた、シャンプー、洗顔料、
身体用洗浄剤等として有用な洗浄剤組成物に関する。
誘導体を含有する洗浄剤組成物に関し、詳しくは、クリ
ーミィーで良好な泡立ちを有し、皮膚及び毛髪に対して
低刺激性で角質洗浄性に優れた、シャンプー、洗顔料、
身体用洗浄剤等として有用な洗浄剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り洗浄剤の界面活性剤としては、アルキル硫酸塩、ポリ
オキシエチレンアルキル硫酸塩、アルキルベンゼンスル
ホン酸塩、アルファオレフィンスルホン酸塩等のアニオ
ン性界面活性剤が広く用いられてきた。
り洗浄剤の界面活性剤としては、アルキル硫酸塩、ポリ
オキシエチレンアルキル硫酸塩、アルキルベンゼンスル
ホン酸塩、アルファオレフィンスルホン酸塩等のアニオ
ン性界面活性剤が広く用いられてきた。
【０００３】ところが、このような界面活性剤はいずれ
も皮膚に対し累積的に処理されると、皮膚表層に吸着残
留し皮膚角層を主体とした乾燥落屑性変化（いわゆる皮
膚荒れ）を起こすことが知られており、洗浄剤等を使用
する際に、手荒れ等の皮膚障害を起こしやすい。またこ
の皮膚荒れはより強い皮膚障害、例えば主婦湿疹等の前
段階ともなりうるもので早急な解決が望まれている。
も皮膚に対し累積的に処理されると、皮膚表層に吸着残
留し皮膚角層を主体とした乾燥落屑性変化（いわゆる皮
膚荒れ）を起こすことが知られており、洗浄剤等を使用
する際に、手荒れ等の皮膚障害を起こしやすい。またこ
の皮膚荒れはより強い皮膚障害、例えば主婦湿疹等の前
段階ともなりうるもので早急な解決が望まれている。
【０００４】一方、エチレンオキサイド付加型の非イオ
ン性界面活性剤は低刺激性であるが起泡性に劣るため、
シャンプーや身体用洗浄剤のような起泡性が要求される
洗浄剤組成物には多くの量が配合されていないのが現状
である。
ン性界面活性剤は低刺激性であるが起泡性に劣るため、
シャンプーや身体用洗浄剤のような起泡性が要求される
洗浄剤組成物には多くの量が配合されていないのが現状
である。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる課
題を解決するために鋭意研究した結果、特定のアニオン
系グリコシド誘導体を含有する洗浄剤組成物が、高起泡
性でかつ角質洗浄性に優れており、陰イオン性界面活性
剤でありながら低刺激性であることを見出し本発明を完
成するに至った。
題を解決するために鋭意研究した結果、特定のアニオン
系グリコシド誘導体を含有する洗浄剤組成物が、高起泡
性でかつ角質洗浄性に優れており、陰イオン性界面活性
剤でありながら低刺激性であることを見出し本発明を完
成するに至った。
【０００６】即ち、本発明は、下記一般式（Ｉ）で表さ
れるアニオン系グリコシド誘導体を含有することを特徴
とする洗浄剤組成物を提供するものである。
れるアニオン系グリコシド誘導体を含有することを特徴
とする洗浄剤組成物を提供するものである。
【０００７】 A(Gm)〔(R1O)xB〕y （Ｉ） 〔但し式中 Gm：炭素数５〜６を有する還元糖又はその縮合体（但し
m はその縮合度を示し、平均値が１〜10の数を示す）に
おけるすべての非グリコシド性水酸基の水素原子及びグ
リコシド性水酸基の水素原子を除いたあとに残る糖残基
を示す。 A ：A 基は糖残基GmとO-グリコシド結合で結合し、R2(O
R3)z基を示す。ここでR2は直鎖または分岐鎖の炭素数６
〜22のアルキル基、アルケニル基又はアルキルフェニル
基を示し、R3は炭素数２〜４のアルキレン基を示し、z
は平均値が０〜20の数を示す。 R1：炭素数２〜４のアルキレン基であり、その一方の末
端は糖残基Gmにおける非グリコシド性水酸基由来の酸素
原子とエーテル結合し、他の末端はB 基とエーテル結合
している。 x ：（炭素数５〜６を有する還元糖又はその縮合体にお
ける非グリコシド性水酸基に対するアルキレンオキシド
全付加モル数）／y を示し、０〜10の数である。 y ：炭素数５〜６を有する還元糖又はその縮合体におけ
る非グリコシド性水酸基の数を示す。 B ：水素原子、−(CH2)nCOOM基、−SO3M基、
m はその縮合度を示し、平均値が１〜10の数を示す）に
おけるすべての非グリコシド性水酸基の水素原子及びグ
リコシド性水酸基の水素原子を除いたあとに残る糖残基
を示す。 A ：A 基は糖残基GmとO-グリコシド結合で結合し、R2(O
R3)z基を示す。ここでR2は直鎖または分岐鎖の炭素数６
〜22のアルキル基、アルケニル基又はアルキルフェニル
基を示し、R3は炭素数２〜４のアルキレン基を示し、z
は平均値が０〜20の数を示す。 R1：炭素数２〜４のアルキレン基であり、その一方の末
端は糖残基Gmにおける非グリコシド性水酸基由来の酸素
原子とエーテル結合し、他の末端はB 基とエーテル結合
している。 x ：（炭素数５〜６を有する還元糖又はその縮合体にお
ける非グリコシド性水酸基に対するアルキレンオキシド
全付加モル数）／y を示し、０〜10の数である。 y ：炭素数５〜６を有する還元糖又はその縮合体におけ
る非グリコシド性水酸基の数を示す。 B ：水素原子、−(CH2)nCOOM基、−SO3M基、
【０００８】
【化２】
【０００９】ここで、M は同一又は異なる水素原子、ア
ルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、炭素数
２〜３のモノ，ジ若しくはトリアルカノールアンモニウ
ム、炭素数１〜５のアルキル基置換アンモニウム、アル
キル基置換ピリジニウム、又は塩基性アミノ酸基を示
し、M'は同一又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、置
換基を有してもよいフェニル基又は置換基を有してもよ
いベンジル基を示し、D は-CH2CH2-基又は-CH=CH- 基を
示し、n は１〜３の数を示し、p は１〜８の数を示す。
ルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、炭素数
２〜３のモノ，ジ若しくはトリアルカノールアンモニウ
ム、炭素数１〜５のアルキル基置換アンモニウム、アル
キル基置換ピリジニウム、又は塩基性アミノ酸基を示
し、M'は同一又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、置
換基を有してもよいフェニル基又は置換基を有してもよ
いベンジル基を示し、D は-CH2CH2-基又は-CH=CH- 基を
示し、n は１〜３の数を示し、p は１〜８の数を示す。
【００１０】但し、R 1 がエチレン基で、x が０〜１０
で、かつB が−CH 2 COOM基である場合、及びx が０で、
かつB が−SO 3 M基である場合を除く。〕上記一般式
（Ｉ）においてGmで表される糖残基の例示をすれば次の
通りである。
で、かつB が−CH 2 COOM基である場合、及びx が０で、
かつB が−SO 3 M基である場合を除く。〕上記一般式
（Ｉ）においてGmで表される糖残基の例示をすれば次の
通りである。
【００１１】
【化３】
【００１２】 〔m は糖縮合度を示し平均値が１〜10の数を示す。〕 本発明に係わる前記一般式（Ｉ）で表されるアニオン系
グリコシド誘導体は、 下記の一般式（II） A(Gm)〔(R1O)xH〕y （II） （式中、A 、 Gm 、x 、y は前記の意味を示し、R1は炭
素数２〜４のアルキレン基であり、その一方の末端は糖
残基Gmにおける非グリコシド性水酸基由来の酸素原子と
エーテル結合し、他の末端は水酸基と結合している。） で示される長鎖の炭化水素基を有するグリコシド化合物
又はそのアルキレンオキシド付加体又はこれらの混合物
と、 X(CH2)nCOOM で示されるカルボキシアルキル化
剤、 XSO3H、SO3 、H2NSO3H 及びこれらとルイス塩基
との付加体よりなる群から選ばれる硫酸化剤、オルト
リン酸、五酸化リン、ポリリン酸、ハロゲン化ピロリン
酸、オキシハロゲン化リン、オキシハロゲン化リンの部
分水和物などのリン酸化剤、オキシハロゲン化リン、
又は
グリコシド誘導体は、 下記の一般式（II） A(Gm)〔(R1O)xH〕y （II） （式中、A 、 Gm 、x 、y は前記の意味を示し、R1は炭
素数２〜４のアルキレン基であり、その一方の末端は糖
残基Gmにおける非グリコシド性水酸基由来の酸素原子と
エーテル結合し、他の末端は水酸基と結合している。） で示される長鎖の炭化水素基を有するグリコシド化合物
又はそのアルキレンオキシド付加体又はこれらの混合物
と、 X(CH2)nCOOM で示されるカルボキシアルキル化
剤、 XSO3H、SO3 、H2NSO3H 及びこれらとルイス塩基
との付加体よりなる群から選ばれる硫酸化剤、オルト
リン酸、五酸化リン、ポリリン酸、ハロゲン化ピロリン
酸、オキシハロゲン化リン、オキシハロゲン化リンの部
分水和物などのリン酸化剤、オキシハロゲン化リン、
又は
【００１３】
【化４】
【００１４】で表される化合物などのリン酸化剤、又は
無水フタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸等の環
状無水物を反応させることにより、あるいはマレイン
酸無水物を反応させて、下記の一般式（III)
無水フタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸等の環
状無水物を反応させることにより、あるいはマレイン
酸無水物を反応させて、下記の一般式（III)
【００１５】
【化５】
【００１６】で示されるマレイン酸ハーフエステルを生
成させ、必要に応じてアルカリ性物質で中和させた後、
亜硫酸アルカリ金属塩及び／又はアルカリ金属水酸化物
を含有する酸性亜硫酸アルカリ金属塩でスルホン化する
ことにより、あるいはXCH2CH(OH)CH2SO3M を塩基性物
質の存在下に反応させることにより得られる。
成させ、必要に応じてアルカリ性物質で中和させた後、
亜硫酸アルカリ金属塩及び／又はアルカリ金属水酸化物
を含有する酸性亜硫酸アルカリ金属塩でスルホン化する
ことにより、あるいはXCH2CH(OH)CH2SO3M を塩基性物
質の存在下に反応させることにより得られる。
【００１７】但し、上記式中、A 、Gm、M、M'、x、y、n
は前記の意味を示し、X はハロゲン原子を示し、R4は炭
素数２〜４のアルキレン基であり、その一方の末端は糖
残基Gmにおける非グリコシド性水酸基由来の酸素原子と
エーテル結合し、他の末端はマレイン酸基とエステル結
合している。
は前記の意味を示し、X はハロゲン原子を示し、R4は炭
素数２〜４のアルキレン基であり、その一方の末端は糖
残基Gmにおける非グリコシド性水酸基由来の酸素原子と
エーテル結合し、他の末端はマレイン酸基とエステル結
合している。
【００１８】本発明に於いて使用される前記一般式（I
I）で示されるグリコシド化合物は公知の方法（特公昭4
7−24532 号、米国特許第3839318 号、欧州特許第09235
5号、特開昭59−139397号、特開昭58−189195号など）
で合成されるものであって糖類と高級アルコールとを酸
触媒の存在下に直接反応させる方法、あるいは予め糖類
をメタノール、エタノール、プロパノール又はブタノー
ルなどの低級アルコールと反応させたのち高級アルコー
ルと反応させる方法のいずれでも得られるものである。
また、このようにして得られた原料グリコシドに炭素数
２〜４のアルキレンオキシドを付加したものも原料とし
て使用され得る。
I）で示されるグリコシド化合物は公知の方法（特公昭4
7−24532 号、米国特許第3839318 号、欧州特許第09235
5号、特開昭59−139397号、特開昭58−189195号など）
で合成されるものであって糖類と高級アルコールとを酸
触媒の存在下に直接反応させる方法、あるいは予め糖類
をメタノール、エタノール、プロパノール又はブタノー
ルなどの低級アルコールと反応させたのち高級アルコー
ルと反応させる方法のいずれでも得られるものである。
また、このようにして得られた原料グリコシドに炭素数
２〜４のアルキレンオキシドを付加したものも原料とし
て使用され得る。
【００１９】前記一般式（II）で示されるグリコシド化
合物の合成に使用される糖類としては、単糖類、オリゴ
糖類あるいは多糖類が使用される。単糖類の具体例とし
てはアルドース類、例えばアロース、アルトロース、グ
ルコース、マンノース、グロース、イドース、ガラクト
ース、タロース、リボース、アラビノース、キシロー
ス、リキソース、及びケトース類であるフルクトースな
どが挙げられる。オリゴ糖類の具体例としては、マルト
ース、ラクトース、マルトトリオースなどが挙げられ
る。多糖類の具体例としてはヘミセルロース、イヌリ
ン、デキストリン、デキストラン、キシラン、デンプ
ン、加水分解デンプンなどが挙げられる。
合物の合成に使用される糖類としては、単糖類、オリゴ
糖類あるいは多糖類が使用される。単糖類の具体例とし
てはアルドース類、例えばアロース、アルトロース、グ
ルコース、マンノース、グロース、イドース、ガラクト
ース、タロース、リボース、アラビノース、キシロー
ス、リキソース、及びケトース類であるフルクトースな
どが挙げられる。オリゴ糖類の具体例としては、マルト
ース、ラクトース、マルトトリオースなどが挙げられ
る。多糖類の具体例としてはヘミセルロース、イヌリ
ン、デキストリン、デキストラン、キシラン、デンプ
ン、加水分解デンプンなどが挙げられる。
【００２０】また一般式（II）で示されるグリコシド化
合物の合成に使用されるアルコールは直鎖型又は分岐型
の炭素数６〜22のアルコールである。これらのアルコー
ルの具体例としては、例えばヘキサノール、ヘプタノー
ル、オクタノール、ノナノール、デカノール、ドデカノ
ール、トリデカノール、テトラデカノール、ペンタデカ
ノール、ヘキサデカノール、ヘプタデカノール、オクタ
デカノール、メチルペンタノール、メチルヘキサノー
ル、メチルヘプタノール、メチルオクタノール、メチル
デカノール、メチルウンデカノール、メチルトリデカノ
ール、メチルヘプタデカノール、エチルヘキサノール、
エチルオクタノール、エチルデカノール、エチルドデカ
ノール、２−ヘプタノール、２−ノナノール、２−ウン
デカノール、２−トリデカノール、２−ペンタデカノー
ル、２−ヘプタデカノール、２−ブチルオクタノール、
２−ヘキシルオクタノール、２−オクチルオクタノー
ル、２−ヘキシルデカノール、２−オクチルデカノール
などの飽和脂肪族アルコール、ヘキセノール、ヘプテノ
ール、オクテノール、ノネノール、デセノール、ウンデ
セノール、ドデセノール、トリデセノール、テトラデセ
ノール、ペンタデセノール、ヘキサデセノール、ヘプタ
デセノール、オクタデセノール等の不飽和脂肪族アルコ
ール、オクチルフェノール、ノニルフェノールなどのア
ルキルフェノールが挙げられる。さらには前記の飽和又
は不飽和脂肪族アルコール又はアルキルフェノールの炭
素数２〜４のアルキレンオキシド付加体も使用される。
合物の合成に使用されるアルコールは直鎖型又は分岐型
の炭素数６〜22のアルコールである。これらのアルコー
ルの具体例としては、例えばヘキサノール、ヘプタノー
ル、オクタノール、ノナノール、デカノール、ドデカノ
ール、トリデカノール、テトラデカノール、ペンタデカ
ノール、ヘキサデカノール、ヘプタデカノール、オクタ
デカノール、メチルペンタノール、メチルヘキサノー
ル、メチルヘプタノール、メチルオクタノール、メチル
デカノール、メチルウンデカノール、メチルトリデカノ
ール、メチルヘプタデカノール、エチルヘキサノール、
エチルオクタノール、エチルデカノール、エチルドデカ
ノール、２−ヘプタノール、２−ノナノール、２−ウン
デカノール、２−トリデカノール、２−ペンタデカノー
ル、２−ヘプタデカノール、２−ブチルオクタノール、
２−ヘキシルオクタノール、２−オクチルオクタノー
ル、２−ヘキシルデカノール、２−オクチルデカノール
などの飽和脂肪族アルコール、ヘキセノール、ヘプテノ
ール、オクテノール、ノネノール、デセノール、ウンデ
セノール、ドデセノール、トリデセノール、テトラデセ
ノール、ペンタデセノール、ヘキサデセノール、ヘプタ
デセノール、オクタデセノール等の不飽和脂肪族アルコ
ール、オクチルフェノール、ノニルフェノールなどのア
ルキルフェノールが挙げられる。さらには前記の飽和又
は不飽和脂肪族アルコール又はアルキルフェノールの炭
素数２〜４のアルキレンオキシド付加体も使用される。
【００２１】本発明の洗浄剤組成物中の前記一般式
（Ｉ）で表されるアニオン系グリコシド誘導体の含有量
は0.1 〜90重量％が好ましく、更に好ましくは１〜30重
量％である。
（Ｉ）で表されるアニオン系グリコシド誘導体の含有量
は0.1 〜90重量％が好ましく、更に好ましくは１〜30重
量％である。
【００２２】本発明の洗浄剤組成物には更に泡質の改
良、使用感の向上等を目的として陰イオン性界面活性
剤、両性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、陽イオン
性界面活性剤等の各種の界面活性剤を併用することもで
きる。
良、使用感の向上等を目的として陰イオン性界面活性
剤、両性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、陽イオン
性界面活性剤等の各種の界面活性剤を併用することもで
きる。
【００２３】陰イオン性界面活性剤としては、陰イオン
性基がサルフェート、スルホネート、カルボキシレー
ト、ホスフェート及びこれらの混合物からなる群より選
ばれたものであることが好ましい。例えばサルフェー
ト、スルホネート系としては、アルキル硫酸塩、ポリオ
キシエチレンアルキル硫酸塩、スルホコハク酸系、タウ
レート系、イセチオネート系、α−オレフィンスルホン
酸系等の界面活性剤が挙げられ、カルボキシレート系と
しては、脂肪酸石鹸、脂肪酸塩、エーテルカルボン酸系
界面活性剤、アシル化アミノ酸系界面活性剤等が挙げら
れ、ホスフェート系としては、アルキルリン酸エステル
系界面活性剤等が挙げられ、特にスルホコハク酸系、ホ
スフェート系の界面活性剤が好ましく用いられる。
性基がサルフェート、スルホネート、カルボキシレー
ト、ホスフェート及びこれらの混合物からなる群より選
ばれたものであることが好ましい。例えばサルフェー
ト、スルホネート系としては、アルキル硫酸塩、ポリオ
キシエチレンアルキル硫酸塩、スルホコハク酸系、タウ
レート系、イセチオネート系、α−オレフィンスルホン
酸系等の界面活性剤が挙げられ、カルボキシレート系と
しては、脂肪酸石鹸、脂肪酸塩、エーテルカルボン酸系
界面活性剤、アシル化アミノ酸系界面活性剤等が挙げら
れ、ホスフェート系としては、アルキルリン酸エステル
系界面活性剤等が挙げられ、特にスルホコハク酸系、ホ
スフェート系の界面活性剤が好ましく用いられる。
【００２４】両性界面活性剤としてはカルボベタイン
系、スルホベタイン系、イミダゾリニウムベタイン系等
の両性界面活性剤が挙げられ、ヒドロキシプロピルスル
ホベタイン、特開昭63−130129号公報に記載の脱塩処理
した２級のイミダゾリニウムベタイン等が好ましく用い
られる。
系、スルホベタイン系、イミダゾリニウムベタイン系等
の両性界面活性剤が挙げられ、ヒドロキシプロピルスル
ホベタイン、特開昭63−130129号公報に記載の脱塩処理
した２級のイミダゾリニウムベタイン等が好ましく用い
られる。
【００２５】非イオン性界面活性剤としては、ポリオキ
シアルキレン付加型、アミンオキサイド系、モノ或いは
ジエタノールアミド系、その他ソルビタン脂肪酸エステ
ル、グリセリン脂肪酸エステル、蔗糖脂肪酸エステル、
アルキルサッカライド系、 N−ポリヒドロキシアルキル
脂肪酸アミド系等の多価アルコール型等が挙げられ、特
にポリオキシアルキレン付加型、アルキルサッカライド
系等が好ましく用いられる。
シアルキレン付加型、アミンオキサイド系、モノ或いは
ジエタノールアミド系、その他ソルビタン脂肪酸エステ
ル、グリセリン脂肪酸エステル、蔗糖脂肪酸エステル、
アルキルサッカライド系、 N−ポリヒドロキシアルキル
脂肪酸アミド系等の多価アルコール型等が挙げられ、特
にポリオキシアルキレン付加型、アルキルサッカライド
系等が好ましく用いられる。
【００２６】陽イオン性界面活性剤としては、直鎖もし
くは分岐鎖のアルキル基を有するモノもしくはジアルキ
ル付加型第４級アンモニウム塩及びそのアルキル基にア
ルキレンオキサイドを付加したもの等が挙げられ、特に
炭素数12〜16の直鎖モノアルキル第４級アンモニウム
塩、炭素数20〜28の分岐アルキル基を有する第４級アン
モニウム塩等が好ましく用いられる。
くは分岐鎖のアルキル基を有するモノもしくはジアルキ
ル付加型第４級アンモニウム塩及びそのアルキル基にア
ルキレンオキサイドを付加したもの等が挙げられ、特に
炭素数12〜16の直鎖モノアルキル第４級アンモニウム
塩、炭素数20〜28の分岐アルキル基を有する第４級アン
モニウム塩等が好ましく用いられる。
【００２７】本発明においては、目的とする製品の性能
に応じて上述の界面活性剤の１種又は２種以上を組み合
わせて用いることができる。これら界面活性剤のうち、
ヒドロキシスルホベタイン系、脱塩した２級のイミダゾ
リニウムベタイン系等のベタイン系両性界面活性剤、ス
ルホコハク酸系、タウレート系、イセチオネート系、エ
ーテルカルボン酸系、アシル化アミノ酸系、アルキルリ
ン酸エステル系のアニオン界面活性剤、アルキルサッカ
ライド系、 N−ポリヒドロキシアルキル脂肪酸アミド系
の非イオン性界面活性剤等を、上記一般式（Ｉ）で示さ
れるアニオン系グリコシド誘導体と併用してなる洗浄剤
組成物が、刺激の低減及び使用感の点から特に好まし
い。この場合の洗浄剤組成物中の界面活性剤の配合総量
は0.01〜90重量％、好ましくは0.1 〜60重量％、特に好
ましくは1.0 〜30重量％である。
に応じて上述の界面活性剤の１種又は２種以上を組み合
わせて用いることができる。これら界面活性剤のうち、
ヒドロキシスルホベタイン系、脱塩した２級のイミダゾ
リニウムベタイン系等のベタイン系両性界面活性剤、ス
ルホコハク酸系、タウレート系、イセチオネート系、エ
ーテルカルボン酸系、アシル化アミノ酸系、アルキルリ
ン酸エステル系のアニオン界面活性剤、アルキルサッカ
ライド系、 N−ポリヒドロキシアルキル脂肪酸アミド系
の非イオン性界面活性剤等を、上記一般式（Ｉ）で示さ
れるアニオン系グリコシド誘導体と併用してなる洗浄剤
組成物が、刺激の低減及び使用感の点から特に好まし
い。この場合の洗浄剤組成物中の界面活性剤の配合総量
は0.01〜90重量％、好ましくは0.1 〜60重量％、特に好
ましくは1.0 〜30重量％である。
【００２８】本発明の洗浄剤組成物は一般に、前記一般
式（Ｉ）で示されるアニオン系グリコシド誘導体又はこ
れと界面活性剤を主成分とし、固形状、ペースト状、液
状等、任意の剤型で洗浄剤組成物として調製される。
式（Ｉ）で示されるアニオン系グリコシド誘導体又はこ
れと界面活性剤を主成分とし、固形状、ペースト状、液
状等、任意の剤型で洗浄剤組成物として調製される。
【００２９】本発明組成物は通常の洗浄剤組成物に用い
られる公知の酸性もしくはアルカリ性薬剤により、pH３
〜10、特にpH４〜８に調整されることが好ましい。
られる公知の酸性もしくはアルカリ性薬剤により、pH３
〜10、特にpH４〜８に調整されることが好ましい。
【００３０】上記一般式（Ｉ）で示されるアニオン系グ
リコシド誘導体と他の界面活性剤を併用した洗浄剤組成
物の場合、低刺激性、低温安定性に加え、皮膚、毛髪に
対しぬるつきのないさらっとした使用感を得ることがで
きる。
リコシド誘導体と他の界面活性剤を併用した洗浄剤組成
物の場合、低刺激性、低温安定性に加え、皮膚、毛髪に
対しぬるつきのないさらっとした使用感を得ることがで
きる。
【００３１】尚、本発明の洗浄剤組成物には上記必須成
分の他に、洗浄剤に通常使用される洗浄剤成分を配合し
得る。例えば毛髪や皮膚の感触を向上させるためのカチ
オン化セルロース等のカチオン性ポリマー、カルボキシ
メチルセルロース等のアニオン性ポリマー、ポリエチレ
ングリコール等の非イオン性ポリマー、更にはジメチル
ポリシロキサン等のシリコーン誘導体や両性ポリマー等
の１種又は２種以上の洗浄剤成分；プロピレングリコー
ル、グリセリン、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ソルビトール等の保湿剤；メチルセルロース、カ
ルボキシビニルポリマー、ヒドロキシエチルセルロー
ス、ポリオキシエチレングリコールジステアレート、エ
タノール等の粘度調整剤；パール化剤；香料；色素；紫
外線吸収剤；酸化防止剤；トリクロサン、トリクロロカ
ルバン等の殺菌剤；グリチルリチン酸カリウム、酢酸ト
コフェロール等の抗炎症剤；ジンクピリチオン、オクト
ピロックス等の抗フケ剤；メチルパラベン、ブチルパラ
ベン等の防腐剤及び下記一般式(a)
分の他に、洗浄剤に通常使用される洗浄剤成分を配合し
得る。例えば毛髪や皮膚の感触を向上させるためのカチ
オン化セルロース等のカチオン性ポリマー、カルボキシ
メチルセルロース等のアニオン性ポリマー、ポリエチレ
ングリコール等の非イオン性ポリマー、更にはジメチル
ポリシロキサン等のシリコーン誘導体や両性ポリマー等
の１種又は２種以上の洗浄剤成分；プロピレングリコー
ル、グリセリン、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ソルビトール等の保湿剤；メチルセルロース、カ
ルボキシビニルポリマー、ヒドロキシエチルセルロー
ス、ポリオキシエチレングリコールジステアレート、エ
タノール等の粘度調整剤；パール化剤；香料；色素；紫
外線吸収剤；酸化防止剤；トリクロサン、トリクロロカ
ルバン等の殺菌剤；グリチルリチン酸カリウム、酢酸ト
コフェロール等の抗炎症剤；ジンクピリチオン、オクト
ピロックス等の抗フケ剤；メチルパラベン、ブチルパラ
ベン等の防腐剤及び下記一般式(a)
【００３２】
【化６】
【００３３】〔式中、R5は炭素数10〜26の直鎖もしくは
分岐鎖の飽和もしくは不飽和の炭化水素基、R6は炭素数
９〜25の直鎖もしくは分岐鎖の飽和もしくは不飽和の炭
化水素基を示し、R7は −(CH2)m− (ここで mは２〜６
の整数を示す) を示す。〕 で表されるアミド誘導体等を本発明の効果を損なわない
範囲において任意に添加することも可能である。
分岐鎖の飽和もしくは不飽和の炭化水素基、R6は炭素数
９〜25の直鎖もしくは分岐鎖の飽和もしくは不飽和の炭
化水素基を示し、R7は −(CH2)m− (ここで mは２〜６
の整数を示す) を示す。〕 で表されるアミド誘導体等を本発明の効果を損なわない
範囲において任意に添加することも可能である。
【００３４】
【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物は、皮膚や毛髪に
対する刺激が低く、高起泡性を有し、かつ角質洗浄性が
良好で、皮膚・毛髪に適用される洗浄剤、衣料用洗浄剤
及び食器用洗浄剤等として極めて有用である。
対する刺激が低く、高起泡性を有し、かつ角質洗浄性が
良好で、皮膚・毛髪に適用される洗浄剤、衣料用洗浄剤
及び食器用洗浄剤等として極めて有用である。
【００３５】
【実施例】以下に合成例及び実施例を挙げ、本発明を具
体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定される
ものではない。尚、例中の％は特記しない限り重量基準
である。
体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定される
ものではない。尚、例中の％は特記しない限り重量基準
である。
【００３６】合成例１ (a) デシルグルコシド・エチレンオキシド３モル付加体
の合成 デシルアルコール3460g(21.9mol)、無水グルコース789g
(4.38mol) 及びパラトルエンスルホン酸１水和物11.7g
(0.06mol)を10リットルフラスコ中で加熱攪拌した。 10
0℃まで昇温の後、系内圧力を40mmHgとして脱水反応を
開始した。この際、反応混合液中に窒素を0.1Nm3／hrで
吹き込み、生成する水を効率よく除去する様にした。反
応開始 7.5時間でグルコースが消費されたことを目視に
て確認し、減圧を解除し冷却の後NaOH水を加えて中和し
た。副生する多糖を濾別し、次いで、濾液を180℃、0.3
mmHgの条件で蒸留してデシルグルコシド1200g を得た。
得られたデシルグルコシドは表１に示す様な糖オリゴマ
ー分布を有しており平均の糖オリゴマー化度は1.26であ
った。又、糖のアノマー比率はα体／β体＝約２／１で
あった。
の合成 デシルアルコール3460g(21.9mol)、無水グルコース789g
(4.38mol) 及びパラトルエンスルホン酸１水和物11.7g
(0.06mol)を10リットルフラスコ中で加熱攪拌した。 10
0℃まで昇温の後、系内圧力を40mmHgとして脱水反応を
開始した。この際、反応混合液中に窒素を0.1Nm3／hrで
吹き込み、生成する水を効率よく除去する様にした。反
応開始 7.5時間でグルコースが消費されたことを目視に
て確認し、減圧を解除し冷却の後NaOH水を加えて中和し
た。副生する多糖を濾別し、次いで、濾液を180℃、0.3
mmHgの条件で蒸留してデシルグルコシド1200g を得た。
得られたデシルグルコシドは表１に示す様な糖オリゴマ
ー分布を有しており平均の糖オリゴマー化度は1.26であ
った。又、糖のアノマー比率はα体／β体＝約２／１で
あった。
【００３７】
【表１】
【００３８】上記で得られたデシルグルコシド521g(1.4
4mol) をジオキサン521gに溶解し、NaOH粉末0.57g を添
加した後、オートクレーブ密閉下150 ℃にてエチレンオ
キシド190g(4.32mol) と７時間反応した。冷却後希硫酸
で中和し、ジオキサンを減圧下留去して、デシルグルコ
シド・エチレンオキシド３モル付加体（平均値）710gを
得た。
4mol) をジオキサン521gに溶解し、NaOH粉末0.57g を添
加した後、オートクレーブ密閉下150 ℃にてエチレンオ
キシド190g(4.32mol) と７時間反応した。冷却後希硫酸
で中和し、ジオキサンを減圧下留去して、デシルグルコ
シド・エチレンオキシド３モル付加体（平均値）710gを
得た。
【００３９】 (b) デシルグルコシド・エチレンオキシド３モル付加体
・サルフェートの合成 (a)で得られたデシルグルコシド・エチレンオキシド３
モル付加体124g(0.25mol)をトルエン1000g(溶液濃度11
重量％) に溶解し、無水ピリジン23.7g(0.30mol)を加え
て常圧、60℃にて加熱攪拌した。系が均一であることを
確認後、H2NSO3H48.5g(0.50mol)を加え60℃より 100℃
まで昇温後30分間加熱攪拌した。反応液を冷却後多量の
メタノールを加え未反応のスルファミン酸を含む塩類等
を除去後系内を弱アルカリ性とする為、希NaOH水を反応
系へ加えた。この反応終了溶液を約70℃にて１〜２時間
加熱後、トルエン、メタノール、水、ピリジン、アンモ
ニア等の揮発成分を留去し、180gの硫酸化グリコシド粗
生成物を得た。この粗生成物についてエタノールを使用
して脱塩した後、134g（デシルグルコシド・エチレンオ
キシド３モル付加体基準収率90％）のデシルグルコシド
・エチレンオキシド３モル付加体・サルフェート（白色
乃至淡褐色粉末）を得た。
・サルフェートの合成 (a)で得られたデシルグルコシド・エチレンオキシド３
モル付加体124g(0.25mol)をトルエン1000g(溶液濃度11
重量％) に溶解し、無水ピリジン23.7g(0.30mol)を加え
て常圧、60℃にて加熱攪拌した。系が均一であることを
確認後、H2NSO3H48.5g(0.50mol)を加え60℃より 100℃
まで昇温後30分間加熱攪拌した。反応液を冷却後多量の
メタノールを加え未反応のスルファミン酸を含む塩類等
を除去後系内を弱アルカリ性とする為、希NaOH水を反応
系へ加えた。この反応終了溶液を約70℃にて１〜２時間
加熱後、トルエン、メタノール、水、ピリジン、アンモ
ニア等の揮発成分を留去し、180gの硫酸化グリコシド粗
生成物を得た。この粗生成物についてエタノールを使用
して脱塩した後、134g（デシルグルコシド・エチレンオ
キシド３モル付加体基準収率90％）のデシルグルコシド
・エチレンオキシド３モル付加体・サルフェート（白色
乃至淡褐色粉末）を得た。
【００４０】合成例２ (a) ラウリルグルコシドの合成 ラウリルアルコール4890g(26.3mol)、無水グルコース78
9g(4.38mol) 及びパラトルエンスルホン酸１水和物11.7
g(0.06mol)を10リットルフラスコ中で加熱攪拌した。 1
00℃まで昇温の後、系内圧力を40mmHgとして脱水反応を
開始した。この際、反応混合液中に窒素を0.1Nm3／hrで
吹き込み生成する水を効率よく除去する様にした。反応
開始 7.5時間でグルコースが消費されたことを目視にて
確認し、減圧を解除し冷却した後NaOH水を加えて中和し
た。副生する多糖を濾別し、次いで、濾液を 180℃、
0.3mmHgの条件で蒸留してラウリルグルコシド 1400gを
得た。得られたラウリルグルコシドの平均糖縮合度は1.
2 であった。
9g(4.38mol) 及びパラトルエンスルホン酸１水和物11.7
g(0.06mol)を10リットルフラスコ中で加熱攪拌した。 1
00℃まで昇温の後、系内圧力を40mmHgとして脱水反応を
開始した。この際、反応混合液中に窒素を0.1Nm3／hrで
吹き込み生成する水を効率よく除去する様にした。反応
開始 7.5時間でグルコースが消費されたことを目視にて
確認し、減圧を解除し冷却した後NaOH水を加えて中和し
た。副生する多糖を濾別し、次いで、濾液を 180℃、
0.3mmHgの条件で蒸留してラウリルグルコシド 1400gを
得た。得られたラウリルグルコシドの平均糖縮合度は1.
2 であった。
【００４１】 (b) ラウリルグルコシドスルホコハク酸ジナトリウム塩
の合成 上記ラウリルグルコシド 50g(0.131mol)をDMF 50mlに溶
解させ、細かく粉砕した無水マレイン酸12.9g(0.131mo
l) を加えて60℃で２時間攪拌した。この反応混合物中
に亜硫酸ナトリウム16.5g(0.131mol) を含む水溶液200
mlを添加し80℃で約３時間攪拌した。この混合物から水
及びDMF をエバポレーターを用いて、減圧下に加熱して
留去した。残留固体をエタノール約500 mlで洗浄し、乾
燥させることによって、白色粉末のラウリルグルコシド
スルホコハク酸ジナトリウム塩70g（ラウリルグルコシ
ド基準収率85.6％）を得た。
の合成 上記ラウリルグルコシド 50g(0.131mol)をDMF 50mlに溶
解させ、細かく粉砕した無水マレイン酸12.9g(0.131mo
l) を加えて60℃で２時間攪拌した。この反応混合物中
に亜硫酸ナトリウム16.5g(0.131mol) を含む水溶液200
mlを添加し80℃で約３時間攪拌した。この混合物から水
及びDMF をエバポレーターを用いて、減圧下に加熱して
留去した。残留固体をエタノール約500 mlで洗浄し、乾
燥させることによって、白色粉末のラウリルグルコシド
スルホコハク酸ジナトリウム塩70g（ラウリルグルコシ
ド基準収率85.6％）を得た。
【００４２】合成例３ (a) デシルグルコシドの合成 デシルアルコール3460g(21.9mol)、無水グルコース789g
(4.38mol) 及びパラトルエンスルホン酸１水和物11.7g
(0.06mol)を10リットルフラスコ中で加熱攪拌した。 10
0℃まで昇温の後、系内圧力を40mmHgとして脱水反応を
開始した。この際、反応混合液中に窒素を0.1Nm3／hrで
吹き込み、生成する水を効率よく除去する様にした。反
応開始 7.5時間でグルコースが消費されたことを目視に
て確認し、減圧を解除し冷却の後NaOH水を加えて中和し
た。副生する多糖を濾別し、次いで、濾液を180℃、0.3
mmHgの条件で蒸留してデシルグルコシド1200g を得た。
得られたデシルグルコシドは表２に示す様な糖オリゴマ
ー分布を有しており平均の糖オリゴマー化度は1.26であ
った。又、糖のアノマー比率はα体／β体＝約２／１で
あった。
(4.38mol) 及びパラトルエンスルホン酸１水和物11.7g
(0.06mol)を10リットルフラスコ中で加熱攪拌した。 10
0℃まで昇温の後、系内圧力を40mmHgとして脱水反応を
開始した。この際、反応混合液中に窒素を0.1Nm3／hrで
吹き込み、生成する水を効率よく除去する様にした。反
応開始 7.5時間でグルコースが消費されたことを目視に
て確認し、減圧を解除し冷却の後NaOH水を加えて中和し
た。副生する多糖を濾別し、次いで、濾液を180℃、0.3
mmHgの条件で蒸留してデシルグルコシド1200g を得た。
得られたデシルグルコシドは表２に示す様な糖オリゴマ
ー分布を有しており平均の糖オリゴマー化度は1.26であ
った。又、糖のアノマー比率はα体／β体＝約２／１で
あった。
【００４３】
【表２】
【００４４】 (b) デシルグルコシド・ホスフェート・Na塩の合成 (a) で得られたデシルグルコシド91g(0.25mol)をクロロ
ホルム 1000g（溶液濃度８重量％）に溶解し、無水ピリ
ジン47.4g(0.6mol)を加えドライアイスメタノール浴に
て−20℃まで冷却した。攪拌下オキシ塩化リン77g(0.5m
ol) をゆっくりと滴下する。反応液の温度は０〜２℃に
保った。滴下終了後同温度で４時間熟成させた。
ホルム 1000g（溶液濃度８重量％）に溶解し、無水ピリ
ジン47.4g(0.6mol)を加えドライアイスメタノール浴に
て−20℃まで冷却した。攪拌下オキシ塩化リン77g(0.5m
ol) をゆっくりと滴下する。反応液の温度は０〜２℃に
保った。滴下終了後同温度で４時間熟成させた。
【００４５】熟成後、多量の氷水中に注ぎ加水分解す
る。系内を均一にすべくエタノールを加えた後、系内を
弱アルカリとすべく、希薄NaOH水を加えた。この反応終
了液より揮発成分（クロロホルム、エタノール、水、ピ
リジン）を留去し197gのリン酸化グルコシド粗生成物を
得た。
る。系内を均一にすべくエタノールを加えた後、系内を
弱アルカリとすべく、希薄NaOH水を加えた。この反応終
了液より揮発成分（クロロホルム、エタノール、水、ピ
リジン）を留去し197gのリン酸化グルコシド粗生成物を
得た。
【００４６】このリン酸化グルコシド粗生成物について
エタノールを使用して脱塩した後、デシルグルコシド・
ホスフェート・Na塩110g（デシルグルコシド基準収率95
％）を得た。
エタノールを使用して脱塩した後、デシルグルコシド・
ホスフェート・Na塩110g（デシルグルコシド基準収率95
％）を得た。
【００４７】合成例４ (a) デシルグルコシド・エチレンオキシド３モル付加体
の合成 デシルアルコール3460g(21.9mol)、無水グルコース789g
(4.38mol) 及びパラトルエンスルホン酸１水和物11.7g
(0.06mol)を10リットルフラスコ中で加熱攪拌した。100
℃まで昇温の後、系内圧力を40mmHgとして脱水反応を
開始した。この際、反応混合液中に窒素を0.1Nm3／hrで
吹き込み、生成する水を効率よく除去する様にした。反
応開始 7.5時間でグルコースが消費されたことを目視に
て確認し、減圧を解除し冷却の後NaOH水を加えて中和し
た。副生する多糖を濾別し、次いで、濾液を180℃、0.3
mmHgの条件で蒸留してデシルグルコシド1200g を得た。
得られたデシルグルコシドは表３に示す様な糖オリゴマ
ー分布を有しており平均の糖オリゴマー化度は1.26であ
った。又、糖のアノマー比率はα体／β体＝約２／１で
あった。
の合成 デシルアルコール3460g(21.9mol)、無水グルコース789g
(4.38mol) 及びパラトルエンスルホン酸１水和物11.7g
(0.06mol)を10リットルフラスコ中で加熱攪拌した。100
℃まで昇温の後、系内圧力を40mmHgとして脱水反応を
開始した。この際、反応混合液中に窒素を0.1Nm3／hrで
吹き込み、生成する水を効率よく除去する様にした。反
応開始 7.5時間でグルコースが消費されたことを目視に
て確認し、減圧を解除し冷却の後NaOH水を加えて中和し
た。副生する多糖を濾別し、次いで、濾液を180℃、0.3
mmHgの条件で蒸留してデシルグルコシド1200g を得た。
得られたデシルグルコシドは表３に示す様な糖オリゴマ
ー分布を有しており平均の糖オリゴマー化度は1.26であ
った。又、糖のアノマー比率はα体／β体＝約２／１で
あった。
【００４８】
【表３】
【００４９】上記で得られたデシルグルコシド521g(1.4
4mol) をジオキサン521gに溶解し、NaOH粉末0.57g を添
加した後、オートクレーブ密閉下 150℃にてエチレンオ
キシド190g(4.32mol) と７時間反応した。冷却後希硫酸
で中和しジオキサンを減圧下留去してデシルグルコシド
・エチレンオキシド３モル付加体（平均値）710gを得
た。
4mol) をジオキサン521gに溶解し、NaOH粉末0.57g を添
加した後、オートクレーブ密閉下 150℃にてエチレンオ
キシド190g(4.32mol) と７時間反応した。冷却後希硫酸
で中和しジオキサンを減圧下留去してデシルグルコシド
・エチレンオキシド３モル付加体（平均値）710gを得
た。
【００５０】 (b) デシルグルコシド・エチレンオキシド３モル付加体
・ホスフェート・Na塩の合成 (a)で得られたデシルグルコシド・エチレンオキシド３
モル付加体124g(0.25mol)をクロロホルム 1000g（溶液
濃度11重量％）に溶解し、無水ピリジン47.4g (0.6mol)
を加えドライアイス−メタノール浴にて−20℃まで冷却
した。攪拌下オキシ塩化リン77g(0.5mol) をゆっくりと
滴下する。反応液の温度は０〜２℃に保った。滴下終了
後同温度で４時間熟成させた。
・ホスフェート・Na塩の合成 (a)で得られたデシルグルコシド・エチレンオキシド３
モル付加体124g(0.25mol)をクロロホルム 1000g（溶液
濃度11重量％）に溶解し、無水ピリジン47.4g (0.6mol)
を加えドライアイス−メタノール浴にて−20℃まで冷却
した。攪拌下オキシ塩化リン77g(0.5mol) をゆっくりと
滴下する。反応液の温度は０〜２℃に保った。滴下終了
後同温度で４時間熟成させた。
【００５１】熟成後、多量の氷水中に注ぎ加水分解す
る。系内を均一にすべくエタノールを加えた後、系内を
弱アルカリとすべく、希薄NaOH水を加えた。この反応終
了液より揮発成分（クロロホルム、エタノール、水、ピ
リジン）を留去し260gのリン酸化グルコシド粗生成物を
得た。
る。系内を均一にすべくエタノールを加えた後、系内を
弱アルカリとすべく、希薄NaOH水を加えた。この反応終
了液より揮発成分（クロロホルム、エタノール、水、ピ
リジン）を留去し260gのリン酸化グルコシド粗生成物を
得た。
【００５２】このリン酸化グルコシド粗生成物について
エタノールを使用して脱塩した後、デシルグルコシド・
エチレンオキシド３モル付加体・ホスフェート・Na塩14
2g（デシルグルコシド・エチレンオキシド３モル付加体
基準収率95％）を得た。
エタノールを使用して脱塩した後、デシルグルコシド・
エチレンオキシド３モル付加体・ホスフェート・Na塩14
2g（デシルグルコシド・エチレンオキシド３モル付加体
基準収率95％）を得た。
【００５３】合成例５ (a) デシルグルコシドの合成 デシルアルコール3460g(21.9mol)、無水グルコース789g
(4.38mol) 及びパラトルエンスルホン酸１水和物11.7g
(0.06mol)を10リットルフラスコ中で加熱攪拌した。 10
0℃まで昇温の後、系内圧力を40mmHgとして脱水反応を
開始した。この際、反応混合液中に窒素を0.1Nm3／hrで
吹き込み、生成する水を効率よく除去する様にした。反
応開始 7.5時間でグルコースが消費されたことを目視に
て確認し、減圧を解除し冷却の後NaOH水を加えて中和し
た。副生する多糖を濾別し、次いで、濾液を180℃、0.3
mmHgの条件で蒸留してデシルグルコシド1200g を得た。
得られたデシルグルコシドは表４に示す様な糖オリゴマ
ー分布を有しており平均の糖オリゴマー化度は1.26であ
った。又、糖のアノマー比率はα体／β体＝約２／１で
あった。
(4.38mol) 及びパラトルエンスルホン酸１水和物11.7g
(0.06mol)を10リットルフラスコ中で加熱攪拌した。 10
0℃まで昇温の後、系内圧力を40mmHgとして脱水反応を
開始した。この際、反応混合液中に窒素を0.1Nm3／hrで
吹き込み、生成する水を効率よく除去する様にした。反
応開始 7.5時間でグルコースが消費されたことを目視に
て確認し、減圧を解除し冷却の後NaOH水を加えて中和し
た。副生する多糖を濾別し、次いで、濾液を180℃、0.3
mmHgの条件で蒸留してデシルグルコシド1200g を得た。
得られたデシルグルコシドは表４に示す様な糖オリゴマ
ー分布を有しており平均の糖オリゴマー化度は1.26であ
った。又、糖のアノマー比率はα体／β体＝約２／１で
あった。
【００５４】
【表４】
【００５５】 (b) ジエチルホスホリル化デシルグルコシドの合成 (a) で得られたデシルグルコシド91g (0.25mol) を無水
ピリジン1000g （溶液濃度８重量％）に溶解しドライア
イス−メタノール浴にて−10℃まで冷却した。攪拌下、
ジエチルリン酸クロライド95g(0.55mol)をゆっくりと滴
下する。反応液の温度は０℃以下に保った。滴下終了後
同温度で４時間熟成後、反応液の温度を室温とし24時間
熟成させた。
ピリジン1000g （溶液濃度８重量％）に溶解しドライア
イス−メタノール浴にて−10℃まで冷却した。攪拌下、
ジエチルリン酸クロライド95g(0.55mol)をゆっくりと滴
下する。反応液の温度は０℃以下に保った。滴下終了後
同温度で４時間熟成後、反応液の温度を室温とし24時間
熟成させた。
【００５６】熟成後、多量の氷水中に注ぎ、系内を弱ア
ルカリとすべく希薄NaOH水を加えた後、揮発成分（ピリ
ジン、水）を留去し、198gのリン酸化グリコシド粗生成
物を得た。リン酸グリコシド粗生成物198gに２リットル
のエタノールを加え不溶の無機塩類を除去し、エタノー
ルを留去してジエチルホスホリル化デシルグルコシド12
3g（デシルグルコシド基準収率99％）を得た。
ルカリとすべく希薄NaOH水を加えた後、揮発成分（ピリ
ジン、水）を留去し、198gのリン酸化グリコシド粗生成
物を得た。リン酸グリコシド粗生成物198gに２リットル
のエタノールを加え不溶の無機塩類を除去し、エタノー
ルを留去してジエチルホスホリル化デシルグルコシド12
3g（デシルグルコシド基準収率99％）を得た。
【００５７】合成例６ (a) ラウリルグルコシドの合成 ラウリルアルコール4890g(26.3mol)、無水グルコース78
9g(4.38mol) 及びパラトルエンスルホン酸１水和物11.7
g(0.06mol)を10リットルフラスコ中で加熱攪拌した。 1
00℃まで昇温の後、系内圧力を40mmHgとして脱水反応を
開始した。この際、反応混合液中に窒素を0.1Nm3/hr で
吹き込み、生成する水を効率よく除去する様にした。反
応開始 7.5時間でグルコースが消費されたことを目視に
て確認し、減圧を解除し、冷却の後、NaOH水を加えて中
和した。副生する多糖を濾別し、次いで濾液を 180℃、
0.3mmHg の条件で蒸留して、ラウリルグルコシド1400ｇ
を得た。得られたラウリルグルコシドの平均糖縮合度は
1.2であった。又、水酸基価をAOCS法で測定したところ
678.5であった。
9g(4.38mol) 及びパラトルエンスルホン酸１水和物11.7
g(0.06mol)を10リットルフラスコ中で加熱攪拌した。 1
00℃まで昇温の後、系内圧力を40mmHgとして脱水反応を
開始した。この際、反応混合液中に窒素を0.1Nm3/hr で
吹き込み、生成する水を効率よく除去する様にした。反
応開始 7.5時間でグルコースが消費されたことを目視に
て確認し、減圧を解除し、冷却の後、NaOH水を加えて中
和した。副生する多糖を濾別し、次いで濾液を 180℃、
0.3mmHg の条件で蒸留して、ラウリルグルコシド1400ｇ
を得た。得られたラウリルグルコシドの平均糖縮合度は
1.2であった。又、水酸基価をAOCS法で測定したところ
678.5であった。
【００５８】 (b) ラウリルグルコシドのマレイン酸ハーフエステルNa
塩の合成 上記ラウリルグルコシド50g(0.131mol) をDMF 50mlに溶
解させ、細かく粉砕した無水マレイン酸12.9g(0.131mo
l) を加えて60℃で２時間攪拌した。次いで炭酸水素ナ
トリウム 11.0g(0.131mol) を含む水溶液 100ｇを約30
分かけて滴下しNa塩とした。この反応混合物から水及び
DMFをエパポレーターを用い減圧下に加熱して留去し
た。残留物をメタノール50mlに溶解させ、この溶液をア
セトン 500ml中に加えた。生成した沈殿を濾取し、乾燥
させることによって、白色粉末約57ｇを得た。得られた
ラウリルグルコシドのマレイン酸ハーフエステルNa塩の
水酸基価は 384.2、又ケン化価は 103.9であった。
塩の合成 上記ラウリルグルコシド50g(0.131mol) をDMF 50mlに溶
解させ、細かく粉砕した無水マレイン酸12.9g(0.131mo
l) を加えて60℃で２時間攪拌した。次いで炭酸水素ナ
トリウム 11.0g(0.131mol) を含む水溶液 100ｇを約30
分かけて滴下しNa塩とした。この反応混合物から水及び
DMFをエパポレーターを用い減圧下に加熱して留去し
た。残留物をメタノール50mlに溶解させ、この溶液をア
セトン 500ml中に加えた。生成した沈殿を濾取し、乾燥
させることによって、白色粉末約57ｇを得た。得られた
ラウリルグルコシドのマレイン酸ハーフエステルNa塩の
水酸基価は 384.2、又ケン化価は 103.9であった。
【００５９】合成例７ (a) デシルグルコシド・エチレンオキシド３モル付加体
の合成 デシルアルコール3460g(21.9mol)、無水グルコース789g
(4.38mol) 及びパラトルエンスルホン酸１水和物11.7g
(0.06mol)を10リットルフラスコ中で加熱攪拌した。 10
0℃まで昇温の後、系内圧力を40mmHgとして脱水反応を
開始した。この際、反応混合液中に窒素を0.1Nm3/hr で
吹き込み、生成する水を効率よく除去する様にした。反
応開始 7.5時間でグルコースが消費されたことを目視に
て確認し、減圧を解除し、冷却の後NaOH水を加えて中和
した。副生する多糖を濾別し、次いで、濾液を 180℃、
0.3mmHg の条件で蒸留してデシルグルコシド1200ｇを得
た。得られたデシルグルコシドは表５に示す様な糖オリ
ゴマー分布を有しており、平均の糖オリゴマー化度は1.
26であった。又、糖のアノマー比率はα体／β体＝約2/
1 であった。
の合成 デシルアルコール3460g(21.9mol)、無水グルコース789g
(4.38mol) 及びパラトルエンスルホン酸１水和物11.7g
(0.06mol)を10リットルフラスコ中で加熱攪拌した。 10
0℃まで昇温の後、系内圧力を40mmHgとして脱水反応を
開始した。この際、反応混合液中に窒素を0.1Nm3/hr で
吹き込み、生成する水を効率よく除去する様にした。反
応開始 7.5時間でグルコースが消費されたことを目視に
て確認し、減圧を解除し、冷却の後NaOH水を加えて中和
した。副生する多糖を濾別し、次いで、濾液を 180℃、
0.3mmHg の条件で蒸留してデシルグルコシド1200ｇを得
た。得られたデシルグルコシドは表５に示す様な糖オリ
ゴマー分布を有しており、平均の糖オリゴマー化度は1.
26であった。又、糖のアノマー比率はα体／β体＝約2/
1 であった。
【００６０】
【表５】
【００６１】上記で得られたデシルグルコシド521g(1.4
4mol) をジオキサン521gに溶解し、NaOH粉末0.57ｇを添
加した後、オートクレーブ密閉下 150℃にてエチレンオ
キシド190g(4.32mol) と７時間反応した。冷却後希硫酸
で中和し、ジオキサンを減圧下留去して、デシルグルコ
シド・エチレンオキシド３モル付加体（平均値）710gを
得た。
4mol) をジオキサン521gに溶解し、NaOH粉末0.57ｇを添
加した後、オートクレーブ密閉下 150℃にてエチレンオ
キシド190g(4.32mol) と７時間反応した。冷却後希硫酸
で中和し、ジオキサンを減圧下留去して、デシルグルコ
シド・エチレンオキシド３モル付加体（平均値）710gを
得た。
【００６２】 (b) デシルグルコシド・エチレンオキシド３モル付加体
・ヒドロキシプロパンスルホン酸ナトリウムの合成 (a)で得られたデシルグルコシド・エチレンオキシド３
モル付加体124g(0.25mol)をトルエン1000ｇ（溶液濃度1
1重量％) に溶解し、47％ BF3・(Et2O) 3.8g(0.0125mo
l)を加えた後、エピクロルヒドリン45.8g(0.50mol)を室
温にて加えた。滴下後室温にて１時間反応し、希NaOH水
を反応系に加え系を中性とした。
・ヒドロキシプロパンスルホン酸ナトリウムの合成 (a)で得られたデシルグルコシド・エチレンオキシド３
モル付加体124g(0.25mol)をトルエン1000ｇ（溶液濃度1
1重量％) に溶解し、47％ BF3・(Et2O) 3.8g(0.0125mo
l)を加えた後、エピクロルヒドリン45.8g(0.50mol)を室
温にて加えた。滴下後室温にて１時間反応し、希NaOH水
を反応系に加え系を中性とした。
【００６３】エピクロルヒドリンの付加反応終了後、溶
媒（トルエン）及び未反応エピクロルヒドリンを留去
し、粗生β−ヒドロキシクロロプロピル体170 ｇを得
た。このβ−ヒドロキシクロロプロピル体の水酸基価及
びCl含量は表６に示す通りである。
媒（トルエン）及び未反応エピクロルヒドリンを留去
し、粗生β−ヒドロキシクロロプロピル体170 ｇを得
た。このβ−ヒドロキシクロロプロピル体の水酸基価及
びCl含量は表６に示す通りである。
【００６４】
【表６】
【００６５】この水酸基価及びCl含量はデシルグルコシ
ド（糖縮合度＝1.26) のエチレンオキシド３モル付加体
について平均 1.5個の水酸基がβ−ヒドロキシクロロプ
ロピル体となっていることを示す。
ド（糖縮合度＝1.26) のエチレンオキシド３モル付加体
について平均 1.5個の水酸基がβ−ヒドロキシクロロプ
ロピル体となっていることを示す。
【００６６】この粗生β−ヒドロキシクロロプロピル体
160 ｇをエタノール200gに溶解後、水1000ｇに溶解させ
たNa2SO3 63g(0.5mol)と混合した。75℃にて10時間反応
し、希 HCl水を反応系へ加え系を中性とし、水、エタノ
ール等の揮発成分を留去し、215gのスルホン化グルコシ
ド粗生成物を得た。この粗生成物を酢酸エチル抽出にて
未反応物を除去後、水層を電気透析により脱塩し、乾燥
後、デシルグルコシド・エチレンオキシド３モル付加体
・ヒドロキシプロパンスルホン酸ナトリウム180g（白色
粉末）を得た。この化合物の水酸基価及び元素分析値は
表７に示す通りである。
160 ｇをエタノール200gに溶解後、水1000ｇに溶解させ
たNa2SO3 63g(0.5mol)と混合した。75℃にて10時間反応
し、希 HCl水を反応系へ加え系を中性とし、水、エタノ
ール等の揮発成分を留去し、215gのスルホン化グルコシ
ド粗生成物を得た。この粗生成物を酢酸エチル抽出にて
未反応物を除去後、水層を電気透析により脱塩し、乾燥
後、デシルグルコシド・エチレンオキシド３モル付加体
・ヒドロキシプロパンスルホン酸ナトリウム180g（白色
粉末）を得た。この化合物の水酸基価及び元素分析値は
表７に示す通りである。
【００６７】
【表７】
【００６８】この水酸基価及び元素分析値はデシルグル
コシド（糖縮合度＝1.26) のエチレンオキシド３モル付
加体について平均して 1.5個の水酸基がヒドロキシスル
ホン化されていることを示す。
コシド（糖縮合度＝1.26) のエチレンオキシド３モル付
加体について平均して 1.5個の水酸基がヒドロキシスル
ホン化されていることを示す。
【００６９】実施例１ 下記処方の抗フケシャンプー組成物を調製した。得られ
たシャンプー組成物は、洗い上がりもサラサラした良好
なものであった。
たシャンプー組成物は、洗い上がりもサラサラした良好
なものであった。
【００７０】 ・合成例２に準じて合成したラウリルグルコシドスルホコハク酸ジナトリウム 塩（糖縮合度1.3 ） 12.0％ ・ヤシ油脂肪酸モノエタノールアミド 2.0％ ・ジンクピリチオン（Zpt) 1.0％ ・ポリビニルアルコール 1.0％ ・尿素 5.0％ ・香料 0.3％ ・色素 適量 ・水 バランス。
【００７１】実施例２ 下記処方のペースト状洗顔料組成物を調製した。得られ
た洗顔料組成物は、泡立ちがよく、洗浄性の良いもので
あった。
た洗顔料組成物は、泡立ちがよく、洗浄性の良いもので
あった。
【００７２】 ・合成例３に準じて合成したミリスチルグルコシドリン酸エステルジナトリウ ム塩（糖縮合度1.9 ） 20.0％ ・ラウリルアミンオキシド 2.0％ ・ポリエチレングリコール(160) ジステアレート 1.0％ ・グリチルリチン酸ジカリウム塩 0.5％ ・香料 0.3％ ・水 バランス。
【００７３】実施例３ 表８に示す種々の組成の台所用洗剤組成物を調製し、以
下の方法によってそれぞれの起泡力及び手肌へのマイル
ド性を評価した。尚、表中の配合成分の数字は重量％を
示す。
下の方法によってそれぞれの起泡力及び手肌へのマイル
ド性を評価した。尚、表中の配合成分の数字は重量％を
示す。
【００７４】(1) 起泡力試験 汚れ成分として市販のバターを洗浄剤組成物濃度1.0 重
量％の洗剤溶液（用水：硬度3.5 °DHの水）に1.0 重量
％添加した時の起泡力を測定する。測定法は直径５cmの
ガラス円筒にバターを添加した上記洗剤溶液を40ml入
れ、40℃で15分間回転攪拌を行い、停止直後の泡高さを
測定し、下記の評価基準で採点する。
量％の洗剤溶液（用水：硬度3.5 °DHの水）に1.0 重量
％添加した時の起泡力を測定する。測定法は直径５cmの
ガラス円筒にバターを添加した上記洗剤溶液を40ml入
れ、40℃で15分間回転攪拌を行い、停止直後の泡高さを
測定し、下記の評価基準で採点する。
【００７５】 Ａ：50mm以上 Ｂ：20mm以上50mm未満 Ｃ：20mm未満 (2) 手肌へのマイルド性の評価 表８に示す組成物を調製した後、５重量％の洗剤溶液を
調製し、液温を35℃に保ち、左右の手を本発明品と対照
品それぞれに20分間、手を手首まで浸すように浸漬後、
充分に水洗する。この操作を３日間繰り返した後の各試
験につき被験者12人に下記の基準により手肌の状態を採
点してもらった。尚、本試験においては、手荒れは一般
にきき手において顕著であるので、本発明品と対照品が
一群の試験において均等にきき手とそうでない方の手に
対応するよう留意した。つまり、一群の被験者12人のう
ち、きき手を本発明品の溶液に浸漬する人を６人、そう
でない方の手を本発明品に浸漬する人を６人というよう
に配分した。
調製し、液温を35℃に保ち、左右の手を本発明品と対照
品それぞれに20分間、手を手首まで浸すように浸漬後、
充分に水洗する。この操作を３日間繰り返した後の各試
験につき被験者12人に下記の基準により手肌の状態を採
点してもらった。尚、本試験においては、手荒れは一般
にきき手において顕著であるので、本発明品と対照品が
一群の試験において均等にきき手とそうでない方の手に
対応するよう留意した。つまり、一群の被験者12人のう
ち、きき手を本発明品の溶液に浸漬する人を６人、そう
でない方の手を本発明品に浸漬する人を６人というよう
に配分した。
【００７６】 手肌の状態についての基準 ５点：手荒れが殆ど認められない ４点：手荒れがほんの僅かに認められる ３点：手荒れが若干認められる ２点：手荒れがかなり認められる １点：手荒れが著しく認められる 上記基準によって採点された12人の平均点を次の基準で
評価した。
評価した。
【００７７】 Ａ：3.5 点以上 Ｂ：1.8 点以上3.5 点未満 Ｃ：1.8 点未満
【００７８】
【表８】
【００７９】実施例４ 表９に示す種々の組成の衣料用洗剤組成物を調製した。
これらの衣料用洗剤組成物は泡立ちもよく、手洗いの際
の肌の感触も良好なものであった。尚、表中の配合成分
の数字は重量％を示す。
これらの衣料用洗剤組成物は泡立ちもよく、手洗いの際
の肌の感触も良好なものであった。尚、表中の配合成分
の数字は重量％を示す。
【００８０】
【表９】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｃ１１Ｄ 1/28 Ｃ１１Ｄ 1/28 1/34 1/34 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) A61K 7/075 A61K 7/02 A61K 7/50 C11D 1/02 - 1/37
Claims (2)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で表されるアニオン系
グリコシド誘導体を含有することを特徴とする洗浄剤組
成物。 A(Gm)〔(R1O)xB〕y （Ｉ） 〔但し式中 Gm：炭素数５〜６を有する還元糖又はその縮合体（但し
m はその縮合度を示し、平均値が１〜10の数を示す）に
おけるすべての非グリコシド性水酸基の水素原子及びグ
リコシド性水酸基の水素原子を除いたあとに残る糖残基
を示す。 A ：A 基は糖残基GmとO-グリコシド結合で結合し、R2(O
R3)z基を示す。ここでR2は直鎖または分岐鎖の炭素数６
〜22のアルキル基、アルケニル基又はアルキルフェニル
基を示し、R3は炭素数２〜４のアルキレン基を示し、z
は平均値が０〜20の数を示す。 R1：炭素数２〜４のアルキレン基であり、その一方の末
端は糖残基Gmにおける非グリコシド性水酸基由来の酸素
原子とエーテル結合し、他の末端はB 基とエーテル結合
している。 x ：（炭素数５〜６を有する還元糖又はその縮合体にお
ける非グリコシド性水酸基に対するアルキレンオキシド
全付加モル数）／y を示し、０〜10の数である。 y ：炭素数５〜６を有する還元糖又はその縮合体におけ
る非グリコシド性水酸基の数を示す。 B ：水素原子、−(CH2)nCOOM基、−SO3M基、 【化１】 ここで、M は同一又は異なる水素原子、アルカリ金属、
アルカリ土類金属、アンモニウム、炭素数２〜３のモ
ノ，ジ若しくはトリアルカノールアンモニウム、炭素数
１〜５のアルキル基置換アンモニウム、アルキル基置換
ピリジニウム、又は塩基性アミノ酸基を示し、M'は同一
又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、置換基を有して
もよいフェニル基又は置換基を有してもよいベンジル基
を示し、D は-CH2CH2-基又は-CH=CH- 基を示し、n は１
〜３の数を示し、p は１〜８の数を示す。但し、R 1 がエチレン基で、x が０〜１０で、かつB が−
CH 2 COOM基である場合、及びx が０で、かつB が−SO 3 M
基である場合を除く。 〕 - 【請求項２】 (a) 前記一般式（Ｉ）で表されるアニオン系グリコシド誘導体 0.1〜90重量％ (b) 前記一般式（Ｉ）で表されるアニオン系グリコシド誘導体を除く界面活性剤 の１種又は２種以上 0.01〜90重量％ (c) 水 バランス量 を含有する請求項１記載の洗浄剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09691691A JP3240150B2 (ja) | 1991-04-26 | 1991-04-26 | 洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09691691A JP3240150B2 (ja) | 1991-04-26 | 1991-04-26 | 洗浄剤組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04327521A JPH04327521A (ja) | 1992-11-17 |
| JP3240150B2 true JP3240150B2 (ja) | 2001-12-17 |
Family
ID=14177684
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09691691A Expired - Lifetime JP3240150B2 (ja) | 1991-04-26 | 1991-04-26 | 洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3240150B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2251376A1 (en) * | 1996-05-08 | 1997-11-13 | Norman Milstein | Alkyl polyglycoside ether carboxylates |
| US6248792B1 (en) * | 1999-06-01 | 2001-06-19 | Henkel Corporation | Use of carboxylate alkyl polyglycoside surfactant to increase the foam of other anionic surfactants |
| JP5311606B2 (ja) * | 2007-02-23 | 2013-10-09 | 株式会社 資生堂 | 洗浄料 |
| JP5041404B2 (ja) * | 2007-02-23 | 2012-10-03 | 株式会社 資生堂 | 洗浄料 |
| DE102013218616A1 (de) * | 2013-09-17 | 2015-03-19 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Verwendung von Alkyl-/Alkenyl-Oligoglykosidderivaten zur Textilbehandlung |
-
1991
- 1991-04-26 JP JP09691691A patent/JP3240150B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04327521A (ja) | 1992-11-17 |
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