JP3215552B2 - モノアシルヒドラジン類の製造方法 - Google Patents
モノアシルヒドラジン類の製造方法Info
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- JP3215552B2 JP3215552B2 JP20417393A JP20417393A JP3215552B2 JP 3215552 B2 JP3215552 B2 JP 3215552B2 JP 20417393 A JP20417393 A JP 20417393A JP 20417393 A JP20417393 A JP 20417393A JP 3215552 B2 JP3215552 B2 JP 3215552B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はモノアシルヒドラジン類
の製造方法に関するものであり、更に詳しくは、写真用
添加剤や医農薬さらにそれらの合成中間体として有用な
モノアシルヒドラジン類の製造方法に関するものであ
る。
の製造方法に関するものであり、更に詳しくは、写真用
添加剤や医農薬さらにそれらの合成中間体として有用な
モノアシルヒドラジン類の製造方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】モノアシルヒドラジン類は、写真用添加
剤や医農薬さらにそれらの合成中間体として有用であ
り、例えば特開昭６０−１４０３４０号にその用途が記
載されている。モノアシルヒドラジン類の合成法につい
ては「新実験化学講座」、14巻、1220〜1225頁（1978
年）、丸善（株）に記載があり、例えば以下の反応に基
づく公知の方法により合成することができる。
剤や医農薬さらにそれらの合成中間体として有用であ
り、例えば特開昭６０−１４０３４０号にその用途が記
載されている。モノアシルヒドラジン類の合成法につい
ては「新実験化学講座」、14巻、1220〜1225頁（1978
年）、丸善（株）に記載があり、例えば以下の反応に基
づく公知の方法により合成することができる。
【０００３】
【化１】
【０００４】式中、Ｒ1 は脂肪族基またはアリール基を
表し、Ｒ2 は脂肪族基、アリール基、アルコキシ基また
はヘテロ環基を表す。HAはアゾール類を表す。HX1 は鉱
酸あるいは有機酸を表し、Ｘ2 はClあるいはBrを表す。
しかしながらこの合成法は、目的とするモノアシルヒド
ラジンの他に副生成物としてジアシルヒドラジンやトリ
アシルヒドラジンが混入してくるという欠点を有する。
従って実際の製造においては、これら副生成物を除去す
る工程を必然的に含むことから合成収率が低下し、ひい
てはモノアシルヒドラジン類の製造コストが高くなると
いう問題を抱えている。上記問題の解決法としては、米
国特許第5,166,378 号に記載された合成法がある。しか
しながらこの合成法においても、中間体アシルアゾール
R2COA は不安定なものが多く、アシルアゾールと副生成
物であるHA・HX2 との分離が難しく、その分離操作中に
アシルアゾールが分解してしまいモノアシルヒドラジン
の収率を著しく低下させるという問題を抱えていた。
表し、Ｒ2 は脂肪族基、アリール基、アルコキシ基また
はヘテロ環基を表す。HAはアゾール類を表す。HX1 は鉱
酸あるいは有機酸を表し、Ｘ2 はClあるいはBrを表す。
しかしながらこの合成法は、目的とするモノアシルヒド
ラジンの他に副生成物としてジアシルヒドラジンやトリ
アシルヒドラジンが混入してくるという欠点を有する。
従って実際の製造においては、これら副生成物を除去す
る工程を必然的に含むことから合成収率が低下し、ひい
てはモノアシルヒドラジン類の製造コストが高くなると
いう問題を抱えている。上記問題の解決法としては、米
国特許第5,166,378 号に記載された合成法がある。しか
しながらこの合成法においても、中間体アシルアゾール
R2COA は不安定なものが多く、アシルアゾールと副生成
物であるHA・HX2 との分離が難しく、その分離操作中に
アシルアゾールが分解してしまいモノアシルヒドラジン
の収率を著しく低下させるという問題を抱えていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の事情に
鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、
モノアシルヒドラジン類を、副生成物なしに収率よく安
価に合成できる製造方法を提供することにある。
鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、
モノアシルヒドラジン類を、副生成物なしに収率よく安
価に合成できる製造方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、従来の製
造方法の課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、
アシルアゾールを経由するが、生成するHA・HX2 を分離
することなくモノ置換ヒドラジンあるいはその塩R1NHNH
2(HX1)と反応させることにより高純度で高収率のモノア
シルヒドラジン類の製造が可能であることを見出した。
即ち本発明は、酸ハロゲン化物R2COX2と２当量のアゾー
ルHAを反応させて生成するR2COA およびHA・HX2 を分離
することなくモノ置換ヒドラジンR1NHNH2 あるいはその
塩R1NHNH2(HX1)と反応させることを特徴とする下記一般
式（Ｉ）で表されるモノアシルヒドラジン類の製造方法
を提供するものである。 一般式（Ｉ） R1NHNHCOR2 式中、Ｒ1 は脂肪族基またはアリール基を表し、Ｒ2 は
脂肪族基、アリール基、アルコキシ基またはヘテロ環基
を表す。HX1 は鉱酸あるいは有機酸を表し、Ｘ2 はClあ
るいはBrを表す。一般式（Ｉ）、HAおよびHX1 で表され
る化合物についてさらに詳細に説明する。
造方法の課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、
アシルアゾールを経由するが、生成するHA・HX2 を分離
することなくモノ置換ヒドラジンあるいはその塩R1NHNH
2(HX1)と反応させることにより高純度で高収率のモノア
シルヒドラジン類の製造が可能であることを見出した。
即ち本発明は、酸ハロゲン化物R2COX2と２当量のアゾー
ルHAを反応させて生成するR2COA およびHA・HX2 を分離
することなくモノ置換ヒドラジンR1NHNH2 あるいはその
塩R1NHNH2(HX1)と反応させることを特徴とする下記一般
式（Ｉ）で表されるモノアシルヒドラジン類の製造方法
を提供するものである。 一般式（Ｉ） R1NHNHCOR2 式中、Ｒ1 は脂肪族基またはアリール基を表し、Ｒ2 は
脂肪族基、アリール基、アルコキシ基またはヘテロ環基
を表す。HX1 は鉱酸あるいは有機酸を表し、Ｘ2 はClあ
るいはBrを表す。一般式（Ｉ）、HAおよびHX1 で表され
る化合物についてさらに詳細に説明する。
【０００７】一般式（Ｉ）において、Ｒ1 で表される脂
肪族基は好ましくは炭素数１〜３０のものであって、特
に炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルキル基
である。一般式（Ｉ）において、Ｒ1 で表されるアリー
ル基は単環または２環のアリール基または不飽和ヘテロ
環基である。ここで不飽和ヘテロ環基はアリール基と縮
環していてもよい。Ｒ1 の脂肪族基またはアリール基は
置換されていてもよく、代表的な置換基としては例えば
アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、ウレイ
ド基、ウレタン基、アリールオキシ基、スルファモイル
基、カルバモイル基、アルキルまたはアリールチオ基、
アルキルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたは
アリールスルフィニル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ハ
ロゲン原子、シアノ基、スルホ基、アシル基、アルコキ
シカルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、
スルホンアミド基、カルボキシル基、リン酸アミド基、
ジアシルアミノ基、イミド基などが挙げられる。
肪族基は好ましくは炭素数１〜３０のものであって、特
に炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルキル基
である。一般式（Ｉ）において、Ｒ1 で表されるアリー
ル基は単環または２環のアリール基または不飽和ヘテロ
環基である。ここで不飽和ヘテロ環基はアリール基と縮
環していてもよい。Ｒ1 の脂肪族基またはアリール基は
置換されていてもよく、代表的な置換基としては例えば
アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、ウレイ
ド基、ウレタン基、アリールオキシ基、スルファモイル
基、カルバモイル基、アルキルまたはアリールチオ基、
アルキルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたは
アリールスルフィニル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ハ
ロゲン原子、シアノ基、スルホ基、アシル基、アルコキ
シカルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、
スルホンアミド基、カルボキシル基、リン酸アミド基、
ジアシルアミノ基、イミド基などが挙げられる。
【０００８】好ましい置換基は、アルキル基（好ましく
は炭素数１〜２０のもの）、アラルキル基（好ましくは
炭素数７〜３０のもの）、アルコキシ基（好ましくは炭
素数１〜２０のもの）、置換アミノ基（好ましくは炭素
数１〜２０のアルキル基で置換されたアミノ基）、アシ
ルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０のもの）、スル
ホンアミド基（好ましくは炭素数１〜３０のもの）、ウ
レイド基（好ましくは炭素数１〜３０のもの）、リン酸
アミド基（好ましくは炭素数１〜３０のもの）、ニトロ
基などである。これらの基はさらに置換されていてもよ
い。Ｒ1 として特に好ましいものはアリール基であり、
特に好ましくはベンゼン環を含むものである。一般式
（Ｉ）において、Ｒ2 は炭素数１〜１５のものが好まし
く、炭素数１〜１２のものが特に好ましい。Ｒ2 は置換
されていてもよく、置換基としては、Ｒ 1 の置換基とし
て列挙した基が挙げられる。Ｒ2 で表される基のうち好
ましいものは、アルキル基としては、メチル基、３−メ
タンスルホンアミドプロピル基、フェニルスルホニルメ
チル基、フェノキシメチル基、メトキシメチル基など、
アラルキル基としては、ベンジル基など、アリール基と
しては、フェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、ｏ
−メタンスルホンアミドフェニル基、４−メタンスルホ
ニルフェニル基など、ヘテロ環基としては、ピリジル
基、フリル基、チエニル基、モルホリノ基などである。
は炭素数１〜２０のもの）、アラルキル基（好ましくは
炭素数７〜３０のもの）、アルコキシ基（好ましくは炭
素数１〜２０のもの）、置換アミノ基（好ましくは炭素
数１〜２０のアルキル基で置換されたアミノ基）、アシ
ルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０のもの）、スル
ホンアミド基（好ましくは炭素数１〜３０のもの）、ウ
レイド基（好ましくは炭素数１〜３０のもの）、リン酸
アミド基（好ましくは炭素数１〜３０のもの）、ニトロ
基などである。これらの基はさらに置換されていてもよ
い。Ｒ1 として特に好ましいものはアリール基であり、
特に好ましくはベンゼン環を含むものである。一般式
（Ｉ）において、Ｒ2 は炭素数１〜１５のものが好まし
く、炭素数１〜１２のものが特に好ましい。Ｒ2 は置換
されていてもよく、置換基としては、Ｒ 1 の置換基とし
て列挙した基が挙げられる。Ｒ2 で表される基のうち好
ましいものは、アルキル基としては、メチル基、３−メ
タンスルホンアミドプロピル基、フェニルスルホニルメ
チル基、フェノキシメチル基、メトキシメチル基など、
アラルキル基としては、ベンジル基など、アリール基と
しては、フェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、ｏ
−メタンスルホンアミドフェニル基、４−メタンスルホ
ニルフェニル基など、ヘテロ環基としては、ピリジル
基、フリル基、チエニル基、モルホリノ基などである。
【０００９】２当量のアゾールHAの例としては、ピロー
ル、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、テトラ
ゾール、オキサゾール、チアゾールなどが挙げられ、さ
らにこれらのアゾール類は置換されていてもよく、アリ
ール基と縮環していてもよい。これらのうち好ましいも
のはイミダゾール類であり、その中でもイミダゾール、
２−メチルイミダゾールが特に好ましい。HX1 で表され
る酸のうち特に好ましいものは HCl、 HBrおよびH2SO4
である。以下に本発明の方法により合成できる一般式
（Ｉ）で表される化合物を列記するが、本発明はこれに
限定されるものではない。
ル、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、テトラ
ゾール、オキサゾール、チアゾールなどが挙げられ、さ
らにこれらのアゾール類は置換されていてもよく、アリ
ール基と縮環していてもよい。これらのうち好ましいも
のはイミダゾール類であり、その中でもイミダゾール、
２−メチルイミダゾールが特に好ましい。HX1 で表され
る酸のうち特に好ましいものは HCl、 HBrおよびH2SO4
である。以下に本発明の方法により合成できる一般式
（Ｉ）で表される化合物を列記するが、本発明はこれに
限定されるものではない。
【００１０】
【化２】
【００１１】
【化３】
【００１２】
【化４】
【００１３】次に本発明の実施態様について詳しく説明
する。本発明の合成工程を下記式に示す。
する。本発明の合成工程を下記式に示す。
【００１４】
【化５】
【００１５】式中、Ｒ1 、Ｒ2 、HA、Ｘ1 およびＸ2 は
前記と同じ意味を表す。一般式R2COX2で表される化合物
は、Ｒ2 およびＸ2 の種類によっては容易に市販品の入
手が可能であり（例えばＲ2 ＝CH3OCH2 、Ｘ2 ＝Clのも
の）、あるいは例えば「新実験化学講座」、14巻、1104
〜1120頁（1978年）、丸善（株）に記載されたような公
知の方法により容易に合成することができる。HAで表さ
れるアゾール化合物は、好ましくは一般式R2COX2で表さ
れる化合物に対し、1.０〜5.０当量用いられ、より好ま
しくは1.５〜3.５当量用いられる。反応溶媒は通常知ら
れている非プロトン性溶媒の高極性ないし低極性のいず
れの溶媒も適宜選択して使用することができ、混合溶媒
を用いてもよい。反応溶媒の使用量は特に制限されない
が、一般式R2COX2の化合物に対して重量比で２〜２０倍
が好ましい。反応溶媒は好ましくは水混和性溶媒であ
り、例えばアセトニトリル系溶媒、N,N −ジメチルホル
ムアミド系溶媒、N,N −ジメチルアセトアミド系溶媒、
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒等
が特に好ましい。反応温度は−２０℃から８０℃の範囲
が好ましく、より好ましくは、−１０℃から５０℃の範
囲である。
前記と同じ意味を表す。一般式R2COX2で表される化合物
は、Ｒ2 およびＸ2 の種類によっては容易に市販品の入
手が可能であり（例えばＲ2 ＝CH3OCH2 、Ｘ2 ＝Clのも
の）、あるいは例えば「新実験化学講座」、14巻、1104
〜1120頁（1978年）、丸善（株）に記載されたような公
知の方法により容易に合成することができる。HAで表さ
れるアゾール化合物は、好ましくは一般式R2COX2で表さ
れる化合物に対し、1.０〜5.０当量用いられ、より好ま
しくは1.５〜3.５当量用いられる。反応溶媒は通常知ら
れている非プロトン性溶媒の高極性ないし低極性のいず
れの溶媒も適宜選択して使用することができ、混合溶媒
を用いてもよい。反応溶媒の使用量は特に制限されない
が、一般式R2COX2の化合物に対して重量比で２〜２０倍
が好ましい。反応溶媒は好ましくは水混和性溶媒であ
り、例えばアセトニトリル系溶媒、N,N −ジメチルホル
ムアミド系溶媒、N,N −ジメチルアセトアミド系溶媒、
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒等
が特に好ましい。反応温度は−２０℃から８０℃の範囲
が好ましく、より好ましくは、−１０℃から５０℃の範
囲である。
【００１６】反応時間は、好ましくは３０分間から１０
時間であり、より好ましくは３０分間から５時間である
が、反応時間は反応物の反応性や反応を行なうスケール
等により異なるため、これらの範囲に限定されるもので
はない。この反応により生成した一般式R2COA およびHA
・HX2 を分離することなく一般式R1NHNH2 あるいはその
HX1 塩と反応させることにより一般式（Ｉ）で表される
化合物を得ることができる。一般式R1NHNH2 で表される
ヒドラジン化合物あるいはそのHX1 塩はＲ1 およびHX1
の種類によっては容易に市販品の入手が可能であり（例
えばＲ1 ＝フェニル、HX1 ＝HCl のもの）、あるいは例
えば「新実験化学講座」、14巻、1573〜1585頁（1978
年）、丸善（株）に記載されたような公知の方法により
容易に合成することができる。ヒドラジン化合物の使用
量は、一般式R2COX2で表される化合物に対して0.５〜２
当量用いられ、より好ましくは1.０〜1.５当量用いられ
る。ヒドラジン化合物のHX1 塩を用いる場合は、HX1 塩
に対し1.０〜1.５当量のHAあるいは三級脂肪族アミン
（例えばトリエチルアミン、トリブチルアミンあるいは
N,N −ジイソプロピルエチルアミンなど）が用いられ
る。
時間であり、より好ましくは３０分間から５時間である
が、反応時間は反応物の反応性や反応を行なうスケール
等により異なるため、これらの範囲に限定されるもので
はない。この反応により生成した一般式R2COA およびHA
・HX2 を分離することなく一般式R1NHNH2 あるいはその
HX1 塩と反応させることにより一般式（Ｉ）で表される
化合物を得ることができる。一般式R1NHNH2 で表される
ヒドラジン化合物あるいはそのHX1 塩はＲ1 およびHX1
の種類によっては容易に市販品の入手が可能であり（例
えばＲ1 ＝フェニル、HX1 ＝HCl のもの）、あるいは例
えば「新実験化学講座」、14巻、1573〜1585頁（1978
年）、丸善（株）に記載されたような公知の方法により
容易に合成することができる。ヒドラジン化合物の使用
量は、一般式R2COX2で表される化合物に対して0.５〜２
当量用いられ、より好ましくは1.０〜1.５当量用いられ
る。ヒドラジン化合物のHX1 塩を用いる場合は、HX1 塩
に対し1.０〜1.５当量のHAあるいは三級脂肪族アミン
（例えばトリエチルアミン、トリブチルアミンあるいは
N,N −ジイソプロピルエチルアミンなど）が用いられ
る。
【００１７】反応温度は−２０℃から８０℃の範囲が好
ましく、より好ましくは、−１０℃から５０℃の範囲で
ある。反応時間は、好ましくは３０分間から１０時間で
あり、より好ましくは３０分間から５時間であるが、反
応時間は反応を行なうスケール等により異なるため、こ
れらの範囲に限定されるものではない。上記式の反応に
より得られたモノアシルヒドラジン類は反応液から常法
により分離することができるが、必要により何ら単離す
ることなく引き続く反応の原料として用いてもよい。適
当な単離手段としては再結晶法、溶媒抽出法、濾過法、
カラムクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー等
を単独であるいは適宜組み合わせて用いることができ
る。以下、本発明を実施例によって具体的に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。
ましく、より好ましくは、−１０℃から５０℃の範囲で
ある。反応時間は、好ましくは３０分間から１０時間で
あり、より好ましくは３０分間から５時間であるが、反
応時間は反応を行なうスケール等により異なるため、こ
れらの範囲に限定されるものではない。上記式の反応に
より得られたモノアシルヒドラジン類は反応液から常法
により分離することができるが、必要により何ら単離す
ることなく引き続く反応の原料として用いてもよい。適
当な単離手段としては再結晶法、溶媒抽出法、濾過法、
カラムクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー等
を単独であるいは適宜組み合わせて用いることができ
る。以下、本発明を実施例によって具体的に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。
【００１８】
実施例１（例示化合物１の合成）
【００１９】
【化６】
【００２０】アセトニトリル１００ml中にイミダゾール
１7.０ｇ（0.２５mol)を加え、−１０℃から０℃におい
てメトキシアセチルクロライド１0.９ｇ（0.１mol)を滴
下し、その後室温で１時間撹拌を続けた。次に反応液を
０℃以下に保ちつつ、４−メチルフェニルヒドラジン塩
酸塩１7.４ｇ（0.１１mol)を加え、さらにトリエチルア
ミン１1.１ｇ（0.１１mol)を滴下した。その後室温で５
時間撹拌を続けた。反応液を2.５％塩酸水１００ml中に
注ぎ、析出してきた結晶を濾取し、乾燥して１7.６ｇ
（収率９0.６％）の例示化合物１を得た。融点１１３〜
１１４℃。 比較例（米国特許第5,１６6,３７８号に基づいた例示化
合物１の合成） 酢酸エチル１００ml中にメトキシアセチルクロライド１
0.９ｇ（0.１mol)を加え、１０℃〜２０℃においてイミ
ダゾール１3.６ｇ（0.２mol)を徐々に添加した。その後
室温で３０分間撹拌を続けた。析出してきた結晶を除去
するために、反応液を濾過し、その濾液を１０℃〜２０
℃において、４−メチルフェニルヒドラジン塩酸塩１5.
９ｇ（0.１mol)とトリエチルアミン１0.１ｇ（0.１mol)
を酢酸エチル１００mlに混合した液中に添加した。その
後室温で２時間撹拌を続けた。反応液を1N塩酸水で洗浄
し、水洗、芒硝乾燥後減圧下に酢酸エチルを留去し、１
1.５ｇ（収率５9.２％）の例示化合物１を得た。
１7.０ｇ（0.２５mol)を加え、−１０℃から０℃におい
てメトキシアセチルクロライド１0.９ｇ（0.１mol)を滴
下し、その後室温で１時間撹拌を続けた。次に反応液を
０℃以下に保ちつつ、４−メチルフェニルヒドラジン塩
酸塩１7.４ｇ（0.１１mol)を加え、さらにトリエチルア
ミン１1.１ｇ（0.１１mol)を滴下した。その後室温で５
時間撹拌を続けた。反応液を2.５％塩酸水１００ml中に
注ぎ、析出してきた結晶を濾取し、乾燥して１7.６ｇ
（収率９0.６％）の例示化合物１を得た。融点１１３〜
１１４℃。 比較例（米国特許第5,１６6,３７８号に基づいた例示化
合物１の合成） 酢酸エチル１００ml中にメトキシアセチルクロライド１
0.９ｇ（0.１mol)を加え、１０℃〜２０℃においてイミ
ダゾール１3.６ｇ（0.２mol)を徐々に添加した。その後
室温で３０分間撹拌を続けた。析出してきた結晶を除去
するために、反応液を濾過し、その濾液を１０℃〜２０
℃において、４−メチルフェニルヒドラジン塩酸塩１5.
９ｇ（0.１mol)とトリエチルアミン１0.１ｇ（0.１mol)
を酢酸エチル１００mlに混合した液中に添加した。その
後室温で２時間撹拌を続けた。反応液を1N塩酸水で洗浄
し、水洗、芒硝乾燥後減圧下に酢酸エチルを留去し、１
1.５ｇ（収率５9.２％）の例示化合物１を得た。
【００２１】実施例２（例示化合物３の合成）
【００２２】
【化７】
【００２３】テトラヒドロフラン１リットル中にイミダ
ゾール１７0.２ｇ（2.５mol)を加え、−１０℃から０℃
において４−クロロベンゾイルクロライド１７5.０ｇ
（１mol)を滴下し、その後室温で１時間撹拌を続けた。
次に反応液を０℃以下に保ちつつ、４−ニトロフェニル
ヒドラジン１６0.８ｇ（1.０５mol)を徐々に添加した。
その後室温で５時間撹拌を続けた。反応液を2.５％塩酸
水３リットル中に注ぎ、析出してきた結晶を濾取し、ア
セトニトリル１リットルで洗浄し、乾燥して２８3.８ｇ
（収率９7.３％）の例示化合物３を得た。融点２４５〜
２４７℃ 核磁気共鳴スペクトル（２００MHZ 、 DMSO-d6 中） 6.８７（２Ｈ、ｄ） 7.６２（２Ｈ、ｄ） 7.９８（２
Ｈ、ｄ） 8.１０（２Ｈ、ｄ） 9.２７（１Ｈ、ｓ） １0.７４
（１Ｈ、ｓ）
ゾール１７0.２ｇ（2.５mol)を加え、−１０℃から０℃
において４−クロロベンゾイルクロライド１７5.０ｇ
（１mol)を滴下し、その後室温で１時間撹拌を続けた。
次に反応液を０℃以下に保ちつつ、４−ニトロフェニル
ヒドラジン１６0.８ｇ（1.０５mol)を徐々に添加した。
その後室温で５時間撹拌を続けた。反応液を2.５％塩酸
水３リットル中に注ぎ、析出してきた結晶を濾取し、ア
セトニトリル１リットルで洗浄し、乾燥して２８3.８ｇ
（収率９7.３％）の例示化合物３を得た。融点２４５〜
２４７℃ 核磁気共鳴スペクトル（２００MHZ 、 DMSO-d6 中） 6.８７（２Ｈ、ｄ） 7.６２（２Ｈ、ｄ） 7.９８（２
Ｈ、ｄ） 8.１０（２Ｈ、ｄ） 9.２７（１Ｈ、ｓ） １0.７４
（１Ｈ、ｓ）
【００２４】
【発明の効果】本発明の方法によれば、前記一般式
（Ｉ）で示されるモノアシルヒドラジン類を副生成物な
しに従来の方法より安価に合成することができる。従っ
て、写真性添加剤や医農薬さらにそれらの合成中間体と
してのモノアシルヒドラジン類の価値を高めることがで
きる。
（Ｉ）で示されるモノアシルヒドラジン類を副生成物な
しに従来の方法より安価に合成することができる。従っ
て、写真性添加剤や医農薬さらにそれらの合成中間体と
してのモノアシルヒドラジン類の価値を高めることがで
きる。
Claims (1)
- 【請求項１】 酸ハロゲン化物R2COX2と２当量のアゾー
ルHAを反応させて生成するR2COA およびHA・HX2 を分離
することなくモノ置換ヒドラジンR1NHNH2 あるいはその
塩R1NHNH2(HX1)と反応させることを特徴とする下記一般
式（Ｉ）で表されるモノアシルヒドラジン類の製造方
法。 一般式（Ｉ） R1NHNHCOR2 式中Ｒ1 は脂肪族基またはアリール基を表し、Ｒ2 は脂
肪族基、アリール基、アルコキシ基またはヘテロ環基を
表す。HX1 は鉱酸あるいは有機酸を表し、Ｘ2はClある
いはBrを表す。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20417393A JP3215552B2 (ja) | 1993-08-18 | 1993-08-18 | モノアシルヒドラジン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20417393A JP3215552B2 (ja) | 1993-08-18 | 1993-08-18 | モノアシルヒドラジン類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0753492A JPH0753492A (ja) | 1995-02-28 |
| JP3215552B2 true JP3215552B2 (ja) | 2001-10-09 |
Family
ID=16486049
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20417393A Expired - Fee Related JP3215552B2 (ja) | 1993-08-18 | 1993-08-18 | モノアシルヒドラジン類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3215552B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3866509B2 (ja) | 2000-12-08 | 2007-01-10 | 富士工業株式会社 | 釣竿用リールシートと、釣竿 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5166378A (en) | 1990-05-24 | 1992-11-24 | Eastman Kodak Company | Selective monoacylation of substituted hydrazines |
-
1993
- 1993-08-18 JP JP20417393A patent/JP3215552B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5166378A (en) | 1990-05-24 | 1992-11-24 | Eastman Kodak Company | Selective monoacylation of substituted hydrazines |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0753492A (ja) | 1995-02-28 |
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