JP3214139B2 - パントテン酸誘導体の製造方法 - Google Patents

パントテン酸誘導体の製造方法

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JP3214139B2 JP05632693A JP5632693A JP3214139B2 JP 3214139 B2 JP3214139 B2 JP 3214139B2 JP 05632693 A JP05632693 A JP 05632693A JP 5632693 A JP5632693 A JP 5632693A JP 3214139 B2 JP3214139 B2 JP 3214139B2
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  • Heterocyclic Compounds That Contain Two Or More Ring Oxygen Atoms (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は一般式
【化4】 (式中、R1 は炭素数5〜25の一価脂肪族炭化水素基
又はベンジル基、R2 は水素原子又は炭素数5〜25の
一価脂肪族炭化水素基である。)で表わされるパントテ
ン酸誘導体の製造方法に関する。前記一般式(I)で表
わされるパントテン酸誘導体は、アシルCoA−コレス
テロール−アシル転位酵素(Acyl CoA−Cho
lesterol−Acyltransferase−
以下ACATという)の阻害活性に優れ血中脂質低下作
用を有する化合物であることが知られている(特開平3
−218340号)。
【0002】
【従来の技術】従来、前記一般式(I)で表わされるパ
ントテン酸誘導体は、カルボン酸誘導体とアルコール誘
導体とをカルボジイミド誘導体等の縮合剤の存在下、反
応を行いエステル結合を形成する方法により製造されて
いる(特開平3−218340号参照)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来のカルボジイミド
誘導体を用いる製造方法では、副生成物が生成して収率
が低いこと、反応により多量の尿素誘導体が生ずるため
煩雑な除去操作が必要なこと等工業的な製造方法として
満足できるものではなかった。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、従来の問
題点を解決するため鋭意検討した結果、ハロゲン化合物
の存在下、構造式
【化5】 で表わされるパントテン酸アセトナイドと、一般式
【化6】 (式中、R1 及びR2 は前記と同じである。)で表わさ
れるシクロヘキサノール誘導体とを反応させることから
なる前記式(I)で表わされるパントテン酸誘導体の製
造方法を見い出し本発明を完成した。
【0005】本発明は、前記構造式(II)で表わされる
パントテン酸アセトナイドと前記一般式(III)で表わさ
れるシクロヘキサノール誘導体とを反応させるに当り、
ハロゲン化合物の存在下行うことを特徴とする製造方法
である。
【0006】この反応に用いるハロゲン化合物として
は、例えば塩化チオニル、塩化スルフリル、五塩化リ
ン、オキシ塩化リン、三塩化リンのような無機ハロゲン
化合物は、一般式 R3 X (IV) (式中、R3 はベンゼンスルホニル基、p−トルエンス
ルホニル基又はメタンスルホニル基、エトキシカルボニ
ル基、フェノキシカルボニル基、Xは塩素原子、臭素原
子又はヨウ素原子である。)で表わされるハロゲン化合
物等を挙げることができる。一般式(IV)で表わされる
ハロゲン化合物として例えば塩化ベンゼンスルホニル、
臭化ベンゼンスルホニル、ヨウ化ベンゼンスルホニル、
塩化p−トルエンスルホニル、臭化p−トルエンスルホ
ニル、塩化メタンスルホニル、臭化メタンスルホニル、
クロルギ酸エチル、クロルギ酸フェニル等を用いること
ができる。
【0007】本反応の原料化合物である前記一般式(II
I)で表わされるシクロヘキサノール誘導体は工業的に入
手可能な原料を用いて製造することができる化合物であ
り、例えば(1S,2S)−2−(3−ネオペンチル−
3−ノニルウレイド)シクロヘキサノール、(1S,2
S)−2−[3−(1−メチル−8−ヘプタデセニル)
ウレイド]シクロヘキサノール、(1S,2S)−2−
[3−(1−メチルヘプタデカニル)ウレイド]シクロ
ヘキサノール、(1S,2S)−2−(3−デシル−3
−イソプロピルウレイド)シクロヘキサノール、(1
S,2S)−2−(3−ベンジル−3−オクチルウレイ
ド)シクロヘキサノール、(1S,2S)−2−(3−
ベンジル−3−デシルウレイド)シクロヘキサノール、
(1S,2S)−2−[3−(1−ヘプチルオクチル)
ウレイド]シクロヘキサノール等を使用することができ
る(以下参考例参照)。
【0008】本反応を行うには溶媒中行うことが望まし
く、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭
化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエ
ステル類等を単独又は混合して溶媒として用いることが
できる。反応は−30〜120℃で行うことができる
が、効率よく行うためには0〜50℃で行うことが好ま
しい。
【0009】またこの反応を効率よく行うためには塩基
の存在下行うことが好ましく、例えば4,4−ジメチル
アミノピリジン、ピリジン、コリジン、DABCO、ト
リエチルアミン等の有機塩基を挙げることができる。こ
の塩基は単独または混合して用いることができ、その使
用量は前記一般式(III)で表わされるシクロヘキサノー
ル誘導体に対して0.5〜5.0当量である。
【0010】
【実施例】以下に示す参考例及び実施例により本発明を
更に詳細に説明する。
【0011】参考例1 N−ノニリデン−N−ネオペンチルアミン (CH3 3 CCH2 NH2 +CH3 (CH2 7 CH
O→(CH3 3 CCH2 N=CH(CH2 7 CH3 ネオペンチルアミン8.7g(0.1mol)に氷冷下
攪拌しながらノナナール14.2g(0.1mol)を
1.5時間かけて滴下した。更に15分間攪拌した後、
トルエンを加え、6規定水酸化カリウム水溶液で洗浄し
た。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去
した。蒸留によりN−ノニリデン−N−ネオペンチルア
ミン17.35g(収率82%)得た。
【0012】沸点:87℃/4mmHg.1 H−NMR(δ,CDCl3 ):0.88(3H,
t,J=7Hz),0.90(9H,s),1.20−
1.36(10H,m),1.45−1.58(2H,
m),2.20−2.30(2H,m),3.12(2
H,s),7.57(1H,t,J=5Hz).
【0013】参考例2 N−ネオペンチル−N−ノニルアミン (CH3 3 CCH2 N=CH(CH2 7 CH3
(CH3 3 CCH2 NH(CH2 8 CH3 N−ノニリデン−N−ネオペンチルアミン10.5g
(0.05mol)をメタノールに溶解し、10%パラ
ジウム−炭素1gを加えて水素雰囲気に系内を置換し、
室温で18時間激しく攪拌した。反応終了後固体を濾過
し、溶媒を留去した。蒸留により目的とするN−ネオペ
ンチル−N−ノニルアミンを8.55g(収率80%)
得た。
【0014】沸点:85℃/2mmHg.1 H−NMR(δ,CDCl3 ):0.88(3H,
t,J=7Hz),0.92(9H,s),1.24−
1.34(12H,m),1.44−1.74(3H,
m),2.35(2H,s),2.60(2H,t,J
=7Hz).
【0015】参考例2 (1S,2S)−2−(3−ネオペンチル−3−ノニル
ウレイド)シクロヘキサノール
【化7】 (1S,2S)−2−N−フェノキシカルボニルアミノ
シクロヘキサノール23.5g(0.1mol)、ネオ
ペンチルノニルアミン21.3g(0.1mol)を攪
拌しながら外温120℃で2.5時間反応させた。反応
容器に氷を入れて冷却し、トルエンを加え、有機層を1
N−塩酸水溶液、水、1N−水酸化ナトリウム水溶液
(3回)、水(3回)で順次洗浄し、有機層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、(1S,2S)
−2−(3−ネオペンチル−3−ノニルウレイド)シク
ロヘキサノールを27.7g(収率78%)得た。
【0016】1H−NMR(δ,CDCl3 ):0.8
8(3H,t,J=7Hz),0.95(9H,s),
1.16−1.36(16H,m),1.50−2.1
8(6H,m),2.40−2.60(3H,m),
2.95(1H,d,J=15Hz),3.11(1
H,dd,J=15,7Hz),3.19(1H,d,
J=15Hz),3.30−3.40(1H,m),
3.42−3.54(1H,m).
【0017】参考例3 パントテン酸アセトナイド
【化8】 パントテン酸カルシウム(3−[N−(2,4−ジオキ
シ−3,3−ジメチル−1−オキソブチル)アミノ]プ
ロピオン酸カルシウム)23.8g(0.05mo
l)、シュウ酸4.5g(0.05mol)、2,2−
ジメトキシプロパン15.6g(0.15mol)、p
−トルエンスルホン酸・一水和物1.9g(0.01m
ol)をアセトン250mlに懸濁させ、ソックスレー
の抽出器にモレキュラーシープス4Aを入れたものを接
続し、発生するメタノールを除きながら16時間加熱還
流した。反応終了後固体を除き、溶媒を減圧で留去し
た。残渣を酢酸エチルに溶解し、水、飽和食塩水で順次
洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒
を留去した残渣を酢酸エチルとヘキサンの混合溶媒から
再結晶してパントテン酸アセトナイド(3−[N−
(2,2,5,5−テトラメチル−1,3−ジオキサン
−4−カルボニル)アミノ]プロピオン酸の結晶を1
9.0g(収率73%)得た。
【0018】融点:110.2−111.4℃1 H−NMR(δ,CDCl3 ):0.98(3H,
s),1.04(3H,s),1.43(3H,s),
1.46(3H,s),2.62(2H,t,J=7H
z),3.29(1H,d,J=12Hz),3.68
(1H,d,J=12Hz),3.43−3.66(2
H,m),4.11(1H,s),6.90−7.10
(1H,m). IR(ν,KBr):3420,1734,1636c
-1 質量分析:分子式C1221NO5 として 計算値 259.1419 実測値 259.1425
【0019】実施例1 (1S,2S)−2−[3−(2,2−ジメチルプロピ
ル)−3−ノニルウレイド]シクロヘキサン−1−イル
3−[N−(2,2,5,5−テトラメチル−1,3
−ジオキサン−4−カルボニル)アミノ]プロピオネー
【化9】 パントテン酸アセトナイド(3−[N−(2,2,5,
5−テトラメチル−1,3−ジオキサン−4−カルボニ
ル)アミノ]プロピオネート)6.53g(0.025
mol)、(1S,2S)−2−(3−ネオペンチル−
3−ノニルウレイド)シクロヘキサノール7.45g
(0.021mol)及び4,4−ジメチルアミノピリ
ジン7.70g(0.063mol)を酢酸エチル30
0mlに溶解し、室温で攪拌しながら、p−トルエンス
ルホニルクロリド6.01g(0.031mol)の酢
酸エチル(50ml)溶液を滴下し、6時間攪拌した。
沈殿を濾過し、有機層を水、1N−塩酸水、水(3
回)、飽和重曹水、水(3回)、飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ溶媒を留去した。残
渣をヘキサンに溶解し、攪拌しながら結晶化させること
で(1S,2S)−2−[3−(2,2−ジメチルプロ
ピル)−3−ノニルウレイド]シクロヘキサン−1−イ
ル 3−[N−(2,2,5,5−テトラメチル−1,
3−ジオキサン−4−カルボニル)アミノ]プロピオネ
ートを11.8g(収率94%)を得た。
【0020】融点;77.1−79.4℃1 H−NMR(δ,CDCl3 ):0.88(3H,
t,J=7Hz),0.91(9H,s),0.96
(3H,s),1.04(3H,s),1.05−2.
21(22H,m),1.42(3H,s),1.47
(3H,s),2.43−2.62(2H,m),2.
91(1H,d,J=15Hz),2.97−3.10
(1H,m),3.05(1H,d,J=15Hz),
3.16−3.27(1H,m),3.28(1H,
d,J=12Hz),3.37−3.64(2H,
m),3.69(1H,J=12Hz),3.71−
3.86(1H,m),4.08(1H,s),4.5
2(1H,d,J=8Hz),4.70(1H,dd
d,J=11,11,4Hz),6.92(1H,t,
J=5Hz). IR(ν,KBr):3388,2932,1730,
1670,1618,1378,1098cm-1 質量分析(m/z,%):595(M+,1.0) 施光度:[α]D =+32.33°(c 1.005,
CHCl3
【0021】
【発明の効果】本発明は、ACAT阻害作用をもち血中
脂質低下作用を有する前記一般式(I)で表わされるパ
ントテン酸誘導体を簡便に製造する方法である。また、
本発明の方法は、従来の製造方法であるカルボジイミド
誘導体等の縮合剤を使用する方法に比べ抽出操作だけで
生成物を単離することができるうえ、カルボジイミド誘
導体を使用する方法の収率40〜60%と比べ収率も9
0%以上であるため工業的な製造方法として有用であ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 319/06 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ハロゲン化合物の存在下、構造式 【化1】 で表わされるパントテン酸アセトナイドと、一般式 【化2】 で表わされるシクロヘキサノール誘導体とを反応させる
    ことからなる一般式 【化3】 で表わされるパントテン酸誘導体の製造方法(式中、R
    1 は炭素数5〜25の一価脂肪族炭化水素基又はベンジ
    ル基、R2 は水素原子又は炭素数5〜25の一価脂肪族
    炭化水素基である。)。
  2. 【請求項2】 ハロゲン化合物が一般式R3 −Xで表わ
    されるハロゲン化合物である請求項1記載の製造方法
    (式中、R3 は、ベンゼンスルホニル基、p−トルエン
    スルホニル基、メタンスルホニル基、エトキシカルボニ
    ル基又は、フェノキシカルボニル基であり、Xは塩素原
    子、臭素原子又はヨウ素原子である。)。
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