JP3205224B2 - 座標入力装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、座標入力装置に係り、
特に、操作領域を入力ペンまたは指等により操作してデ
ータ入力を行うペン入力形の座標入力装置において、引
出電極の相対する露出部間に導電性トランスファを接着
配置した際に、引出電極の露出部が剥離するのを防止す
る手段を備えた座標入力装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、操作領域を入力ペン等によって
操作することにより、データ入力が行われる座標入力装
置は、それぞれ一面に電極形成面を設けた第１透明基板
及び第２透明基板を、電極形成面を内側にして対向配置
した構成のもので、第１透明基板は、電極形成面の操作
領域端部に設けた第１透明電極と、第１透明電極に接続
された第１引出電極と、第１引出電極の露出部を除いて
操作領域の周縁部を第１引出電極を含めて被覆した第１
絶縁膜とを備え、第２の透明基板は、電極形成面の操作
領域端部に第１透明電極に略直交するように設けた第２
透明電極と、第２透明電極に接続された第２引出電極
と、第１引出電極に導電接続される第３引出電極と、第
１引出電極の露出部に対向した第３引出電極の露出部を
除いて操作領域の周縁部を第２及び第３引出電極を含め
て被覆した第２絶縁膜とを備えており、第１及び第３引
出電極の各露出部間に導電性トランスファを接着配置し
たものである。

【０００３】図４乃至図５は、かかる既知の座標入力装
置の一例を示す構成図であって、図４（ａ）は座標入力
装置の構成要素の１つである第１透明基板の平面図、図
４（ｂ）は同じく座標入力装置の構成要素の１つである
第２透明基板の平面図であり、図５（ａ）は座標入力装
置を構成した場合の図４（ａ）、（ｂ）におけるＡ−
Ａ’線部分の横断面図、図５（ｂ）は同じく座標入力装
置を構成した場合の図４（ａ）、（ｂ）におけるＢ−
Ｂ’線部分の断面図である。

【０００４】まず、図４（ａ）、（ｂ）において、４１
はフイルム基板（第１透明基板）、４２はＩＴＯ膜（酸
化インジウムからなる透明抵抗膜）、４３は操作領域、
４４はＹ軸方向平行電極（第１透明電極）、４５は平行
電極４４の引出電極（第１引出電極）、４６は第１絶縁
膜、４７は引出電極４５の露出部、４８は導電性トラン
スファ、４９はガラス基板（第２透明電極）、５０はＩ
ＴＯ膜（酸化インジウムからなる透明抵抗膜）、５１は
操作領域、５２はＸ軸方向平行電極（第２透明電極）、
５３は平行電極５２の引出電極（第２引出電極）、５４
は平行電極４４のガラス基板４９側引出電極（第３引出
電極）、５５は引出電極５４の露出部、５６は第２絶縁
膜、５７は端子接続部である。

【０００５】そして、図４（ａ）に示されるように、フ
イルム基板４１の一面（電極形成面）にＩＴＯ膜４２が
形成され、このＩＴＯ膜４２の中央部分が操作領域４３
を構成している。操作領域４３の縦方向両側端縁に沿っ
てＹ軸方向平行電極４４が形成され、これらの平行電極
４４にそれぞれ接続された引出電極４５が形成される。
操作領域４３を除いたＩＴＯ膜４２の周辺部に第１絶縁
膜４６が設けられ、第１絶縁膜４６内に引出電極４５が
埋設される。引出電極４５の一部は、第１絶縁膜４６に
被覆されずに露出しており、露出部４７が構成されてい
る。

【０００６】また、図４（ｂ）に示されるように、ガラ
ス基板４９の一面（電極形成面）にＩＴＯ膜５０が形成
され、このＩＴＯ膜５０の中央部分が操作領域５１を構
成している。操作領域５１の横方向両側端縁に沿ってＸ
軸方向平行電極５２が形成され、これらの平行電極５２
にそれぞれ接続された引出電極５３と、他の引出電極５
４がそれぞれ形成される。操作領域５１を除いたＩＴＯ
膜５０の周辺部に第２絶縁膜５６が設けられ、第２絶縁
膜５６内に引出電極５３と他の引出電極５４がそれぞれ
埋設される。他の引出電極５４の一部は、第２絶縁膜５
６に被覆されずに露出しており、そこに露出部５５が構
成されている。ガラス基板４９の一方の長手方向周縁部
中央にやや突出した端子接続部５７が設けられ、端子接
続部５７に引出電極５３と他の引出電極５４がそれぞれ
接続される。

【０００７】次に、図５（ａ）、（ｂ）において、５８
はスペーサであり、その他、図４（ａ）、（ｂ）に示さ
れた構成要素と同じ構成要素については同じ符号を付け
ている。

【０００８】そして、図５（ａ）に示されるように、フ
イルム基板４１の一面（電極形成面）にＩＴＯ膜４２が
装着され、ＩＴＯ膜４２の操作領域４３における縦方向
両側端縁にＹ軸方向平行電極４４が形成され、ＩＴＯ膜
４２の周縁部に第１絶縁膜４６が形成される。ガラス基
板４９の一面（電極形成面）にＩＴＯ膜５０が装着さ
れ、ＩＴＯ膜５０の周縁部に第２絶縁膜５６が形成さ
れ、第２絶縁膜５６内に引出電極５４が埋設されてい
る。この場合、フイルム基板４１側の操作領域４３とガ
ラス基板４９側の操作領域５１間に規則的に設けられた
複数本の可撓性スペーサ５８が立設され、座標入力装置
が構成される。

【０００９】また、図５（ｂ）に示されるように、座標
入力装置を構成した際に、フイルム基板４１側の引出電
極４５の露出部４７とガラス基板４９側の引出電極５４
の露出部５５との間に導電性トランスファ４８を配置
し、導電性トランスファ４８と引出電極４５の露出部４
７との間、及び、導電性トランスファ４８と引出電極５
４の露出部５５との間の接着は、それぞれ、導電性トラ
ンスファ４８と銀（Ａｇ）製の露出部４７、５５とを接
触されたときの接着力によって行い、引出電極４５の露
出部４７と引出電極５４の露出部５５との導電接続を達
成するようにしている。

【００１０】前記構成による座標入力装置は、フイルム
基板４１側の操作領域４３の表面を入力ペンまたは指
（図示なし）で押圧し、複数本の可撓性スペーサ５８に
抗して双方のＩＴＯ膜４２、５０を接触させた状態で、
所要の文字や図形等を入力させれば、入力ペンの押圧移
動に伴う座標入力装置上の座標位置が順次検出され、そ
れによって入力された文字や図形を座標入力装置におい
て認識することができるもので、この座標入力装置の動
作は当業技術者にとって明らかなことであるから、かか
る既知のペン入力型座標入力装置の動作については、こ
れ以上の説明を行わない。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】前記既知の座標入力装
置は、図５（ｂ）に示されるように、フイルム基板４１
側の引出電極４５の露出部４７とガラス基板４９側の引
出電極５４の露出部５５との間に導電性トランスファ４
８を接着配置させた場合、その後に座標入力装置に対し
て導電性トランスファ４８の固着等のための熱処理が行
われるとき、フイルム基板４１と引出電極５４の露出部
５５との間の熱収縮率が大きく異なっていることから、
フイルム基板４１と引出電極５４の露出部５５との界面
に大きなずれ応力が加わり、その大きなずれ応力によっ
てＩＴＯ膜４２と引出電極５４の露出部５５との界面に
せん断を生じ、遂に、引出電極５４の露出部５５がＩＴ
Ｏ膜４２から剥離してしまうという問題を有している。

【００１２】本発明は、かかる問題点を解決するもの
で、その目的は、座標入力装置に対して種々の熱処理が
行われるとき、引出電極の露出部が透明抵抗膜から剥離
するのを防止する座標入力装置を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明は、一面を電極形成面とする第１透明基板と
第２透明基板を前記電極形成面を内側にして対向配置
し、前記第１透明基板は、前記一面に形成された透明抵
抗膜と、前記透明抵抗膜の端部領域に設けた第１透明電
極と、前記第１透明電極に接続された第１引出電極と、
前記第１引出電極の露出部を除いて前記領域の周縁部を
前記第１引出電極を含めて被覆した第１絶縁膜とによっ
て電極形成面が構成され、前記第２透明基板は、前記一
面に形成された透明抵抗膜と、前記透明抵抗膜の端部領
域に前記第１透明電極に略直交するように設けた第２透
明電極と、前記第２透明電極に接続された第２引出電極
と、前記第１引出電極に導電接続される第３引出電極
と、前記第１引出電極の露出部に対向した前記第３引出
電極の露出部を除いて前記領域の周縁部を前記第２及び
第３引出電極を含めて被覆した第２絶縁膜とによって電
極形成面が構成され、前記第１及び第３引出電極の各露
出部間に導電性トランスファを配置接着させ、前記導電
性トランスファが接着された前記第１及び／または第３
引出電極の露出部の周辺を前記第１及び／または第２絶
縁膜の拡張部により被覆した手段を備える。

【００１４】

【作用】前記手段によれば、第１引出電極の露出部及び
第３引出電極の露出部間に導電性トランスファを接着配
置させる際に、第１引出電極の露出部と導電性トランス
ファとの接着領域の周りの非接着領域の上側を第１絶縁
膜の拡張部で被覆するとともに、第３引出電極の露出部
と導電性トランスファとの接着領域の周りの非接着領域
の上側を第２絶縁膜の拡張部で被覆するようにしている
ので、この座標入力装置に対して種々の熱処理が行われ
たとき、透明抵抗膜と第１引出電極の露出部及び／また
は透明抵抗膜と第３引出電極の露出部の大きな熱収縮率
の差により、透明抵抗膜と第１引出電極の露出部との間
及び／または透明抵抗膜と第３引出電極の露出部との間
にずれ応力が発生したとしても、そのずれ応力は第１引
出電極の露出部の非接着領域の上側に被覆されている第
１絶縁膜の拡張部や第３引出電極の露出部の非接着領域
の上側に被覆されている第２絶縁膜の拡張部によって抑
えられ、透明抵抗膜と第１引出電極の露出部との間及び
／または透明抵抗膜と第３引出電極の露出部との間にせ
ん断を生じることがなく、第１引出電極の露出部が透明
抵抗膜から剥離したり、または、第３引出電極の露出部
が透明抵抗膜から剥離したりすることがなくなる。

【００１５】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて詳細に
説明する。

【００１６】図１乃至図３は、本発明に係る座標入力装
置の一実施例を示す構成図であって、図１（ａ）は座標
入力装置の構成要素の１つである第１透明基板の平面
図、図１（ｂ）は同じく座標入力装置の構成要素の１つ
である第２透明基板の平面図であり、図２（ａ）は座標
入力装置を構成した場合の図１（ａ）、（ｂ）における
Ｃ−Ｃ’線部分の横断面図、図２（ｂ）は同じく座標入
力装置を構成した場合の図１（ａ）、（ｂ）におけるＤ
−Ｄ’線部分の横断面図であり、図３（ａ）乃至（ｃ）
は座標入力装置において導電性トランスファが接着配置
される引出電極の種々の例を示す構成図である。

【００１７】始めに、図１（ａ）、（ｂ）において、１
はフイルム基板（第１透明基板）、２はＩＴＯ膜（酸化
インジウムからなる透明抵抗膜）、３は操作領域、４は
Ｙ軸方向平行電極（第１透明電極）、５は平行電極４の
引出電極（第１引出電極）、６は第１絶縁膜、７は引出
電極５の露出部、８は導電性トランスファ、９はガラス
基板（第２透明基板）、１０はＩＴＯ膜（透明抵抗
膜）、１１は操作領域、１２はＸ軸方向平行電極（第２
透明電極）、１３は平行電極１２の引出電極（第２引出
電極）、１４は平行電極４のガラス基板９側引出電極
（第３引出電極）、１５は第２絶縁膜、１６は引出電極
１４の露出部、１７はダミー電極、１８は接続端子部で
ある。

【００１８】そして、図１（ａ）に示されるように、フ
イルム基板１の一面（電極形成面）全体にＩＴＯ膜２が
装着され、このＩＴＯ膜２の中央部分が操作領域３を構
成している。操作領域３の縦方向両側端縁に沿ってＹ軸
方向平行電極４が形成され、これらの平行電極４にそれ
ぞれ接続された引出電極５が形成される。操作領域３を
除いたＩＴＯ膜２の周辺部に第１絶縁膜６が設けられ、
第１絶縁膜６内に引出電極５が埋設される。引出電極５
の一部は、第１絶縁膜６が被覆されずに露出し、露出部
７が形成されている。

【００１９】また、図１（ｂ）に示されるように、ガラ
ス基板９の一面（電極形成面）全体にＩＴＯ膜１０が装
着され、このＩＴＯ膜１０の中央部分が操作領域１１を
構成している。操作領域１１の横方向両側端縁に沿って
Ｘ軸方向平行電極１２が形成され、これらの平行電極１
２にそれぞれ接続された引出電極１３と、平行電極４に
導電接続される他の引出電極１４と、Ｘ軸方向平行電極
１２に直交配置されたダミー電極１７がそれぞれ形成さ
れる。操作領域１１を除いたＩＴＯ膜１０の周辺部に第
２絶縁膜１５が設けられ、第２絶縁膜１５内に引出電極
１３と他の引出電極１４、それにダミー電極１７がそれ
ぞれ埋設される。他の引出電極１４の一部は、第２絶縁
膜１５が被覆されずに露出し、露出部１６が形成されて
いる。このとき、ガラス基板９側における露出部１６の
配置位置は、ガラス基板９にフイルム基板１を重ね合わ
せたとき、フイルム基板１側における露出部７の配置位
置に対向した位置に設けられ、図２（ｂ）に図示するよ
うに、露出部７と露出部１６との間には導電性トランス
ファ８が接着配置される。なお、ダミー電極１７を設け
ることにより、ガラス基板９の左右の高さを同じにする
ことができる。

【００２０】次に、図２（ａ）、（ｂ）において、１９
はスペーサ、２０は第１絶縁膜６の拡張部、２１は第２
絶縁膜１５の拡張部であり、その他、図１（ａ）、
（ｂ）に示された構成要素と同じ構成要素については同
じ符号を付けている。

【００２１】そして、図２（ａ）に示されるように、フ
イルム基板１の一面（電極形成面）にＩＴＯ膜２が形成
され、ＩＴＯ膜２上にＹ軸方向平行電極４と第１絶縁膜
６がそれぞれ形成される。ここで、Ｙ軸方向平行電極４
はＩＴＯ膜２の操作領域３における縦方向両側端縁に形
成され、第１絶縁膜６はＩＴＯ膜２の周辺部に形成され
る。一方、ガラス基板９の一面（電極形成面）にＩＴＯ
膜１０が形成され、ＩＴＯ膜１０上に引出電極１３、１
４と第２絶縁膜１５がそれぞれ形成される。この場合、
第２絶縁膜１５はＩＴＯ膜１０の周辺部に形成され、引
出電極１３、１４は第２絶縁膜１５内に埋設されてい
る。フイルム基板１側の操作領域２とガラス基板９側の
操作領域１１との間には、規則的に設けられた複数本の
可撓性スペーサ１９が立設され、全体として座標入力装
置が構成される。

【００２２】また、図２（ｂ）に示されるように、座標
入力装置を構成する際に、フイルム基板１側の引出電極
５の露出部７とガラス基板９側の他の引出電極１４の露
出部１６との間に導電性トランスファ８を接着配置す
る。そして、第１絶縁膜６及び第２絶縁膜１５は、露出
部７の引出電極５及び露出部１６の引出電極１４の一部
を被覆する拡張部２０、２１が形成されており、露出部
７、１６の上に導電性トランスファ８を乗せて接着させ
る。この場合、露出部７の面積に比べて、導電性トラン
スファ８と露出部７との接着部分の面積が小さくなり、
かつ、露出部１６の面積に比べて、導電性トランスファ
８と露出部１６との接着部分の面積が小さくなり、導電
性トランスファ８を露出部７と露出部１６にそれぞれ接
着配置した際に、導電性トランスファ８と露出部７との
接着部分の周りに露出部７の非接着領域を形成させ、導
電性トランスファ８と露出部１６との接着部分の周りに
露出部１６の非接着領域を形成させる。第１絶縁膜６の
被覆領域を露出部７の非接着領域の上側まで拡げて第１
絶縁膜６の拡張部２０を構成させ、第２絶縁膜１５の被
覆領域を露出部１６の非接着領域の上側まで拡げて第２
絶縁膜１５の拡張部２１を構成させる。これにより、引
出電極５、６は一部を拡張部２０、２１で被覆され、導
電性トランスファ８拡張部２０、２１と露出部７、１６
に接着されている。

【００２３】さらに、図３（ａ）、（ｂ）、（ｃ）にお
いて、２２は導電性トランスファ８と露出部７、１６と
の接着領域、２３は露出部７、１６の非接着領域であ
り、その他、図１（ａ）、（ｂ）に示された構成要素と
同じ構成要素については同じ符号を付けている。

【００２４】そして、図３（ａ）は、露出部７、１６近
傍の引出電極５、１４の形状が＋形をなすように構成さ
れた例、図３（ｂ）は露出部７、１６近傍の引出電極
５、１４の形状が三角形をなすように構成された例、図
３（ｃ）は露出部７、１６近傍の引出電極５、１４の形
状が丸形をなすように構成された例を示すもので、いず
れの例においても、露出部７、１６の面積に比べて導電
性トランスファ８と露出部７、１６との接着領域２２の
面積が小さくなっており、接着領域２２の周りに非接着
領域２３が形成されて、非接着領域２３の上側まで第１
絶縁膜６の拡張部２０または第２絶縁膜１５の拡張部２
１が形成されている。

【００２５】前記構成による本実施例のペン入力型の座
標入力装置において、入力ペンを用いて座標入力を行う
ときの動作は、既知のペン入力型の座標入力装置におけ
る座標入力を行うときの動作と同じであり、既に述べた
ように、かかる動作は当業技術者にとっては明らかであ
ることから、本実施例のペン入力型の座標入力装置にお
ける座標入力動作はその説明を省略する。

【００２６】この場合、本実施例の座標入力装置は、引
出電極５の露出部７及び引出電極１４の露出部１６間に
導電性トランスファ８を接着配置させる際、露出部７と
導電性トランスファ８の接着領域２２の周りの非接着領
域２３の上側を第１絶縁膜６の拡張部２０で被覆すると
ともに、露出部１６と導電性トランスファ８の接着領域
２２の周りの非接着領域２３の上側を第２絶縁膜１５の
拡張部２１で被覆するようにしているので、この座標入
力装置に対する種々の熱処理が行われたとき、ＩＴＯ膜
２と露出部７及び／またはＩＴＯ膜１０と露出部１６の
大きな熱収縮率の差により、ＩＴＯ膜２と露出部７との
間及び／またはＩＴＯ膜１０と露出部１６との間にずれ
応力が発生しても、そのずれ応力は露出部７の上側を被
覆している第１絶縁膜６の拡張部２０や露出部１６の上
側を被覆している第２絶縁膜１５の拡張部２１によって
抑えられ、露出部７がＩＴＯ膜２から剥離したり、また
は、露出部１６がＩＴＯ膜１０から剥離したりすること
がない。

【００２７】なお、ガラス基板９は、熱処理による熱収
縮がフィルム基板１より小さいため、前述の拡張部をフ
ィルム基板１側だけに設けるようにしてもよい。

【００２８】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、第１引出電極５の露出部７及び第３引出電極１４
の露出部１６間に導電性トランスファ８を接着配置させ
る際、露出部７と導電性トランスファ８との接着領域２
２の周りの非接着領域２３の上側を第１絶縁膜６の拡張
部２０で被覆するとともに、露出部１６と導電性トラン
スファ８との接着領域２２の周りの非接着領域２３の上
側を第２絶縁膜１５の拡張部２１で被覆するようにして
いるので、この座標入力装置に対する種々の熱処理が行
われたとき、透明抵抗膜２と露出部７及び／または透明
抵抗膜１０と露出部１６の大きな熱収縮率の差により、
透明抵抗膜２と露出部７との間及び／または透明抵抗膜
１０と露出部１６との間にずれ応力が発生したとして
も、そのずれ応力は露出部７の上側に被覆されている第
１絶縁膜６の拡張部２０や露出部１６の上側に被覆され
ている第２絶縁膜１５の拡張部２１によって抑えられ、
透明抵抗膜２と露出部７との間及び／または透明抵抗膜
１０と露出部１６との間にせん断を生じることがなく、
露出部７が透明抵抗膜２から剥離したり、または、露出
部１６が透明抵抗膜１０から剥離したりすることがない
という効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の座標入力装置の一実施例における第１
透明基板及び第２透明基板の平面図である。

【図２】図１に図示された座標入力装置の一実施例にお
ける各部の横断面図である。

【図３】図１に図示された座標入力装置において、導電
性トランスファが接着配置される引出電極の種々の例を
示す構成図である。

【図４】既知の座標入力装置の一例における第１透明基
板及び第２透明基板の平面図である。

【図５】図４に図示された既知の座標入力装置の一例に
おける各部の横断面図である。

【符号の説明】

１ フイルム基板（第１透明基板） ２、１０ ＩＴＯ膜（酸化インジウムからなる透明抵抗
膜） ３、１１ 操作領域 ４ Ｙ軸方向平行電極（第１透明電極） ５ 平行電極４の引出電極（第１引出電極） ６ 第１絶縁膜 ７ 引出電極５の露出部 ８ 導電性トランスファ ９ ガラス基板（第２透明基板） １２ Ｘ軸方向平行電極（第２透明電極） １３ 平行電極１２の引出電極（第２引出電極） １４ 平行電極４の基板９側引出電極（第３引出電極） １５ 第２絶縁膜 １６ 引出電極１４の露出部 １７ ダミー電極 １８ 接続端子部 １９ スペーサ ２０ 第１絶縁膜６の拡張部 ２１ 第２絶縁膜１５の拡張部 ２２ 接着領域 ２３ 非接着領域

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 正樹 東京都大田区雪谷大塚町１番７号 アル プス電気株式会社内 (72)発明者 西山 貴志 東京都大田区雪谷大塚町１番７号 アル プス電気株式会社内 (56)参考文献 特開 平７−121290（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−100140（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−58024（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−333025（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−129303（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−241160（ＪＰ，Ａ) 実開 昭64−35433（ＪＰ，Ｕ) 実開 平２−9933（ＪＰ，Ｕ) 実開 平３−37422（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G06F 3/03 G06F 3/033 - 3/037 G02F 1/1343 - 1/1365

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一面を電極形成面とする第１透明基板と
   第２透明基板を前記電極形成面を内側にして対向配置
   し、前記第１透明基板は、前記一面に形成された透明抵
   抗膜と、前記透明抵抗膜の端部領域に設けた第１透明電
   極と、前記第１透明電極に接続された第１引出電極と、
   前記第１引出電極の露出部を除いて前記領域の周縁部を
   前記第１引出電極を含めて被覆した第１絶縁膜とによっ
   て電極形成面が構成され、前記第２透明基板は、前記一
   面に形成された透明抵抗膜と、前記透明抵抗膜の端部領
   域に前記第１透明電極に略直交するように設けた第２透
   明電極と、前記第２透明電極に接続された第２引出電極
   と、前記第１引出電極に導電接続される第３引出電極
   と、前記第１引出電極の露出部に対向した前記第３引出
   電極の露出部を除いて前記領域の周縁部を前記第２及び
   第３引出電極を含めて被覆した第２絶縁膜とによって電
   極形成面が構成され、前記第１及び第３引出電極の各露
   出部間に導電性トランスファを配置接着させ、前記導電
   性トランスファが接着された前記第１及び／または第３
   引出電極の露出部の周辺を前記第１及び／または第２絶
   縁膜の拡張部により被覆したことを特徴とする座標入力
   装置。
2. 【請求項２】 前記第１及び第３引出電極における各露
   出部近傍の形状は、丸形、＋形または三角形のものであ
   ることを特徴とする請求項１に記載の座標入力装置。
3. 【請求項３】 前記第１透明基板はフイルム基板であ
   り、前記第２の透明基板はガラスまたはフイルム基板で
   あることを特徴とする請求項１乃至２のいずれかに記載
   の座標入力装置。