JP3166330B2 - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents

半導体装置及びその製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、樹脂封止タイプの半導
体装置とその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の半導体装置の製造方法と
しては、本出願人により特開平4−7848号公報にて
開示されたものがある。図8は従来の製造方法とこれに
より製造される半導体装置を説明する側断面図である。
図において、51は上金型、52は下金型であり、これ
ら上下金型51、52の各主型面53、54にはそれぞ
れ突起部55、56が設けられている。一方、図中57
は半導体チップであり、この半導体チップ57の上面に
は図示せぬ複数の電極部が設けられている。そして半導
体チップ57の各電極部はワイヤ58を介してインナリ
ード59に接続されている。
【0003】上述した上下金型51、52を用いて半導
体チップ57やインナリード59を樹脂封止する場合
は、金型のキャビティ内に配置した半導体チップ57の
上面と下面とに上下金型51、52の各突起部55、5
6をそれぞれ近接して配置し、この状態からキャビティ
内に樹脂60を充填することで、樹脂充填時における半
導体チップ57の上下位置を規制するようにしていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の製造方法においては、キャビティ内に発生する樹脂6
0の注入圧によって半導体チップ57が持ち上げられ、
これにより半導体チップ57の上面が上金型51の突起
部55に衝突してチップ上のオーバコートやアルミパタ
ーンなどに傷が付いてしまうという問題があった。ま
た、上記同様の理由から、上金型51の突起部55によ
って樹脂60の上面に形成される凹部と半導体チップ5
7の上面との間に樹脂60による肉厚が得られず、これ
によって上記凹部を通して半導体チップ57の上面に光
が照射して動作不良を招いてしまう問題も抱えていた。
【0005】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたもので、樹脂の上面に凹部が形成されるものであっ
ても、半導体チップの上面に光が照射したり、半導体チ
ップ上のオーバコートやアルミパターンなどに傷が付く
ことのない半導体装置及びその製造方法を提供すること
を目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたもので、上面に電極部が設けられ
た半導体チップと、この半導体チップ上に配置されたイ
ンナリードと、このインナリードから延出されたアウタ
リードと、前記半導体チップと前記インナリードとを一
体封止した樹脂とからなり、半導体チップの電極部とイ
ンナリードとが電気的に接続され且つ樹脂の上下面にそ
れぞれ凹部が形成された半導体装置であって、樹脂の上
面側の凹部がインナリードのほぼ真上に形成されるとと
もに、当該凹部の真下に位置するインナリード部分が他
の部分よりも幅広に形成されたものである。
【0007】加えて、上面に電極部が設けられた半導体
チップと、この半導体チップ上に絶縁テープを介して配
置されたインナリードとを、主型面に突起部が設けられ
た上下金型で樹脂封止するための半導体装置の製造方法
であって、絶縁テープの直上位置又はそこからずれた位
置でインナリードの上面に上金型の突起部を近接又は当
接させる一方、半導体チップの下面に下金型の突起部を
近接又は当接させ、この状態で上下金型のキャビティ内
に樹脂を充填するようにしたものである。
【0008】さらに、上面に電極部が設けられた半導体
チップと、この半導体チップ上に配置されたインナリー
ドと、半導体チップの電極部とインナリードとを接続し
たバンプとを、主型面に突起部が設けられた上下金型で
樹脂封止するための半導体装置の製造方法であって、少
なくともバンプとの接続部を除いたインナリードの上面
と半導体チップの下面とに上下金型の各突起部を近接又
は当接させた状態で上下金型のキャビティ内に樹脂を充
填するようにしたものである。
【0009】
【作用】本発明の半導体装置においては、樹脂の上面側
の凹部がインナリードのほぼ真上に形成されることか
ら、その凹部から入射する光がインナリードによって遮
られ、これにより半導体チップ上への光の照射が阻止さ
れる。また、樹脂上面側の凹部の真下に位置するインナ
リード部分を他の部分よりも幅広に形成することによ
り、凹部の真下でインナリードによる遮光面積が広く確
保される。そのため、凹部からの入射光に対するインナ
リードの遮蔽効果が一層高められる。また、インナリー
ドと凹部に多少の位置ズレが生じても、半導体チップ上
への光の入射がインナリードによって確実に阻止され
る。
【0010】加えて、本発明の半導体装置の製造方法に
おいては、上金型の突起部が半導体チップの上面に接す
ることなく、樹脂注入時の半導体チップの上下位置が上
下金型の各突起部によって規制される。また、樹脂の注
入圧によって半導体チップが持ち上げられた場合でも、
絶縁テープの直上位置又はそこからずれた位置でインナ
リードの上面に上金型の突起部が当接することにより、
上金型の突起部に対する衝撃が絶縁テープ又はインナリ
ードの弾性力によって吸収される。
【0011】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図1は本発明に係わる半導体装置の一実施例を示
す側断面図である。図示した半導体装置10において、
11は半導体チップであり、この半導体チップ11の上
面には複数の電極部12(図では一個だけ表示)が設け
られている。また、半導体チップ11の上面には絶縁テ
ープ13が貼り付けられており、この絶縁テープ13を
介して半導体チップ11上にインナリード14が配置固
定されている。このインナリード14はワイヤ15を介
して半導体チップ11の電極部12に接続されている。
またインナリード14からはアウタリード16が延出し
ている。さらにアウタリード16を除いた全ての部分は
樹脂17によって一体封止されている。
【0012】これに加えて、樹脂17の上面と下面とに
はそれぞれ凹部18、19が形成されている。本実施例
の半導体装置10においては、樹脂17の上面側の凹部
18がインナリード14のほぼ真上に形成されている。
これにより、凹部18から入射する光はインナリード1
4によって遮られるようになる。つまり、インナリード
14は遮蔽板の機能を果たすようになるため、凹部18
を通して半導体チップ11の上面に光が照射することは
ない。この結果、光の照射に伴う半導体チップ11の動
作不良が防止される。
【0013】図2は本発明に係わる半導体装置の他の実
施例を示す側断面図である。本例と上記実施例との違い
は、絶縁テープ13の幅と、樹脂17の上下面に形成さ
れた凹部18、19の配置関係とにあり、これ以外につ
いては、ほぼ同様の構成をなしている。
【0014】また、上記実施例の半導体装置10の構成
においては、樹脂17の上面側に形成された凹部18の
下方においてインナリード14が幅広状に形成されてい
る。すなわち図3に示すように半導体チップ11上に絶
縁テープ13を介して配置された複数のインナリード1
4のうち、樹脂17の上面側に形成される凹部18の真
下にあたるインナリード14の部分(図中Pで表示)
は、例えば円形に膨出したかたちで他の部分よりも幅広
に形成されている。
【0015】この構成により、凹部18の真下でインナ
リード14による遮光面積が広く確保される。そのた
め、凹部18からの入射光に対するインナリード14の
遮蔽効果がより一層高められるとともに、インナリード
14の配置と凹部18の形成位置Pとに多少のズレが生
じた場合であっても半導体チップ11上への光の入射を
インナリード14によって確実に阻止することが可能と
なる。
【0016】なお、上述したいずれの場合においても、
インナリード14は絶縁テープ13を介して半導体チッ
プ11上に配置されるとともにワイヤ15を介して半導
体チップ11の電極部12に接続されているが、本発明
はこれに限定されるものではなく、例えば、図4に示す
ようにインナリード21がバンプ22を介して半導体チ
ップ23の電極部(不図示)に接続された、いわゆるT
AB方式の半導体装置20に対しても、樹脂24の上面
側においてインナリード21のほぼ真上に凹部25を形
成するとともに、その凹部25の下方においてインナリ
ード21を幅広状に形成することにより、上記同様の作
用効果を得ることができる。
【0017】続いて、本発明に係わる半導体装置の製造
方法について説明する。まず図5に示すように、上面に
電極部12が設けられた半導体チップ11と、この半導
体チップ11上に配置されたインナリード14と、半導
体チップ11とインナリード14との間に設けられた絶
縁テープ13と、半導体チップ11の電極部12とイン
ナリード14とを接続するワイヤ15とを、上下金型3
1、32で樹脂封止するための半導体装置の製造方法に
ついて説明する。ここで上下金型31、32は、上金型
31と下金型32とから構成されるものであり、各金型
31、32の主型面33、34には、それぞれ突起部3
5、36が設けられている。
【0018】本実施例の半導体装置の製造方法において
は、インナリード14の上面と半導体チップ11の下面
とに上下金型31、32の各突起部35、36を近接さ
せた状態で金型のキャビティ37内に樹脂(不図示)が
充填される。このとき、キャビティ37内の半導体チッ
プ11には樹脂の注入によって上下方向に変位させよう
とする力が働く。しかし、この場合の半導体チップ11
の上下位置は、上下金型31、32の各突起部35、3
6によって規制される。すなわち、半導体チップ11を
持ち上げようとする力が働いた場合には、上金型31の
突起部35とインナリード14との当接によって半導体
チップ11の位置変動が規制され、反対に半導体チップ
11を押し下げようとする力が働いた場合には、下金型
32の突起部36と半導体チップ11の下面との当接に
よって半導体チップ11の位置変動が規制される。
【0019】上記の製造方法においては、上金型31の
突起部35が半導体チップ11の上面に接することなく
半導体チップ11の上下位置が規制されるため、樹脂の
注入によって半導体チップ11上のオーバコートやアル
ミパターンなどに傷が付くことはない。
【0020】さらに上記の製造方法においては、上金型
31の突起部35の真下にインナリード14を介して絶
縁テープ13が配置されているため、樹脂の注入圧によ
って半導体チップ11が上下に変動した場合でも、上金
型31の突起部35に対する衝撃が絶縁テープ13の弾
性力によって吸収される。
【0021】加えて、本実施例の製造方法によれば、上
下金型31、32の各突起部35、36をインナリード
14の上面と半導体チップ11の下面とに当接させた状
態においても、絶縁テープ13の弾性力により半導体チ
ップ11に負荷をかけることなく上下位置を規制するこ
とができる。この状態から金型のキャビティ37内に樹
脂を注入するようにすれば、半導体チップ11を上下動
させることなく樹脂封止することができるようになり、
同時に、樹脂硬化後の半導体チップ11の位置精度を従
来よりも向上させることが可能となる。
【0022】また、このように上下金型31、32の各
突起部35、36をインナリード14の上面と半導体チ
ップ11の下面とに近接又は当接した状態でも何ら支障
なく樹脂封止できることから、金型及び半導体装置の構
成部品に要求される寸法精度が従来よりも緩和され、こ
れにより製品コストの低減が図られる。
【0023】上述の半導体装置の製造方法では、絶縁テ
ープ13の直上位置でインナリード14の上面に上金型
31の突起部35を近接(又は当接)させることによ
り、上金型31の突起部35の真下にインナリード14
を介して絶縁テープ13を配置した状態を例に挙げて説
明したが、これ以外にも例えば図6に示すように絶縁テ
ープ13の直上位置からずれた位置でインナリード14
の上面に上金型31の突起部35を近接(又は当接)さ
せ、これによって上金型31の突起部35の真下にイン
ナリード14を介して空間V1を設けた状態としてもよ
い。この場合は、先程の絶縁テープ13の弾性力に替わ
ってインナリード14の弾性力が働くようになるため上
記同様の作用効果が得られる。
【0024】さらに、上記とは別タイプの半導体装置の
製造方法として図7に示すようなものがある。まず図7
においては、半導体チップ23の上面に図示せぬ電極部
が設けられており、この電極部とインナリード21とが
バンプ22を介して接続されている。一方、図中31は
上金型、32は下金型であり、これら各金型の主型面3
3、34にはそれぞれ突起部35、36が設けられてい
る。
【0025】本例の半導体装置の製造方法においても、
上記同様にインナリード21の上面と半導体チップ23
の下面とに上下金型31、32の各突起部35、36が
近接又は当接した状態で金型のキャビティ37内に樹脂
(不図示)が充填される。このとき上金型31の突起部
35は少なくともバンプ22との接続部を除いたインナ
リード21の上面に近接又は当接した状態に配置され
る。これにより上金型31の突起部35の真下にはイン
ナリード21を介して必ず空間V2が確保されるように
なるのでインナリード21の弾性力が働き得る状態とな
り、もって先程と同様の作用効果が得られる。
【0026】
【発明の効果】以上、説明したように本発明の半導体装
置によれば、樹脂の上面側の凹部から入射する光がイン
ナリードによって遮られ、これにより半導体チップ上へ
の光の照射が阻止されるため、これに伴う装置の動作不
良が確実に防止され、もって製品の信頼性向上が期待で
きる。
【0027】また、本発明の製造方法によれば、金型の
突起部が半導体チップの上面に接することなく樹脂注入
時の半導体チップの上下位置が規制されるため、半導体
チップ上のオーバコートやアルミパターンなどに傷が付
くことはない。そのうえ、上下金型の各突起部にインナ
リードや半導体チップが当接した際には、絶縁テープ又
はインナリードの弾性力が働くことから以下のような効
果も得られる。 (1)上下金型の各突起部に対する衝撃が吸収される。 (2)半導体チップを上下動させることなく樹脂封止す
ることが可能となり、同時に、樹脂硬化後の半導体チッ
プの位置精度を従来よりも向上させることが可能とな
る。 (3)金型及び半導体装置の構成部品に要求される寸法
精度が従来よりも緩和され、これにより製品コストの低
減が図られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わる半導体装置の一実施例を示す側
断面図である。
【図2】本発明に係わる半導体装置の他の実施例を示す
側断面図である。
【図3】本発明に係わる半導体装置の他の実施態様を説
明する要部平面図である。
【図4】本発明に係わる半導体装置の更に他の実施例を
示す側断面図である。
【図5】本発明に係わる半導体装置の製造方法を説明す
る側断面図(その1)である。
【図6】本発明に係わる半導体装置の製造方法を説明す
る側断面図(その2)である。
【図7】本発明に係わる半導体装置の製造方法を説明す
る側断面図(その3)である。
【図8】従来例を説明する側断面図である。
【符号の説明】
10、20 半導体装置 11、23 半導体チップ 12 電極部 13 絶縁テープ 14、21 インナリード 15 ワイヤ 16 アウタリード 17、24 樹脂 18、19 凹部 22 バンプ 25 凹部 31、32 上下金型 33、34 主型面 35、36 突起部 37 キャビティ

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 上面に電極部が設けられた半導体チップ
    と、この半導体チップ上に配置されたインナリードと、
    このインナリードから延出されたアウタリードと、前記
    半導体チップと前記インナリードとを一体封止した樹脂
    とからなり、前記半導体チップの電極部と前記インナリ
    ードとが電気的に接続され且つ前記樹脂の上下面にそれ
    ぞれ凹部が形成された半導体装置であって、 前記樹脂の上面側の凹部が前記インナリードのほぼ真上
    に形成されるとともに、当該凹部の真下に位置するイン
    ナリード部分が他の部分よりも幅広に形成されたことを
    特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 上面に電極部が設けられた半導体チップ
    と、この半導体チップ上に絶縁テープを介して配置され
    たインナリードとを、主型面に突起部が設けられた上下
    金型で樹脂封止するための半導体装置の製造方法であっ
    て、前記絶縁テープの直上位置又はそこからずれた位置で前
    記インナリードの上面に上金型の突起部を近接又は当接
    させる一方、前記半導体チップの下面に下金型の突起部
    を近接又は当接させ、この状態で上下金型のキャビティ
    内に樹脂を充填するようにしたことを特徴する半導体装
    置の製造方法。
  3. 【請求項3】 上面に電極部が設けられた半導体チップ
    と、この半導体チップ上に配置されたインナリードと、
    前記半導体チップの電極部と前記インナリードとを接続
    したバンプとを、主型面に突起部が設けられた上下金型
    で樹脂封止するための半導体装置の製造方法であって、 少なくとも前記バンプとの接続部を除いた前記インナリ
    ードの上面と前記半導体チップの下面とに前記上下金型
    の各突起部を近接又は当接させた状態で前記上下金型の
    キャビティ内に樹脂を充填するようにしたことを特徴す
    る半導体装置の製造方法。
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