JP3165883B2 - フォトレジスト除去方法および装置 - Google Patents
フォトレジスト除去方法および装置Info
- Publication number
- JP3165883B2 JP3165883B2 JP30118495A JP30118495A JP3165883B2 JP 3165883 B2 JP3165883 B2 JP 3165883B2 JP 30118495 A JP30118495 A JP 30118495A JP 30118495 A JP30118495 A JP 30118495A JP 3165883 B2 JP3165883 B2 JP 3165883B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- substrate
- photoresist
- nozzle
- air
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置または
液晶表示装置の製造工程において、アルミニウムなどの
メタル膜上に形成されたフォトレジストパターンを、ア
ミン類を主成分としたフォトレジスト剥離液（以下、単
に剥離液という）を用いて除去するフォトレジスト除去
方法および装置に関する。さらに詳しくは、剥離液と水
洗水（リンスのために用いられる水）との混合を防止
し、メタル膜面の腐食を防止することができるフォトレ
ジスト除去装置に関する。
液晶表示装置の製造工程において、アルミニウムなどの
メタル膜上に形成されたフォトレジストパターンを、ア
ミン類を主成分としたフォトレジスト剥離液（以下、単
に剥離液という）を用いて除去するフォトレジスト除去
方法および装置に関する。さらに詳しくは、剥離液と水
洗水（リンスのために用いられる水）との混合を防止
し、メタル膜面の腐食を防止することができるフォトレ
ジスト除去装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置または液晶表示装置の製造工
程では、通常、フォトリソグラフィー法を用いてフォト
レジストのパターンを形成し、フォトレジストで被膜さ
れていない部分の下地材料をエッチングし、エッチング
が完了したあと、不要となったフォトレジストを除去す
ることにより、基板上に各種パターンを形成している。
程では、通常、フォトリソグラフィー法を用いてフォト
レジストのパターンを形成し、フォトレジストで被膜さ
れていない部分の下地材料をエッチングし、エッチング
が完了したあと、不要となったフォトレジストを除去す
ることにより、基板上に各種パターンを形成している。
【０００３】フォトレジストを除去する方法としては、
アミン類を主成分とした剥離液を加熱し、その中に基板
を浸漬し、フォトレジストを溶解除去する方法が一般的
である。また、基板を剥離液槽から引き上げたあとに
は、剥離液を落とし、水洗しておく必要がある。
アミン類を主成分とした剥離液を加熱し、その中に基板
を浸漬し、フォトレジストを溶解除去する方法が一般的
である。また、基板を剥離液槽から引き上げたあとに
は、剥離液を落とし、水洗しておく必要がある。
【０００４】このばあい、剥離液と水とは混合により速
やかに反応し、アンモニア基を放出し、アルカリ性を示
すため、剥離液を水で直接洗い落とすことはできない。
フォトレジストで被膜されていた下地膜は、アルミニウ
ムなどの腐食しやすい金属であることが多く、アルカリ
性の溶液に触れると、パターンは崩され欠陥が発生する
からである。
やかに反応し、アンモニア基を放出し、アルカリ性を示
すため、剥離液を水で直接洗い落とすことはできない。
フォトレジストで被膜されていた下地膜は、アルミニウ
ムなどの腐食しやすい金属であることが多く、アルカリ
性の溶液に触れると、パターンは崩され欠陥が発生する
からである。
【０００５】そこで、水洗するまえに、基板を２−プロ
パノールなどの有機溶剤に浸漬し、剥離液を溶解除去し
ておく方法が考えられている。この方法によれば、アル
カリ性溶液に触れることなく、パターンは保護される
が、２−プロパノールなどの有機溶剤は可燃性であり、
消防法により使用数量が厳しく管理されるうえ、ランニ
ングコストが高くなるという問題を含んでいた。
パノールなどの有機溶剤に浸漬し、剥離液を溶解除去し
ておく方法が考えられている。この方法によれば、アル
カリ性溶液に触れることなく、パターンは保護される
が、２−プロパノールなどの有機溶剤は可燃性であり、
消防法により使用数量が厳しく管理されるうえ、ランニ
ングコストが高くなるという問題を含んでいた。
【０００６】そこで、剥離液槽、２−プロパノールなど
の有機溶剤槽、および水槽に基板を順次浸漬していく前
述のバッジ方式とは別に、ローラー搬送により、基板を
水平に搬送し、シャワー、エアーナイフなど、基板に物
理的な力を作用させることが可能な枚葉方式が採用され
つつある。
の有機溶剤槽、および水槽に基板を順次浸漬していく前
述のバッジ方式とは別に、ローラー搬送により、基板を
水平に搬送し、シャワー、エアーナイフなど、基板に物
理的な力を作用させることが可能な枚葉方式が採用され
つつある。
【０００７】この枚葉方式では、急速に且つ均一に剥離
液を洗い流すことができ、前述のような有機溶剤を用い
ず、直接に水によるリンスを行っても不具合が発生しな
いようにできることが知られている（特開平６−２９２
０４号公報参照）。また、枚葉方式では、エアーの圧力
により基板の表面に付着している剥離液を吹き飛ばして
から、シャワーなどの圧力を伴った水（リンス水）で基
板の表面を急速に洗い流すこともできる。
液を洗い流すことができ、前述のような有機溶剤を用い
ず、直接に水によるリンスを行っても不具合が発生しな
いようにできることが知られている（特開平６−２９２
０４号公報参照）。また、枚葉方式では、エアーの圧力
により基板の表面に付着している剥離液を吹き飛ばして
から、シャワーなどの圧力を伴った水（リンス水）で基
板の表面を急速に洗い流すこともできる。
【０００８】図４に、枚葉方式による従来のフォトレジ
ストの除去装置の一例を示す。図４において、２１は基
板、２２は搬送用ローラー、２３はエアー吹き付け用の
フラットノズル（以下、エアーノズルという）、２４は
水洗用のフラットノズル（以下、ウォーターノズルとい
う）、２６は水滴飛散防止ガイドをそれぞれ示してい
る。この方法において、基板２１は矢印２８の方向に水
平に搬送され、ノズルによって剥離液が吹き付けられた
基板上に残存する剥離液２５を、エアノズル２３から噴
出される空気によって吹き飛ばしてから、ウォーターノ
ズル２４から噴出される水によって基板２１上を水洗す
る。
ストの除去装置の一例を示す。図４において、２１は基
板、２２は搬送用ローラー、２３はエアー吹き付け用の
フラットノズル（以下、エアーノズルという）、２４は
水洗用のフラットノズル（以下、ウォーターノズルとい
う）、２６は水滴飛散防止ガイドをそれぞれ示してい
る。この方法において、基板２１は矢印２８の方向に水
平に搬送され、ノズルによって剥離液が吹き付けられた
基板上に残存する剥離液２５を、エアノズル２３から噴
出される空気によって吹き飛ばしてから、ウォーターノ
ズル２４から噴出される水によって基板２１上を水洗す
る。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、エアー
の圧力だけでは剥離液を基板表面から完全に除去できな
いばあいがあり、剥離液を吹き飛ばしてから急速水洗ま
での搬送時間が長いような装置では、剥離液を残したま
ま乾燥し、乾燥ムラを発生させてしまうという問題があ
る。
の圧力だけでは剥離液を基板表面から完全に除去できな
いばあいがあり、剥離液を吹き飛ばしてから急速水洗ま
での搬送時間が長いような装置では、剥離液を残したま
ま乾燥し、乾燥ムラを発生させてしまうという問題があ
る。
【００１０】また、急速水洗の突出の勢いにより発生し
た微細な水滴が上流側に混入すると、局所的に剥離液と
水滴とが反応して処理ムラを生じさせるという問題が生
じる。
た微細な水滴が上流側に混入すると、局所的に剥離液と
水滴とが反応して処理ムラを生じさせるという問題が生
じる。
【００１１】本発明は、叙上の事情に鑑み、基板上に剥
離液の乾燥ムラおよび処理ムラを形成することなく、腐
食などを生じさせないフォトレジスト除去装置を提供す
ることを目的とする。
離液の乾燥ムラおよび処理ムラを形成することなく、腐
食などを生じさせないフォトレジスト除去装置を提供す
ることを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明のフォトレジスト
除去方法は、エッチング後の基板を水平に搬送しつつ、
アミン類を主成分としたフォトレジスト剥離液を用いて
フォトレジストを除去するフォトレジスト除去方法であ
って、剥離液をエアーノズルから噴出するエアーの吹き
付けにより基板上から取り除いたあと、直ぐに、急速な
水洗流により基板上を水洗することを特徴としている。
除去方法は、エッチング後の基板を水平に搬送しつつ、
アミン類を主成分としたフォトレジスト剥離液を用いて
フォトレジストを除去するフォトレジスト除去方法であ
って、剥離液をエアーノズルから噴出するエアーの吹き
付けにより基板上から取り除いたあと、直ぐに、急速な
水洗流により基板上を水洗することを特徴としている。
【００１３】そして、前記水洗流を前記基板の搬送方向
に向けて噴出させ、基板が搬送される方向に対して上流
側に水洗水が流れ込まないようにすることが好ましい。
に向けて噴出させ、基板が搬送される方向に対して上流
側に水洗水が流れ込まないようにすることが好ましい。
【００１４】また、前記水洗流により基板上に流出した
水洗水をさらに、エアーの吹き付けにより搬送方向に吹
き飛ばし、噴出により飛散した水滴が上流側に飛ぶのを
防ぐことが好ましい。
水洗水をさらに、エアーの吹き付けにより搬送方向に吹
き飛ばし、噴出により飛散した水滴が上流側に飛ぶのを
防ぐことが好ましい。
【００１５】さらに、本発明のフォトレジスト除去装置
は、エッチングされた基板を搬送する搬送手段を有し、
エッチング後のフォトレジストの除去にアミン類を主成
分としたフォトレジスト剥離液を用いるフォトレジスト
除去装置であって、（ａ）前記基板上から剥離液を取り
除くために、基板の搬送方向に対し上流側に向けて空気
を噴出するように設けられたエアーノズルと、（ｂ）搬
送方向に対し前記エアーノズルの下流側で、当該エアー
ノズルに充分近接した位置に、前記基板上を水洗するた
めの水を噴出するよう設けられたウォーターノズルから
なることを特徴としている。
は、エッチングされた基板を搬送する搬送手段を有し、
エッチング後のフォトレジストの除去にアミン類を主成
分としたフォトレジスト剥離液を用いるフォトレジスト
除去装置であって、（ａ）前記基板上から剥離液を取り
除くために、基板の搬送方向に対し上流側に向けて空気
を噴出するように設けられたエアーノズルと、（ｂ）搬
送方向に対し前記エアーノズルの下流側で、当該エアー
ノズルに充分近接した位置に、前記基板上を水洗するた
めの水を噴出するよう設けられたウォーターノズルから
なることを特徴としている。
【００１６】そして、前記ウォーターノズルが搬送方向
に対して下流側に向けて水を噴出するよう設けられてな
ることが好ましい。
に対して下流側に向けて水を噴出するよう設けられてな
ることが好ましい。
【００１７】また、前記エアーノズルと前記ウォーター
ノズルのあいだに、下流側に向けて空気を噴出する第２
エアーノズルを設け、前記ウォーターノズルからの水が
上流側に移動するのを防止するよう構成されてなること
が好ましい。
ノズルのあいだに、下流側に向けて空気を噴出する第２
エアーノズルを設け、前記ウォーターノズルからの水が
上流側に移動するのを防止するよう構成されてなること
が好ましい。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しつつ本発
明のフォトレジスト除去方法および装置を説明する。
明のフォトレジスト除去方法および装置を説明する。
【００１９】本発明のフォトレジスト除去方法の一態様
は、エアーの吹き出しにより剥離液を除去して直ぐに、
水洗水で基板上を水洗するものである。
は、エアーの吹き出しにより剥離液を除去して直ぐに、
水洗水で基板上を水洗するものである。
【００２０】これにより、エアーの圧力だけでは完全に
除去できなかった剥離液が、乾燥してしまう前に水洗す
ることができる。その際、残存剥離液と水洗水が混合す
る可能性もあるが、瞬間的なことであり、基板上のパタ
ーンに影響を与えることはない。
除去できなかった剥離液が、乾燥してしまう前に水洗す
ることができる。その際、残存剥離液と水洗水が混合す
る可能性もあるが、瞬間的なことであり、基板上のパタ
ーンに影響を与えることはない。
【００２１】また、本発明のフォトレジスト除去方法の
他の態様は、エアーの吹き出しにより剥離液を除去して
直ぐに、水洗水を搬送方向に噴出させ、水洗水が上流側
に流れ込まないように基板上を水洗するものである。
他の態様は、エアーの吹き出しにより剥離液を除去して
直ぐに、水洗水を搬送方向に噴出させ、水洗水が上流側
に流れ込まないように基板上を水洗するものである。
【００２２】これにより、剥離液が乾燥する前に基板を
水洗できるという効果の他に、エアーで吹き飛ばされる
まえに剥離液が水洗水と混合されてしまうという惧れを
なくすことができる。
水洗できるという効果の他に、エアーで吹き飛ばされる
まえに剥離液が水洗水と混合されてしまうという惧れを
なくすことができる。
【００２３】さらに、本発明のフォトレジスト除去方法
のさらに他の態様は、剥離液をエアーで吹き飛ばしたた
あと、すぐに、噴出された水洗水をエアーの吹き付けに
より搬送方向に吹き飛ばすものである。
のさらに他の態様は、剥離液をエアーで吹き飛ばしたた
あと、すぐに、噴出された水洗水をエアーの吹き付けに
より搬送方向に吹き飛ばすものである。
【００２４】これにより、剥離液を乾燥させず、噴出さ
れた水洗水と剥離液が基板上で混合することなく、さら
には、噴出により飛散する水滴が上流側に飛び、吹き飛
ばされるまえの剥離液と混合してしまう惧れもなくすこ
とができる。
れた水洗水と剥離液が基板上で混合することなく、さら
には、噴出により飛散する水滴が上流側に飛び、吹き飛
ばされるまえの剥離液と混合してしまう惧れもなくすこ
とができる。
【００２５】つぎに、図１〜３に基づいて本発明のフォ
トレジスト除去方法および装置を説明する。
トレジスト除去方法および装置を説明する。
【００２６】図１は本発明のフォトレジスト除去装置の
一態様の説明図、図２は本発明のフォトレジスト除去装
置の他の態様の説明図、図３は本発明のフォトレジスト
除去装置のさらに他の態様の説明図である。
一態様の説明図、図２は本発明のフォトレジスト除去装
置の他の態様の説明図、図３は本発明のフォトレジスト
除去装置のさらに他の態様の説明図である。
【００２７】図１において、１は基板、２は搬送用ロー
ラー、３はエアーノズル、４はウォーターノズルであ
る。なお、ウォーターノズル９および水滴飛散防止ガイ
ド１０は、従来技術に示される図４と同様のものである
が、本発明ではこれらを省略することもできる。また、
エアーノズル３、ウォーターノズル４など本発明におけ
るノズル類は、すべて、基板１の幅方向に均等に空気ま
たは水洗水を吹き付けることができるように構成された
ものを用いている。そのように構成されたものとして、
たとえば、細長いすき間から板状に水が噴出されるフラ
ットノズルなどを用いることができる。
ラー、３はエアーノズル、４はウォーターノズルであ
る。なお、ウォーターノズル９および水滴飛散防止ガイ
ド１０は、従来技術に示される図４と同様のものである
が、本発明ではこれらを省略することもできる。また、
エアーノズル３、ウォーターノズル４など本発明におけ
るノズル類は、すべて、基板１の幅方向に均等に空気ま
たは水洗水を吹き付けることができるように構成された
ものを用いている。そのように構成されたものとして、
たとえば、細長いすき間から板状に水が噴出されるフラ
ットノズルなどを用いることができる。
【００２８】基板１は矢印Ａの方向に水平に搬送され
る。基板１上には、これより上流側に敷設されている剥
離液噴出用のノズルによって剥離液が吹き付けられたこ
とにより、剥離液５が残存している。
る。基板１上には、これより上流側に敷設されている剥
離液噴出用のノズルによって剥離液が吹き付けられたこ
とにより、剥離液５が残存している。
【００２９】エアノズル３は、基板１の法線６に対し角
度θ１だけ搬送方向に傾き、圧縮空気を上流側に向けて
吹き出す。角度θ１は３０〜４５度のあいだにあること
が好ましく、圧縮空気が基板表面に及ぼす圧力は、０．
１〜０．２ｋｇｆ／ｃｍ2であることが好ましい。０．
１ｋｇｆ／ｃｍ2未満であると剥離液を充分に飛ばすこ
とができず、０．２ｋｇｆ／ｃｍ2をこえると、強すぎ
て、瞬時に基板表面が乾燥し、ムラが発生することがあ
るからである。このムラは水洗後も残存するばあいがあ
る。
度θ１だけ搬送方向に傾き、圧縮空気を上流側に向けて
吹き出す。角度θ１は３０〜４５度のあいだにあること
が好ましく、圧縮空気が基板表面に及ぼす圧力は、０．
１〜０．２ｋｇｆ／ｃｍ2であることが好ましい。０．
１ｋｇｆ／ｃｍ2未満であると剥離液を充分に飛ばすこ
とができず、０．２ｋｇｆ／ｃｍ2をこえると、強すぎ
て、瞬時に基板表面が乾燥し、ムラが発生することがあ
るからである。このムラは水洗後も残存するばあいがあ
る。
【００３０】ウォーターノズル４は、エアーノズル３が
圧縮空気を吹き付けたあと、直ぐに、水洗水で水洗でき
るように、エアーノズル３の下流側（搬送方向）であっ
て、エアーノズル３に充分近接した位置に取り付けられ
る。これにより、エアーノズル３から吹き出された空気
によって基板が乾燥する間もなく、水に水洗されるので
乾燥ムラを生じさせない。また、ウォーターノズル４か
ら噴出される水洗流の流速は流れとして基板上に全く淀
みがなく、どの場所も水が常に流れている状態を維持で
きるほどに急速であり、もし、アミン類の剥離液が微量
に残留しており、それと水とが反応してアルカリ性を呈
していたとしても、淀むことなく急速に流し去られるた
め、基板が腐食する暇を与えない。
圧縮空気を吹き付けたあと、直ぐに、水洗水で水洗でき
るように、エアーノズル３の下流側（搬送方向）であっ
て、エアーノズル３に充分近接した位置に取り付けられ
る。これにより、エアーノズル３から吹き出された空気
によって基板が乾燥する間もなく、水に水洗されるので
乾燥ムラを生じさせない。また、ウォーターノズル４か
ら噴出される水洗流の流速は流れとして基板上に全く淀
みがなく、どの場所も水が常に流れている状態を維持で
きるほどに急速であり、もし、アミン類の剥離液が微量
に残留しており、それと水とが反応してアルカリ性を呈
していたとしても、淀むことなく急速に流し去られるた
め、基板が腐食する暇を与えない。
【００３１】なお、基板１を乾燥させないためにはウォ
ーターノズル４がエアーノズル３の近くに設けられれば
よく、ウォーターノズル４の噴出方向についてはとくに
限定されない。しかしながら、剥離液５と混合する水洗
水７は可能な限り少ないほうが好ましく、図１に示され
るように、ウォーターノズル４は垂直か、あるいは図２
に示されるように搬送方向（矢印Ａ方向）に水洗水を噴
出するよう傾けて取り付けられることが好ましい。
ーターノズル４がエアーノズル３の近くに設けられれば
よく、ウォーターノズル４の噴出方向についてはとくに
限定されない。しかしながら、剥離液５と混合する水洗
水７は可能な限り少ないほうが好ましく、図１に示され
るように、ウォーターノズル４は垂直か、あるいは図２
に示されるように搬送方向（矢印Ａ方向）に水洗水を噴
出するよう傾けて取り付けられることが好ましい。
【００３２】図１に示されるウォーターノズル４は、基
板１に対して垂直に設けられている。このばあい、水洗
水７が上流方向に流れ込むことを防ぐために、エアノズ
ル３から噴出される空気が基板１を押す風圧点８に、水
洗水７が到達しないような距離Ｌ１だけ離れた位置にウ
ォーターノズル４を設けることが好ましい。
板１に対して垂直に設けられている。このばあい、水洗
水７が上流方向に流れ込むことを防ぐために、エアノズ
ル３から噴出される空気が基板１を押す風圧点８に、水
洗水７が到達しないような距離Ｌ１だけ離れた位置にウ
ォーターノズル４を設けることが好ましい。
【００３３】また、図２に示されるウォーターノズル１
１は、基板１の法線１４に対し角度θ２だけ上流側に傾
き、水洗水１２を下流側に向けて吹き出す。角度θ２
は、３０〜４５度のあいだにあることが好ましい。ま
た、このとき、風圧点８とウォーターノズル１１の吹き
出し点１５とのあいだの距離Ｌ２は、ウォーターノズル
１１からの水洗水がエアーノズル３にまで到達しない距
離である。
１は、基板１の法線１４に対し角度θ２だけ上流側に傾
き、水洗水１２を下流側に向けて吹き出す。角度θ２
は、３０〜４５度のあいだにあることが好ましい。ま
た、このとき、風圧点８とウォーターノズル１１の吹き
出し点１５とのあいだの距離Ｌ２は、ウォーターノズル
１１からの水洗水がエアーノズル３にまで到達しない距
離である。
【００３４】図２に示されるウォーターノズル１１で
は、風圧点８での剥離液５と水洗水１２との混合を、よ
り完全に防止することができる。
は、風圧点８での剥離液５と水洗水１２との混合を、よ
り完全に防止することができる。
【００３５】図３に示されるフォトレジスト除去装置
は、図２に示されるフォトレジスト除去装置のエアーノ
ズル３とウォーターノズル１１とのあいだにさらに、第
２エアーノズル１３を設けている。この第２エアーノズ
ル１３は、ウォーターノズル１１から噴出される水洗水
１２が、上流側に流れ込まないように、さらに完全にブ
ロックすることができるほかに、噴出によって飛散する
水滴をも、上流側に飛ばないようすることができる。こ
れによって、上流側で吹き飛ばされる前の剥離液５に、
飛散した水滴が混合し、アルカリ性水溶液となってパタ
ーンを腐食する惧れまで完全になくすことができる。
は、図２に示されるフォトレジスト除去装置のエアーノ
ズル３とウォーターノズル１１とのあいだにさらに、第
２エアーノズル１３を設けている。この第２エアーノズ
ル１３は、ウォーターノズル１１から噴出される水洗水
１２が、上流側に流れ込まないように、さらに完全にブ
ロックすることができるほかに、噴出によって飛散する
水滴をも、上流側に飛ばないようすることができる。こ
れによって、上流側で吹き飛ばされる前の剥離液５に、
飛散した水滴が混合し、アルカリ性水溶液となってパタ
ーンを腐食する惧れまで完全になくすことができる。
【００３６】このような第２エアーノズルは、図１に示
されるフォトレジスト除去装置のエアーノズル３とウォ
ーターノズル４のあいだに設けることもできる。
されるフォトレジスト除去装置のエアーノズル３とウォ
ーターノズル４のあいだに設けることもできる。
【００３７】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明のフォトレ
ジスト除去方法および装置は、エアーノズルの下流側
で、エアーノズルに充分近接した位置に、水洗用のウォ
ーターノズルを設けたことにより、エアーの吹き付けに
より剥離液を取り除いたあと、直ぐに、水洗することが
できる。したがって、エアー吹き付け後に剥離液が残存
していても、それが基板上で乾燥することがなく、処理
ムラを生じさせない。
ジスト除去方法および装置は、エアーノズルの下流側
で、エアーノズルに充分近接した位置に、水洗用のウォ
ーターノズルを設けたことにより、エアーの吹き付けに
より剥離液を取り除いたあと、直ぐに、水洗することが
できる。したがって、エアー吹き付け後に剥離液が残存
していても、それが基板上で乾燥することがなく、処理
ムラを生じさせない。
【００３８】また、ウォーターノズルを下流側に向け、
あるいは第２エアーノズルを、エアーノズルとウォータ
ーノズルのあいだに設けることにより、ウォーターノズ
ルから噴出される水洗水が上流側に移動するのを防ぐこ
とができるとともに、ウォーターノズルが飛散させる水
滴が上流側に飛ぶのを防ぐこともでき、さらに欠陥のな
い基板の製造を可能にする。
あるいは第２エアーノズルを、エアーノズルとウォータ
ーノズルのあいだに設けることにより、ウォーターノズ
ルから噴出される水洗水が上流側に移動するのを防ぐこ
とができるとともに、ウォーターノズルが飛散させる水
滴が上流側に飛ぶのを防ぐこともでき、さらに欠陥のな
い基板の製造を可能にする。
【図１】本発明のフォトレジスト除去装置の一態様を示
す説明図である。
す説明図である。
【図２】本発明のフォトレジスト除去装置の他の態様を
示す説明図である。
示す説明図である。
【図３】本発明のフォトレジスト除去装置のさらに他の
態様を示す説明図である。
態様を示す説明図である。
【図４】従来のフォトレジスト除去装置の一例を示す説
明図である。
明図である。
１ 基板 ２ 搬送用ローラー ３ エアーノズル ４、１１ ウォーターノズル ５ 剥離液 ７、１２ 水洗水 １３ 第２エアーノズル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平７−64297（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−274722（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−3151（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−41217（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−59084（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−90162（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−236217（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−146560（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−43477（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−315619（ＪＰ，Ａ) 実開 昭62−40825（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G03F 7/42 H01L 21/027 H01L 21/306
Claims (6)
- 【請求項１】 エッチング後の基板を水平に搬送しつ
つ、アミン類を主成分としたフォトレジスト剥離液を用
いてフォトレジストを除去するフォトレジスト除去方法
であって、剥離液をエアーノズルから噴出するエアーの
吹き付けにより基板上から取り除いたあと、直ぐに、急
速な水洗流により基板上を水洗することを特徴とするフ
ォトレジスト除去方法。 - 【請求項２】 前記水洗流を前記基板の搬送方向に向け
て噴出させ、基板が搬送される方向に対して上流側に水
洗水が流れ込まないようにする請求項１記載のフォトレ
ジスト除去方法。 - 【請求項３】 前記水洗流により基板上に噴出した水洗
水をさらに、エアーの吹き付けにより搬送方向に吹き飛
ばし、噴出により飛散した水滴が上流側に飛ぶのを防ぐ
請求項１または２記載のフォトレジスト除去方法。 - 【請求項４】 エッチングされた基板を搬送する搬送手
段を有し、エッチング後のフォトレジストの除去にアミ
ン類を主成分としたフォトレジスト剥離液を用いるフォ
トレジスト除去装置であって、（ａ）前記基板上から剥
離液を取り除くために、基板の搬送方向に対し上流側に
向けて空気を噴出するように設けられたエアーノズル
と、（ｂ）搬送方向に対し前記エアーノズルの下流側
で、当該エアーノズルに充分近接した位置に、前記基板
上を水洗するための水を噴出するよう設けられたウォー
ターノズルからなることを特徴とするフォトレジスト除
去装置。 - 【請求項５】 前記ウォーターノズルが搬送方向に対し
て下流側に向けて水を噴出するよう設けられてなる請求
項４記載のフォトレジスト除去装置。 - 【請求項６】 前記エアーノズルと前記ウォーターノズ
ルのあいだに、下流側に向けて空気を噴出する第２エア
ーノズルを設け、前記ウォーターノズルからの水が上流
側に移動するのを防止するよう構成されてなる請求項４
または５記載のフォトレジスト除去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30118495A JP3165883B2 (ja) | 1995-11-20 | 1995-11-20 | フォトレジスト除去方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30118495A JP3165883B2 (ja) | 1995-11-20 | 1995-11-20 | フォトレジスト除去方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09146284A JPH09146284A (ja) | 1997-06-06 |
| JP3165883B2 true JP3165883B2 (ja) | 2001-05-14 |
Family
ID=17893792
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30118495A Expired - Fee Related JP3165883B2 (ja) | 1995-11-20 | 1995-11-20 | フォトレジスト除去方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3165883B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001015480A (ja) * | 1999-06-29 | 2001-01-19 | Tokyo Electron Ltd | 基板の処理方法 |
| JP4528415B2 (ja) * | 2000-04-28 | 2010-08-18 | 住友化学株式会社 | エッチング処理基板の剥離液除去方法 |
| JP4346967B2 (ja) * | 2003-06-13 | 2009-10-21 | 住友精密工業株式会社 | レジスト剥離装置 |
-
1995
- 1995-11-20 JP JP30118495A patent/JP3165883B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09146284A (ja) | 1997-06-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3918401B2 (ja) | 基板乾燥装置及び乾燥方法、並びに基板の製造方法 | |
| JP4776380B2 (ja) | 処理装置及び処理方法 | |
| JP3070511B2 (ja) | 基板乾燥装置 | |
| JPH09323060A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP3165883B2 (ja) | フォトレジスト除去方法および装置 | |
| TWI227035B (en) | Substrate processing device of transporting type | |
| JP4352194B2 (ja) | 基板乾燥装置及び基板乾燥方法 | |
| TW548697B (en) | Substrate processing device | |
| JP2000288488A (ja) | スリットノズルの洗浄装置 | |
| JP3622842B2 (ja) | 搬送式基板処理装置 | |
| JPH08236498A (ja) | エアナイフ乾燥方法 | |
| JP2002113430A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP3866856B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP4542448B2 (ja) | レジスト剥離除去装置 | |
| JP2007317802A (ja) | 基板の乾燥処理装置及び乾燥処理方法 | |
| JP2005019991A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP4147721B2 (ja) | 洗浄装置及びエッチング装置並びに洗浄方法及びエッチング方法 | |
| JP2002141269A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| JP3452895B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2006272199A (ja) | 基板乾燥装置 | |
| JPH10242047A (ja) | 処理液処理方法および基板連続処理装置 | |
| KR101041052B1 (ko) | 기판처리장치 | |
| JP2003092284A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2003229356A (ja) | 基板処理装置 | |
| KR20060027597A (ko) | 기판세정장치 및 기판세정방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |