JP4528415B2 - エッチング処理基板の剥離液除去方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、特に液晶カラーフィルターにおけるブラックマトリックスの製造に使用されるエッチング処理基板の剥離液除去方法に関する。
【従来の技術】
【０００２】
カラー液晶表示装置に用いられる液晶カラーフィルターは、ガラス基板等の基板上に、精密にパターニングされたブラックマトリックスを形成し、ついで赤色、緑色、青色等に着色された透明着色層をフォトリソグラフィーにて規則的にパターニングしたものである。ブラックマトリックスは、画素（開口部）以外の部分でのバックライトの光を遮って表示コントラストを向上させ、また各着色層間の混色を防止する等の機能を有する。
【０００３】
ブラックマトリックスには高い遮光率、低反射率等が要求されることから、ブラックマトリックス材料としては、酸化クロム層と金属クロム層とがこの順に積層された２層クロム膜が広く使用されている。このようなブラックマトリックスは、通常、酸化クロム層および金属クロム槽をスパッタリングにより形成後、スピンコーターにてホトレジストを塗布し、ついで選択的に露光、現像し、さらにクロム層のエッチング、剥離の各工程を経て形成される。エッチング液としては、硝酸第２セリウムアンモンと塩酸との混合液等が使用され、剥離液には、通常、アルカリ液、特に水酸化カリウム水溶液が使用される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
図３に示すように、ブラックマトリックスの製造工程では、エッチング後、基板１の移送方向（矢印Ａで示す）に沿って剥離槽４１、剥離液除去槽４２および水洗槽４３がこの順に並設される。基板１は、搬送ローラ５３にて各槽の仕切壁５１，５２に設けた開口４４，４５を経て移送される。
【０００５】
剥離槽４１は上部にシャワー４６が設置され、このシャワー４６から剥離液（アルカリ液）を基板１の表面に散布する。剥離液除去槽４２では一対のエアーノズル４７，４７（エアーナイフ）が設置され、剥離槽４１を通過した基板１の両面にエアーを吹き出して剥離液の除去を行う。しかる後、基板１は水洗槽４３に送られシャワー４８にて水洗される。エアーノズル４７による剥離液の除去は、剥離液の剥離槽４１からの持ち出し量を低減し、ロスを少なくするためである。このため、仕切壁５１の底部には剥離液戻し孔４９が設けられ、除去された剥離液を剥離槽４１に戻している。
【０００６】
ところが、エアーノズル４７は、基板１の幅全体にエアーを吹き出させるために、先端開口が長いスリット状となっているため、エアーの吹きつけにムラが発生しやすい。このため、エアー吹きつけ量が多い箇所では、基板１が乾燥してしまい、次の水洗操作で汚れを充分に除去できなくなるおそれがある。一方、エアー吹きつけ量が少ない箇所では、剥離液が多量に残留した水洗工程に送られるため、剥離液の持ち出し量が多くなるという問題がある。
【０００７】
従って、本発明の目的は、ムラを生じさせることなく基板表面の剥離液を除去することができるエッチング処理基板の剥離液除去方法を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するための本発明の剥離液除去方法は、エッチング処理および剥離液散布がなされた基板を剥離液除去槽に通し、この剥離液除去槽内に設けた上下一対のローラ間に前記基板を通して前記基板の表面から剥離液を除去するエッチング処理基板の剥離液除去方法であって、前記基板のエッチング処理面と上側のローラとの間隙が０．１〜０．８ｍｍであることを特徴とする。
【０００９】
かかる本発明の剥離液除去方法によれば、剥離液を散布した基板を上下一対のローラ間に通すので、ローラと基板との間隙を調整することによって、乾燥しすぎず、また、液切り不足等のムラを発生させることなく、基板全面に剥離液の均一な薄膜を残し、余分な剥離液を除去することができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明の一実施形態を図１および図２に基づいて説明する。図１は本発明にかかる剥離液除去装置を備えた、ブラックマトリックスの製造工程におけるエッチング後の剥離装置全体を示している。すなわち、図１に示す剥離装置は、従来と同様に、基板１の移送方向（矢印Ａで示す）に沿って剥離槽２、剥離液除去槽３および水洗槽４がこの順に並設される。これらの各槽２，３，４には基板１を搬送するための搬送ローラ５が設けられる。
【００１１】
前記基板１としては、カラーフィルタの製造に使用されるガラス基板等が挙げられる。この基板１は、前工程においてブラックマトリックス形成用のエッチング処理が施されたものである。
【００１２】
剥離槽２には、その上方に複数の剥離液散布用のシャワー６，６・・・（剥離液散布手段）が設けられ、これらのシャワー６，６・・・から剥離液を基板１に散布する。
【００１３】
剥離液除去槽３の内部には上下一対の液切りローラ７，７が設けられる。図２はこのローラ７，７の作用を示しており、剥離槽２で剥離液８が散布された基板１をローラ７，７間に通して余分な剥離液８を除去する。このとき、前記一対のローラ間に前記基板を通した状態で、上側のローラ７と基板１のエッチング処理面との間には所定の間隙９が形成されているので、基板１の表面に剥離液の薄膜８１が形成される。
【００１４】
間隙９は任意に調整可能であるが、０．１〜０．８ｍｍ程度であるのがよい。間隙９が０．１ｍｍ未満の場合には、いわゆる乾きすぎの状態となり、基板１に残留した汚れを次の水洗槽４にて充分に洗浄除去できなくなるおそれがある。一方、間隙９が０．８ｍｍを超える場合には、液切りが不充分であるため、剥離液８の持ち出し量が多くなり、コストアップになるおそれがある。
【００１５】
ローラ７，７としては、耐薬品性、特に剥離液８がアルカリ液であることから、耐アルカリ性に優れたものが好ましい。このようなローラ７，７としては、例えばナイロン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、フッ素樹脂、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、キシレン樹脂等の合成樹脂、塩素化ゴム、ブチルゴム、ポリクロロプレンゴム、ＥＰＭ、ＥＰＤＭ等のゴム、さらに耐薬品性、耐アルカリ性に優れた金属等から構成することができるが、これらに限定されるものではない。
表面に剥離液の薄膜８１が形成された基板１は、水洗槽４に送られ、水洗用シャワー１０から散布された洗浄水で洗浄される。
【００１６】
なお、本発明の剥離液除去方法はカラーフィルター用ブラックマトリックスの製造での使用に限定されるものではなく、エッチング処理を行う種々な分野においても同様にして適用可能である。
【００１７】
【発明の効果】
本発明の剥離液除去方法によれば、剥離液を散布した基板を上下一対のローラ間に通した状態で、上側のローラと基板との間隙を調整することによって、ムラを発生させることなく、基板全面に剥離液の均一な薄膜を残すことができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の剥離液除去方法にかかる剥離液除去装置を含む剥離装置全体の一例を示す説明図である。
【図２】一対のローラによる剥離液の除去作用を示す説明図である。
【図３】従来の剥離液除去装置を含む剥離装置の説明図である。
【符号の説明】
１ 基板
２ 剥離槽
３ 剥離液除去槽
４ 水洗槽
７ ローラ
８ 剥離液
９ 間隙
【発明の属する技術分野】
本発明は、特に液晶カラーフィルターにおけるブラックマトリックスの製造に使用されるエッチング処理基板の剥離液除去方法に関する。
【従来の技術】
【０００２】
カラー液晶表示装置に用いられる液晶カラーフィルターは、ガラス基板等の基板上に、精密にパターニングされたブラックマトリックスを形成し、ついで赤色、緑色、青色等に着色された透明着色層をフォトリソグラフィーにて規則的にパターニングしたものである。ブラックマトリックスは、画素（開口部）以外の部分でのバックライトの光を遮って表示コントラストを向上させ、また各着色層間の混色を防止する等の機能を有する。
【０００３】
ブラックマトリックスには高い遮光率、低反射率等が要求されることから、ブラックマトリックス材料としては、酸化クロム層と金属クロム層とがこの順に積層された２層クロム膜が広く使用されている。このようなブラックマトリックスは、通常、酸化クロム層および金属クロム槽をスパッタリングにより形成後、スピンコーターにてホトレジストを塗布し、ついで選択的に露光、現像し、さらにクロム層のエッチング、剥離の各工程を経て形成される。エッチング液としては、硝酸第２セリウムアンモンと塩酸との混合液等が使用され、剥離液には、通常、アルカリ液、特に水酸化カリウム水溶液が使用される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
図３に示すように、ブラックマトリックスの製造工程では、エッチング後、基板１の移送方向（矢印Ａで示す）に沿って剥離槽４１、剥離液除去槽４２および水洗槽４３がこの順に並設される。基板１は、搬送ローラ５３にて各槽の仕切壁５１，５２に設けた開口４４，４５を経て移送される。
【０００５】
剥離槽４１は上部にシャワー４６が設置され、このシャワー４６から剥離液（アルカリ液）を基板１の表面に散布する。剥離液除去槽４２では一対のエアーノズル４７，４７（エアーナイフ）が設置され、剥離槽４１を通過した基板１の両面にエアーを吹き出して剥離液の除去を行う。しかる後、基板１は水洗槽４３に送られシャワー４８にて水洗される。エアーノズル４７による剥離液の除去は、剥離液の剥離槽４１からの持ち出し量を低減し、ロスを少なくするためである。このため、仕切壁５１の底部には剥離液戻し孔４９が設けられ、除去された剥離液を剥離槽４１に戻している。
【０００６】
ところが、エアーノズル４７は、基板１の幅全体にエアーを吹き出させるために、先端開口が長いスリット状となっているため、エアーの吹きつけにムラが発生しやすい。このため、エアー吹きつけ量が多い箇所では、基板１が乾燥してしまい、次の水洗操作で汚れを充分に除去できなくなるおそれがある。一方、エアー吹きつけ量が少ない箇所では、剥離液が多量に残留した水洗工程に送られるため、剥離液の持ち出し量が多くなるという問題がある。
【０００７】
従って、本発明の目的は、ムラを生じさせることなく基板表面の剥離液を除去することができるエッチング処理基板の剥離液除去方法を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するための本発明の剥離液除去方法は、エッチング処理および剥離液散布がなされた基板を剥離液除去槽に通し、この剥離液除去槽内に設けた上下一対のローラ間に前記基板を通して前記基板の表面から剥離液を除去するエッチング処理基板の剥離液除去方法であって、前記基板のエッチング処理面と上側のローラとの間隙が０．１〜０．８ｍｍであることを特徴とする。
【０００９】
かかる本発明の剥離液除去方法によれば、剥離液を散布した基板を上下一対のローラ間に通すので、ローラと基板との間隙を調整することによって、乾燥しすぎず、また、液切り不足等のムラを発生させることなく、基板全面に剥離液の均一な薄膜を残し、余分な剥離液を除去することができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明の一実施形態を図１および図２に基づいて説明する。図１は本発明にかかる剥離液除去装置を備えた、ブラックマトリックスの製造工程におけるエッチング後の剥離装置全体を示している。すなわち、図１に示す剥離装置は、従来と同様に、基板１の移送方向（矢印Ａで示す）に沿って剥離槽２、剥離液除去槽３および水洗槽４がこの順に並設される。これらの各槽２，３，４には基板１を搬送するための搬送ローラ５が設けられる。
【００１１】
前記基板１としては、カラーフィルタの製造に使用されるガラス基板等が挙げられる。この基板１は、前工程においてブラックマトリックス形成用のエッチング処理が施されたものである。
【００１２】
剥離槽２には、その上方に複数の剥離液散布用のシャワー６，６・・・（剥離液散布手段）が設けられ、これらのシャワー６，６・・・から剥離液を基板１に散布する。
【００１３】
剥離液除去槽３の内部には上下一対の液切りローラ７，７が設けられる。図２はこのローラ７，７の作用を示しており、剥離槽２で剥離液８が散布された基板１をローラ７，７間に通して余分な剥離液８を除去する。このとき、前記一対のローラ間に前記基板を通した状態で、上側のローラ７と基板１のエッチング処理面との間には所定の間隙９が形成されているので、基板１の表面に剥離液の薄膜８１が形成される。
【００１４】
間隙９は任意に調整可能であるが、０．１〜０．８ｍｍ程度であるのがよい。間隙９が０．１ｍｍ未満の場合には、いわゆる乾きすぎの状態となり、基板１に残留した汚れを次の水洗槽４にて充分に洗浄除去できなくなるおそれがある。一方、間隙９が０．８ｍｍを超える場合には、液切りが不充分であるため、剥離液８の持ち出し量が多くなり、コストアップになるおそれがある。
【００１５】
ローラ７，７としては、耐薬品性、特に剥離液８がアルカリ液であることから、耐アルカリ性に優れたものが好ましい。このようなローラ７，７としては、例えばナイロン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、フッ素樹脂、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、キシレン樹脂等の合成樹脂、塩素化ゴム、ブチルゴム、ポリクロロプレンゴム、ＥＰＭ、ＥＰＤＭ等のゴム、さらに耐薬品性、耐アルカリ性に優れた金属等から構成することができるが、これらに限定されるものではない。
表面に剥離液の薄膜８１が形成された基板１は、水洗槽４に送られ、水洗用シャワー１０から散布された洗浄水で洗浄される。
【００１６】
なお、本発明の剥離液除去方法はカラーフィルター用ブラックマトリックスの製造での使用に限定されるものではなく、エッチング処理を行う種々な分野においても同様にして適用可能である。
【００１７】
【発明の効果】
本発明の剥離液除去方法によれば、剥離液を散布した基板を上下一対のローラ間に通した状態で、上側のローラと基板との間隙を調整することによって、ムラを発生させることなく、基板全面に剥離液の均一な薄膜を残すことができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の剥離液除去方法にかかる剥離液除去装置を含む剥離装置全体の一例を示す説明図である。
【図２】一対のローラによる剥離液の除去作用を示す説明図である。
【図３】従来の剥離液除去装置を含む剥離装置の説明図である。
【符号の説明】
１ 基板
２ 剥離槽
３ 剥離液除去槽
４ 水洗槽
７ ローラ
８ 剥離液
９ 間隙
Claims (1)
- エッチング処理および剥離液散布がなされた基板を剥離液除去槽に通し、この剥離液除去槽内に設けた上下一対のローラ間に前記基板を通して前記基板の表面から剥離液を除去するエッチング処理基板の剥離液除去方法であって、前記基板のエッチング処理面と上側のローラとの間隙が０．１〜０．８ｍｍであることを特徴とするエッチング処理基板の剥離液除去方法。
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|---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2000130531A JP4528415B2 (ja) | 2000-04-28 | 2000-04-28 | エッチング処理基板の剥離液除去方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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|---|---|---|---|
| JP2000130531A Expired - Fee Related JP4528415B2 (ja) | 2000-04-28 | 2000-04-28 | エッチング処理基板の剥離液除去方法 |
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Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPH0888204A (ja) * | 1994-09-20 | 1996-04-02 | Casio Comput Co Ltd | 被膜のエッチング・剥離装置 |
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| JPH09147744A (ja) * | 1995-11-21 | 1997-06-06 | Sony Corp | シャドウマスクの製造方法及び製造装置 |
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| JPH11204917A (ja) * | 1998-01-09 | 1999-07-30 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | レジスト剥離方法および剥離装置 |
-
2000
- 2000-04-28 JP JP2000130531A patent/JP4528415B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2001316854A (ja) | 2001-11-16 |
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