JP3160209B2 - オキサスピロウンデカン基を含有するポリカーボネート共重合体およびその製造法 - Google Patents
オキサスピロウンデカン基を含有するポリカーボネート共重合体およびその製造法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はオキサスピロウンデ
カン基を含有するポリカーボネート共重合体およびその
製造法に関する。さらに詳しくは光学的性質の優れた新
規なポリカーボネート共重合体および工業的に有利なそ
の効率的製造法に関する。
カン基を含有するポリカーボネート共重合体およびその
製造法に関する。さらに詳しくは光学的性質の優れた新
規なポリカーボネート共重合体および工業的に有利なそ
の効率的製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】２，２―ビス（４―ヒドロキシフェニ
ル）プロパン（通称ビスフェノールＡ）とホスゲンある
いは炭酸ジフェニルなどの炭酸エステル形成性化合物と
反応させて製造されるポリカーボネート樹脂は、透明
性、耐熱性および機械的強度にすぐれているため広範な
用途に供されている。
ル）プロパン（通称ビスフェノールＡ）とホスゲンある
いは炭酸ジフェニルなどの炭酸エステル形成性化合物と
反応させて製造されるポリカーボネート樹脂は、透明
性、耐熱性および機械的強度にすぐれているため広範な
用途に供されている。
【０００３】しかし、様々な用途の拡大に伴って、ポリ
カーボネート樹脂に対する要求特性が厳しくなり、より
すぐれた性能を有するポリカーボネート樹脂の出現が要
望されている。特に従来のポリカーボネート樹脂を用い
て射出成形などにより成型品を得た場合、この成型品は
応力光学歪みが大きくなりやすく、すなわち複屈折が大
きくなりやすく、このような光学歪みが問題となるよう
な光学用機器の素材としては好ましくないという問題点
がある。
カーボネート樹脂に対する要求特性が厳しくなり、より
すぐれた性能を有するポリカーボネート樹脂の出現が要
望されている。特に従来のポリカーボネート樹脂を用い
て射出成形などにより成型品を得た場合、この成型品は
応力光学歪みが大きくなりやすく、すなわち複屈折が大
きくなりやすく、このような光学歪みが問題となるよう
な光学用機器の素材としては好ましくないという問題点
がある。
【０００４】米国特許２，９４５，００８号には、下記
繰り返し単位からなるポリエステルが開示されている。
繰り返し単位からなるポリエステルが開示されている。
【０００５】
【化７】
【０００６】この米国特許の実施例３には、上記式の構
造を含むスピログリコールとジエチルカーボネートとを
エチルオキシナトリウムを触媒として重縮合せしめ２６
０〜２７０℃で溶融する結晶性のポリカーボネートが得
られたことが記載されている。
造を含むスピログリコールとジエチルカーボネートとを
エチルオキシナトリウムを触媒として重縮合せしめ２６
０〜２７０℃で溶融する結晶性のポリカーボネートが得
られたことが記載されている。
【０００７】特開平４―８７６１号公報には、芳香族ポ
リカーボネートと屈折率１．５７以上のガラス充填材よ
りなる透明性、強度に優れたポリカーボネート組成物が
開示されている。同公報の合成例２には、上記芳香族ポ
リカーボネートの合成例として、ビスフェノールＡ４．
４ｋｇ、３，９―ビス（１，１―ジメチル―２―ヒドロ
キシエチル）―２，４，８，１０―テトラオキサスピロ
［５．５］ウンデカンのジベンゾエートすなわちスピロ
グリコールジベンゾエート（ＳＧＯＢ）７．０ｋｇ、ｐ
―ｔｅｒｔ―ブチルフェノール１６８ｇおよびホスゲン
３．８ｋｇとから、界面重縮合法により、白色粉末状の
ポリカーボネート共重合体が得られたことが開示されて
いる。
リカーボネートと屈折率１．５７以上のガラス充填材よ
りなる透明性、強度に優れたポリカーボネート組成物が
開示されている。同公報の合成例２には、上記芳香族ポ
リカーボネートの合成例として、ビスフェノールＡ４．
４ｋｇ、３，９―ビス（１，１―ジメチル―２―ヒドロ
キシエチル）―２，４，８，１０―テトラオキサスピロ
［５．５］ウンデカンのジベンゾエートすなわちスピロ
グリコールジベンゾエート（ＳＧＯＢ）７．０ｋｇ、ｐ
―ｔｅｒｔ―ブチルフェノール１６８ｇおよびホスゲン
３．８ｋｇとから、界面重縮合法により、白色粉末状の
ポリカーボネート共重合体が得られたことが開示されて
いる。
【０００８】米国特許４，４９５，３４５号明細書に
は、ポリカーボネートを主成分とする光学用樹脂組成物
が開示されている。このポリカーボネートは、２３０℃
で５ｋｇｆの条件下でＩＳＯ Ｒ―１１３３により測定
したメルトフローレートが５．０ｇ／１０分以上であ
り、ガラス転移温度が１００℃以上というものである。
このポリカーボネートの具体例として、ビスフェノール
Ａのポリカーボネートおよびテトラクロロビスフェノー
ルＡのポリカーボネートが開示されているにすぎない。
は、ポリカーボネートを主成分とする光学用樹脂組成物
が開示されている。このポリカーボネートは、２３０℃
で５ｋｇｆの条件下でＩＳＯ Ｒ―１１３３により測定
したメルトフローレートが５．０ｇ／１０分以上であ
り、ガラス転移温度が１００℃以上というものである。
このポリカーボネートの具体例として、ビスフェノール
Ａのポリカーボネートおよびテトラクロロビスフェノー
ルＡのポリカーボネートが開示されているにすぎない。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】それ故、本発明の目的
は、光学的性質の優れた新規ポリカーボネート共重合体
を提供することにある。本発明の他の目的は、透明性に
優れ、光弾性係数の小さいポリカーボネート共重合体を
提供することにある。本発明のさらに他の目的は、上記
の如き優れた光学性質を持つと共に、成形性、耐熱性、
機械的強度も優れたポリカーボネート共重合体を提供す
ることにある。本発明のさらに他の目的は、本発明の上
記諸特性に優れたポリカーボネート共重合体を工業的に
有利に且つ効率的に製造する方法を提供することにあ
る。本発明のさらに他の目的は、本発明の上記ポリカー
ボネート共重合体を情報伝達媒体もしくは情報記録媒体
のための素材として使用することを提供することにあ
る。本発明のさらに他の目的および利点は以下の説明か
ら明らかになろう。
は、光学的性質の優れた新規ポリカーボネート共重合体
を提供することにある。本発明の他の目的は、透明性に
優れ、光弾性係数の小さいポリカーボネート共重合体を
提供することにある。本発明のさらに他の目的は、上記
の如き優れた光学性質を持つと共に、成形性、耐熱性、
機械的強度も優れたポリカーボネート共重合体を提供す
ることにある。本発明のさらに他の目的は、本発明の上
記諸特性に優れたポリカーボネート共重合体を工業的に
有利に且つ効率的に製造する方法を提供することにあ
る。本発明のさらに他の目的は、本発明の上記ポリカー
ボネート共重合体を情報伝達媒体もしくは情報記録媒体
のための素材として使用することを提供することにあ
る。本発明のさらに他の目的および利点は以下の説明か
ら明らかになろう。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、本発明
の上記目的および利点は、第１に、下記式（Ｉ）
の上記目的および利点は、第１に、下記式（Ｉ）
【００１１】
【化８】
【００１２】で表わされる繰返し単位５〜９５モル％と
下記式（II）
下記式（II）
【００１３】
【化９】
【００１４】［ここで、Ｒ1 は水素原子、炭素数１〜６
のアルキル基又は炭素数６〜１０のアリール基であり、
Ｒ2 およびＲ3 は、互いに独立に、水素原子又は炭素数
１〜６のアルキル基であり、―Ａ―Ｏ―は、Ａが単結合
でオキシ基（―Ｏ―）を表わすか又は―Ｏ―（炭素数２
〜４のアルキレン基）―Ｏ―基を表わし、
のアルキル基又は炭素数６〜１０のアリール基であり、
Ｒ2 およびＲ3 は、互いに独立に、水素原子又は炭素数
１〜６のアルキル基であり、―Ａ―Ｏ―は、Ａが単結合
でオキシ基（―Ｏ―）を表わすか又は―Ｏ―（炭素数２
〜４のアルキレン基）―Ｏ―基を表わし、
【００１５】
【化１０】
【００１６】で表わされる繰返し単位９５〜５モル％か
ら実質的になり、塩化メチレンを溶媒として０．５ｇ／
ｄｌ濃度の溶液の２０℃における還元粘度（ηsp／ｃ）
が少なくとも０．３ｄｌ／ｇであり、光弾性係数が７０
×１０-13 ｃｍ2 ／ｄｙｎｅ以下であり、そしてガラス
転移温度が少くとも９５℃である、ことを特徴とするポ
リカーボネート共重合体によって達成される。
ら実質的になり、塩化メチレンを溶媒として０．５ｇ／
ｄｌ濃度の溶液の２０℃における還元粘度（ηsp／ｃ）
が少なくとも０．３ｄｌ／ｇであり、光弾性係数が７０
×１０-13 ｃｍ2 ／ｄｙｎｅ以下であり、そしてガラス
転移温度が少くとも９５℃である、ことを特徴とするポ
リカーボネート共重合体によって達成される。
【００１７】本発明のポリカーボネート共重合体は、上
記のとおり、上記式（Ｉ）の繰り返し単位と上記式（I
I）の繰り返し単位から実質的になる。上記式（II）に
おいて、Ｒ1 は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数６〜１０のアリール基である。
記のとおり、上記式（Ｉ）の繰り返し単位と上記式（I
I）の繰り返し単位から実質的になる。上記式（II）に
おいて、Ｒ1 は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数６〜１０のアリール基である。
【００１８】炭素数１〜６のアルキル基は直鎖状であっ
ても分岐鎖状であってもよく、その例としてはメチル
基、エチル基、ｎ―プロピル基、ｉｓｏ―プロピル基、
ｎ―ブチル基、ｉｓｏ―ブチル基、ｓｅｃ―ブチル基、
ｔｅｒｔ―ブチル基、ｎ―ペンチル基、ｎ―ヘキシル基
を挙げることができる。
ても分岐鎖状であってもよく、その例としてはメチル
基、エチル基、ｎ―プロピル基、ｉｓｏ―プロピル基、
ｎ―ブチル基、ｉｓｏ―ブチル基、ｓｅｃ―ブチル基、
ｔｅｒｔ―ブチル基、ｎ―ペンチル基、ｎ―ヘキシル基
を挙げることができる。
【００１９】炭素数６〜１０のアリール基としては、例
えばフェニル基、トリル基、キシリル基、クミル基、ナ
フチル基を挙げることができる。
えばフェニル基、トリル基、キシリル基、クミル基、ナ
フチル基を挙げることができる。
【００２０】Ｒ2 およびＲ3 は同一もしくは異なり、水
素原子または炭素数１〜６のアルキル基である。炭素数
１〜６のアルキル基の具体例としては上記Ｒ1 について
例示したものと同じものを例示できる。
素原子または炭素数１〜６のアルキル基である。炭素数
１〜６のアルキル基の具体例としては上記Ｒ1 について
例示したものと同じものを例示できる。
【００２１】基―Ａ―Ｏ―はＡが単結合であり全体とし
てオキシ基（―Ｏ―）を表わすかあるいは―Ｏ―（炭素
数２〜４のアルキレン基）―Ｏ―基を表わす。後者の基
の中の炭素数２〜４のアルキレン基としては、例えば、
１，２―エチレン、１，１―エチレン、１，３―トリメ
チレン、１，２―プロピレン、１，４―テトラメチレン
を挙げることができる。
てオキシ基（―Ｏ―）を表わすかあるいは―Ｏ―（炭素
数２〜４のアルキレン基）―Ｏ―基を表わす。後者の基
の中の炭素数２〜４のアルキレン基としては、例えば、
１，２―エチレン、１，１―エチレン、１，３―トリメ
チレン、１，２―プロピレン、１，４―テトラメチレン
を挙げることができる。
【００２２】Ｘが表わす基：
【００２３】
【化１１】
【００２４】［ここで、Ｒ4 とＲ5 は、同一もしくは異
なり、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素
数６〜１０のアリール基である。］において、Ｒ4 およ
びＲ5 の上記炭素数１〜６のアルキル基および炭素数６
〜１０のアリール基としては上記基Ｒ1 について例示し
たものと同じものを例示できる。
なり、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素
数６〜１０のアリール基である。］において、Ｒ4 およ
びＲ5 の上記炭素数１〜６のアルキル基および炭素数６
〜１０のアリール基としては上記基Ｒ1 について例示し
たものと同じものを例示できる。
【００２５】Ｘが表わす基：
【００２６】
【化１２】
【００２７】としては、例えば１―フェニル―１―メチ
ルメチレン基、プロピルメチレン基、２，２―プロピリ
デン基を好ましいものとして挙げることができる。
ルメチレン基、プロピルメチレン基、２，２―プロピリ
デン基を好ましいものとして挙げることができる。
【００２８】Ｘが表わす基：
【００２９】
【化１３】
【００３０】［ここで、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 は同一も
しくは異なり、水素原子または炭素数１〜６のアルキル
基であり、ｎは０または１である。］において、Ｒ6 、
Ｒ7 およびＲ8 の上記炭素数１〜６のアルキル基として
は上記Ｒ1 について例示したものと同じものを例示でき
る。
しくは異なり、水素原子または炭素数１〜６のアルキル
基であり、ｎは０または１である。］において、Ｒ6 、
Ｒ7 およびＲ8 の上記炭素数１〜６のアルキル基として
は上記Ｒ1 について例示したものと同じものを例示でき
る。
【００３１】
【化１４】
【００３２】としては、例えばシクロヘキシリデン基、
３，３，５―トリメチル―１，１―シクロヘキシリデン
基を好ましいものとして挙げることができる。
３，３，５―トリメチル―１，１―シクロヘキシリデン
基を好ましいものとして挙げることができる。
【００３３】Ｘは、上記の他に、
【００３４】
【化１５】
【００３５】で表わされる基であることができる。
【００３６】上記式（II）で表わされる繰り返し単位と
しては、例えば
しては、例えば
【００３７】
【化１６】
【００３８】
【化１７】
【００３９】
【化１８】
【００４０】
【化１９】
【００４１】
【化２０】
【００４２】
【化２１】
【００４３】
【化２２】
【００４４】
【化２３】
【００４５】を好ましいものとして挙げることができ
る。
る。
【００４６】式（II）で表わされるこれらの繰り返し単
位（Ａ）〜（Ｐ）は、本発明のポリカーボネート共重合
体に１種または２種以上で存在することができる。とり
わけ、式（II）で表わされる繰り返し単位として、上記
（Ａ）〜（Ｍ）よりなる群から選ばれる第１の繰り返し
単位と上記（Ｎ）〜（Ｐ）よりなる群から選ばれる第２
の繰り返し単位との組合せであるのが特に好ましい。
位（Ａ）〜（Ｐ）は、本発明のポリカーボネート共重合
体に１種または２種以上で存在することができる。とり
わけ、式（II）で表わされる繰り返し単位として、上記
（Ａ）〜（Ｍ）よりなる群から選ばれる第１の繰り返し
単位と上記（Ｎ）〜（Ｐ）よりなる群から選ばれる第２
の繰り返し単位との組合せであるのが特に好ましい。
【００４７】従って、本発明は、上記式（II）で表わさ
れる繰り返し単位が式（Ａ）〜（Ｍ）よりなる群から選
ばれる少なくとも１種の第１の繰り返し単位であるポリ
カーボネート共重合体を包含する。
れる繰り返し単位が式（Ａ）〜（Ｍ）よりなる群から選
ばれる少なくとも１種の第１の繰り返し単位であるポリ
カーボネート共重合体を包含する。
【００４８】また、本発明は、上記式（II）で表わされ
る繰り返し単位が式（Ｎ）〜（Ｐ）よりなる群から選ば
れる少なくとも１種の第２の繰り返し単位であるポリカ
ーボネート共重合体を包含する。
る繰り返し単位が式（Ｎ）〜（Ｐ）よりなる群から選ば
れる少なくとも１種の第２の繰り返し単位であるポリカ
ーボネート共重合体を包含する。
【００４９】さらに本発明は、上記式（II）で表わされ
る繰り返し単位が、前記第１の繰り返し単位と前記第２
の繰り返し単位との組合せであるポリカーボネート共重
合体を包含する。
る繰り返し単位が、前記第１の繰り返し単位と前記第２
の繰り返し単位との組合せであるポリカーボネート共重
合体を包含する。
【００５０】本発明のポリカーボネート共重合体は、前
記式（Ｉ）で表わされる繰り返し単位５〜９５モル％と
前記式（II）で表わされる繰り返し単位９５〜５モル％
からなる。前記式（Ｉ）で表わされる繰り返し単位が５
モル％より小さい場合には所望の光学的性質が得られ
ず、９５モル％を超えると機械的強度や重合性が不充分
となる。
記式（Ｉ）で表わされる繰り返し単位５〜９５モル％と
前記式（II）で表わされる繰り返し単位９５〜５モル％
からなる。前記式（Ｉ）で表わされる繰り返し単位が５
モル％より小さい場合には所望の光学的性質が得られ
ず、９５モル％を超えると機械的強度や重合性が不充分
となる。
【００５１】前記式（Ｉ）で表わされる繰り返し単位が
好ましくは７〜９３モル％、より好ましくは１０〜８０
モル％、特に好ましくは１５〜７５モル％と、前記式
（II）で表わされる繰り返し単位が好ましくは９３〜７
モル％、より好ましくは９０〜２０モル％、特に好まし
くは８５〜２５モル％からなるものがとりわけ有利であ
る。
好ましくは７〜９３モル％、より好ましくは１０〜８０
モル％、特に好ましくは１５〜７５モル％と、前記式
（II）で表わされる繰り返し単位が好ましくは９３〜７
モル％、より好ましくは９０〜２０モル％、特に好まし
くは８５〜２５モル％からなるものがとりわけ有利であ
る。
【００５２】また、上記式（II）で表わされる繰り返し
単位が上記第１の繰返し単位と第２の繰返し単位との組
合せである場合には、上記式（Ｉ）で表わされる繰返し
単位と第１の繰返し単位の合計が少なくとも５０モル％
を占め、第２の繰返し単位が５０モル％以下であるのが
とりわけ好ましい。ここで上記式（Ｉ）で表わされる繰
返し単位と第１の繰返し単位との割合は、前者と後者の
合計量に対し、前者が９５〜５モル％、後者が５〜９５
モル％とすることができる。
単位が上記第１の繰返し単位と第２の繰返し単位との組
合せである場合には、上記式（Ｉ）で表わされる繰返し
単位と第１の繰返し単位の合計が少なくとも５０モル％
を占め、第２の繰返し単位が５０モル％以下であるのが
とりわけ好ましい。ここで上記式（Ｉ）で表わされる繰
返し単位と第１の繰返し単位との割合は、前者と後者の
合計量に対し、前者が９５〜５モル％、後者が５〜９５
モル％とすることができる。
【００５３】本発明のポリカーボネート共重合体は、塩
化メチレンを溶媒として０．５ｇ／ｄｌ濃度の溶液の２
０℃で測定した還元粘度（ηsp／ｃ）が少なくとも０．
３ｄｌ／ｇのものである。好ましい還元粘度は０．３ｄ
ｌ／ｇ〜１．０ｄｌ／ｇの範囲にある。
化メチレンを溶媒として０．５ｇ／ｄｌ濃度の溶液の２
０℃で測定した還元粘度（ηsp／ｃ）が少なくとも０．
３ｄｌ／ｇのものである。好ましい還元粘度は０．３ｄ
ｌ／ｇ〜１．０ｄｌ／ｇの範囲にある。
【００５４】また、本発明のポリカーボネート共重合体
は、光弾性係数が７０×１０-13 ｃｍ2 ／ｄｙｎｅ以下
である。１×１０-13 ｃｍ2 ／ｄｙｎｅは１Ｂｒｅｗｓ
ｔｅｒｓ（Ｂ）として知られているから、７０×１０
-13 ｃｍ2 ／ｄｙｎｅ以下は７０Ｂ以下と記載すること
ができる。
は、光弾性係数が７０×１０-13 ｃｍ2 ／ｄｙｎｅ以下
である。１×１０-13 ｃｍ2 ／ｄｙｎｅは１Ｂｒｅｗｓ
ｔｅｒｓ（Ｂ）として知られているから、７０×１０
-13 ｃｍ2 ／ｄｙｎｅ以下は７０Ｂ以下と記載すること
ができる。
【００５５】光弾性係数は、ポリカーボネート共重合体
の試験片（１０ｍｍ×１００ｍｍ×１ｍｍ）に異なる大
きさの引張応力を長さ方向に負荷し、発生する複屈折率
を測定し、下記式
の試験片（１０ｍｍ×１００ｍｍ×１ｍｍ）に異なる大
きさの引張応力を長さ方向に負荷し、発生する複屈折率
を測定し、下記式
【００５６】
【数１】Ｃ＝（ｎ1 −ｎ2 ）／（σ1 −σ2 ）
【００５７】［ここで、Ｃは光弾性係数であり、ｎ1 お
よびｎ2 はそれぞれ第１および第２の引張応力における
複屈折率でありそしてσ1 およびσ2 はそれぞれ第１お
よび第２の引張応力（ｄｙｎｅ／ｃｍ2 ）を表わす。］
から算出される。
よびｎ2 はそれぞれ第１および第２の引張応力における
複屈折率でありそしてσ1 およびσ2 はそれぞれ第１お
よび第２の引張応力（ｄｙｎｅ／ｃｍ2 ）を表わす。］
から算出される。
【００５８】光弾性係数は好ましくは６０Ｂ以下であ
り、より好ましくは５０Ｂ以下である。
り、より好ましくは５０Ｂ以下である。
【００５９】さらに、本発明のポリカーボネート共重合
体は、ガラス転移温度が少なくとも９５℃である。ガラ
ス転移温度は好ましくは少なくとも１１０℃であり、よ
り好ましくは少なくとも１２０℃である。
体は、ガラス転移温度が少なくとも９５℃である。ガラ
ス転移温度は好ましくは少なくとも１１０℃であり、よ
り好ましくは少なくとも１２０℃である。
【００６０】本発明のポリカーボネート共重合体は、本
発明の下記製造法によって工業的に有利に製造できる。
すなわち、本発明によれば、第２に、下記式（III ）
発明の下記製造法によって工業的に有利に製造できる。
すなわち、本発明によれば、第２に、下記式（III ）
【００６１】
【化２４】
【００６２】で表わされる３，９―ビス（１，１―ジメ
チル―２―ヒドロキシエチル）―２，４，８，１０―テ
トラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、下記式（IV）
チル―２―ヒドロキシエチル）―２，４，８，１０―テ
トラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、下記式（IV）
【００６３】
【化２５】
【００６４】［ここで、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、ＸおよびＡ
の定義は式（II）に同じである。］で表わされるビスフ
ェノール類および下記式（Ｖ）
の定義は式（II）に同じである。］で表わされるビスフ
ェノール類および下記式（Ｖ）
【００６５】
【化２６】
【００６６】［ここで、Ａｒ1 およびＡｒ2 は同一もし
くは異なり、フェニル基またはナフチル基であり、これ
らの基は、塩素原子、炭素数１〜６のアルキル基、メト
キシカルボニル基およびエトキシカルボニル基よりなる
群から選ばれる少なくとも１種により置換されていても
よい。］で表わされるジアリールカーボネート類とを、
上記式（III ）の化合物と上記式（IV）の化合物の合計
に基づき上記式（III ）の化合物５〜９５モル％と上記
式（IV）の化合物９５〜５モル％で用い、且つ上記式
（III ）の化合物と上記式（IV）の化合物の合計１モル
に対し上記式（Ｖ）の化合物を１．０〜１．３モルの割
合で用いて、溶融重縮合せしめて、還元粘度が少なくと
も０．３ｄｌ／ｇであるポリカーボネートを生成せしめ
ることを特徴とするポリカーボネート共重合体の製造法
が同様に提供される。
くは異なり、フェニル基またはナフチル基であり、これ
らの基は、塩素原子、炭素数１〜６のアルキル基、メト
キシカルボニル基およびエトキシカルボニル基よりなる
群から選ばれる少なくとも１種により置換されていても
よい。］で表わされるジアリールカーボネート類とを、
上記式（III ）の化合物と上記式（IV）の化合物の合計
に基づき上記式（III ）の化合物５〜９５モル％と上記
式（IV）の化合物９５〜５モル％で用い、且つ上記式
（III ）の化合物と上記式（IV）の化合物の合計１モル
に対し上記式（Ｖ）の化合物を１．０〜１．３モルの割
合で用いて、溶融重縮合せしめて、還元粘度が少なくと
も０．３ｄｌ／ｇであるポリカーボネートを生成せしめ
ることを特徴とするポリカーボネート共重合体の製造法
が同様に提供される。
【００６７】上記式（III ）で表わされる化合物は融点
約２０８℃の白色粉末として入手できる。
約２０８℃の白色粉末として入手できる。
【００６８】上記式（IV）において、Ｒ1 、Ｒ2 、
Ｒ3 、ＸおよびＡの定義は前記式（II）に同じである。
Ｒ3 、ＸおよびＡの定義は前記式（II）に同じである。
【００６９】上記式（IV）で表わされる化合物として
は、例えば１―フェニル―１，１―ビス（４―ヒドロキ
シフェニル）エタン、１，１―ビス（４―ヒドロキシフ
ェニル）３，３，５―トリメチルシクロヘキサン、１，
１―ビス（３―ｔｅｒｔ―ブチル―４―ヒドロキシ―６
―メチルフェニル）ブタン、２，２―ビス（３，５―ジ
メチル―４―ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１―
ビス（４―ヒドロキシフェニル）フルオレン、１，１―
ビス（４―ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，
１―ビス（４―ヒドロキシ―３―メチルフェニル）シク
ロヘキサン、１，４―ビス［２―（４―ヒドロキシフェ
ニル）プロピル］ベンゼン、１，３―ビス［２―（４―
ヒドロキシフェニル）プロピル］ベンゼン、２，２―ビ
ス（３―ｔｅｒｔ―ブチル―４―ヒドロキシフェニル）
プロパン、２，２―ビス（４―ヒドロキシ―３―メチル
フェニル）プロパン、２，２―ビス（４―ヒドロキシ―
３―フェニルフェニル）プロパン、１，１―ビス［４―
（２―ヒドロキシエチルオキシ）フェニル］フルオレ
ン、２，２―ビス（４―ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、ビス（４―ヒドロキシフェニル）エーテルおよびビ
ス（４―ヒドロキシフェニル）スルホン等を挙げること
ができる。
は、例えば１―フェニル―１，１―ビス（４―ヒドロキ
シフェニル）エタン、１，１―ビス（４―ヒドロキシフ
ェニル）３，３，５―トリメチルシクロヘキサン、１，
１―ビス（３―ｔｅｒｔ―ブチル―４―ヒドロキシ―６
―メチルフェニル）ブタン、２，２―ビス（３，５―ジ
メチル―４―ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１―
ビス（４―ヒドロキシフェニル）フルオレン、１，１―
ビス（４―ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，
１―ビス（４―ヒドロキシ―３―メチルフェニル）シク
ロヘキサン、１，４―ビス［２―（４―ヒドロキシフェ
ニル）プロピル］ベンゼン、１，３―ビス［２―（４―
ヒドロキシフェニル）プロピル］ベンゼン、２，２―ビ
ス（３―ｔｅｒｔ―ブチル―４―ヒドロキシフェニル）
プロパン、２，２―ビス（４―ヒドロキシ―３―メチル
フェニル）プロパン、２，２―ビス（４―ヒドロキシ―
３―フェニルフェニル）プロパン、１，１―ビス［４―
（２―ヒドロキシエチルオキシ）フェニル］フルオレ
ン、２，２―ビス（４―ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、ビス（４―ヒドロキシフェニル）エーテルおよびビ
ス（４―ヒドロキシフェニル）スルホン等を挙げること
ができる。
【００７０】上記式（Ｖ）において、Ａｒ1 およびＡｒ
2 は同一もしくは異なり、フェニル基はナフチル基であ
る。これらの基は塩素原子、炭素数１〜６のアルキル
基、メトキシカルボニル基またはエトキシカルボニル基
で置換されていてもよい。これらの置換基は１種又は２
種以上である。炭素数１〜６のアルキル基としては、式
（Ｉ）のＲ1 について前記したものと同じものを例示で
きる。
2 は同一もしくは異なり、フェニル基はナフチル基であ
る。これらの基は塩素原子、炭素数１〜６のアルキル
基、メトキシカルボニル基またはエトキシカルボニル基
で置換されていてもよい。これらの置換基は１種又は２
種以上である。炭素数１〜６のアルキル基としては、式
（Ｉ）のＲ1 について前記したものと同じものを例示で
きる。
【００７１】式（Ｖ）で表わされる化合物としては、例
えば、ジフェニルカーボネート、ジ―ｐ―トリルカーボ
ネート、フェニル―ｐ―トリルカーボネート、ジ―ｐ―
クロロフェニルカーボネート、ジ（２―メトキシカルボ
ニルフェニル）カーボネート、フェニル―２―メトキシ
カルボニルフェニルカーボネート、ジ（２―エトキシカ
ルボニルフェニル）カーボネートおよびジナフチルカー
ボネートを好ましく挙げることができる。
えば、ジフェニルカーボネート、ジ―ｐ―トリルカーボ
ネート、フェニル―ｐ―トリルカーボネート、ジ―ｐ―
クロロフェニルカーボネート、ジ（２―メトキシカルボ
ニルフェニル）カーボネート、フェニル―２―メトキシ
カルボニルフェニルカーボネート、ジ（２―エトキシカ
ルボニルフェニル）カーボネートおよびジナフチルカー
ボネートを好ましく挙げることができる。
【００７２】本発明方法は、上記式（III ）の化合物と
上記式（IV）の化合物の合計１モルに対し上記式（Ｖ）
のジアリールカーボネート類を１．０〜１．３モルの割
合で用いて実施される。この範囲内で好ましい割合は、
１．００５〜１．１０モルである。
上記式（IV）の化合物の合計１モルに対し上記式（Ｖ）
のジアリールカーボネート類を１．０〜１．３モルの割
合で用いて実施される。この範囲内で好ましい割合は、
１．００５〜１．１０モルである。
【００７３】また、ジオール成分である上記式（III ）
の化合物と式（IV）の化合物とは、それらの合計に基づ
き、式（III ）の化合物が５〜９５モル％および式（I
V）の化合物が９５〜５モル％で用いられる。好ましい
割合は、式（III ）の化合物が１０〜８０モル％であ
り、式（Ｖ）の化合物が９０〜２０モル％である。
の化合物と式（IV）の化合物とは、それらの合計に基づ
き、式（III ）の化合物が５〜９５モル％および式（I
V）の化合物が９５〜５モル％で用いられる。好ましい
割合は、式（III ）の化合物が１０〜８０モル％であ
り、式（Ｖ）の化合物が９０〜２０モル％である。
【００７４】これらの化合物の溶融重縮合は好ましくは
触媒の存在下に実施される。かかる触媒としては、通常
エステル化反応、エステル交換反応に使用される触媒を
用いることができる。このような化合物としては、アル
カリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、含窒素塩基
性化合物、亜鉛化合物類、ホウ素化合物類、アルミニウ
ム化合物類、珪素化合物類、ゲルマニウム化合物類、有
機スズ化合物類、鉛化合物類、チタン化合物類、オスミ
ュウム化合物類、アンチモン化合物類およびジルコニウ
ム化合物類などが挙げられる。この中でもアルカリ金属
化合物、アルカリ土類金属化合物および含窒素塩基性化
合物が特に好ましく用いられる。
触媒の存在下に実施される。かかる触媒としては、通常
エステル化反応、エステル交換反応に使用される触媒を
用いることができる。このような化合物としては、アル
カリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、含窒素塩基
性化合物、亜鉛化合物類、ホウ素化合物類、アルミニウ
ム化合物類、珪素化合物類、ゲルマニウム化合物類、有
機スズ化合物類、鉛化合物類、チタン化合物類、オスミ
ュウム化合物類、アンチモン化合物類およびジルコニウ
ム化合物類などが挙げられる。この中でもアルカリ金属
化合物、アルカリ土類金属化合物および含窒素塩基性化
合物が特に好ましく用いられる。
【００７５】アルカリ金属化合物およびアルカリ土類金
属化合物としては、例えばこれらの金属の水酸化物、炭
酸水素塩、炭酸塩、酢酸塩、水素化ホウ素塩、ステアリ
ン酸塩、安息香酸およびビスフェノールとの塩等を挙げ
ることができる。
属化合物としては、例えばこれらの金属の水酸化物、炭
酸水素塩、炭酸塩、酢酸塩、水素化ホウ素塩、ステアリ
ン酸塩、安息香酸およびビスフェノールとの塩等を挙げ
ることができる。
【００７６】アルカリ金属化合物の具体的な例として
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素
リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウ
ム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、ス
テアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステア
リン酸リチウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウ
ム、安息香酸リチウム、リン酸水素二ナトリウム、リン
酸水素二カリウム、リン酸水素二リチウム、ビスフェノ
ールＡの二ナトリウム塩、二カリウム塩、二リチウム
塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩およびリチ
ウム塩等が挙げられる。
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素
リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウ
ム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、ス
テアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステア
リン酸リチウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウ
ム、安息香酸リチウム、リン酸水素二ナトリウム、リン
酸水素二カリウム、リン酸水素二リチウム、ビスフェノ
ールＡの二ナトリウム塩、二カリウム塩、二リチウム
塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩およびリチ
ウム塩等が挙げられる。
【００７７】また、アルカリ土類金属化合物の具体的な
例としては、水素化カルシウム、水酸化バリウム、水酸
化マグネシウム、水酸化ストロンチウム、炭酸水素カル
シウム、炭酸水素バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭
酸水素ストロンチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウ
ム、炭酸マグネシウム、炭酸ストロンチウム、酢酸カル
シウム、酢酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸ストロ
ンチウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリ
ウム、ステアリン酸マグネシウムおよびステアリン酸ス
トロンチウムなどを挙げることができる。
例としては、水素化カルシウム、水酸化バリウム、水酸
化マグネシウム、水酸化ストロンチウム、炭酸水素カル
シウム、炭酸水素バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭
酸水素ストロンチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウ
ム、炭酸マグネシウム、炭酸ストロンチウム、酢酸カル
シウム、酢酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸ストロ
ンチウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリ
ウム、ステアリン酸マグネシウムおよびステアリン酸ス
トロンチウムなどを挙げることができる。
【００７８】さらに、含窒素塩基性化合物としては、例
えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（Ｍｅ4 Ｎ
ＯＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド（Ｅｔ
4 ＮＯＨ）、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド
（Ｂｕ4 ＮＯＨ）、トリメチルベンジルアンモニウムヒ
ドロキシド（フェニル―ＣＨ2 （Ｍｅ）3 ＮＯＨ）など
のアルキル、アリール、アルアリール基等を有するアン
モニウムヒドロキシド類、トリメチルアミン、トリエチ
ルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミ
ンなどの三級アミン類；式Ｒ2 ＮＨ（式中Ｒはメチル、
エチルなどのアルキル、フェニル、トルイルなどのアリ
ール基などである）で示される二級アミン類；式ＲＮＨ
2 （式中Ｒは上記と同じである）で示される一級アミン
類；２―チメルイミダゾール、２―フェニルイミダゾー
ルなどのイミダゾール類；テトラメチルアンモニウムア
セテート（Ｍｅ4 ＮＯＣＯＣＨ3 ）などのアンモニウム
カルボキシレート類；あるいはテトラメチルアンモニウ
ムボロハイドライド（Ｍｅ4ＮＢＨ4 ）、テトラブチル
アンモニウムテトラフェニルボレート（Ｍｅ4 ＮＢＰｈ
4 ）などの塩基性塩を挙げることができる。これらの化
合物は１種または２種以上併用してもよい。
えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（Ｍｅ4 Ｎ
ＯＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド（Ｅｔ
4 ＮＯＨ）、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド
（Ｂｕ4 ＮＯＨ）、トリメチルベンジルアンモニウムヒ
ドロキシド（フェニル―ＣＨ2 （Ｍｅ）3 ＮＯＨ）など
のアルキル、アリール、アルアリール基等を有するアン
モニウムヒドロキシド類、トリメチルアミン、トリエチ
ルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミ
ンなどの三級アミン類；式Ｒ2 ＮＨ（式中Ｒはメチル、
エチルなどのアルキル、フェニル、トルイルなどのアリ
ール基などである）で示される二級アミン類；式ＲＮＨ
2 （式中Ｒは上記と同じである）で示される一級アミン
類；２―チメルイミダゾール、２―フェニルイミダゾー
ルなどのイミダゾール類；テトラメチルアンモニウムア
セテート（Ｍｅ4 ＮＯＣＯＣＨ3 ）などのアンモニウム
カルボキシレート類；あるいはテトラメチルアンモニウ
ムボロハイドライド（Ｍｅ4ＮＢＨ4 ）、テトラブチル
アンモニウムテトラフェニルボレート（Ｍｅ4 ＮＢＰｈ
4 ）などの塩基性塩を挙げることができる。これらの化
合物は１種または２種以上併用してもよい。
【００７９】これらの触媒の使用量はアルカリ金属化合
物および／またはアルカリ土類金属化合物の場合は、ジ
オール成分１モルに対し１×１０-7〜１×１０-4当量、
好ましくは１×１０-6〜５×１０-5当量の範囲で選ばれ
る。
物および／またはアルカリ土類金属化合物の場合は、ジ
オール成分１モルに対し１×１０-7〜１×１０-4当量、
好ましくは１×１０-6〜５×１０-5当量の範囲で選ばれ
る。
【００８０】溶融重縮合反応は、従来知られているよう
に不活性ガス雰囲気下で加熱しながら攪拌して生成する
モノヒドロキシ化合物を留出させることで行なわれる。
反応温度は通常１２０〜３５０℃の範囲であり、反応後
期には系の減圧度を１０〜０．１Ｔｏｒｒに高めて生成
するモノヒドロキシ化合物の留出を容易にさせて反応を
完結させる。
に不活性ガス雰囲気下で加熱しながら攪拌して生成する
モノヒドロキシ化合物を留出させることで行なわれる。
反応温度は通常１２０〜３５０℃の範囲であり、反応後
期には系の減圧度を１０〜０．１Ｔｏｒｒに高めて生成
するモノヒドロキシ化合物の留出を容易にさせて反応を
完結させる。
【００８１】上記の如き方法によれば、本発明の前記新
規重合体が得られる。用途や必要に応じて酸化防止剤、
紫外線吸収剤、離型剤などの添加剤を配合することがで
きる。
規重合体が得られる。用途や必要に応じて酸化防止剤、
紫外線吸収剤、離型剤などの添加剤を配合することがで
きる。
【００８２】本発明は、前述の新規なポリカーボネート
共重合体を素材とする情報伝達媒体や情報記録媒体を提
供するものである。すなわち、本発明の新規なポリカー
ボネート重合体は、その優れた透明性の故に、例えば光
ファイバーの素材のような情報伝達媒体や光ディスクの
素材のような情報記録媒体として有利に使用することが
できる。
共重合体を素材とする情報伝達媒体や情報記録媒体を提
供するものである。すなわち、本発明の新規なポリカー
ボネート重合体は、その優れた透明性の故に、例えば光
ファイバーの素材のような情報伝達媒体や光ディスクの
素材のような情報記録媒体として有利に使用することが
できる。
【００８３】
【実施例】次に本発明を実施例および比較例により、さ
らに詳しくは説明する。
らに詳しくは説明する。
【００８４】［実施例１］ジオール成分として３，９―
ビス（１，１―ジメチル―２―ヒドロキシエチル―２，
４，８，１０―テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカ
ン（以下スピログリコールという）１５２重量部（０．
５モル）と２，２―ビス（４―ヒドロキシフェニル）プ
ロパン（Ｂｉｓ―Ａ）１１４重量部（０．５モル）、炭
酸エステル形成性化合物としてジフェニルカーボネート
２２５重量部（１．０５モル）、および触媒としてテト
ラメチルアンモニウムヒドロキシド９．１×１０-3重量
部と水酸化ナトリウム４×１０-4重量部を攪拌装置、精
溜塔および減圧装置を備えた反応槽に仕込み窒素置換を
した後、加熱溶融した。３０分攪拌後、内温を１８０℃
に昇温しつつ徐々に減圧し、生成するフェノールを溜去
しながら１００ｍｍＨｇで３０分間反応させた。
ビス（１，１―ジメチル―２―ヒドロキシエチル―２，
４，８，１０―テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカ
ン（以下スピログリコールという）１５２重量部（０．
５モル）と２，２―ビス（４―ヒドロキシフェニル）プ
ロパン（Ｂｉｓ―Ａ）１１４重量部（０．５モル）、炭
酸エステル形成性化合物としてジフェニルカーボネート
２２５重量部（１．０５モル）、および触媒としてテト
ラメチルアンモニウムヒドロキシド９．１×１０-3重量
部と水酸化ナトリウム４×１０-4重量部を攪拌装置、精
溜塔および減圧装置を備えた反応槽に仕込み窒素置換を
した後、加熱溶融した。３０分攪拌後、内温を１８０℃
に昇温しつつ徐々に減圧し、生成するフェノールを溜去
しながら１００ｍｍＨｇで３０分間反応させた。
【００８５】次に２００℃に昇温した後、徐々に減圧
し、フェノールを溜去しながら５０ｍｍＨｇで２０分間
反応させた。さらに２２０℃／３０ｍｍＨｇまで徐々に
昇温、減圧し、同温、同圧で２０分、さらに２４０℃／
１０ｍｍＨｇ、２６０℃／１ｍｍＨｇ以下にまで上記と
同じ手法で昇温、減圧を繰り返して反応を続行し、最終
的に２６０℃／１ｍｍＨｇ以下で２時間反応せしめた。
し、フェノールを溜去しながら５０ｍｍＨｇで２０分間
反応させた。さらに２２０℃／３０ｍｍＨｇまで徐々に
昇温、減圧し、同温、同圧で２０分、さらに２４０℃／
１０ｍｍＨｇ、２６０℃／１ｍｍＨｇ以下にまで上記と
同じ手法で昇温、減圧を繰り返して反応を続行し、最終
的に２６０℃／１ｍｍＨｇ以下で２時間反応せしめた。
【００８６】得られた重合体は、塩化メチレンを溶媒と
する溶液の２０℃における還元粘度［ηsp／ｃ］が０．
４５ｄｌ／ｇであった。得られた重合体のガラス転移温
度はデュポン製熱分析装置（２０００型ＤＳＣ）で測定
したところ、１１４℃であった。さらに重合体を塩化チ
レンに溶解してキャスト成形により、厚さ１００μｍの
フイルムに成形し、理研計器製の光弾性係数測定機器
（ＰＡ―１５０）で測定したところ、光弾性係数は３０
×１０-13 ｃｍ2 ／ｄｙｎｅ（３ＯＢ）と低い値であっ
た。（以下の実施例、比較例についても同様の測定を行
った。）
する溶液の２０℃における還元粘度［ηsp／ｃ］が０．
４５ｄｌ／ｇであった。得られた重合体のガラス転移温
度はデュポン製熱分析装置（２０００型ＤＳＣ）で測定
したところ、１１４℃であった。さらに重合体を塩化チ
レンに溶解してキャスト成形により、厚さ１００μｍの
フイルムに成形し、理研計器製の光弾性係数測定機器
（ＰＡ―１５０）で測定したところ、光弾性係数は３０
×１０-13 ｃｍ2 ／ｄｙｎｅ（３ＯＢ）と低い値であっ
た。（以下の実施例、比較例についても同様の測定を行
った。）
【００８７】［実施例２〜１７］表１〜８に示した原料
を用い、実施例１と同様にして表１〜８に示した性質を
持つポリカーボネート重合体を得た。
を用い、実施例１と同様にして表１〜８に示した性質を
持つポリカーボネート重合体を得た。
【００８８】
【表１】
【００８９】
【表２】
【００９０】
【表３】
【００９１】
【表４】
【００９２】
【表５】
【００９３】
【表６】
【００９４】
【表７】
【００９５】
【表８】
【００９６】［比較例１］ジオール成分として２，２―
ビス（４―ヒドロキシフェニル）プロパン２２８重量部
のみを用いた他は、実施例１と同様の操作により反応を
行い、重合体を得た。
ビス（４―ヒドロキシフェニル）プロパン２２８重量部
のみを用いた他は、実施例１と同様の操作により反応を
行い、重合体を得た。
【００９７】得られた重合体は、塩化メチレンを溶媒と
する溶液の２０℃における還元粘度［ηsp／ｃ］が０．
４９ｄｌ／ｇであった。得られた重合体のガラス転移温
度は１４９℃であり、光弾性係数は７９×１０-13 ｃｍ
2 ／ｄｙｎｅと高い値であった。
する溶液の２０℃における還元粘度［ηsp／ｃ］が０．
４９ｄｌ／ｇであった。得られた重合体のガラス転移温
度は１４９℃であり、光弾性係数は７９×１０-13 ｃｍ
2 ／ｄｙｎｅと高い値であった。
【００９８】［比較例２］ジオール成分としてスピログ
リコール１５２重量部（０．５モル）のみを用いた他
は、実施例１と同様の操作により反応を行ったが重合中
に結晶化がおこった。
リコール１５２重量部（０．５モル）のみを用いた他
は、実施例１と同様の操作により反応を行ったが重合中
に結晶化がおこった。
【００９９】得られた重合体は、塩化メチレンを溶媒と
する溶液の２０℃における還元粘度［ηsp／ｃ］が０．
２５ｄｌ／ｇであった。得られた重合体のガラス転移温
度は９２℃と低く、重合度も低いために強度が不十分で
あり、光弾性係数の測定に足るような強度を有するフイ
ルムが作成できなかった。
する溶液の２０℃における還元粘度［ηsp／ｃ］が０．
２５ｄｌ／ｇであった。得られた重合体のガラス転移温
度は９２℃と低く、重合度も低いために強度が不十分で
あり、光弾性係数の測定に足るような強度を有するフイ
ルムが作成できなかった。
【０１００】
【発明の効果】以上のとおり、本発明のポリカーボネー
ト共重合体は、従来のポリカーボネート樹脂に比べて、
光弾性効果が小さく、成形歪みが少ないため複屈折が小
さく、光学的性質の極めて優れたものである。
ト共重合体は、従来のポリカーボネート樹脂に比べて、
光弾性効果が小さく、成形歪みが少ないため複屈折が小
さく、光学的性質の極めて優れたものである。
【０１０１】スピログリコールと炭酸エステル形成性化
合物から合成されるポリカーボネートは耐熱性および機
械的強度に劣るものであったが、本発明のごとく芳香族
化合物と共重合を行うことにより、すぐれた光学的特性
を損なうことなく充分な耐熱性および機械的強度を有す
るポリカーボネートを得ることができる。
合物から合成されるポリカーボネートは耐熱性および機
械的強度に劣るものであったが、本発明のごとく芳香族
化合物と共重合を行うことにより、すぐれた光学的特性
を損なうことなく充分な耐熱性および機械的強度を有す
るポリカーボネートを得ることができる。
【０１０２】したがって、本発明のポリカーボネート
は、光ディスクなどの光学機器用素材をはじめとして、
各種産業用機器の素材として有効に利用しうる。
は、光ディスクなどの光学機器用素材をはじめとして、
各種産業用機器の素材として有効に利用しうる。
フロントページの続き (72)発明者 佐々木 勝司 山口県岩国市日の出町２番１号 帝人株 式会社 岩国研究センター内 (56)参考文献 特開 昭63−35619（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C08G 64/00 - 64/42 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (4)
- 【請求項１】 下記式（Ｉ） 【化１】 で表わされる繰返し単位５〜９５モル％と下記式（II） 【化２】 ［ここで、Ｒ1 は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基
又は炭素数６〜１０のアリール基であり、Ｒ2 およびＲ
3 は、互いに独立に、水素原子又は炭素数１〜６のアル
キル基であり、―Ａ―Ｏ―はＡが単結合でオキシ基（―
Ｏ―）を表わすか又は―Ｏ―（炭素数２〜４のアルキレ
ン基）―Ｏ―基を表わし、 【化３】 で表わされる繰返し単位９５〜５モル％から実質的にな
り、 塩化メチレンを溶媒として０．５ｇ／ｄｌ濃度の溶液の
２０℃における還元粘度（ηsp／ｃ）が少なくとも０．
３ｄｌ／ｇであり、 光弾性係数が７０×１０-13 ｃｍ2 ／ｄｙｎｅ以下であ
り、そしてガラス転移温度が少くとも９５℃である、こ
とを特徴とするポリカーボネート共重合体。 - 【請求項２】 下記式（III ） 【化４】 で表わされる３，９―ビス（１，１―ジメチル―２―ヒ
ドロキシエチル）―２，４，８，１０―テトラオキサス
ピロ［５．５］ウンデカン、下記式（IV） 【化５】 ［ここで、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、ＸおよびＡの定義は式
（II）に同じである。］で表わされるビスフェノール類
および下記式（Ｖ） 【化６】 ［ここで、Ａｒ1 およびＡｒ2 は同一もしくは異なり、
フェニル基またはナフチル基であり、これらの基は、塩
素原子、炭素数１〜５のアルキル基、メトキシカルボニ
ル基およびエトキシカルボニル基よりなる群から選ばれ
る少なくとも１種により置換されていてもよい。］で表
わされるジアリールカーボネート類とを、上記式（III
）の化合物と上記式（IV）の化合物の合計に基づき、
上記式（III ）の化合物５〜９５モル％と上記式（IV）
の化合物９５〜５モル％で用い、且つ上記式（III ）の
化合物と上記式（IV）の化合物の合計１モルに対し、上
記式（Ｖ）の化合物を１．０〜１．３モルの割合で用い
て、溶融重縮合せしめて、還元粘度が少なくとも０．３
ｄｌ／ｇであるポリカーボネートを生成せしめることを
特徴とするポリカーボネート共重合体の製造法。 - 【請求項３】 請求項１に記載のポリカーボネート共重
合体を素材とする情報伝達媒体。 - 【請求項４】 請求項１に記載のポリカーボネート共重
合体を素材とする情報記録媒体。
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Cited By (2)
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