JP3084347B2 - スピン乾燥処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は洗浄された長方形
状の基板を保持テ−ブルとともに高速回転させて乾燥さ
せるスピン乾燥処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば、液晶表示装置の製造過程にお
いては、ワ−クとしての長方形状のガラス製の基板に回
路パタ−ンを形成するための成膜プロセスやフォトプロ
セスがある。これらのプロセスでは、上記基板の処理と
洗浄とが繰り返し行われる。

【０００３】洗浄された基板を乾燥させるためには、上
記基板を保持テ−ブルに保持し、この保持テ−ブルとと
もに高速回転させ、それによって生じる遠心力を利用し
て上記基板に付着した洗浄液を除去するということが行
われている。

【０００４】図５に従来の長方形状の基板１を保持する
ための保持テ−ブル２を示す。この保持テ−ブル２は本
体部３を有する。この本体部３は円盤状の中心部３ａ
と、この中心部３ａの外周に突設された４本のア−ム３
ｂとからなる。４本のア−ム３ｂは同じ長さに設定さ
れ、それぞれのア−ム３ｂの先端部には係合部として所
定間隔で離間した２本の第１のピン４およびこの第１の
ピン４に比べて短く、しかも第１のピン４よりもア−ム
３ｂの基端側に配置された１本の第２のピン５が突設さ
れている。

【０００５】そして、上記保持テ−ブル２には、上記基
板１が４つの角部を各ア−ム３ｂの一対の第１のピン４
に係合させるとともに、角部下面が上記第２のピン５に
支持される。つまり、基板１は４本のア−ム３ｂがその
長方形の対角線方向に沿う状態で上記保持テ−ブル２に
保持されている。

【０００６】このように、基板１を保持した上記保持テ
−ブル２を高速で回転駆動すれば、遠心力によって上記
基板１に付着した洗浄液が除去されるから、その基板１
を乾燥させることができる。

【０００７】ところで、最近、液晶表示装置の大型化に
よって上記基板１も大きくなってきている。たとえば従
来は300mm ×400mm の大きさであったが、最近では550m
m ×650mm の大きさの基板１が用いられるようになって
きている。

【０００８】このように基板１が大型化すると、保持テ
−ブル２のア−ム３ｂの長さも基板１の対角線の長さに
応じて長くしなければならなくなり、それによって各ア
−ム３ｂの先端に設けられた第１、第２のピン４、５の
周速度が増大することが避けられない。第１、第２のピ
ン４、５の周速度が増大すると、そのピン４、５による
風切り音も大きくなるから、騒音の増大を招くことにな
る。

【０００９】また、ア−ム３ｂが長くなると、ア−ム３
ｂに発生する遠心力が大きくなるから、その遠心力によ
ってア−ム３ｂに撓みが発生し易くなる。ア−ム３ｂに
撓みを発生しにくくするためには、ア−ム３ｂの肉厚を
厚くしてその剛性を向上させなければならない。する
と、保持テ−ブル２の高重量化を招き、保持テ−ブル２
を回転駆動するモ−タに加わる負荷が増大することにな
るから、モ−タを高性能化しなければならなくなる。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】このように、保持テ−
ブルのア−ムに設けられた係合部に長方形状の基板の角
部を係合させて上記基板を保持テ−ブルに保持する構造
であると、基板の大型化にともなってア−ムを長尺化し
なければならないので、ア−ムの先端部に設けられた係
合部の周速度が増大し、その風切り音による騒音が大き
くなったり、遠心力が大きくなって撓みが発生し易くな
るなどのことがあった。

【００１１】この発明は上記事情に基づきなされたもの
で、その目的とするところは、基板が大型化しても、保
持テ−ブルの回転中心から係合部までの寸法をできるだ
け小さくし、騒音や遠心力にともなう撓みの発生を低く
押さえることができるようにしたスピン乾燥処理装置を
提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に請求項１に記載された発明は、洗浄処理された長方形
状の基板を高速回転される保持テ−ブルに保持して乾燥
させるスピン乾燥処理装置において、上記保持テ−ブル
は、中心部と、この中心部の外周に周方向にほぼ９０度
間隔で設けられた４本のア−ムと、各ア−ムの先端部に
設けられ上記基板の短手方向両側および長手方向両側を
それぞれ係合保持する係合部とを有し、対向するそれぞ
れ一対の２組のア−ムの長さは、上記基板の短手方向と
長手方向との寸法差に応じた異なる長さに設定されてい
ることを特徴とする。

【００１３】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て、上記ア−ムの周縁部はエッジ部に形成されているこ
とを特徴とする。請求項１の発明によれば、長方形状の
基板を保持するそれぞれ一対の２組の係合部は、上記基
板の短手方向と長手方向との両側部を係合保持するた
め、対角線方向の角部を保持する場合に比べて保持テ−
ブルの２組のア−ムの長さを、短くすることができ、と
くに基板の短手方向に位置するア−ムは長手方向に位置
するア−ムよりもさらに短くすることができる。請求項
２の発明によれば、ア−ムの周縁部がエッジ部であるた
め、風切り音の発生を低減することができる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施の形態を
図面を参照して説明する。図１乃至図３はこの発明の第
１の実施の形態を示し、図３に示すスピン乾燥処理装置
はカップ１を備えている。このカップ１は下カップ２ａ
と上カップ２ｂとから構成されている。上記下カップ２
ａは上面が開放したお椀状に形成され、その底部中心部
分には通孔３が形成され、外周の上端縁には受けフラン
ジ４が形成されている。

【００１５】上記上カップ２ｂは外周面が凸曲面をなし
たリング状に形成されていて、その外周面には取付け部
材５を介して連結フランジ６が設けられている。そし
て、この上カップ２ｂの連結フランジ６を上記下カップ
２ａの受けフランジ４にパッキング７を介して接合さ
せ、それらを複数の蝶ナット８で結合することで一体化
している。

【００１６】上記下カップ２ａに形成された通孔３に
は、上記カップ１の内部へ突出するモ−タ９の駆動軸１
１が挿通されている。この駆動軸１１の上端には保持テ
−ブル１２が取付けられ、上記モ−タ９によって高速回
転させられるようになっている。この保持テ−ブル１２
には、前工程である、洗浄工程で洗浄された液晶表示装
置に用いられる長方形状の基板１３が後述するごとく保
持されるようになっている。したがって、上記保持テ−
ブル１２が高速回転されることで、上記基板１３に付着
した洗浄液が遠心力で除去されるようになっている。

【００１７】上記下カップ２ａの底壁には複数の排水口
体１６が設けられ、この排水口体１６は図示しないタン
クに配管接続されている。また、下カップ２ａの周壁に
は、上カップ２ｂの下端よりも上部に周方向に所定間隔
で複数の排気口体１７が接続され、これらは図示しない
排気ポンプに配管接続されている。

【００１８】上記排水口体１６からは下カップ２ａに溜
まる洗浄液が排出され、上記排気口体１７は上記保持テ
−ブル１２が高速回転されることで発生する空気流を同
図に矢印Ａで示すように円滑な流れとするための吸引力
を発生させるようになっている。

【００１９】上記保持テ−ブル１２は図１に示すように
円盤状の中心部２１と、この中心部の外周に９０度間隔
で設けられ対向するそれぞれ２本のア−ムが対をなす第
１、第２の２組のア−ム２２ａ、２２ｂからなる本体部
２３を有する。第１、第２の各ア−ム２２ａ、２２ｂは
直杆部２４の先端に先端部２５が設けられた、ほぼＴ字
形状をなしている。

【００２０】各ア−ムの先端部２５には係合部を形成す
る一対の第１のピン２６が周方向に所定間隔で離間して
立設されているとともに、第１のピン２６よりも径方向
内方で、一対の第１のピン２６の間の部分には、第１の
ピン２６よりも高さ寸法が低い第２のピン２７が立設さ
れている。

【００２１】一対の第１のア−ム２２ａに設けられた第
１のピン２６の間隔は上記基板１３の短手方向の寸法よ
りもわずかに大きく設定され、一対の第２のア−ム２２
ｂに設けられた第１のピン２６の間隔は上記基板１３の
長手方向の寸法よりもわずかに大きく設定されている。

【００２２】それによって、上記基板１３は、幅方向
（短手方向）両側を一対の第１のア−ム２２ａの第１の
ピン２６に係合させ、長さ方向（長手方向）両側を一対
の第２のア−ム２２ｂの第１のピン２６に係合させると
ともに、それぞれの側辺部の下面を第１のピン２６より
も基端側に設けられた第２のピン２７に係合させて保持
されるようになっている。

【００２３】上記第１のア−ム２２ａと第２のア−ム２
２ｂの直杆部２４と先端部２５との周縁部はエッジ部２
８に形成されている。このエッジ部２８は図２に示すよ
うに上記ア−ムの周縁部を厚さ方向上面側と下面側との
両方向から面取り加工することで、厚さ方向中心に対し
て上下の形状が対称に形成されている。この実施の形態
では上記エッジ部２８の角度は３０度に設定されてい
る。さらに、上記先端部２５の外周は円弧状の曲面に形
成されている。

【００２４】上記構成のスピン乾燥処理装置によれば、
保持テ−ブル１２のそれぞれ一対の第１のア−ム２２ａ
と第２のア−ム２２ｂとの長さを変え、各一対のア−ム
２２ａ、２２ｂの先端部に設けられる第１のピン２６を
介して基板１３の両側部を保持するようにした。

【００２５】そのため、第１のア−ム２２ａと第２のア
−ム２２ｂとの長さを、角部を保持する場合に比べて短
くすることができる。つまり、基板１３の側部を保持す
る場合、保持テ−ブル１２の回転中心Ｏから第１のア−
ム２２ａの第１のピン２６までの寸法ａは基板１３の幅
方向の寸法の２分の１となり、上記回転中心Ｏから第２
のア−ム２２ｂの第１のピン２６までの寸法ｂは基板１
３の長さ方向の寸法の２分の１となる。

【００２６】上記寸法ａ、ｂは、基板１３の角部を保持
する場合の保持テ−ブル１２の回転中心Ｏから上記基板
１３の角部までの寸法ｃ、つまり基板１３の対角線の２
分の１の寸法ｃに比べて小さくすることができる。

【００２７】それによって、上記第１のア−ム２２ａと
第２のア−ム２２ｂの長さを、基板１３の角部を保持す
る場合のア−ムの長さに比べて短くすることができる。
また、各ア−ム２２ａ、２２ｂを短くできれば、その先
端部２５に設けられた第１、第２のピン２６、２７の周
速度を小さくできるから、それによって各ピン２６、２
７の風切り音も小さくなり、騒音の発生を低減すること
ができる。

【００２８】しかも、上記ア−ム２２ａ、２２ｂの周縁
部がエッジ部２８であり、先端部２５の外周が円弧状の
曲面であることによっても、保持テ−ブル１２を高速回
転させたときの風切り音を低減させることができるか
ら、このことによっても騒音の発生を低く押さえること
ができる。

【００２９】また、上記第１のア−ム２２ａと第２のア
−ム２２ｂとを短くできたことで、保持テ−ブル１２を
高速回転させたときに、遠心力によって上記各ア−ム２
２ａ、２２ｂに発生する撓みを小さくすることができ
る。換言すれば、上記各ア−ム２２ａ、２２ｂに発生す
る撓みを小さくするために、これらア−ム２２ａ、２２
ｂを厚肉化して剛性を高めるということをせずにすむか
ら、保持テ−ブル１２の軽量化を計ることができる。

【００３０】さらに、第１のピン２６が、基板１３の角
部を保持する場合に比べて回転中心からの寸法が短い、
上記基板１３の側辺を支持していることで、保持テ−ブ
ル１２の加減速時に上記第１のピン２６に加わる衝撃を
小さくすることができる。それによって、上記第１のピ
ン２６の寿命を延長することができるばかりか、保持テ
−ブル１２の始動時の加速や停止時の減速を迅速に行う
ことで、タクトタイムの短縮を計るようにしても、上記
基板１３に与える衝撃が大きくなるのを防止できる。

【００３１】さらに、各ア−ム２２ａ、２２ｂは、直杆
部２４の先端に回転方向に沿って長い先端部２５を形成
し、そこに一対の第１のピン２６と１本の第２のピン２
７とを突設したから、これら第１、第２のピン２６、２
７の間隔を大きくすることが可能となる。各ピンの間隔
を大きくできれば、保持テ−ブル１２を高速回転させた
ときに、上記ピン２６、２７による風切り音を小さくで
きるから、そのことによっても騒音の発生を低減するこ
とができる。

【００３２】図４はこの発明の第２の実施形態を示す保
持テ−ブル１２Ａである。この保持テ−ブル１２Ａは本
体部２３Ａが菱形状に形成されている。この本体部２３
Ａの対向する一対の角部にはそれぞれ２本の第１のピン
２６と１本の第２のピン２７とを立設してなる第１の係
合部３１と第２の係合部３２とが形成されている。

【００３３】なお、上記第１、第２のピン２６、２７の
高さは上記第１の実施の形態と同様、第２のピン２７の
方が低く設定されている。また、本体部２３Ａの周縁部
は上記第１の実施の形態と同様のエッジ部２８に形成さ
れている。

【００３４】一対の第１の係合部３１の第１のピン２６
の間隔は基板１３の短手方向に沿う幅寸法よりもわずか
に大きく設定され、一対の第２の係合部３２の第１のピ
ン２６の間隔は基板１３の長手方向に沿う長さ寸法より
もわずかに大きく設定されている。

【００３５】それによって、上記構成の保持テ−ブル１
２Ａは一対の第１の係合部３１によって基板１３の短手
方向の両側が保持され、一対の第２の係合部３２によっ
て長手方向の両側が保持される。

【００３６】したがって、この場合も、基板１３の四隅
部を保持する場合に比べて保持テ−ブル１２Ａの回転中
心から第１、第２の係合部３１、３２までの寸法を小さ
くできる。それによって、各係合部３１、３２の第１、
第２のピン２６、２７の周速度が低くなるから、風切り
音による騒音の発生が低減する。

【００３７】また、基板１３の側辺を係合保持する構成
であるため、四隅部を保持する場合に比べて一対の第１
の係合部３１の間隔および一対の第２の係合部３２の間
隔を小さくすることができる。それによって、保持テ−
ブル１２Ａの本体部２３Ａの小形化および軽量化を計る
ことができる。

【００３８】しかも、本体部２３Ａが菱形であることに
より、第１の実施の形態のア−ムのように、回転時の遠
心力によって上記本体部２３Ａに撓みが発生しにくい。
つまり、本体部２３Ａを厚肉にして剛性を高めるという
ことをせずにすむから、軽量化を計ることができる。

【００３９】

【発明の効果】以上述べたように請求項１の発明によれ
ば、保持テ−ブルの中心部の外周に周方向にほぼ９０度
間隔で４本のア−ムを設け、各ア−ムの先端部に基板の
短手方向両側および長手方向両側をそれぞれ係合保持す
る係合部を設けるとともに、対向するそれぞれ一対の２
組のア−ムの長さを、上記基板の短手方向と長手方向と
の寸法差に応じて異なる長さに設定した。

【００４０】そのため、基板の四隅部を保持する場合に
比べて、保持テ−ブルの回転中心から各係合部までの寸
法、つまり各ア−ムの長さを小さくできるから、保持テ
−ブルを回転させたときの係合部の周速度が小さくな
る。それによって、上記係合部での風切り音の発生が少
なくなるから、騒音の発生も低減することができる。

【００４１】また、回転中心から係合部までの寸法を小
さくできることで、ア−ムの長さを短くして回転にとも
なう遠心力の発生を少なくできるから、ア−ムの撓みを
小さくすることもできる。それによって、ア−ムを厚肉
化するなどして剛性を向上させずにすむから、保持テ−
ブルを軽量化できる。請求項２の発明によれば、ア−ム
の周縁部をエッジ部に形成したので、高速回転させたと
きの風切り音を低減することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１の実施の形態の保持テ−ブルを
示す平面図。

【図２】同じく図１のＸ−Ｘ線に沿うア−ムの拡大断面
図。

【図３】同じくスピン乾燥装置の全体構成を示す概略
図。

【図４】この発明の第２の実施の形態を示す保持テ−ブ
ルの平面図。

【図５】従来の保持テ−ブルを示す平面図。

【符号の説明】

１２、１２Ａ…保持テ−ブル １３…基板 ２１…中心部 ２２ａ…第１のア−ム ２２ｂ…第２のア−ム ２３、２３Ａ…本体部 ２６…第１のピン（係合部） ２７…第２のピン（係合部） ２８…エッジ部。

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−80497（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−342752（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−142307（ＪＰ，Ａ) 実開 平６−39165（ＪＰ，Ｕ)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 洗浄処理された長方形状の基板を高速回
   転される保持テ−ブルに保持して乾燥させるスピン乾燥
   処理装置において、 上記保持テ−ブルは、 中心部と、 この中心部の外周に周方向にほぼ９０度間隔で設けられ
   た４本のア−ムと、 各ア−ムの先端部に設けられ上記基板の短手方向両側お
   よび長手方向両側をそれぞれ係合保持する係合部とを有
   し、 対向するそれぞれ一対の２組のア−ムの長さは、上記基
   板の短手方向と長手方向との寸法差に応じた異なる長さ
   に設定されていることを特徴とするスピン乾燥処理装
   置。
2. 【請求項２】 上記ア−ムの周縁部はエッジ部に形成さ
   れていることを特徴とする請求項１記載のスピン乾燥処
   理装置。