JPH0921587A - スピン乾燥処理装置 - Google Patents

スピン乾燥処理装置

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JPH0921587A
JPH0921587A JP16872795A JP16872795A JPH0921587A JP H0921587 A JPH0921587 A JP H0921587A JP 16872795 A JP16872795 A JP 16872795A JP 16872795 A JP16872795 A JP 16872795A JP H0921587 A JPH0921587 A JP H0921587A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は保持テ−ブルを高速回転させたと
きに騒音の発生を低減することができるようにしたスピ
ン乾燥処理装置を提供することにある。 【解決手段】 洗浄処理された矩形状の基板13を高速
回転される保持テ−ブル12に保持して乾燥させるスピ
ン乾燥処理装置において、上記保持テ−ブルは、本体部
23と、この本体部に互いに対向して設けられた対をな
す2組の第1、第2のピン26、27とを有し、一方の
組の一対の係合部は上記基板の短手方向両側に係合する
間隔で設けられ、他方の組の一対の係合部は上記基板の
短手方向とほぼ直交する長手方向両側に係合する間隔で
設けられてなることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は洗浄された矩形状
の基板を保持テ−ブルによって高速回転させて乾燥させ
るスピン乾燥処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】たとえば、液晶表示装置の製造過程にお
いては、ワ−クとしての矩形状のガラス製の基板に回路
パタ−ンを形成するための成膜プロセスやフォトプロセ
スがある。これらのプロセスでは、上記基板の処理と洗
浄とが繰り返し行われる。
【0003】洗浄された基板を乾燥させるためには、上
記基板を保持テ−ブルに保持し、この保持テ−ブルとと
もに高速回転させ、それによって生じる遠心力を利用し
て上記基板に付着した洗浄液を除去するということが行
われている。
【0004】図5に従来の矩形状の基板1を保持するた
めの保持テ−ブル2を示す。この保持テ−ブル2は本体
部3を有する。この本体部3は円盤状の中心部3aの外
周に4本ア−ム3bが周方向に90度間隔で突設されて
なる。4本のア−ム3bは同じ長さに設定され、それぞ
れのア−ム3bの先端部には係合部として所定間隔で離
間した2本の第1のピン4および第1のピン4に比べて
短く、しかも第1のピン4よりもア−ム3bの基端側に
位置する1本の第2のピン5が突設されている。
【0005】そして、上記保持テ−ブル2には、上記基
板1が4つの角部を各ア−ム3bの一対の第1のピン4
に係合させるとともに、角部下面が上記第2のピン5に
支持される。つまり、基板1は4本のア−ム3bがその
矩形の対角線方向に沿う状態で上記保持テ−ブル2に保
持されている。
【0006】このように、基板1を保持した上記保持テ
−ブル2を高速で回転駆動すれば、遠心力によって上記
基板1に付着した洗浄液が除去されるから、その基板1
を乾燥させることができる。
【0007】ところで、最近、液晶表示装置の大型化に
よって上記基板1も大きくなってきている。たとえば従
来は300mm ×400mm の大きさであったが、最近では550m
m ×650mm の大きさの基板1が用いられるようになって
きている。
【0008】このように基板1が大型化すると、保持テ
−ブル2のア−ム3bの長さも基板1の対角線の長さに
応じて長くしなければならなくなり、それによって各ア
−ム3bの先端に設けられた第1、第2のピン4、5の
周速度が増大することが避けられない。第1、第2のピ
ン4、5の周速度が増大すると、そのピン4、5による
風切り音も大きくなるから、騒音の増大を招くことにな
る。
【0009】また、ア−ム3bが長くなると、ア−ム3
bに発生する遠心力が大きくなるから、その遠心力によ
ってア−ム3bに撓みが発生し易くなる。ア−ム3bに
撓みを発生しにくくするためには、ア−ム3bの肉厚を
厚くしてその剛性を向上させなければならない。する
と、保持テ−ブル2の高重量化を招き、保持テ−ブル2
を回転駆動するモ−タに加わる負荷が増大することにな
るから、モ−タを高性能化しなければならなくなる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】このように、保持テ−
ブルのア−ムに設けられた係合部に矩形状の基板の角部
を係合させて上記基板を保持テ−ブルに保持する構造で
あると、基板の大型化にともなってア−ムを長尺化しな
ければならないので、ア−ムの先端部に設けられた係合
部の周速度が増大し、その風切り音による騒音が大きく
なったり、遠心力が大きくなって撓みが発生し易くなる
などのことがあった。
【0011】この発明は上記事情に基づきなされたもの
で、その目的とするところは、基板が大型化しても、保
持テ−ブルの回転中心から係合部までの寸法をできるだ
け小さくし、騒音や遠心力にともなう撓みの発生を低く
押さえることができるようにしたスピン乾燥処理装置を
提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に請求項1に記載された発明は、洗浄処理された矩形状
の基板を高速回転される保持テ−ブルに保持して乾燥さ
せるスピン乾燥処理装置において、上記保持テ−ブル
は、本体部と、この本体部に互いに対向して設けられた
対をなす2組の係合部とを有し、一方の組の一対の係合
部は上記基板の短手方向両側に係合する間隔で設けら
れ、他方の組の一対の係合部は上記基板の短手方向と交
差する長手方向両側に係合する間隔で設けられてなるこ
とを特徴とする。
【0013】請求項2に記載された発明は、請求項1の
発明において、上記保持テ−ブルの本体部は、中心部お
よびこの中心部の外周に周方向にほぼ90度間隔で設け
られ先端部に上記係合部を有した4本のア−ムからな
り、対向するそれぞれ一対の2組のア−ムの長さは上記
基板の短手方向と長手方向との寸法差に応じて異なる長
さに設定されていることを特徴とする。
【0014】請求項3に記載された発明は、請求項1の
発明において、上記保持テ−ブルの本体部は菱形に形成
されていて、その四隅部にそれぞれ上記係合部が設けら
れていることを特徴とする。
【0015】請求項4に記載された発明は、請求項1の
発明において、上記本体部の周縁部はエッジ部に形成さ
れていることを特徴とする。請求項1乃至請求項3の発
明によれば、矩形状の基板を保持するそれぞれ一対の2
組の係合部は、上記基板の短手方向と長手方向との両側
部を係合保持するため、対角線方向の角部を保持する場
合に比べて保持テ−ブルの回転中心からの距離を小さく
することができる。
【0016】請求項2の発明は、基板の短手方向に沿う
一対のア−ムの長さを短くできるから、その分、保持テ
−ブルの軽量化を計ることができる。請求項3の発明に
よれば、保持テ−ブルの本体部が菱形であるため、遠心
力によって撓みが発生しにくくなる。請求項4の発明に
よれば、本体部の周縁部がエッジ部であるため、風切り
音が低減する。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施形態を図
面を参照して説明する。図1乃至図3はこの発明の第1
の実施形態を示し、図3に示すスピン乾燥処理装置はカ
ップ1を備えている。このカップ1は下カップ2aと上
カップ2bとから構成されている。上記下カップ2aは
上面が開放したお椀状に形成され、その底部中心部分に
は通孔3が形成され、外周の上端縁には受けフランジ4
が形成されている。
【0018】上記上カップ2bは外周面が凸曲面をなし
たリング状に形成されていて、その外周面には取付け部
材5を介して連結フランジ6が設けられている。そし
て、上カップ2bはその連結フランジ6を上記受けフラ
ンジ4にパッキング7を介して接合させ、それらを複数
の蝶ナット8で結合することで一体化されている。
【0019】上記下カップ2aに形成された通孔3から
そのカップ1の内部へはモ−タ9の駆動軸11が挿通さ
れている。この駆動軸11の上端には保持テ−ブル12
が取付けられ、上記モ−タ9によって高速回転させられ
るようになっている。この保持テ−ブル12には、前工
程である、洗浄工程で洗浄された液晶表示装置に用いら
れる矩形状の基板13が後述するごとく保持されるよう
になっている。したがって、上記保持テ−ブル12が高
速回転されることで、上記基板13に付着した洗浄液が
遠心力で除去されるようになっている。
【0020】上記下カップ2aの底壁には複数の排水口
体16が設けられ、この排水口体16は図示しないタン
クに配管接続されている。また、下カップ2aの周壁に
は、上カップ2bの下端よりも上部に周方向に所定間隔
で複数の排気口体17が接続され、これらは図示しない
排気ポンプに配管接続されている。
【0021】上記排水口体16からは下カップ2aに溜
まる洗浄液が排出され、上記排気口体17は上記保持テ
−ブル12が高速回転されることで発生する空気流を同
図に矢印Aで示すように円滑な流れとするための吸引力
を発生させるようになっている。
【0022】上記保持テ−ブル12は円盤状の中心部2
1と、この中心部の外周に90度間隔で設けられ対向す
るそれぞれ2本のア−ムが対をなす2組のア−ム22
a、22bからなる本体部23を有する。各ア−ム22
a、22bは直杆部24の先端に先端部25が設けられ
た、ほぼT字形状をなしている。
【0023】各ア−ムの先端部25には係合部を形成す
る一対の第1のピン26が周方向に所定間隔で離間して
立設されているとともに、第1のピン26よりも径方向
内方で、一対の第1のピン26の間の部分には、第1の
ピンよりも高さ寸法が低い第2のピン27が立設されて
いる。
【0024】一対の第1のア−ム22aに設けられた第
1のピン26の間隔は上記基板13の短手方向の寸法よ
りもわずかに大きく設定され、一対の第2のア−ム22
bに設けられた第1のピン26の間隔は上記基板13の
短手方向と直交する長手方向の寸法よりもわずかに大き
く設定されている。
【0025】それによって、上記基板13は、幅方向両
側を一対の第1のア−ム22aの第1のピン26に係合
させ、幅方向と直交する長手方向両側を一対の第2のア
−ム22bの第1のピン26に係合させるとともに、そ
れぞれの側辺部の下面を第1のピン26よりも基端側に
設けられた第2のピン27に係合させて保持されるよう
になっている。
【0026】上記第1のア−ム22aと第2のア−ム2
2bの直杆部24と先端部25との周縁部はエッジ部2
8に形成されている。このエッジ部28は図2に示すよ
うに上記ア−ムの周縁部を厚さ方向上面側と下面側との
両方向から面取り加工することで、厚さ方向中心に対し
て上下の形状が対称に形成されている。この実施例では
上記エッジ部28の角度は30度に設定されている。さ
らに、上記先端部25の外周は円弧状の曲面に形成され
ている。
【0027】上記構成のスピン乾燥処理装置によれば、
保持テ−ブル12のそれぞれ一対の第1のア−ム22a
と第2のア−ム22bとの長さを変え、各一対のア−ム
の先端部に設けられる第1のピン26の間隔を、それぞ
れ基板13の短手方向の長さと、長手方向の長さに対応
させることで、上記基板13の短手方向と長手方向の両
側を係合して保持するようにした。
【0028】基板13の側部を保持するようにすれば、
第1のア−ム22aと第2のア−ム22bとの長さを、
角部を保持する場合に比べて短くすることができる。つ
まり、基板13の側部を保持する場合、保持テ−ブル1
2の回転中心Oから第1のア−ム22aの第1のピン2
6までの寸法aは基板13の幅寸法の2分の1となり、
上記回転中心Oから第2のア−ム22bの第1のピン2
6までの寸法bは基板13の長さ寸法の2分の1とな
る。
【0029】上記寸法a、bは、基板13の角部を保持
する場合の保持テ−ブル12の回転中心Oから上記基板
13の角部までの寸法c、つまり基板13の対角線の2
分の1の寸法に比べて小さくすることができる。
【0030】それによって、上記第1のア−ム22aと
第2のア−ム22bの長さを、基板13の角部を保持す
る場合に比べて短くすることができる。各ア−ム22
a、22bを短くできれば、その先端部25に設けられ
た第1、第2のピン26、27の周速度を小さくできる
から、それによって各ピン26、27の風切り音も小さ
くなり、騒音の発生を低減することができる。
【0031】しかも、上記ア−ム22a、22bの周縁
部がエッジ部28であり、先端部25の外周が円弧状の
曲面であることによっても、保持テ−ブル12を高速回
転させたときの風切り音を低減させることができるか
ら、このことによっても騒音の発生を低く押さえること
ができる。
【0032】また、上記第1のア−ム22aと第2のア
−ム22bとを短くできたことで、保持テ−ブル12を
高速回転させたときに、遠心力によって上記各ア−ム2
2a、22bに発生する撓みを小さくすることができ
る。換言すれば、上記各ア−ム22a、22bに発生す
る撓みを小さくするために、これらア−ムを厚肉化して
剛性を高めるということをせずにすむから、保持テ−ブ
ル12の軽量化を計ることができる。
【0033】さらに、第1のピン26が、基板13の角
部を保持する場合に比べて回転中心からの寸法が短い、
上記基板13の側辺を支持していることで、保持テ−ブ
ル12の加減速時に上記第1のピン26に加わる衝撃を
小さくすることができる。それによって、上記第1のピ
ン26の寿命を延長することができるばかりか、保持テ
−ブル12の始動時の加速や停止時の減速を迅速に行う
ことで、タクトタイムの短縮を計るようにしても、上記
基板13に与える衝撃が大きくなるのを防止できる。
【0034】さらに、各ア−ムは、直杆部24の先端に
回転方向に沿って長い先端部25を形成し、そこに一対
の第1のピン26と1本の第2のピン27とを突設した
から、これら第1、第2のピン26、27の間隔を大き
くすることが可能となる。各ピンの間隔を大きくできれ
ば、保持テ−ブル12を高速回転させたときに、上記ピ
ン26、27による風切り音を小さくできるから、その
ことによっても騒音の発生を低減することができる。
【0035】図4はこの発明の第2の実施形態を示す保
持テ−ブル12Aである。この保持テ−ブル12Aは本
体部23Aが菱形状に形成されている。この本体部23
Aの対向する一対の角部にはそれぞれ2本の第1のピン
26と1本の第2のピン27とを立設してなる第1の係
合部31と第2の係合部32とが形成されている。
【0036】なお、上記第1、第2のピン26、27の
高さは上記第1の実施例と同様、第2のピン27の方が
低く設定されている。また、本体部23Aの周縁部は上
記第1の実施例と同様のエッジ部28に形成されてい
る。
【0037】一対の第1の係合部31の第1のピン26
の間隔は基板13の短手方向に沿う幅寸法よりもわずか
に大きく設定され、一対の第2の係合部32の第1のピ
ン26の間隔は基板13の長手方向に沿う長さ寸法より
もわずかに大きく設定されている。
【0038】それによって、上記構成の保持テ−ブル1
2Aは一対の第1の係合部31によって基板13の短手
方向の両側が保持され、一対の第2の係合部32によっ
て長手方向の両側が保持される。
【0039】したがって、この場合も、基板13の四隅
部を保持する場合に比べて保持テ−ブル12Aの回転中
心から第1、第2の係合部31、32までの寸法を小さ
くできるから、各係合部の第1、第2のピン26、27
の周速度が低くなり、風切り音による騒音の発生を低減
することができる。
【0040】また、基板13の側辺を係合保持する構成
であるため、四隅部を保持する場合に比べて一対の第1
の係合部31の間隔および一対の第2の係合部32の間
隔を小さくすることができる。それによって、保持テ−
ブル12Aの本体部23Aの小形化および軽量化を計る
ことができる。
【0041】しかも、本体部23Aが菱形であることに
より、第1の実施例のア−ムのように、回転時の遠心力
によって上記本体部23Aに撓みが発生しにくい。つま
り、本体部23Aを厚肉にして剛性を高めるということ
をせずにすむから、軽量化を計ることができる。
【0042】
【発明の効果】以上述べたように請求項1乃至請求項3
の発明によれば、保持テ−ブルの本体部に設けられる2
組の係合部のうちの一方を、基板の短手方向の両側に係
合する間隔とし、他方の係合部を長手方向の両側に係合
する間隔に設定した。
【0043】そのため、基板の四隅部を保持する場合に
比べて、保持テ−ブルの回転中心から各係合部までの寸
法を小さくできるから、保持テ−ブルを回転させたとき
の係合部の周速度が小さくなる。それによって、上記係
合部での風切り音の発生が少なくなるから、騒音の発生
も低減することができる。
【0044】また、回転中心から係合部までの寸法を小
さくできることで、回転にともなう遠心力の発生も少な
くできるから、本体部の撓みを小さくすることもでき
る。それによって、本体部を厚肉化するなどして剛性を
向上させずにすむから、上記本体部を軽量化できる。
【0045】また、請求項2の発明によれば、2組のア
−ムの長さをそれぞれ短くできるばかりか、基板の短手
方向の両側を保持する係合部が設けれた一方の組のア−
ムを他方の組のア−ムに比べてさらに短くできるから、
そのことによっても保持テ−ブルの軽量化を計ることが
できる。
【0046】請求項3の発明によれば、保持テ−ブルの
本体部を菱形としたので、ア−ム形状の場合に比べて回
転時の遠心力で撓みが発生しにくくなるため、その本体
部の軽量化を計ることができる。請求項4の発明によれ
ば、本体部の周縁部をエッジ部に形成したので、高速回
転せたときの風切り音を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施形態の保持テ−ブルを示
す平面図。
【図2】同じく図1のX−X線に沿うア−ムの拡大断面
図。
【図3】同じくスピン乾燥装置の全体構成を示す概略
図。
【図4】この発明の第2の実施形態を示す保持テ−ブル
の平面図。
【図5】従来の保持テ−ブルを示す平面図。
【符号の説明】
12、12A…保持テ−ブル、13…基板、21…中心
部、22a…第1のア−ム、22b…第2のア−ム、2
3、23A…本体部、26…第1のピン(係合部)、2
7…第2のピン(係合部)、28…エッジ部。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 洗浄処理された矩形状の基板を高速回転
    される保持テ−ブルに保持して乾燥させるスピン乾燥処
    理装置において、 上記保持テ−ブルは、本体部と、この本体部に互いに対
    向して設けられた対をなす2組の係合部とを有し、 一方の組の一対の係合部は上記基板の短手方向両側に係
    合する間隔で設けられ、他方の組の一対の係合部は上記
    基板の短手方向と交差する長手方向両側に係合する間隔
    で設けられてなることを特徴とするスピン乾燥処理装
    置。
  2. 【請求項2】 上記保持テ−ブルの本体部は、中心部お
    よびこの中心部の外周に周方向にほぼ90度間隔で設け
    られ先端部に上記係合部を有した4本のア−ムからな
    り、対向するそれぞれ一対の2組のア−ムの長さは上記
    基板の短手方向と長手方向との寸法差に応じて異なる長
    さに設定されていることを特徴とする請求項1記載のス
    ピン乾燥処理装置。
  3. 【請求項3】 上記保持テ−ブルの本体部は菱形に形成
    されていて、その四隅部にそれぞれ上記係合部が設けら
    れていることを特徴とする請求項1記載のスピン乾燥処
    理装置。
  4. 【請求項4】 上記本体部の周縁部はエッジ部に形成さ
    れていることを特徴とする請求項1記載のスピン乾燥処
    理装置。
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