JP3075758B2 - 一時保護膜の処理方法 - Google Patents
一時保護膜の処理方法Info
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- JP3075758B2 JP3075758B2 JP03085929A JP8592991A JP3075758B2 JP 3075758 B2 JP3075758 B2 JP 3075758B2 JP 03085929 A JP03085929 A JP 03085929A JP 8592991 A JP8592991 A JP 8592991A JP 3075758 B2 JP3075758 B2 JP 3075758B2
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- protective film
- temporary protective
- water
- polymer
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レジストインキ等の一
時保護膜を溶解又は剥離する処理方法に関する。
時保護膜を溶解又は剥離する処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、環境問題から耐水性があり、か
つ、水系で溶解又は剥離できる樹脂に対する要求が高ま
っている。レジストインキの様な一時保護塗膜用には耐
水性があり、かつ、アルカリ水溶液で剥離できるタイプ
のものが実用化されている。例えばプリント配線用のフ
ォトレジストとして最近ドライフィルムに代わる光重合
系の液状レジストが市販されている。この現像はアルカ
リ水溶液を用いる。又、ボトル等の回収使用を考慮し
て、耐水性があり、かつ、アルカリ水溶液で剥離できる
ラベル用接着剤、あるいは、アルカリ水溶液で洗い落せ
るインキが開発されている。
つ、水系で溶解又は剥離できる樹脂に対する要求が高ま
っている。レジストインキの様な一時保護塗膜用には耐
水性があり、かつ、アルカリ水溶液で剥離できるタイプ
のものが実用化されている。例えばプリント配線用のフ
ォトレジストとして最近ドライフィルムに代わる光重合
系の液状レジストが市販されている。この現像はアルカ
リ水溶液を用いる。又、ボトル等の回収使用を考慮し
て、耐水性があり、かつ、アルカリ水溶液で剥離できる
ラベル用接着剤、あるいは、アルカリ水溶液で洗い落せ
るインキが開発されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これま
で知られているものは、溶解又は剥離にアルカリ又は酸
の水溶液を使用しなくてはならず、安全上の問題、排水
処理の問題から使用場所が制約される。本発明は上記の
問題点を解決し、安全な界面活性剤水溶液によって容易
に溶解又は剥離できる一時保護塗膜の処理方法を提供す
るものである。
で知られているものは、溶解又は剥離にアルカリ又は酸
の水溶液を使用しなくてはならず、安全上の問題、排水
処理の問題から使用場所が制約される。本発明は上記の
問題点を解決し、安全な界面活性剤水溶液によって容易
に溶解又は剥離できる一時保護塗膜の処理方法を提供す
るものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、 １．Ｎ−イソプロピルアクリルアミドに、これと共重合
可能な他の疎水性ビニルモノマーを共重合する事によっ
て得られる、水溶／水不溶の転移温度が５℃以下である
感温性重合体を主成分とする一時保護膜を、アニオン及
び／又はカチオン界面活性剤水溶液により溶解又は剥離
することを特徴とする一時保護膜の処理方法。 ２．疎水性ビニルモノマーが、炭素数１〜２０のアルキ
ルアクリレート若しくはアルキルメタクリレート又は炭
素数４〜２０のＮ−アクリルアミドであることを特徴と
する上記１記載の一時保護膜の処理方法。 である。
可能な他の疎水性ビニルモノマーを共重合する事によっ
て得られる、水溶／水不溶の転移温度が５℃以下である
感温性重合体を主成分とする一時保護膜を、アニオン及
び／又はカチオン界面活性剤水溶液により溶解又は剥離
することを特徴とする一時保護膜の処理方法。 ２．疎水性ビニルモノマーが、炭素数１〜２０のアルキ
ルアクリレート若しくはアルキルメタクリレート又は炭
素数４〜２０のＮ−アクリルアミドであることを特徴と
する上記１記載の一時保護膜の処理方法。 である。
【０００５】本発明に用いられるＮ−イソプロピルアク
リルアミドは、その単独重合体が３１〜３２℃に水溶／
水不溶の転移温度を有する感温性を示し、転移温度未満
の温度の水に溶ける。水溶／水不溶の転移温度はＮ−イ
ソプロピルアクリルアミドに疎水性モノマーを共重合す
ることにより下がり、親水性モノマーを共重合すること
により高くなる。この転移温度は、共重合するモノマー
の種類、モル比によって任意にコントロールできる。と
ころが、この水溶／水不溶の転移温度は、ポリマーに対
し概ね１重量％以上のアニオン又はカチオン界面活性剤
が共存するとなくなり、水に溶解するようになる。この
為、水溶／水不溶の転移温度が５℃以下となるよう、Ｎ
−イソプロピルアクリルアミドと共重合可能な他の疎水
性ビニルモノマーを共重合した重合体は、通常の温度の
水には溶解せず、界面活性剤水溶液には溶解する。こう
して、界面活性剤水溶液には溶け、しかも疎水性のある
樹脂が得られる。
リルアミドは、その単独重合体が３１〜３２℃に水溶／
水不溶の転移温度を有する感温性を示し、転移温度未満
の温度の水に溶ける。水溶／水不溶の転移温度はＮ−イ
ソプロピルアクリルアミドに疎水性モノマーを共重合す
ることにより下がり、親水性モノマーを共重合すること
により高くなる。この転移温度は、共重合するモノマー
の種類、モル比によって任意にコントロールできる。と
ころが、この水溶／水不溶の転移温度は、ポリマーに対
し概ね１重量％以上のアニオン又はカチオン界面活性剤
が共存するとなくなり、水に溶解するようになる。この
為、水溶／水不溶の転移温度が５℃以下となるよう、Ｎ
−イソプロピルアクリルアミドと共重合可能な他の疎水
性ビニルモノマーを共重合した重合体は、通常の温度の
水には溶解せず、界面活性剤水溶液には溶解する。こう
して、界面活性剤水溶液には溶け、しかも疎水性のある
樹脂が得られる。
【０００６】本発明に用いられる疎水性ビニルモノマー
としては、アルキル（メタ）アクリレート、Ｎ−アルキ
ルアクリルアミド、アクリロニトリル、スチレン、塩
ビ、酢酸ビニル等が挙げられるが、Ｎ−イソプロピルア
クリルアミドとの共重合性の点から、アルキル（メタ）
アクリレート、Ｎ−アルキルアクリルアミドが好まし
い。より好ましくは炭素数１〜２０のアルキルアクリレ
ート若しくはメタクリレート又は炭素数４〜２０のＮ−
アルキルアクリルアミドの中から選定される。共重合性
の悪い疎水性ビニルモノマーを使用すると、合成された
ポリマーに組成分布を生じ、水溶／水不溶の転移温度が
幅広くなり、目的とする性能を十分に発揮しない。
としては、アルキル（メタ）アクリレート、Ｎ−アルキ
ルアクリルアミド、アクリロニトリル、スチレン、塩
ビ、酢酸ビニル等が挙げられるが、Ｎ−イソプロピルア
クリルアミドとの共重合性の点から、アルキル（メタ）
アクリレート、Ｎ−アルキルアクリルアミドが好まし
い。より好ましくは炭素数１〜２０のアルキルアクリレ
ート若しくはメタクリレート又は炭素数４〜２０のＮ−
アルキルアクリルアミドの中から選定される。共重合性
の悪い疎水性ビニルモノマーを使用すると、合成された
ポリマーに組成分布を生じ、水溶／水不溶の転移温度が
幅広くなり、目的とする性能を十分に発揮しない。
【０００７】本発明の処理方法に用いられる界面活性剤
は、アニオン又はカチオン界面活性剤なら特に限定しな
いが、ノニオン界面活性剤では上記ポリマーの可溶化能
を有しない。
は、アニオン又はカチオン界面活性剤なら特に限定しな
いが、ノニオン界面活性剤では上記ポリマーの可溶化能
を有しない。
【０００８】本発明に用いる一時保護膜の樹脂組成物に
は必要に応じて顔料等の添加物を配合する事ができる。
は必要に応じて顔料等の添加物を配合する事ができる。
【０００９】
【実施例】以下、実施例によって本発明を具体的に説明
する。 合成例１ 攪拌機、還流冷却器、および窒素ガス導入管を備えた三
ツ口フラスコにＮ−イソプロピルアクリルアミド１２
ｇ、エチルアクリレート８ｇ、メタノール１５０ｇを仕
込み、窒素ガスを通じて反応系内の酸素を除去した。次
いで、攪拌しつつ、重合開始剤としてアゾビスイソブチ
ロニトリル０．２ｇを加え、６０℃に昇温し、６０℃に
て６時間重合反応を行なった。反応液を多量の５℃の冷
水中に落とし、ポリマーを得た。得られたポリマーを乾
燥、粉砕し、イソプロピルアクリルアミド／エチルアク
リレート共重合体の粉末ポリマー１６ｇを得た。本ポリ
マーは、０〜１℃の冷水には溶解し、水可溶／水不溶の
転移温度は概ね１℃であった。
する。 合成例１ 攪拌機、還流冷却器、および窒素ガス導入管を備えた三
ツ口フラスコにＮ−イソプロピルアクリルアミド１２
ｇ、エチルアクリレート８ｇ、メタノール１５０ｇを仕
込み、窒素ガスを通じて反応系内の酸素を除去した。次
いで、攪拌しつつ、重合開始剤としてアゾビスイソブチ
ロニトリル０．２ｇを加え、６０℃に昇温し、６０℃に
て６時間重合反応を行なった。反応液を多量の５℃の冷
水中に落とし、ポリマーを得た。得られたポリマーを乾
燥、粉砕し、イソプロピルアクリルアミド／エチルアク
リレート共重合体の粉末ポリマー１６ｇを得た。本ポリ
マーは、０〜１℃の冷水には溶解し、水可溶／水不溶の
転移温度は概ね１℃であった。
【００１０】合成例２ エチルアクリレート８ｇに代えて、ｔ−ブチルアクリル
アミド１８ｇにした以外は合成例１と同様にして、５℃
以下で水に可溶なイソプロピルアクリルアミド／ｔ−ブ
チルアクリルアミド共重合体２３ｇを得た。
アミド１８ｇにした以外は合成例１と同様にして、５℃
以下で水に可溶なイソプロピルアクリルアミド／ｔ−ブ
チルアクリルアミド共重合体２３ｇを得た。
【００１１】実施例１ 合成例１で得た粉末ポリマー０．１ｇをメタノールに溶
解し、キャスト法によりフィルムを作成した。作成した
フィルムを２０℃の水１００ｍｌに入れ、２４時間放置
したが、溶解しなかった。このフィルムを２０℃のドデ
シルベンゼンスルホン酸ソーダの１重量％水溶液１００
ｃｃに入れ、２４時間放置した所、溶解した。
解し、キャスト法によりフィルムを作成した。作成した
フィルムを２０℃の水１００ｍｌに入れ、２４時間放置
したが、溶解しなかった。このフィルムを２０℃のドデ
シルベンゼンスルホン酸ソーダの１重量％水溶液１００
ｃｃに入れ、２４時間放置した所、溶解した。
【００１２】実施例２ 合成例２で合成した粉末ポリマー０．１ｇをメタノール
に溶解し、ガラス板に塗布、乾燥した。ポリマーのガラ
ス面に対する接着性は良好であった。ポリマーを塗布し
たガラス板を２０℃の水１００ｍｌに浸し２４時間放置
したが剥離、溶解しなかった。他方、同様にして作製し
たポリマー２０℃のドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ
の１重量％水溶液１００ｍｌに入れ２４時間放置したも
のは剥離溶解した。
に溶解し、ガラス板に塗布、乾燥した。ポリマーのガラ
ス面に対する接着性は良好であった。ポリマーを塗布し
たガラス板を２０℃の水１００ｍｌに浸し２４時間放置
したが剥離、溶解しなかった。他方、同様にして作製し
たポリマー２０℃のドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ
の１重量％水溶液１００ｍｌに入れ２４時間放置したも
のは剥離溶解した。
【００１３】実施例３ 合成例２で合成した粉末ポリマー０．１ｇを２０℃の水
１００ｍｌに入れ、２４時間攪拌したが、溶解しなかっ
た。この粉末ポリマー０．１ｇを２０℃のトリメチルス
テアリルアンモニウムクロライドの１％水溶液１００ｍ
ｌに入れ２４時間攪拌したところ溶解した。
１００ｍｌに入れ、２４時間攪拌したが、溶解しなかっ
た。この粉末ポリマー０．１ｇを２０℃のトリメチルス
テアリルアンモニウムクロライドの１％水溶液１００ｍ
ｌに入れ２４時間攪拌したところ溶解した。
【００１４】
【発明の効果】本発明の一時保護膜の処理方法は、一時
保護膜が水溶／水不溶の転移温度が５℃以下であるた
め、通常の状態では充分な耐水性を有し、さらにアニオ
ン及び／又はカチオン界面活性剤水溶液により容易に溶
解又は剥離できるため、特にレジストインキの様な一時
保護塗膜として使用した場合、溶解又は剥離する際の安
全上の問題及び排水処理の問題が改善される。
保護膜が水溶／水不溶の転移温度が５℃以下であるた
め、通常の状態では充分な耐水性を有し、さらにアニオ
ン及び／又はカチオン界面活性剤水溶液により容易に溶
解又は剥離できるため、特にレジストインキの様な一時
保護塗膜として使用した場合、溶解又は剥離する際の安
全上の問題及び排水処理の問題が改善される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C09D 133/26 C08L 33/26 G03F 7/11 501 C08F 220/56,20/56
Claims (2)
- 【請求項１】 Ｎ−イソプロピルアクリルアミドに、こ
れと共重合可能な他の疎水性ビニルモノマーを共重合す
る事によって得られる、水溶／水不溶の転移温度が５℃
以下である感温性重合体を主成分とする一時保護膜を、
アニオン及び／又はカチオン界面活性剤水溶液により溶
解又は剥離することを特徴とする一時保護膜の処理方
法。 - 【請求項２】 疎水性ビニルモノマーが、炭素数１〜２
０のアルキルアクリレート若しくはアルキルメタクリレ
ート又は炭素数４〜２０のＮ−アクリルアミドであるこ
とを特徴とする請求項２記載の一時保護膜の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03085929A JP3075758B2 (ja) | 1991-03-27 | 1991-03-27 | 一時保護膜の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03085929A JP3075758B2 (ja) | 1991-03-27 | 1991-03-27 | 一時保護膜の処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04298559A JPH04298559A (ja) | 1992-10-22 |
| JP3075758B2 true JP3075758B2 (ja) | 2000-08-14 |
Family
ID=13872450
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03085929A Expired - Fee Related JP3075758B2 (ja) | 1991-03-27 | 1991-03-27 | 一時保護膜の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3075758B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009057522A (ja) * | 2007-09-03 | 2009-03-19 | Univ Of Yamanashi | 温度応答性高分子、およびこれを用いた温度応答性ファイバーおよび不織布、並びにその製造方法 |
| CN108919605B (zh) * | 2018-07-27 | 2021-12-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 光阻组合物、像素界定层、其制备方法及应用 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2573731B2 (ja) * | 1990-08-31 | 1997-01-22 | 工業技術院長 | 感熱性高分子を利用した染色方法 |
| JP2991241B2 (ja) * | 1990-09-03 | 1999-12-20 | 工業技術院長 | 超高分子量の感熱性ポリアクリルアミド系誘導体の製造方法 |
-
1991
- 1991-03-27 JP JP03085929A patent/JP3075758B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04298559A (ja) | 1992-10-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080609 Year of fee payment: 8 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090609 Year of fee payment: 9 |
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