JP3060458B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JP3060458B2 JP1065361A JP6536189A JP3060458B2 JP 3060458 B2 JP3060458 B2 JP 3060458B2 JP 1065361 A JP1065361 A JP 1065361A JP 6536189 A JP6536189 A JP 6536189A JP 3060458 B2 JP3060458 B2 JP 3060458B2
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【発明の詳細な説明】 〔発明の概要〕 半導体記憶装置特にそのチップ面積を節減するための
分割線に関し、 データバス幅の節減およびセンスアンプ駆動信号線幅
の節減を目的とし、 複数のワード線とビット線、各ビット線に設けられた
センスアンプ、同一のワード線を有する複数のメモリセ
ルに接続された複数のセンスアンプより夫々がなる複数
のセンスアンプ列、および各センスアンプ列に平行に配
設され前記複数のセンスアンプで増幅された複数のデー
タをセルアレイ領域外へ同時に入出力する複数のデータ
バス線よりなるデータバス線群を有する半導体記憶装置
において、 各センスアンプ列を夫々複数に分割し、分割された一
のセンスアンプ列に属するセンスアンプに接続されたデ
ータバス線と、該分割された一のセンスアンプ列に並行
する他の分割されたセンスアンプ列に属するセンスアン
プに接続されたデータバス線とが、夫々前記センスアン
プ列方向と直交する方向にレイアウトされた第2のデー
タバス線を介して接続され、該第2のデータバス線は、
セルアレイ上の階層またはセルアレイとセンスアンプ上
の階層にレウアウトされていることを構成上の特徴とす
る。
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体記憶装置特にそのチップ面積を節減
するための分割配線に関する。
近年の半導体記憶装置においては、ピット容量の増大
に伴ない、各部の所要面積の縮減が望まれている。所要
面積の縮減には微細化が有効であるが、効率的な配線も
重要である。
〔従来の技術〕
半導体記憶装置ではワード線、ビット線、データバ
ス、センスアンプ駆動線、コラム選択線、電源線など多
数の配線を使用する、大容量メモリになる程これらの配
線の数は膨大になり、一層には収まらなくても多層化さ
れている。
第5図に従来例を示す。縦方向に走っているWLはワー
ド線、横方向に走っているBL,▲▼はビット線で、
これらは多数あり、そして各ワード線とビット線の交点
にメモリセルMCが配設される。一対のビット線BL,▲
▼とそのメモリセルMC、線SAなどをブロックM00,M01,
……で示すと、これらは多数縦方向に並び(M00,M01,…
…)、かつ同じものが横方向にも並ぶ(M00とM10
ど)。これらは同じ構成なので、図ではM00とM10のみ詳
細に示し、他は省略してある。縦方向に並ぶセンスアン
プSAの列と平行にデータバスDB2,DB3が走り、コラムゲ
ートG2,G3によりビット線BL,▲▼はデータバスDB2,
DB3の対応する対へ接続される。このメモリは4ビット
同時読出し型で、例えばM00〜M03の4ブロックのBL,▲
▼が8本のデータバスDB2の対応する線へ、コラム
ゲートを通して接続する。データバスDB2に読出された
データはデータラッチDLにラッチされ、ゲートG1を経
て、横方向に走る8本のデータバスDB1を通して外部へ
取出される。
縦方向に走る線l1,l2はセンスアンプ駆動信号線で、l
1はゲートG10を介して電源Vcc線へ接続され、l2は、ゲ
ートG11を介して電源Vss線へ接続され、センスアンプの
動作/不動作を制御する。ゲートG4とG5、G6とG7はカッ
トゲート、Q1とQ2およびQ3とQ4はビット線BL,▲▼
の短絡用(リセット用)トランジスタ、l5とl7、は該ト
ランジスタのオン/オフ用信号線l6,l8は、ビットライ
ン、ショート用の電源線である。他のブロックについて
も同様である。Xデコータ10はワード線選択を行ない、
Yデコータ20はビット線選択、本例では4対ずつの選択
を行なう。DRはゲートのドライバである。
メモリセルはセンスアンプの左,右にあるが、左側の
メモリセルを選択するときは右側のカットゲートG6,G7
で右側のメモリセル群を切離し、右側のメモリセルを選
択するときは左側のカットゲートで左側のメモリセル群
を切離す。
一般にビット線は、多結晶シリコン及び基板に形成し
た拡散層で構成する。ワード線は、メモリセルのトラン
ジスタのゲートと共に多結晶シリコンで構成し、抵抗を
下げるために金属(アルミ)配線で裏打ちする。セル
は、スタック型の場合、多結晶シリコン2層で構成す
る。なお本例のメモリはポリシリコン4層、アルミ2
層、拡散層を入れて7層の配線である。縦方向に走るデ
ータバスDB2,DB3等と、横方向に走るコラム選択線l3,l4
等はアルミ2層配線の1層目と2層目を使用し、コラム
選択線l3,l4などは左,右のブロックM00とM10等で共用
して、所要面積の縮減を図っている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら第5図の半導体記憶装置では、センスア
ンプ列と平行に走るデータバスDB2,DB3が各8本(4
対)からなり、ピッチを3μmとしても4対×2×3μ
m=24μmを必要とする。大容量例えば16M DRAMでは第
4図に示すように、1Mのセルブロックを16個並設し、各
ブロックは2Kセンスアンプ列とそれを挟んでその左右に
置かれる512Kセルブロックで構成する。24μm幅のデー
タバスも16組あれば全体では24μm×16=384μmとな
り、所要面積がかなり大きくなる。
またセンスアンプは、センスアンプ列方向に走る一対
の線(センスアンプ駆動信号線)とゲートを通して電源
Vcc、Vssへ接続されるが、2K個のセンスアンプの列では
該線を流れる電流が大になり、配線における電流密度を
考慮すれば、線幅は4μm程度になる。それが第4図で
は16対あるから全体では40μm×2×16=1280μmとな
り、かなりの面積を必要とする。
本発明はかゝる点を改善しようとするもので、データ
バス幅の節減およびセンスアンプ駆動信号線幅の節減を
目的とするものである。
〔課題を解決するための手段〕
第1図に示すように本発明ではセンスアンプ列に平行
に走るデータバスペアを分割して独立な複数群DB21とDB
22、DB31とDB32にする。これらのデータバスDB21,DB31,
DB22,DB32は、横方向(センスアンプ列と直交する方
向)でセルアレイ上またはセルアレイとセンスアンプ上
を延びる配線(第2のデータバス)l11,l12,l21,l22
接続して、外部とのデータの入出力を行なうようにす
る。
またセンスアンプ列方向に走るセンスアンプ駆動信号
線l1,l2はその複数箇所で、横方向配線l31,l32,l41,l42
により電源Vss,Vccへ接続する。例えばセンスアンプ列
が2K個のセスアンプを含むなら、各1K個の2群に分け、
各群のセンスアンプ駆動信号線l1とl2を配線l31とl32,l
41とl42により電圧Vss,Vccへ接続する。
〔作 用〕
このようにすると、データバス幅の低減が可能であ
る。例えばこのメモリが第5図のように4ビット同時読
出し型で、データバスDB2,DB3は各8本からなるとき、
これを第1図のように2分してDB21とDB22,DB31とDB32
にすると、各々は2ビットを受持てばよいから、これら
DB21,DB22,……は4本でよい。これにより、所要面積を
1/2にすることができる。
またセンスアンプ駆動信号線l1,l2の線幅の低減が可
能である。例えばセンスアンプ列を2分して各々は1K個
のセンスアンプを含むだけにすると、2K個のセンスアン
プの場合に比べて信号線l1,l2を流れる電流は半減する
から、線幅も半分でよい。これにより、所要面積の半減
が可能である。
センスアンプ駆動信号線は分割して各々を独立にし、
その独立な各部分をそれぞれの横方向配線より給電する
ようにしても、あるいは図示のように分割せず、複数箇
所から給電するようにしてもよく、効果は同様である。
〔実施例〕
第2図に本発明の実施例を示す。全図を通してそうで
あるが、他の図と同様な部分には同じ符号が付してあ
る。このメモリも第4図の16M DRAMであり、センスアン
プ列は2K個のセンスアンプを有するが、本例ではこれを
2分して各1K個のセンスアンプの列2つにしてやる。や
はり4ビット同時読出し型なのでデータバスは8本(4
対)必要であるが、2分するので各々は4本(2対)で
よい。
第2のデータバスl11,l21,l12,l22はセレクタ30で開
閉されるスイッチSWを介してデータラッチDL1〜DL4に接
続され、これにより図示しない回路を通して外部と接続
する。この第2図の左側のセンスアンプ列が動作すると
き右側のセンスアンプ列は動作せず、右側のセンスアン
プ列が動作するとき左側のセンスアンプ列は動作しない
から、左,右のセンスアンプ列で交互にデータラッチDL
を使用することができ、データラッチの共用が可能であ
る。
左,右のセンスアンプ列のセンスアンプ駆動信号線
l1,l2は横方向配線l31,l32,l41,l42とゲートG11,G10
通して電源Vss,Vcc線へ接続する。横方向配線(l31等)
は複数本あってセンスアンプ駆動信号線l1,l2を各々複
数個所から給電するので、該信号線l1,l2の幅は複数分
の1でよい。
こうして16M DRAMでセンスアンプ列方向で2分割の場
合、データバス幅で384/2=192μmのまたセンスアンプ
駆動信号線幅で1280/2=640μmの節減が可能である。
第3図に、16個のセンスアンプを1組とした場合の各
種横方向配線のレイアウトを示す。SA1〜SA16は該16個
のセンスアンプ、BL1〜BL16はこれらのセンスアンプが
接続する16対のビット線である。C1,C2,……はコラム選
択線、G21,G22,……はコラム選択ゲートで、第2図では
l3,G2,G3で示したものである。DBa,DBbは4本のデータ
バスDB21,……の各対を示す。
コラム選択線C1,C2,……は1本で2対のビット線を対
応するデータバス対DBa,DBbへ接続し、図示しない他の1
6個のセンスアンプ列のそれと合わせて4ビット同時読
出し/書込みを行なう。本例ではコラム選択線C1はビッ
ト線対BL1とBL3をデータバス対DBa,DBbへ接続し、コラ
ム選択線C2はビット線対BL2とBL4をデータバス対DBa,DB
bへ接続し、以下これに準ずる。
1個のセンスアンプ上を1本の横方向配線(コラム選
択線)が走るとすると、16個のセンスアンプでは16本の
横方向配線が走ることになるが、コラム選択線は1本で
2ビット線対を扱うから8本でよく、残り8本分のスペ
ースが余る。そこで本例ではコラム選択線は上に4本C1
〜C4、下に4本C5〜C8とり、中央の8本分をあけ、この
部分に電源ライン又は他の信号線(第2図のl31など)
とデータバスDBc(これは第2図のl11など)を配設す
る。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、センスアンプ
列と平行に走るデータバスの線数と幅が節減されるとと
もにデータラッチ数も節減され、またセンスアンプ列と
平行に走るセンスアンプ駆動信号線の幅の節減ができる
ため、特に大容量にメモリにおいて大きな所要面積低減
効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の原理説明図、 第2図は本発明の実施例の説明図、 第3図は各種横方向配線のレイアウトを示す説明図、 第4図は16M DRAMの概要説明図、 第5図は従来例の説明図である。 第1図でWLはワード線、BLはビット線、SAはセンスアン
プ、MCはメモリセル、DBはデータバス、l11,l21,……は
第2データバス、l1,l2はセンスアンプ駆動信号線、
l31,l32,……は複数の配線である。

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数のワード線とビット線、各ビット線に
    設けられたセンスアンプ、同一のワード線を有する複数
    のメモリセルに接続された複数のセンスアンプより夫々
    がなる複数のセンスアンプ列、および各センスアンプ列
    に平行に配列され前記複数のセンスアンプで増幅された
    複数のデータをセルアレイ領域外へ同時に入出力する複
    数のデータバス線よりなるデータバス線群を有する半導
    体記憶装置において、 各センスアンプ列を夫々複数に分割し、分割された一の
    センスアンプ列に属するセンスアンプに接続されたデー
    タバス線と、該分割された一のセンスアンプ列に並行す
    る他の分割されたセンスアンプ列に属するセンスアンプ
    に接続されたデータバス線とが、夫々前記センスアンプ
    列方向と直交する方向にレイアウトされた第2のデータ
    バス線を介して接続され、該第2のデータバス線は、セ
    ルアレイ上の階層またはセルアレイとセンスアンプ上の
    階層にレイアウトされていることを特徴とする半導体記
    憶装置。
  2. 【請求項2】前記センスアンプ列方向と直交する方向に
    配設された複数の配線を介して、前記センスアンプ列方
    向に配置されたセンスアンプ駆動信号線をその複数箇所
    で電源に接続したことを特徴とする請求項1に記載の半
    導体記憶装置。
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