JP3034720B2 - 表面洗浄方法もしくは表面改質方法 - Google Patents
表面洗浄方法もしくは表面改質方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラスチックス、ガラ
ス、セラミックスなどの表面から有機不要物を除く表面
洗浄方法に関する。
ス、セラミックスなどの表面から有機不要物を除く表面
洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】広範な産業界で使用されているプラスチ
ックス、ガラス、セラミックスなどは一般に、オイルポ
ンプのオイルや機械油などの炭化水素系の物質で、その
表面が汚れている。通常これらの有機不要物はフレオン
系の溶剤で溶解除去していた。その理由は、フレオンが
広い対象の物質に対して大きな溶解性があること、除去
速度が早いこと、除去後の被処理物体表面の乾燥速度が
高く、すぐに次の工程に移れることなどの多数の長所を
有していることによる。しかし、フレオンおよびその代
替品は上層大気圏のオゾン層の破壊を引き起こすため、
産業上の使用が好ましくないとされている。
ックス、ガラス、セラミックスなどは一般に、オイルポ
ンプのオイルや機械油などの炭化水素系の物質で、その
表面が汚れている。通常これらの有機不要物はフレオン
系の溶剤で溶解除去していた。その理由は、フレオンが
広い対象の物質に対して大きな溶解性があること、除去
速度が早いこと、除去後の被処理物体表面の乾燥速度が
高く、すぐに次の工程に移れることなどの多数の長所を
有していることによる。しかし、フレオンおよびその代
替品は上層大気圏のオゾン層の破壊を引き起こすため、
産業上の使用が好ましくないとされている。
【０００３】他方、プラスチックスへの印刷インキの
「乗り」を良くするための洗浄とか、液晶表示板用のガ
ラスの精密洗浄などでは、それらの被処理物の表面をオ
ゾン含有雰囲気のもとで紫外線照射し、表面の有機不要
物を除去することが提案されている。しかしながら、汚
染物の除去速度はあまり高くない。これに関連する技術
は、例えば、特開昭６０−５７９３７，特開昭６０−５
８２３８など多数発表されている。
「乗り」を良くするための洗浄とか、液晶表示板用のガ
ラスの精密洗浄などでは、それらの被処理物の表面をオ
ゾン含有雰囲気のもとで紫外線照射し、表面の有機不要
物を除去することが提案されている。しかしながら、汚
染物の除去速度はあまり高くない。これに関連する技術
は、例えば、特開昭６０−５７９３７，特開昭６０−５
８２３８など多数発表されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
み、なされたものであってその目的とするところは、有
機物の除去速度が大きく、かつ精密洗浄に適した表面洗
浄方法を提供することにある。
み、なされたものであってその目的とするところは、有
機物の除去速度が大きく、かつ精密洗浄に適した表面洗
浄方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明は、過酸化水素の蒸気もしくは過酸化水素水
と、エキシマランプから放射される波長１７２、１４
６、１２６ｎｍの紫外光とを組み合わせて被処理物の表
面を洗浄することを特徴とする。更に、過酸化水素の蒸
気にオゾンを混合しておくかもしくは過酸化水素水にオ
ゾンを溶解しておいて、そのうえでエキシマランプから
放射される波長１７２、１４６、１２６ｎｍの紫外光と
組み合わせて被処理物の表面を洗浄することを特徴とす
る。
に、本発明は、過酸化水素の蒸気もしくは過酸化水素水
と、エキシマランプから放射される波長１７２、１４
６、１２６ｎｍの紫外光とを組み合わせて被処理物の表
面を洗浄することを特徴とする。更に、過酸化水素の蒸
気にオゾンを混合しておくかもしくは過酸化水素水にオ
ゾンを溶解しておいて、そのうえでエキシマランプから
放射される波長１７２、１４６、１２６ｎｍの紫外光と
組み合わせて被処理物の表面を洗浄することを特徴とす
る。
【０００６】
【作用】過酸化水素の蒸気に、エキシマランプから放射
される波長１７２、１４６、１２６ｎｍの紫外線を照射
すると、非常に活性の強いＯＨラジカルが生成される。
このＯＨラジカルが、炭化水素系の有機物（Ｃｌ Ｈｍ
Ｏｎ ）と反応し、有機物を炭酸ガスと水とに分解す
る。オゾンが共存すると、原子状のＯも生成する。式で
示すと次のとうりである。 Ｈ２ Ｏ２ ＋（Ｏ３ ）＋紫外光→２（ＯＨ）＋
（Ｏ）＋（Ｏ２ ）＋（Ｈ２ Ｏ） ＯＨ＋Ｃｌ Ｈｍ Ｏｎ →ＣＯ２ ＋Ｈ２ Ｏ 過酸化水素水もしくはオゾンを溶解した過酸化水素水の
場合も、上記の化学反応式は同じである。
される波長１７２、１４６、１２６ｎｍの紫外線を照射
すると、非常に活性の強いＯＨラジカルが生成される。
このＯＨラジカルが、炭化水素系の有機物（Ｃｌ Ｈｍ
Ｏｎ ）と反応し、有機物を炭酸ガスと水とに分解す
る。オゾンが共存すると、原子状のＯも生成する。式で
示すと次のとうりである。 Ｈ２ Ｏ２ ＋（Ｏ３ ）＋紫外光→２（ＯＨ）＋
（Ｏ）＋（Ｏ２ ）＋（Ｈ２ Ｏ） ＯＨ＋Ｃｌ Ｈｍ Ｏｎ →ＣＯ２ ＋Ｈ２ Ｏ 過酸化水素水もしくはオゾンを溶解した過酸化水素水の
場合も、上記の化学反応式は同じである。
【０００７】ところで、過酸化水素は、紫外光の吸収帯
として波長３００ｎｍ以下にその存在が知られ、それら
は、ｎｍで示すと、３６５，３０８，２６５，２５４，
２４８，２２９，２２２，２１４，１８５，１７２，１
４６，１２６である。しかもこれらの波長の紫外光を良
好に放射するランプも知られ、例えば高圧水銀ランプ、
低圧水銀ランプ、その他特開平１−１４４５６０「高出
力放射器」に開示されたエキシマランプがある。したが
って、これら紫外光を良好に放射するランプと過酸化水
素とを組み合わせると被処理物の表面洗浄は効率良く達
成される。
として波長３００ｎｍ以下にその存在が知られ、それら
は、ｎｍで示すと、３６５，３０８，２６５，２５４，
２４８，２２９，２２２，２１４，１８５，１７２，１
４６，１２６である。しかもこれらの波長の紫外光を良
好に放射するランプも知られ、例えば高圧水銀ランプ、
低圧水銀ランプ、その他特開平１−１４４５６０「高出
力放射器」に開示されたエキシマランプがある。したが
って、これら紫外光を良好に放射するランプと過酸化水
素とを組み合わせると被処理物の表面洗浄は効率良く達
成される。
【０００８】更に上記化学反応で生成されるＯＨ基はプ
ラスチックスの表面改質にも役立つ。一般にプラスチッ
クスは炭素結合を骨格としているので、活性の高いＯＨ
基と接触すると炭素結合の一部が切れ、被処理物の表面
にはＯＨが付加した状態になる。式で示すと次のとうり
である。 ＝Ｃ＝ → ≡Ｃ−ＯＨ もしくは ＝Ｃ＝ → −Ｃ（＝Ｏ）−Ｈ である。すなわち、表面が化学構造的に変化するので、
この化学反応を利用するとプラスチックスの表面が改質
できる。
ラスチックスの表面改質にも役立つ。一般にプラスチッ
クスは炭素結合を骨格としているので、活性の高いＯＨ
基と接触すると炭素結合の一部が切れ、被処理物の表面
にはＯＨが付加した状態になる。式で示すと次のとうり
である。 ＝Ｃ＝ → ≡Ｃ−ＯＨ もしくは ＝Ｃ＝ → −Ｃ（＝Ｏ）−Ｈ である。すなわち、表面が化学構造的に変化するので、
この化学反応を利用するとプラスチックスの表面が改質
できる。
【０００９】これらの洗浄作用、改質作用は、過酸化水
素の蒸気や過酸化水素水などの流体を加熱して昇温して
おいたり、被処理物を超音波場に配置しておいたりする
と、更に洗浄、改質の速度は大きくなる。また、オゾン
の共存も洗浄や改質の速度の増大に役立ち、いずれも、
非金属の酸化に対して比較的強く作用することができ
る。
素の蒸気や過酸化水素水などの流体を加熱して昇温して
おいたり、被処理物を超音波場に配置しておいたりする
と、更に洗浄、改質の速度は大きくなる。また、オゾン
の共存も洗浄や改質の速度の増大に役立ち、いずれも、
非金属の酸化に対して比較的強く作用することができ
る。
【００１０】
【実施例】図１は、本発明の第１の実施例の説明図であ
って、パラフィンの除去方法の説明図である。図におい
て、１はガラス製の容器、２は過酸化水素の１モル％の
水溶液である。３は石英ガラス製のジャケットであっ
て、その中に高圧水銀ランプ４を配置する。５は被処理
物であって、実施例では、ポリエチレンテレフタレート
（以下ＰＥＴという。）の表面に厚さ０．１μｍの流動
パラフィンが塗布されている。ランプ４は、電源６によ
って、アーク長１ｃｍ当たり１６０Ｗで点灯され、ＰＥ
Ｔの表面で１００ｍＷ／ｃｍ2 の照射強度になるように
する。ランプ４からは、２４０ｎｍから２７０ｎｍにま
たがる波長域の紫外光が強く放射され、被処理物近傍で
過酸化水素からＯＨ基が生成されるため、流動パラフィ
ンは１０分の照射時間で除去することができた。
って、パラフィンの除去方法の説明図である。図におい
て、１はガラス製の容器、２は過酸化水素の１モル％の
水溶液である。３は石英ガラス製のジャケットであっ
て、その中に高圧水銀ランプ４を配置する。５は被処理
物であって、実施例では、ポリエチレンテレフタレート
（以下ＰＥＴという。）の表面に厚さ０．１μｍの流動
パラフィンが塗布されている。ランプ４は、電源６によ
って、アーク長１ｃｍ当たり１６０Ｗで点灯され、ＰＥ
Ｔの表面で１００ｍＷ／ｃｍ2 の照射強度になるように
する。ランプ４からは、２４０ｎｍから２７０ｎｍにま
たがる波長域の紫外光が強く放射され、被処理物近傍で
過酸化水素からＯＨ基が生成されるため、流動パラフィ
ンは１０分の照射時間で除去することができた。
【００１１】上記実施例では、過酸化水素とＰＥＴ表面
上の汚染物とが紫外光を同時に受けるものであるが、あ
らかじめ過酸化水素水に紫外光を照射して活性化してお
いた状態で、前記被処理物を過酸化水素水に浸すという
方法を採用しても同様の効果が得られる。そして前記し
たとうり、この過酸化水素水の温度を加熱しておいた
り、或いは容器１の下側に超音波発生器を配置したりす
ると更に除去時間が短縮されることは言うまでもない。
上の汚染物とが紫外光を同時に受けるものであるが、あ
らかじめ過酸化水素水に紫外光を照射して活性化してお
いた状態で、前記被処理物を過酸化水素水に浸すという
方法を採用しても同様の効果が得られる。そして前記し
たとうり、この過酸化水素水の温度を加熱しておいた
り、或いは容器１の下側に超音波発生器を配置したりす
ると更に除去時間が短縮されることは言うまでもない。
【００１２】第２の実施例は、ＰＥＴの表面改質を説明
する。第１の実施例における被処理物に代えて、きれい
に洗浄されたＰＥＴを過酸化水素水に浸す。この場合
は、容器１の下側に超音波発生器を配置してＰＥＴに紫
外線を照射すると、ＰＥＴは親水性を示すように変化す
る。その表面をＥＳＣＡ（Electron Spectroscopy for
Chemical Analysis の略）で調べると、ＯＨ基が多数認
められ、ＰＥＴの表面はより高い親水性を帯びさせるこ
とができることが理解できる。照射時間は３分間であ
る。
する。第１の実施例における被処理物に代えて、きれい
に洗浄されたＰＥＴを過酸化水素水に浸す。この場合
は、容器１の下側に超音波発生器を配置してＰＥＴに紫
外線を照射すると、ＰＥＴは親水性を示すように変化す
る。その表面をＥＳＣＡ（Electron Spectroscopy for
Chemical Analysis の略）で調べると、ＯＨ基が多数認
められ、ＰＥＴの表面はより高い親水性を帯びさせるこ
とができることが理解できる。照射時間は３分間であ
る。
【００１３】図２は第３の実施例の説明図であって、Ｐ
ＥＴの製造工程中に付着した油脂系の有機物を除去する
方法の説明図である。図において、容器１には、過酸化
水素の３モル％水溶液２を４５℃に加熱して入れてあ
る。この容器１は、その下方でオゾン発生器７からのオ
ゾンを含んだ空気もしくは酸素が送り込まれるようにな
っている。尚、１０は泡発生器である。オゾン濃度がモ
ル比で１０ｐｐｍ程度で、高圧水銀ランプ４を点灯して
活性化しておき、前記のＰＥＴを５０秒間漬ける。ラン
プからは２５０ｎｍから２７０ｎｍの波長域の紫外光が
放射され、ＰＥＴ表面における照射強度が５００ｍＷ／
ｃｍ2 になるようにする。この５０秒間の処理の後ＰＥ
Ｔを５０℃の温風で乾燥したものは、印刷インキの「乗
り」が非常に良い。プラスチックスの表面洗浄方法とし
てすぐれていることが理解できる。
ＥＴの製造工程中に付着した油脂系の有機物を除去する
方法の説明図である。図において、容器１には、過酸化
水素の３モル％水溶液２を４５℃に加熱して入れてあ
る。この容器１は、その下方でオゾン発生器７からのオ
ゾンを含んだ空気もしくは酸素が送り込まれるようにな
っている。尚、１０は泡発生器である。オゾン濃度がモ
ル比で１０ｐｐｍ程度で、高圧水銀ランプ４を点灯して
活性化しておき、前記のＰＥＴを５０秒間漬ける。ラン
プからは２５０ｎｍから２７０ｎｍの波長域の紫外光が
放射され、ＰＥＴ表面における照射強度が５００ｍＷ／
ｃｍ2 になるようにする。この５０秒間の処理の後ＰＥ
Ｔを５０℃の温風で乾燥したものは、印刷インキの「乗
り」が非常に良い。プラスチックスの表面洗浄方法とし
てすぐれていることが理解できる。
【００１４】上記した実施例はすべて液相であったが、
過酸化水素と紫外光とを組み合わせた表面洗浄もしくは
表面改質は気相でも全く同様に実施可能である。図３は
第４の実施例の説明図であって、ポリプロピレン（以下
ＰＰという。）の表面を気相処理する表面改質方法の説
明図である。容器１内には被処理物５とランプ８を配置
し、供給する過酸化水素の蒸気圧は７×１０3 Ｐａであ
る。オゾン発生器７からオゾンを混入する場合は例えば
１×１０3 Ｐａである。この場合、被処理物はＰＰであ
り、ランプは高圧水銀ランプである。ランプ８を電源６
で点灯すると、波長域が２４０ｎｍ乃至２７０ｎｍにま
たがる紫外光が得られる。被処理物表面上における照射
強度は４００ｍＷ／ｃｍ2 である。この状態でＰＰを１
０分間処理すると水滴接触角法で接触角１５度の低下を
きたす。これより本発明の方法で確かに親水性が増した
ことが実証された。
過酸化水素と紫外光とを組み合わせた表面洗浄もしくは
表面改質は気相でも全く同様に実施可能である。図３は
第４の実施例の説明図であって、ポリプロピレン（以下
ＰＰという。）の表面を気相処理する表面改質方法の説
明図である。容器１内には被処理物５とランプ８を配置
し、供給する過酸化水素の蒸気圧は７×１０3 Ｐａであ
る。オゾン発生器７からオゾンを混入する場合は例えば
１×１０3 Ｐａである。この場合、被処理物はＰＰであ
り、ランプは高圧水銀ランプである。ランプ８を電源６
で点灯すると、波長域が２４０ｎｍ乃至２７０ｎｍにま
たがる紫外光が得られる。被処理物表面上における照射
強度は４００ｍＷ／ｃｍ2 である。この状態でＰＰを１
０分間処理すると水滴接触角法で接触角１５度の低下を
きたす。これより本発明の方法で確かに親水性が増した
ことが実証された。
【００１５】ところで、気相による乾式洗浄もしくは乾
式改質では、過酸化水素の蒸気圧は１０2 Ｐａから１０
5 Ｐａの範囲であれば、過酸化水素の反応容器外への漏
洩もなく、かつ容器内の蒸気は充分に活性化される。ま
た、オゾンを混入する場合は、その分圧を１０Ｐａから
１０3 Ｐａの範囲を選べば、材料の劣化変質が事実上な
くて反応性ガスを充分に活性化できる利点がある。他
方、液相による湿式洗浄もしくは湿式改質では、過酸化
水素水の濃度は、１０-2モル％から８モル％の範囲であ
れば、反応容器内でほぼ均一に反応流体を活性化させる
ことが可能である。また、オゾンを溶解した場合は、モ
ル比で１ｐｐｍから１００ｐｐｍの範囲とすれば、材料
の劣化反応を事実上生じさせることなく反応流体を充分
に活性化できる。
式改質では、過酸化水素の蒸気圧は１０2 Ｐａから１０
5 Ｐａの範囲であれば、過酸化水素の反応容器外への漏
洩もなく、かつ容器内の蒸気は充分に活性化される。ま
た、オゾンを混入する場合は、その分圧を１０Ｐａから
１０3 Ｐａの範囲を選べば、材料の劣化変質が事実上な
くて反応性ガスを充分に活性化できる利点がある。他
方、液相による湿式洗浄もしくは湿式改質では、過酸化
水素水の濃度は、１０-2モル％から８モル％の範囲であ
れば、反応容器内でほぼ均一に反応流体を活性化させる
ことが可能である。また、オゾンを溶解した場合は、モ
ル比で１ｐｐｍから１００ｐｐｍの範囲とすれば、材料
の劣化反応を事実上生じさせることなく反応流体を充分
に活性化できる。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、過酸化
水素と、エキシマランプから放射される波長１７２、１
４６、１２６ｎｍの紫外光との組み合わせに着目するこ
とによってすぐれた表面洗浄効果もしくはプラスチッッ
クスの表面改質効果を得たものであり、産業上著しく有
益な方法である。特に、過酸化水素とエキシマランプか
ら放射される波長１７２、１４６、１２６ｎｍの紫外光
との組み合わせによる洗浄は、非金属の酸化に比較的強
い作用をするので、プラスチックス、ガラス、セラミッ
クスの表面洗浄に適する。
水素と、エキシマランプから放射される波長１７２、１
４６、１２６ｎｍの紫外光との組み合わせに着目するこ
とによってすぐれた表面洗浄効果もしくはプラスチッッ
クスの表面改質効果を得たものであり、産業上著しく有
益な方法である。特に、過酸化水素とエキシマランプか
ら放射される波長１７２、１４６、１２６ｎｍの紫外光
との組み合わせによる洗浄は、非金属の酸化に比較的強
い作用をするので、プラスチックス、ガラス、セラミッ
クスの表面洗浄に適する。
【図１】パラフィンの除去の方法の説明図である。
【図２】油脂系の有機物の除去の方法の説明図である。
【図３】ポリプロピレンの表面の改質方法の説明図であ
る。
る。
１ 容器 ２ 過酸化水素水 ３ ジャケット ４ 高圧水銀ランプ ５ 被処理物 ６ 電源 ７ オゾン発生器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｃ０１Ｂ 15/00 Ｃ０１Ｂ 15/00 Ｃ０８Ｊ 7/00 ３０４ Ｃ０８Ｊ 7/00 ３０４ 審査官 鈴木 正紀 (56)参考文献 特開 平５−311474（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−59042（ＪＰ，Ａ) 特表 平４−504594（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C23G 5/00 B01J 19/12 B05C 9/12 B08B 3/08 C01B 15/00 C08J 7/00
Claims (16)
- 【請求項１】被処理物の表面を、過酸化水素の蒸気、も
しくは過酸化水素の蒸気とオゾンの混合ガス、もしくは
過酸化水素水、もしくはオゾンを溶解した過酸化水素水
に接触させておいたうえでエキシマランプからの波長１
７２、１４６、１２６ｎｍのうち少なくとも一つの紫外
線を照射しこれらを活性化して、該表面の不要有機物を
除去することを特徴とする表面洗浄方法。 - 【請求項２】過酸化水素の蒸気、もしくは過酸化水素の
蒸気とオゾンの混合ガス、もしくは過酸化水素水、もし
くはオゾンを溶解した過酸化水素水にエキシマランプか
らの波長１７２、１４６、１２６ｎｍのうち少なくとも
一つの紫外線を照射して活性化せしめ、しかる後、被処
理物の表面を活性化されたそれらに接触せしめて、該表
面の不要有機物質を除去することを特徴とする表面洗浄
方法。 - 【請求項３】被処理物が超音波場に配置されてなる請求
項１もしくは２記載の表面洗浄方法。 - 【請求項４】過酸化水素の蒸気、もしくは過酸化水素の
蒸気とオゾンの混合ガス、もしくは過酸化水素水、もし
くはオゾンを溶解した過酸化水素水を、室温よりも高い
温度に加熱せしめておくことを特徴とする請求項１もし
くは２記載の表面洗浄方法。 - 【請求項５】過酸化水素の蒸気において、その圧力が１
０２ Ｐａ乃至１０５ Ｐａに規定してなる請求項１も
しくは２記載の表面洗浄方法。 - 【請求項６】過酸化水素の蒸気とオゾンの混合ガスにお
いて、過酸化水素の蒸気の分圧が１０２ Ｐａ乃至１０
５ Ｐａに、オゾンの分圧が１０Ｐａ乃至１０４ Ｐａ
にそれぞれ規定されてなる請求項１もしくは２記載の表
面洗浄方法。 - 【請求項７】過酸化水素水において、過酸化水素の濃度
が１０−２モル％乃至８モル％に規定してなる請求項１
もしくは２記載の表面洗浄方法。 - 【請求項８】オゾンを溶解した過酸化水素水において、
過酸化水素の濃度が１０−２モル％乃至８モル％に、オ
ゾンの濃度がモル比で１ｐｐｍ乃至１００ｐｐｍに規定
してなる請求項１もしくは２記載の表面洗浄方法。 - 【請求項９】被処理物の表面を、過酸化水素の蒸気、も
しくは過酸化水素の蒸気とオゾンの混合ガス、もしくは
過酸化水素水、もしくはオゾンを溶解した過酸化水素水
に接触させておいたうえでエキシマランプからの波長１
７２、１４６、１２６ｎｍのうち少なくとも一つの紫外
線を照射しこれらを活性化して、該表面の特性を化学的
に改質させることを特徴とする表面改質方法。 - 【請求項１０】過酸化水素の蒸気、もしくは過酸化水素
の蒸気とオゾンの混合ガス、もしくは過酸化水素水、も
しくはオゾンを溶解した過酸化水素水にエキシマランプ
からの波長１７２、１４６、１２６ｎｍのうち少なくと
も一つの紫外線を照射して活性化せしめ、しかる後、被
処理物の表面を活性化されたそれらに接触せしめて、該
表面の特性を化学的に改質させることを特徴とする表面
改質方法。 - 【請求項１１】被処理物が超音波場に配置されてなる請
求項９もしくは１０記載の表面改質方法。 - 【請求項１２】過酸化水素の蒸気、もしくは過酸化水素
の蒸気とオゾンの混合ガス、もしくは過酸化水素水、も
しくはオゾンを溶解した過酸化水素水を、室温よりも高
い温度に加熱せしめておくことを特徴とする請求項９も
しくは１０記載の表面改質方法。 - 【請求項１３】過酸化水素の蒸気において、その圧力が
１０２ Ｐａ乃至１０５ Ｐａに規定してなる請求項９
もしくは１０記載の表面改質方法。 - 【請求項１４】過酸化水素の蒸気とオゾンの混合ガスに
おいて、過酸化水素の蒸気の分圧が１０２ Ｐａ乃至１
０５ Ｐａに、オゾンの分圧が１０Ｐａ乃至１０４ Ｐ
ａにそれぞれ規定されてなる請求項９もしくは１０記載
の表面改質方法。 - 【請求項１５】過酸化水素水において、過酸化水素の濃
度が１０−２モル％乃至８モル％に規定してなる請求項
９もしくは１０記載の表面改質方法。 - 【請求項１６】オゾンを溶解した過酸化水素水におい
て、過酸化水素の濃度が１０−２モル％乃至８モル％
に、オゾンの濃度がモル比で１ｐｐｍ乃至１００ｐｐｍ
に規定してなる請求項９もしくは１０記載の表面改質方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5095092A JP3034720B2 (ja) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | 表面洗浄方法もしくは表面改質方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5095092A JP3034720B2 (ja) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | 表面洗浄方法もしくは表面改質方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06287784A JPH06287784A (ja) | 1994-10-11 |
| JP3034720B2 true JP3034720B2 (ja) | 2000-04-17 |
Family
ID=14128271
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5095092A Expired - Fee Related JP3034720B2 (ja) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | 表面洗浄方法もしくは表面改質方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3034720B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017104370A1 (ja) * | 2015-12-14 | 2017-06-22 | 株式会社トクヤマ | 洗浄方法および洗浄装置 |
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