JP3006161B2 - 光学記録媒体 - Google Patents
光学記録媒体Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はポリカチオン系フタロシ
アニン化合物を用いた光学記録媒体に関する。
アニン化合物を用いた光学記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザーを用いた光学記録は、高密度の
情報記録保存及び再生を可能とするため、近年、特にそ
の開発がとりすすめられている。光学記録媒体の一例と
しては、光ディスクを挙げることができる。一般に、光
ディスクは、円形の基体に設けられた薄い記録層に、１
μｍ程度に集束したレーザー光を照射し、高密度の情報
記録を行なうものである。その記録は、照射されたレー
ザー光エネルギーの吸収によって、その個所の記録層
に、分解、蒸発、溶解等の熱的変形が生成することによ
り行なわれる。また、記録された情報の再生は、レーザ
ー光により変形が起きている部分と起きていない部分の
反射率の差を読み取ることにより行なわれる。
情報記録保存及び再生を可能とするため、近年、特にそ
の開発がとりすすめられている。光学記録媒体の一例と
しては、光ディスクを挙げることができる。一般に、光
ディスクは、円形の基体に設けられた薄い記録層に、１
μｍ程度に集束したレーザー光を照射し、高密度の情報
記録を行なうものである。その記録は、照射されたレー
ザー光エネルギーの吸収によって、その個所の記録層
に、分解、蒸発、溶解等の熱的変形が生成することによ
り行なわれる。また、記録された情報の再生は、レーザ
ー光により変形が起きている部分と起きていない部分の
反射率の差を読み取ることにより行なわれる。
【０００３】従って、光学記録媒体としては、レーザー
光のエネルギーを効率良く吸収する必要があり、記録に
使用する特定の波長のレーザー光に対する吸収光が所定
量あること、情報の再生を正確に行なうために再生に使
用する特定の波長のレーザー光に対する反射率が高いこ
とが必要となる。
光のエネルギーを効率良く吸収する必要があり、記録に
使用する特定の波長のレーザー光に対する吸収光が所定
量あること、情報の再生を正確に行なうために再生に使
用する特定の波長のレーザー光に対する反射率が高いこ
とが必要となる。
【０００４】従来、この種の光学記録媒体としては、基
板上に有機色素薄膜を形成したものが提案されている。
有機色素薄膜は、コーティングによる膜形成が可能なた
め量産性が高く、低コスト化が期待できる。この有機色
素薄膜としては、シアニン系色素を含有する薄膜を用い
ることが知られている（特開昭５８−１１２７９０号、
同５８−１１４９８９号、同５９−８５７９１号、同６
０−８３２３６号各公報参照）。しかし、このようなシ
アニン系色素で構成された光学記録媒体は、光安定性に
劣り、保存性に問題がある上に、再生時に光劣化しやす
いという欠点を有している。このため特開昭５９−５５
７９５号、特開昭６４−４０３８９号、特開平２−５５
１８９号、同２−６８７４２号各公報等には、このシア
ニン系色素に下記構造式，，及び等で示される
種々の金属錯体化合物を加えて、光安定性を向上させる
ことが提案されている。
板上に有機色素薄膜を形成したものが提案されている。
有機色素薄膜は、コーティングによる膜形成が可能なた
め量産性が高く、低コスト化が期待できる。この有機色
素薄膜としては、シアニン系色素を含有する薄膜を用い
ることが知られている（特開昭５８−１１２７９０号、
同５８−１１４９８９号、同５９−８５７９１号、同６
０−８３２３６号各公報参照）。しかし、このようなシ
アニン系色素で構成された光学記録媒体は、光安定性に
劣り、保存性に問題がある上に、再生時に光劣化しやす
いという欠点を有している。このため特開昭５９−５５
７９５号、特開昭６４−４０３８９号、特開平２−５５
１８９号、同２−６８７４２号各公報等には、このシア
ニン系色素に下記構造式，，及び等で示される
種々の金属錯体化合物を加えて、光安定性を向上させる
ことが提案されている。
【０００５】
【化２】
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記構造式〜で示
される金属錯体化合物を加えたものであっても、その改
良効果は十分なものではなかった。
される金属錯体化合物を加えたものであっても、その改
良効果は十分なものではなかった。
【０００７】本発明は上記の問題点を解決し、耐光性、
耐湿性及び保存安定性に優れた光学記録媒体を提供する
ことを目的とする。
耐湿性及び保存安定性に優れた光学記録媒体を提供する
ことを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の光学記録媒体
は、下記一般式［Ｉ］で示されるポリカチオン系フタロ
シアニン化合物を含有する記録層を有することを特徴と
する。
は、下記一般式［Ｉ］で示されるポリカチオン系フタロ
シアニン化合物を含有する記録層を有することを特徴と
する。
【０００９】
【化３】
【００１０】（式中、ＭはＣｕ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｆ
ｅ，Ｖ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｇｅ，Ｔｉ，Ｉｎ、又はこ
れらの酸化物、塩化物、或いはアルキル化物を示し、Ｒ
1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4はそれぞれ独立して置換又は非置換の
アルキル基、置換又は非置換のアリール基、置換又は非
置換のアルケニル基、或いは、置換又は非置換のシクロ
アルキル基を示し、Ｚ-は陰イオン残基を示す。）即
ち、本発明者らは、従来の問題点を解決すべく研究を重
ねた結果、上記一般式［Ｉ］で示されるポリカチオン系
フタロシアニン化合物が、光学記録媒体等の各種化学情
報材料用色素として、耐光性及び耐湿性に優れ、しか
も、スピンコーティングに適し、量産化、低コスト化に
も有利であることを見出し、本発明を完成させた。
ｅ，Ｖ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｇｅ，Ｔｉ，Ｉｎ、又はこ
れらの酸化物、塩化物、或いはアルキル化物を示し、Ｒ
1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4はそれぞれ独立して置換又は非置換の
アルキル基、置換又は非置換のアリール基、置換又は非
置換のアルケニル基、或いは、置換又は非置換のシクロ
アルキル基を示し、Ｚ-は陰イオン残基を示す。）即
ち、本発明者らは、従来の問題点を解決すべく研究を重
ねた結果、上記一般式［Ｉ］で示されるポリカチオン系
フタロシアニン化合物が、光学記録媒体等の各種化学情
報材料用色素として、耐光性及び耐湿性に優れ、しか
も、スピンコーティングに適し、量産化、低コスト化に
も有利であることを見出し、本発明を完成させた。
【００１１】以下に本発明を詳細に説明する。
【００１２】前記一般式［Ｉ］において、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ
3，Ｒ4で表わされるアルキル基、アリール基、アルケニ
ル基又はシクロアルキル基の置換基としては、例えばア
ルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アルコキシアル
コキシアルコキシ基、アリルオキシ基、アリール基、ア
リールオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、
テトラヒドロフリル基、アルキルスルホニルアミノ基、
ハロゲン原子等が挙げられ、この他、アリール基、シク
ロアルキル基の置換基として更にアルキル基又はビニル
基が挙げられる。
3，Ｒ4で表わされるアルキル基、アリール基、アルケニ
ル基又はシクロアルキル基の置換基としては、例えばア
ルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アルコキシアル
コキシアルコキシ基、アリルオキシ基、アリール基、ア
リールオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、
テトラヒドロフリル基、アルキルスルホニルアミノ基、
ハロゲン原子等が挙げられ、この他、アリール基、シク
ロアルキル基の置換基として更にアルキル基又はビニル
基が挙げられる。
【００１３】また、Ｚ-の陰イオン残基としては、例え
ば、ＳＣＮ-，ＳｂＦ6 -，Ｃｌ-，Ｂｒ-，Ｆ-，Ｃｌ
Ｏ4 -，ＢＦ4 -，ＰＦ6 -，ＣＨ3ＣＯＯ-，ＴｉＦ6 2-，Ｓ
ｉＦ6 2-，ＺｒＦ6 2-，ＣＨ3ＳＯ3 2-，
ば、ＳＣＮ-，ＳｂＦ6 -，Ｃｌ-，Ｂｒ-，Ｆ-，Ｃｌ
Ｏ4 -，ＢＦ4 -，ＰＦ6 -，ＣＨ3ＣＯＯ-，ＴｉＦ6 2-，Ｓ
ｉＦ6 2-，ＺｒＦ6 2-，ＣＨ3ＳＯ3 2-，
【００１４】
【化４】
【００１５】等の一価又は二価の陰イオンが挙げられ
る。
る。
【００１６】本発明の光学記録媒体は、基本的には基板
及びポリカチオン系フタロシアニン化合物を含有する記
録層から構成されるものであるが、必要に応じて記録層
上に反射層を設けることができる。また、必要に応じて
基板上に下引き層を、記録層又は反射層に保護層を、或
いは、その基板とは反対の側（鏡面側）に表面保護層を
設けることもできる。
及びポリカチオン系フタロシアニン化合物を含有する記
録層から構成されるものであるが、必要に応じて記録層
上に反射層を設けることができる。また、必要に応じて
基板上に下引き層を、記録層又は反射層に保護層を、或
いは、その基板とは反対の側（鏡面側）に表面保護層を
設けることもできる。
【００１７】本発明で使用される基板としては、使用す
るレーザー光に対して透明であるものが好ましい。基板
の材質としては、ガラス、プラスチック等の一般に記録
材料の支持体として用いられるものが挙げられるが、プ
ラスチックが種々の点から好適である。プラスチックと
しては、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、塩化ビニル樹脂、ニトロセルロース、ポリエチレン
樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポ
リイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリサルホン樹脂等が挙
げられる。これらのうち、生産性、コスト、耐吸湿性の
点から、射出成型ポリカーボネート樹脂基板が特に好ま
しい。
るレーザー光に対して透明であるものが好ましい。基板
の材質としては、ガラス、プラスチック等の一般に記録
材料の支持体として用いられるものが挙げられるが、プ
ラスチックが種々の点から好適である。プラスチックと
しては、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、塩化ビニル樹脂、ニトロセルロース、ポリエチレン
樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポ
リイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリサルホン樹脂等が挙
げられる。これらのうち、生産性、コスト、耐吸湿性の
点から、射出成型ポリカーボネート樹脂基板が特に好ま
しい。
【００１８】反射層としては、使用するレーザー波長域
において高い反射率を有する金、銀、銅、アルミニウ
ム、白金等の金属又はこれらの合金が用いられる。
において高い反射率を有する金、銀、銅、アルミニウ
ム、白金等の金属又はこれらの合金が用いられる。
【００１９】保護層としては、紫外線硬化性アクリル樹
脂、シリコン系ハードコート剤等が用いられる。
脂、シリコン系ハードコート剤等が用いられる。
【００２０】基板鏡面側の表面保護層としても、紫外線
硬化性アクリル樹脂、シリコン系ハードコート剤等が用
いられるが、好ましくはゴミ等が付着するのを防止する
ために帯電防止機能を付与したものが良い。
硬化性アクリル樹脂、シリコン系ハードコート剤等が用
いられるが、好ましくはゴミ等が付着するのを防止する
ために帯電防止機能を付与したものが良い。
【００２１】本発明に係るポリカチオン系フタロシアニ
ン化合物を含有する記録層は、一般に、膜厚１００Å〜
５μｍ、好ましくは７００Å〜２μｍ程度に成膜する。
成膜法としては真空蒸着法、スパッタリング法、ドクタ
ーブレード法、キャスト法、スピナー法、浸漬法等、一
般に行なわれている薄膜形成法をいずれも好適に適用す
ることができるが、量産性やコストの面からスピナー法
が好ましい。スピナー法による成膜の場合、回転数は５
００〜５０００ｒｐｍが好ましく、スピンコートの後、
場合によっては、加熱或いは溶媒蒸気にあてる等の処理
を行なっても良い。
ン化合物を含有する記録層は、一般に、膜厚１００Å〜
５μｍ、好ましくは７００Å〜２μｍ程度に成膜する。
成膜法としては真空蒸着法、スパッタリング法、ドクタ
ーブレード法、キャスト法、スピナー法、浸漬法等、一
般に行なわれている薄膜形成法をいずれも好適に適用す
ることができるが、量産性やコストの面からスピナー法
が好ましい。スピナー法による成膜の場合、回転数は５
００〜５０００ｒｐｍが好ましく、スピンコートの後、
場合によっては、加熱或いは溶媒蒸気にあてる等の処理
を行なっても良い。
【００２２】記録層の成膜に際しては、必要に応じてバ
インダーを使用することもできる。バインダーとしては
ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ケトン
樹脂、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ポリビニル
ブチラール、ポリカーボネートなどの既知のものを用い
ることができる。
インダーを使用することもできる。バインダーとしては
ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ケトン
樹脂、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ポリビニル
ブチラール、ポリカーボネートなどの既知のものを用い
ることができる。
【００２３】なお、ドクターブレード法、キャスト法、
スピナー法、浸漬法、特に、スピナー法等の塗布方法に
より記録層を形成する場合の塗布溶媒としては、テトラ
フルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、
テトラクロロエタン、ブロモホルム、ジブロモエタン、
ジアセトンアルコール、エチルセロソルブ、キシレン、
３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン、クロロベ
ンゼン、シクロヘキサノン、乳酸メチル等の沸点１２０
〜１６０℃のものが好適に使用されている。これらのう
ち、高生産性で低コストである上に、耐吸湿性に優れる
射出成型ポリカーボネート樹脂基板に対しては、該基板
をおかすことなく好適に使用できる溶媒として、特に、
ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−
２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒；メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒；テト
ラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール
等のパーフルオロアルキルアルコール系溶媒；乳酸メチ
ル、イソ酪酸メチル等のヒドロキシエステル系溶媒が挙
げられる。
スピナー法、浸漬法、特に、スピナー法等の塗布方法に
より記録層を形成する場合の塗布溶媒としては、テトラ
フルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、
テトラクロロエタン、ブロモホルム、ジブロモエタン、
ジアセトンアルコール、エチルセロソルブ、キシレン、
３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン、クロロベ
ンゼン、シクロヘキサノン、乳酸メチル等の沸点１２０
〜１６０℃のものが好適に使用されている。これらのう
ち、高生産性で低コストである上に、耐吸湿性に優れる
射出成型ポリカーボネート樹脂基板に対しては、該基板
をおかすことなく好適に使用できる溶媒として、特に、
ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−
２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒；メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒；テト
ラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール
等のパーフルオロアルキルアルコール系溶媒；乳酸メチ
ル、イソ酪酸メチル等のヒドロキシエステル系溶媒が挙
げられる。
【００２４】本発明の光学記録媒体の記録層は基板の両
面に設けても良く、片面だけに設けても良い。
面に設けても良く、片面だけに設けても良い。
【００２５】本発明の光学記録媒体への記録は、基板の
両面又は片面に設けられた記録層に１μｍ程度に集束し
たレーザー光、好ましくは半導体レーザーの光をあてる
ことにより行なう。レーザー光の照射された部分には、
レーザーエネルギーの吸収による、分解、蒸発、溶融等
の記録層の熱的変形が起こる。また、記録された情報の
再生は、レーザー光により、熱的変形が起きている部分
と起きていない部分の反射率の差を読み取ることにより
行なう。
両面又は片面に設けられた記録層に１μｍ程度に集束し
たレーザー光、好ましくは半導体レーザーの光をあてる
ことにより行なう。レーザー光の照射された部分には、
レーザーエネルギーの吸収による、分解、蒸発、溶融等
の記録層の熱的変形が起こる。また、記録された情報の
再生は、レーザー光により、熱的変形が起きている部分
と起きていない部分の反射率の差を読み取ることにより
行なう。
【００２６】本発明の光学記録媒体に使用されるレーザ
ー光としては、Ｎ2、Ｈｅ−Ｃｄ、Ａｒ、Ｈｅ−Ｎｅ、
ルビー、半導体、色素レーザーなどが挙げられるが、特
に、軽量性、取扱いの容易さ、コンパクト性などの点か
ら半導体レーザーが好適である。
ー光としては、Ｎ2、Ｈｅ−Ｃｄ、Ａｒ、Ｈｅ−Ｎｅ、
ルビー、半導体、色素レーザーなどが挙げられるが、特
に、軽量性、取扱いの容易さ、コンパクト性などの点か
ら半導体レーザーが好適である。
【００２７】
【作用】前記一般式［Ｉ］で示されるポリカチオン系フ
タロシアニン化合物は、耐光性、耐湿性及び保存安定性
に優れる上に、スピンコーティングに適していることか
ら、光記録媒体用色素として有利に使用可能である。
タロシアニン化合物は、耐光性、耐湿性及び保存安定性
に優れる上に、スピンコーティングに適していることか
ら、光記録媒体用色素として有利に使用可能である。
【００２８】
【実施例】以下に、製造例及び実施例により本発明をよ
り具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限
り以下の実施例により限定されるものではない。
り具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限
り以下の実施例により限定されるものではない。
【００２９】製造例１ 下記構造式［Ａ］で示されるＣｕ−テトラアザフタロシ
アニン５．８ｇを２００ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アルデヒドに懸濁させ、次にジメチル硫酸３６ｍｌを加
えた後、１２０℃に昇温し、同温度で２０時間撹拌反応
させた。
アニン５．８ｇを２００ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アルデヒドに懸濁させ、次にジメチル硫酸３６ｍｌを加
えた後、１２０℃に昇温し、同温度で２０時間撹拌反応
させた。
【００３０】
【化５】
【００３１】反応終了後、室温まで冷却し、析出した結
晶を濾過、乾燥した。ソックスレー抽出器を用いたメタ
ノール抽出物から溶媒を留去し、下記構造式［Ｉ−
（１）］で示されるポリカチオン系フタロシアニン［Ｉ
−（１）］化合物の黒色の粉末３．２ｇを得た。なお、
得られた化合物の最大吸収波長（メタノール中）は６６
３及び６７７ｎｍであった。
晶を濾過、乾燥した。ソックスレー抽出器を用いたメタ
ノール抽出物から溶媒を留去し、下記構造式［Ｉ−
（１）］で示されるポリカチオン系フタロシアニン［Ｉ
−（１）］化合物の黒色の粉末３．２ｇを得た。なお、
得られた化合物の最大吸収波長（メタノール中）は６６
３及び６７７ｎｍであった。
【００３２】
【化６】
【００３３】製造例２ 製造例１のＣｕ−テトラアザフタロシアニン５．８ｇの
代りに、Ｎｉ−テトラアザフタロシアニン５．７５ｇを
用いたこと以外は、製造例１と同様に行なって下記構造
式［Ｉ−（２）］で示されるポリカチオン系フタロシア
ニン化合物［Ｉ−（２）］を得た。
代りに、Ｎｉ−テトラアザフタロシアニン５．７５ｇを
用いたこと以外は、製造例１と同様に行なって下記構造
式［Ｉ−（２）］で示されるポリカチオン系フタロシア
ニン化合物［Ｉ−（２）］を得た。
【００３４】
【化７】
【００３５】製造例３ 製造例１のＣｕ−テトラアザフタロシアニン５．８ｇの
代りに、Ｐｂ−テトラアザフタロシアニン７．１ｇを用
いたこと以外は、製造例１と同様に行なって、下記構造
式［Ｉ−（３）］で示されるポリカチオン系フタロシア
ニン化合物［Ｉ−（３）］を得た。
代りに、Ｐｂ−テトラアザフタロシアニン７．１ｇを用
いたこと以外は、製造例１と同様に行なって、下記構造
式［Ｉ−（３）］で示されるポリカチオン系フタロシア
ニン化合物［Ｉ−（３）］を得た。
【００３６】
【化８】
【００３７】製造例４ 製造例１〜３と同様の手順により、適当な原料化合物か
ら、前記一般式［Ｉ］における各置換基が表１に示すも
のであるポリカチオン系フタロシアニン系化合物Ｉ−
（４）〜Ｉ−（１６）を得た。
ら、前記一般式［Ｉ］における各置換基が表１に示すも
のであるポリカチオン系フタロシアニン系化合物Ｉ−
（４）〜Ｉ−（１６）を得た。
【００３８】
【表１】
【００３９】実施例１光記録媒体の製造 前記製造例１で得られたポリカチオン系フタロシアニン
化合物［Ｉ−（１）］０．４ｇをオクタフルオロペンタ
ノール４０ｇに溶解して、１重量％の溶液を得た。この
溶液を深さ１０００Å、幅０．７μｍの溝（グルーブ）
を有する直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの射出成型ポ
リカーボネート基板上に滴下し、スピナー法により（回
転数５００ｒｐｍ、４分間）塗布した。塗布後、８０℃
で５分間乾燥し、記録層を形成した。塗布膜の最大吸収
波長は６７４ｎｍであった。
化合物［Ｉ−（１）］０．４ｇをオクタフルオロペンタ
ノール４０ｇに溶解して、１重量％の溶液を得た。この
溶液を深さ１０００Å、幅０．７μｍの溝（グルーブ）
を有する直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの射出成型ポ
リカーボネート基板上に滴下し、スピナー法により（回
転数５００ｒｐｍ、４分間）塗布した。塗布後、８０℃
で５分間乾燥し、記録層を形成した。塗布膜の最大吸収
波長は６７４ｎｍであった。
【００４０】光記録 得られた光記録媒体を４ｍ／ｓで回転させながら波長６
８０ｎｍの半導体レーザー光を記録パワー８．０ｍＷで
照射して記録したところ、照射部分に約１μｍの明瞭な
ピットが形成された。また、このものの耐光性及び耐湿
性は良好であった。
８０ｎｍの半導体レーザー光を記録パワー８．０ｍＷで
照射して記録したところ、照射部分に約１μｍの明瞭な
ピットが形成された。また、このものの耐光性及び耐湿
性は良好であった。
【００４１】実施例２光記録媒体の製造 前記実施例１の光記録媒体の製造方法と同様にして記録
層を形成した後、この記録層の上にスパッタリング法に
より、膜厚２０００Åの金の膜を成膜して反射層を形成
した。更に、この反射層の上に紫外線硬化性樹脂をスピ
ンコートした後、紫外線を照射して硬化させ、厚み１０
μｍの保護層を形成して光学記録媒体を得た。
層を形成した後、この記録層の上にスパッタリング法に
より、膜厚２０００Åの金の膜を成膜して反射層を形成
した。更に、この反射層の上に紫外線硬化性樹脂をスピ
ンコートした後、紫外線を照射して硬化させ、厚み１０
μｍの保護層を形成して光学記録媒体を得た。
【００４２】光記録 得られた光学記録媒体に、波長７８５ｎｍの半導体レー
ザー光を用いて線速１．４ｍ／ｓでＥＦＭ変調信号を記
録した後、再生した所、良好な再生信号を得た。また、
このものの耐光性及び保存安定性（７０℃，８５％Ｒ
Ｈ）は良好であった。
ザー光を用いて線速１．４ｍ／ｓでＥＦＭ変調信号を記
録した後、再生した所、良好な再生信号を得た。また、
このものの耐光性及び保存安定性（７０℃，８５％Ｒ
Ｈ）は良好であった。
【００４３】実施例３光記録媒体の製造 製造例２で得られたポリカチオン系フタロシアニン化合
物［Ｉ−（２）］０．４ｇをオクタフルオロペンタノー
ル２０ｇに溶解して、２重量％の溶液を得た。この溶液
を深さ１０００Å、幅０．７μｍの溝（グルーブ）を有
する直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの射出成型ポリカ
ーボネート基板上に滴下し、スピナー法により（回転数
５００ｒｐｍ、４分間）塗布した。塗布後、８０℃で５
分間乾燥し、記録層を形成した。次に、この記録層の上
にスパッタリング法により、膜厚２０００Åの金の膜を
成膜して反射層を形成した。更に、この反射層の上に紫
外線硬化性樹脂をスピンコートした後、紫外線を照射し
て硬化させ、厚み１０μｍの保護層を形成して光学記録
媒体を得た。
物［Ｉ−（２）］０．４ｇをオクタフルオロペンタノー
ル２０ｇに溶解して、２重量％の溶液を得た。この溶液
を深さ１０００Å、幅０．７μｍの溝（グルーブ）を有
する直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの射出成型ポリカ
ーボネート基板上に滴下し、スピナー法により（回転数
５００ｒｐｍ、４分間）塗布した。塗布後、８０℃で５
分間乾燥し、記録層を形成した。次に、この記録層の上
にスパッタリング法により、膜厚２０００Åの金の膜を
成膜して反射層を形成した。更に、この反射層の上に紫
外線硬化性樹脂をスピンコートした後、紫外線を照射し
て硬化させ、厚み１０μｍの保護層を形成して光学記録
媒体を得た。
【００４４】光記録 得られた光学記録媒体に、波長７８５ｎｍの半導体レー
ザー光を用いて線速１．４ｍ／ｓでＥＦＭ変調信号を記
録した後、再生したところ、良好な再生信号を得た。ま
た、このものの耐光性及び保存安定性は良好であった。
ザー光を用いて線速１．４ｍ／ｓでＥＦＭ変調信号を記
録した後、再生したところ、良好な再生信号を得た。ま
た、このものの耐光性及び保存安定性は良好であった。
【００４５】実施例４光記録媒体の製造 ポリカチオン系フタロシアニン化合物として、製造例３
で得られたポリカチオン系フタロシアニン化合物［Ｉ−
（３）］を用いたこと以外は、実施例２と同様にして光
学記録媒体を得た。
で得られたポリカチオン系フタロシアニン化合物［Ｉ−
（３）］を用いたこと以外は、実施例２と同様にして光
学記録媒体を得た。
【００４６】光記録 得られた光学記録媒体に、波長７８０ｎｍの半導体レー
ザー光を用いて線速１．４ｍ／ｓでＥＦＭ変調信号を記
録、再生したところ、良好な再生信号を得た。また、こ
のものの耐光性及び保存安定性は良好であった。
ザー光を用いて線速１．４ｍ／ｓでＥＦＭ変調信号を記
録、再生したところ、良好な再生信号を得た。また、こ
のものの耐光性及び保存安定性は良好であった。
【００４７】実施例５ 塗布溶媒としてオクタフルオロペンタノール４０ｇの代
りに乳酸メチル２６ｇを用いたこと以外は実施例２と同
様にして光学記録媒体を得た。得られた光学記録媒体
に、実施例２と同様にして記録、再生を行なったとこ
ろ、良好な再生信号を得た。
りに乳酸メチル２６ｇを用いたこと以外は実施例２と同
様にして光学記録媒体を得た。得られた光学記録媒体
に、実施例２と同様にして記録、再生を行なったとこ
ろ、良好な再生信号を得た。
【００４８】実施例６ ポリカチオン系フタロシアニン化合物として、製造例４
で得られた、表１に示すポリカチオン系フタロシアニン
化合物［Ｉ−（４）］〜［Ｉ−（１６）］をそれぞれ溶
解した溶液を基板上に塗布して、実施例１〜４と同様に
して光記録媒体を得た。得られた光学記録媒体に、半導
体レーザーを光源として書き込みを行なった所、いずれ
の媒体も、感度が良好で、しかも耐光性及び保存安定性
に優れていることが確認された。
で得られた、表１に示すポリカチオン系フタロシアニン
化合物［Ｉ−（４）］〜［Ｉ−（１６）］をそれぞれ溶
解した溶液を基板上に塗布して、実施例１〜４と同様に
して光記録媒体を得た。得られた光学記録媒体に、半導
体レーザーを光源として書き込みを行なった所、いずれ
の媒体も、感度が良好で、しかも耐光性及び保存安定性
に優れていることが確認された。
【００４９】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の光学記録媒
体によれば、耐光性、耐湿性、保存安定性に優れる上
に、量産性も良好な高特性光学記録媒体が低コストにて
提供される。
体によれば、耐光性、耐湿性、保存安定性に優れる上
に、量産性も良好な高特性光学記録媒体が低コストにて
提供される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−130983（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−130984（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−103495（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−31692（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B41M 5/26 G11B 7/24 516
Claims (1)
- 【請求項１】 下記一般式［Ｉ］で表わされるポリカチ
オン系フタロシアニン化合物を含有する記録層を有する
ことを特徴とする光学記録媒体。 【化１】 （式中、ＭはＣｕ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｆｅ，Ｖ，Ｓ
ｉ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｇｅ，Ｔｉ，Ｉｎ、又はこれらの酸化
物、塩化物、或いはアルキル化物を示し、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ
3，Ｒ4はそれぞれ独立して置換又は非置換のアルキル
基、置換又は非置換のアリール基、置換又は非置換のア
ルケニル基、或いは、置換又は非置換のシクロアルキル
基を示し、Ｚ-は陰イオン残基を示す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3137565A JP3006161B2 (ja) | 1991-06-10 | 1991-06-10 | 光学記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3137565A JP3006161B2 (ja) | 1991-06-10 | 1991-06-10 | 光学記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04361087A JPH04361087A (ja) | 1992-12-14 |
| JP3006161B2 true JP3006161B2 (ja) | 2000-02-07 |
Family
ID=15201693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3137565A Expired - Fee Related JP3006161B2 (ja) | 1991-06-10 | 1991-06-10 | 光学記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3006161B2 (ja) |
-
1991
- 1991-06-10 JP JP3137565A patent/JP3006161B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04361087A (ja) | 1992-12-14 |
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