JP2998138B2 - 絶縁電線 - Google Patents

絶縁電線

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JP2998138B2
JP2998138B2 JP1916590A JP1916590A JP2998138B2 JP 2998138 B2 JP2998138 B2 JP 2998138B2 JP 1916590 A JP1916590 A JP 1916590A JP 1916590 A JP1916590 A JP 1916590A JP 2998138 B2 JP2998138 B2 JP 2998138B2
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英夫 砂塚
明 吉野
正毅 長谷川
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電気的特性に優れ、耐外傷性、可撓性に富
む絶縁電線に関する。
〔従来の技術〕
従来、導体上に架橋ポリオレフィンからなる絶縁層を
施してなる絶縁電線が知られている。また、導体上に機
械的強度が高く、耐外傷性に優れるエンジニアリングプ
ラスチック(芳香族ポリマー等)を施してなる絶縁電線
も知られている。さらに、これら2つの従来例を組合せ
てなる二重絶縁電線は、当業界では、容易に類推できる
技術であり、電線の構成そのものが導体上に絶縁体を施
し、この外周に保護層として、ジャケットを施してなる
電線が汎用のものであり、当業界では多くの例を見るこ
とができる。
〔解決しようとする課題〕
従来の二重絶縁電線では、曲げ時の絶縁破壊特性が未
だ満足すべきものではなかった。そこで、可撓性が良
く、ピンホール等の欠陥確率の低下を図り、かつ電気特
性に優れたものが要望されている。
本発明は、このような要望を満足する絶縁電線を提供
することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上述の目的を達成するため、本発明は、導体の外周に
直接又は他の絶縁物を介して架橋オレフィンポリマーか
ら成る厚さ0.1〜1mmの第1絶縁層を施し、この第1絶縁
層の外周にシリコーンゴム又はシリコーンレジンから成
る厚さ0.001〜0.5mmの第2絶縁層を施し、この第2絶縁
層の外周にポリフェニレンオキサイド、ポリエーテルケ
トン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネー
ト、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテフタ
レート、ポリエーテルイミド、ポリアリレート、ポリ4
−メチル−1ペンテン、ポリサルホン、ポリエーテルサ
ルホン、フッ素系ポリマーおよびポリアミドからなる群
から選ばれた1種以上のポリマーから成る厚さ0.05〜1m
mの第3絶縁層を施したものである。
〔作用〕
本発明では、特殊な三層絶縁構造の組合せにより、曲
げ時の絶縁破壊特性が著しく向上するとともに、可撓性
に富み、電気的特性にも優れていることが判明した。
〔実施例〕
以下に本発明の好適な実施例を図面を参照にして説明
する。
すず,ニッケル,銀などのメッキを施した銅導体単線
又はより線から成る導体1の外周に架橋ポリオレフィン
から成る第1絶縁層2を施してある。図示する実施例で
は、導体1の外周に直接第1絶縁層2を施したが、他の
絶縁物を介して第1絶縁層2を施しても良い。第1絶縁
層2は厚さを0.1〜1mm程度とした。ここでの架橋ポリオ
レフィンとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リ1−ブテン、ポリイソブチレン、ポリ4−メチル−1
−ペンテンなどのオレフィンモノマーの単独重合体、エ
チレン−エチルアクリレート共重合体(EEA)、エチレ
ン−酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレン−プロピレ
ン共重合体(EPR)、エチレン−プロピレン−ジエン共
重合体(EPDM)、エチレン−ブテン−1共重合体、エチ
レン−ブテン−1−ジエン共重合体などの共重合体ある
いはこれらの2種以上のブレンドポリマーなどのポリオ
レフィンを架橋したものが用いられる。ここでの架橋方
法としては、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルクミ
ルパーオキサイドなどの有機過酸化物を上記ポリオレフ
ィンに適量添加した組成物を押出被覆し、加熱して架橋
する方法、上記ポリオレフィンを押出被覆したのち、電
子線を照射して架橋する方法、上記ポリオレフィンにビ
ニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、
ビニルトリス(β−メトキシエトシ)シラン等のシラン
化合物と有機過酸化物を添加して混練してシラングラフ
ト化ポリオレフィンとし、このシラングラフト化ポリオ
レフィンを押出被覆したのち、大気中あるいは水中で架
橋させる方法などである。
電子照射の場合、二層,三層を施したのち後で一括し
て照射架橋を行ってもよい。
第1絶縁層2の外周にはシリコーンポリマーから成る
第2絶縁層3を施してある。その厚さは0.001〜0.5mm程
度とした。ここでのシリコーンポリマーとしては、シリ
コーンゴムやシリコーンレジンが用いられ、過酸化物加
硫、縮合反応型、付加反応型のいずれのものであっても
良い。付加反応型のシリコーンポリマーは、下記の反応
式により得られる。
シリコーンポリマーとしては、例えばSRX643(東レシ
リコーン(株)商品)、KR2038(信越化学(株)商品)
等の使用が好適である。
第2絶縁層3の外周には、厚さ0.05〜1mm程度の第3
絶縁層4を施し、この第3絶縁層4は以下のエンジニア
リングプラスチックから成る群から選ばれた1種以上の
ポリマーから成る。
(エンジニアリングプラスチック) ポリフェニレンオキサイド、 ポリエーテルケトン、 ポリエーテルエーテルケトン、 ポリカーボネート、 ポリブチレンテレフタレート、 ポリエチレンテレフタレート、 ポリエーテルイミド、ポリアリレート、 ポリ4−メチル−1−ペンテン、 ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、 フッ素系ポリマーおよびポリアミド。
次表に本発明の実施例1〜4と比較例1〜6を示す。
〔効果〕 以上説明したように、本発明は特殊な三層構造の組合
せにより、絶縁層が三層にもかかわらず全体として薄肉
化でき可撓性に優れるとともに、電気特性にも優れ、ピ
ンホール等の欠陥確率を低下できる。
【図面の簡単な説明】 図面は本発明の好適な実施例を示す断面図である。 1……導体、 2……第1絶縁層、 3……第2絶縁層、 4……第3絶縁層、
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長谷川 正毅 静岡県沼津市双葉町1―9 藤倉電線株 式会社沼津工場内 (72)発明者 村山 元久 東京都江東区木場1丁目5番1号 藤倉 電線株式会社内 (56)参考文献 特開 昭55−86007(JP,A) 特開 平1−213915(JP,A) 実開 昭56−21314(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01B 7/02 H01B 7/04 H01B 7/28 H01B 7/34

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】導体(1)の外周に直接又は他の絶縁物を
    介して架橋オレフィンポリマーから成る厚さ0.1〜1mmの
    第1絶縁層(2)を施し、 この第1絶縁層(2)の外周にシリコーンゴム又はシリ
    コーンレジンから成る厚さ0.001〜0.5mmの第2絶縁層
    (3)を施し、 この第2絶縁層(3)の外周にポリフェニレンオキサイ
    ド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケト
    ン、ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート、
    ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルイミド、ポ
    リアリレート、ポリ4−メチル−1−ペンテン、ポリサ
    ルホン、ポリエーテルサルホン、フッ素系ポリマーおよ
    びポリアミドからなる群から選ばれた1種以上のポリマ
    ーから成る厚さ0.05〜1mmの第3絶縁層(4)を施した
    ことを特徴とする絶縁電線。
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