JP2983163B2 - Icハンドラ - Google Patents
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- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
- G01R31/2886—Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks
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- B25J15/00—Gripping heads and other end effectors
- B25J15/06—Gripping heads and other end effectors with vacuum or magnetic holding means
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はIC(半導体集積回
路)ハンドラに関する。
路)ハンドラに関する。
【0002】
【従来の技術】まず、ICハンドラ(HANDLER )50と
はICの完成試験に用いられるものである。概要を説明
すると、ICハンドラ50は図12に示すように、供給
用コンテナ52に収納されたICを試験装置54に接続
された試験用ICソケット(以下、単に試験用ソケッ
ト)56に供給し、常温又は高温試験を行い、その試験
の結果に応じてICを自動的に分類して、各選別用コン
テナ58に収納する機能を有している。そして、供給用
コンテナ52から試験用ソケット56、試験用ソケット
56から選別用コンテナ58へは搬送手段60、62に
よって搬送される。ところで、近年のICは高密度化・
高機能化が進み、リードの数も多くなっており、従って
リードピッチも極めて狭いものが増加している。従っ
て、ICを試験用ソケット56に載置する場合でも精度
良く載置する必要性が生じている。このICを試験用ソ
ケット56に正確に載置する方法の一つとして、搬送手
段と該搬送手段に保持されたICをカメラで捉えなが
ら、画像処理をしつつ目標の試験用ソケット部に載置す
る方法もあるが、一般に高価であり、また画像処理に時
間がかかるため、試験に要する時間が長くなるという問
題がある。そこで、供給用コンテナ52と試験用ソケッ
ト56との間に位置決め機構64を設け、供給用コンテ
ナ52から試験用ソケット56にICを搬送する際に、
一旦ICを試験用ソケット56に対応させて位置決め
し、その後位置決めされたICを搬送手段66で試験用
ソケット56まで搬送し、載置するという方法が一般的
に採用されている。
はICの完成試験に用いられるものである。概要を説明
すると、ICハンドラ50は図12に示すように、供給
用コンテナ52に収納されたICを試験装置54に接続
された試験用ICソケット(以下、単に試験用ソケッ
ト)56に供給し、常温又は高温試験を行い、その試験
の結果に応じてICを自動的に分類して、各選別用コン
テナ58に収納する機能を有している。そして、供給用
コンテナ52から試験用ソケット56、試験用ソケット
56から選別用コンテナ58へは搬送手段60、62に
よって搬送される。ところで、近年のICは高密度化・
高機能化が進み、リードの数も多くなっており、従って
リードピッチも極めて狭いものが増加している。従っ
て、ICを試験用ソケット56に載置する場合でも精度
良く載置する必要性が生じている。このICを試験用ソ
ケット56に正確に載置する方法の一つとして、搬送手
段と該搬送手段に保持されたICをカメラで捉えなが
ら、画像処理をしつつ目標の試験用ソケット部に載置す
る方法もあるが、一般に高価であり、また画像処理に時
間がかかるため、試験に要する時間が長くなるという問
題がある。そこで、供給用コンテナ52と試験用ソケッ
ト56との間に位置決め機構64を設け、供給用コンテ
ナ52から試験用ソケット56にICを搬送する際に、
一旦ICを試験用ソケット56に対応させて位置決め
し、その後位置決めされたICを搬送手段66で試験用
ソケット56まで搬送し、載置するという方法が一般的
に採用されている。
【0003】ここで、ICハンドラ50の内、ICを試
験用ソケットに搬送する前に一旦位置決めするための位
置決め機構64の構造とその動作について図13〜図1
6を用いて説明する。この位置決め機構64は次の構成
からなる。68は上面にIC70が載置される載置台で
ある。72は位置決め壁体である。位置決め壁体72
は、載置台68の周囲に配され、対向する2対の内壁面
(74と76、78と80)は下領域Sが前記IC70
の最外形に合わせた垂直面82で形成されると共に、上
領域Tは上方に向かうに従って互いに離間する斜面84
で形成されている。なお、下領域Sを構成する垂直面8
2とIC70の最外形との間には位置決め許容誤差範囲
内のクリアランスが設けられている。86はエアシリン
ダ等のアクチュエータを使用した上下動機構であり、載
置台68を位置決め壁体72に対して上下動させる機能
を有する。
験用ソケットに搬送する前に一旦位置決めするための位
置決め機構64の構造とその動作について図13〜図1
6を用いて説明する。この位置決め機構64は次の構成
からなる。68は上面にIC70が載置される載置台で
ある。72は位置決め壁体である。位置決め壁体72
は、載置台68の周囲に配され、対向する2対の内壁面
(74と76、78と80)は下領域Sが前記IC70
の最外形に合わせた垂直面82で形成されると共に、上
領域Tは上方に向かうに従って互いに離間する斜面84
で形成されている。なお、下領域Sを構成する垂直面8
2とIC70の最外形との間には位置決め許容誤差範囲
内のクリアランスが設けられている。86はエアシリン
ダ等のアクチュエータを使用した上下動機構であり、載
置台68を位置決め壁体72に対して上下動させる機能
を有する。
【0004】搬送手段(以下、第1の搬送手段という)
60は保持したIC70を3次元方向に搬送可能であ
る。第1の搬送手段60はIC70を載置台68の上方
まで水平に搬送し、さらに下降して載置台68上面にI
C70を載置する。第1の搬送手段60には、一例とし
て吸着パッド88が設けられ、この吸着パッド88によ
ってIC70を吸着して保持する構成となっている。搬
送手段(以下、第2の搬送手段という)66は、後述す
る方法で位置決めされて載置台68上に載置されている
IC70を試験用ソケット56まで搬送する機能を有す
る。第2の搬送手段66は第1の搬送手段と同様に、3
次元方向に移動自在であってIC70吸着用の吸着パッ
ド88が設けられている。なお、第1の搬送手段60が
第2の搬送手段66を兼ねる場合もある。
60は保持したIC70を3次元方向に搬送可能であ
る。第1の搬送手段60はIC70を載置台68の上方
まで水平に搬送し、さらに下降して載置台68上面にI
C70を載置する。第1の搬送手段60には、一例とし
て吸着パッド88が設けられ、この吸着パッド88によ
ってIC70を吸着して保持する構成となっている。搬
送手段(以下、第2の搬送手段という)66は、後述す
る方法で位置決めされて載置台68上に載置されている
IC70を試験用ソケット56まで搬送する機能を有す
る。第2の搬送手段66は第1の搬送手段と同様に、3
次元方向に移動自在であってIC70吸着用の吸着パッ
ド88が設けられている。なお、第1の搬送手段60が
第2の搬送手段66を兼ねる場合もある。
【0005】次に、動作について説明する。なお、各搬
送手段60、66、62や、上下動機構86や、試験装
置54は、不図示のコントローラにより制御され、予め
決められて手順に従って動作する。まず、載置台68は
上下動機構86により、その上面が位置決め壁体72の
各内壁面74〜80の上領域T内に位置するまで上昇さ
れている。この状態において、第1の搬送手段60によ
って図13のようにIC70が載置台68の上面に載置
されると、上下動機構86は図14に示すように載置台
68をその上面が位置決め壁体72の各内壁面74〜8
0の下領域S内となるまで下降させる。これにより、I
C70が載置台68の上面に載置された当初、IC70
が位置決め壁体72の各内壁面74〜80の下領域Sを
構成する垂直面82に対して例えば図13のように左側
に距離Aだけずれていたとしても、載置台68の下降に
伴ってIC70の最外形を構成するリード90が位置決
め壁体72の各内壁面74〜80の上領域Tの斜面84
と当接して図13中の右方向に水平移動し、図14のよ
うに最終的には各内壁面74〜80の下領域Sを構成す
る垂直面82間に入り込んで位置決めされる。IC70
の位置決めが完了すると、上下動機構86は図15に示
すように再度載置台68を最初の位置まで上昇させ、停
止させる。これにより第2の搬送手段66は位置決めさ
れたIC70を載置台68上で吸着可能となる。
送手段60、66、62や、上下動機構86や、試験装
置54は、不図示のコントローラにより制御され、予め
決められて手順に従って動作する。まず、載置台68は
上下動機構86により、その上面が位置決め壁体72の
各内壁面74〜80の上領域T内に位置するまで上昇さ
れている。この状態において、第1の搬送手段60によ
って図13のようにIC70が載置台68の上面に載置
されると、上下動機構86は図14に示すように載置台
68をその上面が位置決め壁体72の各内壁面74〜8
0の下領域S内となるまで下降させる。これにより、I
C70が載置台68の上面に載置された当初、IC70
が位置決め壁体72の各内壁面74〜80の下領域Sを
構成する垂直面82に対して例えば図13のように左側
に距離Aだけずれていたとしても、載置台68の下降に
伴ってIC70の最外形を構成するリード90が位置決
め壁体72の各内壁面74〜80の上領域Tの斜面84
と当接して図13中の右方向に水平移動し、図14のよ
うに最終的には各内壁面74〜80の下領域Sを構成す
る垂直面82間に入り込んで位置決めされる。IC70
の位置決めが完了すると、上下動機構86は図15に示
すように再度載置台68を最初の位置まで上昇させ、停
止させる。これにより第2の搬送手段66は位置決めさ
れたIC70を載置台68上で吸着可能となる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来のICハンドラには、次のような課題がある。載置
台を上下動させる構造のために上下動機構が必要とな
り、装置の機構が複雑になって製造時間が増加し、また
製品コストも上昇する。さらに、位置決め機構はICハ
ンドラの試験用チャンバ内に配され、チャンバ内におい
て耐環境試験が成されるICと共に高温や低温の環境下
にさらされる。よって、このような環境下でも使用でき
る上下動機構とする必要性から高価な部品を使用しなけ
ればならず、製品コストが一層高くなるという課題があ
る。従って、本発明は上記課題を解決すべくなされ、そ
の目的とするところは、アクチュエータを使用した上下
動機構が位置決め機構内に不要なICハンドラを提供す
ることにある。また、位置決めの際にICのリードに加
わるストレスをさらに低減できるICハンドラを提供す
ることにある。
従来のICハンドラには、次のような課題がある。載置
台を上下動させる構造のために上下動機構が必要とな
り、装置の機構が複雑になって製造時間が増加し、また
製品コストも上昇する。さらに、位置決め機構はICハ
ンドラの試験用チャンバ内に配され、チャンバ内におい
て耐環境試験が成されるICと共に高温や低温の環境下
にさらされる。よって、このような環境下でも使用でき
る上下動機構とする必要性から高価な部品を使用しなけ
ればならず、製品コストが一層高くなるという課題があ
る。従って、本発明は上記課題を解決すべくなされ、そ
の目的とするところは、アクチュエータを使用した上下
動機構が位置決め機構内に不要なICハンドラを提供す
ることにある。また、位置決めの際にICのリードに加
わるストレスをさらに低減できるICハンドラを提供す
ることにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は次の構成を備える。すなわち、上面にIC
が載置される載置台と、該載置台の周囲に載置台の上面
に対して垂直方向にのみ移動可能に配され、対向する2
対の内壁面は下領域が前記ICの最外形に合わせた垂直
面で形成されると共に、上領域は上方に向かうに従って
互いに離間する斜面で形成された位置決め壁体と、前記
位置決め壁体を弾性的に受ける弾性部材とを具備し、前
記位置決め壁体は、前記ICが前記載置台に載置される
際には、載置台の上面が前記斜面の領域内に位置するま
で前記弾性部材の弾性力に抗して下方に押し下げられ、
ICが載置台の上面に載置された後には弾性部材の弾性
力によって上昇し、前記斜面でICの水平方向のずれを
修正しつつ前記垂直面でICを位置決めすることを特徴
とする。この構成を採用すれば、ICが載置台に載置さ
れる際に載置台の上面が斜面の領域内に位置するまで弾
性部材の弾性力に抗して下方に押し下げられた位置決め
壁体は、押し下げの解除により弾性部材の弾性力によっ
て上昇し、斜面でICの水平方向のずれを修正しつつ垂
直面でICを位置決めすることができる。よって、従来
のようなアクチュエータを用いた上下動機構が不要とな
る。
め、本発明は次の構成を備える。すなわち、上面にIC
が載置される載置台と、該載置台の周囲に載置台の上面
に対して垂直方向にのみ移動可能に配され、対向する2
対の内壁面は下領域が前記ICの最外形に合わせた垂直
面で形成されると共に、上領域は上方に向かうに従って
互いに離間する斜面で形成された位置決め壁体と、前記
位置決め壁体を弾性的に受ける弾性部材とを具備し、前
記位置決め壁体は、前記ICが前記載置台に載置される
際には、載置台の上面が前記斜面の領域内に位置するま
で前記弾性部材の弾性力に抗して下方に押し下げられ、
ICが載置台の上面に載置された後には弾性部材の弾性
力によって上昇し、前記斜面でICの水平方向のずれを
修正しつつ前記垂直面でICを位置決めすることを特徴
とする。この構成を採用すれば、ICが載置台に載置さ
れる際に載置台の上面が斜面の領域内に位置するまで弾
性部材の弾性力に抗して下方に押し下げられた位置決め
壁体は、押し下げの解除により弾性部材の弾性力によっ
て上昇し、斜面でICの水平方向のずれを修正しつつ垂
直面でICを位置決めすることができる。よって、従来
のようなアクチュエータを用いた上下動機構が不要とな
る。
【0008】また、具体的には前記ICを前記載置台の
上方から載置台の上面に搬送する搬送手段を設け、前記
位置決め壁体は、前記ICを保持した前記搬送手段が前
記載置台に向けて下降する際に、該搬送手段により前記
弾性部材の弾性力に抗して下方に押し下げるようにし、
ICを載置台の上面に載置した搬送手段が上昇するのに
伴って上方へ移動する構成とする。
上方から載置台の上面に搬送する搬送手段を設け、前記
位置決め壁体は、前記ICを保持した前記搬送手段が前
記載置台に向けて下降する際に、該搬送手段により前記
弾性部材の弾性力に抗して下方に押し下げるようにし、
ICを載置台の上面に載置した搬送手段が上昇するのに
伴って上方へ移動する構成とする。
【0009】また、前記載置台内には前記上面に開口す
る通気孔を設け、前記位置決め壁体が上昇して前記IC
を位置決めする際には、前記通気孔から圧縮空気をIC
の裏面に向けて吹き出す構成とすれば、載置台上でIC
が水平方向に移動しやすくなり、例えばICのリードに
加わるストレスの低減が可能となり、リードの曲がりを
有効に防止することができる。
る通気孔を設け、前記位置決め壁体が上昇して前記IC
を位置決めする際には、前記通気孔から圧縮空気をIC
の裏面に向けて吹き出す構成とすれば、載置台上でIC
が水平方向に移動しやすくなり、例えばICのリードに
加わるストレスの低減が可能となり、リードの曲がりを
有効に防止することができる。
【0010】また、前記2対の内壁面の前記下領域の下
端には、前記ICのパッケージの側面下部と当接すると
共に、当接面は該パッケージの側面下部に合わせた斜面
に形成された支持ガイドを設けるようにすると、一定の
規格で成形されたパッケージを使用した位置決めが行え
るので、位置決め精度をさらに高くできる。
端には、前記ICのパッケージの側面下部と当接すると
共に、当接面は該パッケージの側面下部に合わせた斜面
に形成された支持ガイドを設けるようにすると、一定の
規格で成形されたパッケージを使用した位置決めが行え
るので、位置決め精度をさらに高くできる。
【0011】また、前記内壁面間で位置決めされた前記
ICに前記位置決め壁体を上方から下方に押動しつつ接
近して保持する第2の搬送手段を設けた場合には、前記
位置決め壁体の上面と前記第2の搬送手段の下面の当接
面間には位置決め用の嵌合ガイドを形成するようにすれ
ば、第2の搬送手段が位置決め壁体と常に一定の位置関
係を保った状態でICを保持することができ、位置決め
されたICを精度良く保持することが可能となる。ま
た、上面にICが載置される載置台と、該載置台の周囲
に載置台の上面に対して垂直方向にのみ移動可能に配さ
れ、対向する2対の内壁面は下領域が前記ICの最外形
に合わせた垂直面で形成されると共に、上領域は上方に
向かうに従って互いに離間する斜面で形成された位置決
め壁体と、前記載置台内に設けられ、該載置台の上面に
開口する通気孔とを具備し、前記位置決め壁体は、前記
ICが 前記載置台に載置された後に上昇して前記斜面で
ICの水平方向のずれを修正しつつ前記垂直面でICを
位置決めをし、前記通気孔からは前位置決め壁体が上昇
して前記ICの位置決めを行う際に圧縮空気がICの裏
面に向けて吹き出すことを特徴とする。 これによれば、
載置台上でICが水平方向に移動しやすくなり、位置決
めの際に位置決め壁体の内壁面と当接するICのリード
に加わるストレスの低減が可能となり、リードの曲がり
を有効に防止することができる。
ICに前記位置決め壁体を上方から下方に押動しつつ接
近して保持する第2の搬送手段を設けた場合には、前記
位置決め壁体の上面と前記第2の搬送手段の下面の当接
面間には位置決め用の嵌合ガイドを形成するようにすれ
ば、第2の搬送手段が位置決め壁体と常に一定の位置関
係を保った状態でICを保持することができ、位置決め
されたICを精度良く保持することが可能となる。ま
た、上面にICが載置される載置台と、該載置台の周囲
に載置台の上面に対して垂直方向にのみ移動可能に配さ
れ、対向する2対の内壁面は下領域が前記ICの最外形
に合わせた垂直面で形成されると共に、上領域は上方に
向かうに従って互いに離間する斜面で形成された位置決
め壁体と、前記載置台内に設けられ、該載置台の上面に
開口する通気孔とを具備し、前記位置決め壁体は、前記
ICが 前記載置台に載置された後に上昇して前記斜面で
ICの水平方向のずれを修正しつつ前記垂直面でICを
位置決めをし、前記通気孔からは前位置決め壁体が上昇
して前記ICの位置決めを行う際に圧縮空気がICの裏
面に向けて吹き出すことを特徴とする。 これによれば、
載置台上でICが水平方向に移動しやすくなり、位置決
めの際に位置決め壁体の内壁面と当接するICのリード
に加わるストレスの低減が可能となり、リードの曲がり
を有効に防止することができる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係るICハンドラ
の好適な実施形態について添付図面と共に詳述する。な
お、従来例と同様の構成については同じ符号を付し、説
明は省略する。本発明は特にICハンドラ50の位置決
め機構10に関しての発明であり、以下においてはその
位置決め機構10について説明する。 (第1の実施形態) まず、ICハンドラ50の位置決め機構10の構成につ
いて図1〜図6を用いて説明する。載置台68は基台1
2の上面に固定されている。載置台68の周囲に配され
た位置決め壁体72は、基台12上方に基台12に対し
て垂直方向にのみ移動可能に取り付けられ、水平方向の
動きは規制されている。具体的な構造の一例として本実
施形態では、基台12に垂直方向の貫通孔14が設けら
れ、下端に抜け止め16が形成されたガイドシャフト1
8が基台12の下方から貫通孔14内にスライド自在に
挿通されている。そしてガイドシャフト18の上部に位
置決め壁体72が取り付けられている。
の好適な実施形態について添付図面と共に詳述する。な
お、従来例と同様の構成については同じ符号を付し、説
明は省略する。本発明は特にICハンドラ50の位置決
め機構10に関しての発明であり、以下においてはその
位置決め機構10について説明する。 (第1の実施形態) まず、ICハンドラ50の位置決め機構10の構成につ
いて図1〜図6を用いて説明する。載置台68は基台1
2の上面に固定されている。載置台68の周囲に配され
た位置決め壁体72は、基台12上方に基台12に対し
て垂直方向にのみ移動可能に取り付けられ、水平方向の
動きは規制されている。具体的な構造の一例として本実
施形態では、基台12に垂直方向の貫通孔14が設けら
れ、下端に抜け止め16が形成されたガイドシャフト1
8が基台12の下方から貫通孔14内にスライド自在に
挿通されている。そしてガイドシャフト18の上部に位
置決め壁体72が取り付けられている。
【0013】20は弾性部材の一例としてのコイルスプ
リングであり、位置決め壁体72を基台12に対して弾
性的に受ける機能を有する。本実施形態ではこのコイル
スプリング20が基台12上面と位置決め壁体72との
間に、ガイドシャフト18に外嵌された状態で弾装され
ている。従って、位置決め壁体72は上方から押圧力が
加わらない状態においては、コイルスプリング20の弾
性力によってガイドシャフト18の抜け止め16が基台
12の下面と当接し、上方への移動が規制される位置ま
で持ち上げられている。この時の載置台68の上面は、
位置決め壁体72の内壁面74〜80の下領域S内に位
置しており、また位置決め壁体72が上方からの外力に
よって下方に押動された場合には、図2に示すように位
置決め壁体72の内壁面74〜80の上領域T内に位置
する。なお、弾性部材20を配置する位置としては、上
記の構成に代えて、ガイドシャフト18に外嵌せずに基
台12の上面と位置決め壁体72の下面との間に独立し
て配する構成としても良いし、ガイドシャフト18の下
端に配してガイドシャフト18の下端を上方に押圧する
構成としても良い。また、コイルスプリングに代えて板
バネ等を使用することもできる。このように本実施形態
では、従来例と異なり、アクチュエータを用いた上下動
機構を用いておらず、また位置決め壁体72が固定され
た載置台68に対して上下する構成となっている。
リングであり、位置決め壁体72を基台12に対して弾
性的に受ける機能を有する。本実施形態ではこのコイル
スプリング20が基台12上面と位置決め壁体72との
間に、ガイドシャフト18に外嵌された状態で弾装され
ている。従って、位置決め壁体72は上方から押圧力が
加わらない状態においては、コイルスプリング20の弾
性力によってガイドシャフト18の抜け止め16が基台
12の下面と当接し、上方への移動が規制される位置ま
で持ち上げられている。この時の載置台68の上面は、
位置決め壁体72の内壁面74〜80の下領域S内に位
置しており、また位置決め壁体72が上方からの外力に
よって下方に押動された場合には、図2に示すように位
置決め壁体72の内壁面74〜80の上領域T内に位置
する。なお、弾性部材20を配置する位置としては、上
記の構成に代えて、ガイドシャフト18に外嵌せずに基
台12の上面と位置決め壁体72の下面との間に独立し
て配する構成としても良いし、ガイドシャフト18の下
端に配してガイドシャフト18の下端を上方に押圧する
構成としても良い。また、コイルスプリングに代えて板
バネ等を使用することもできる。このように本実施形態
では、従来例と異なり、アクチュエータを用いた上下動
機構を用いておらず、また位置決め壁体72が固定され
た載置台68に対して上下する構成となっている。
【0014】第1の搬送手段60は、従来例と同様にI
C70を吸着して搬送する機能を有する。そして、さら
に吸着したIC70を載置台68上に載置すべく下降し
た際には位置決め壁体72の上面と当接して位置決め壁
体72を下方に押動する押圧部22が端縁部分に形成さ
れている。また、第2の搬送手段66も従来例と同様に
IC70を吸着して搬送する機能を有する。そして第1
の搬送手段60と同じく、載置台68の上面に位置決め
されたIC70を吸着すべく下降した際には位置決め壁
体72の上面と当接して位置決め壁体72を下方に押動
する押圧部22が端縁部分に形成されている。従来例で
述べたように、第1の搬送手段60が第2の搬送手段6
6を兼ねる構成としても良い。
C70を吸着して搬送する機能を有する。そして、さら
に吸着したIC70を載置台68上に載置すべく下降し
た際には位置決め壁体72の上面と当接して位置決め壁
体72を下方に押動する押圧部22が端縁部分に形成さ
れている。また、第2の搬送手段66も従来例と同様に
IC70を吸着して搬送する機能を有する。そして第1
の搬送手段60と同じく、載置台68の上面に位置決め
されたIC70を吸着すべく下降した際には位置決め壁
体72の上面と当接して位置決め壁体72を下方に押動
する押圧部22が端縁部分に形成されている。従来例で
述べたように、第1の搬送手段60が第2の搬送手段6
6を兼ねる構成としても良い。
【0015】次に、ICハンドラ50の位置決め機構1
0の動作について説明する。まず、位置決め壁体72は
コイルスプリング20の弾性力により図1の位置に持ち
上げられている。この状態では、載置台68の上面が位
置決め壁体72の各内壁面74〜80の下領域S内に位
置している。この状態において、IC70を吸着した第
1の搬送手段60がIC70を載置台68の上面に載置
すべく降下すると、まず第1の搬送手段60に設けられ
た押圧部22が位置決め壁体72の上面と当接する。そ
してさらに第1の搬送手段60が下降することにより、
位置決め壁体72はコイルスプリング20の弾性力に抗
して下方に押動され、図2に示す位置で停止される。こ
の状態では、載置台68の上面は位置決め壁体72の各
内壁面74〜80の上領域T内に移動している。
0の動作について説明する。まず、位置決め壁体72は
コイルスプリング20の弾性力により図1の位置に持ち
上げられている。この状態では、載置台68の上面が位
置決め壁体72の各内壁面74〜80の下領域S内に位
置している。この状態において、IC70を吸着した第
1の搬送手段60がIC70を載置台68の上面に載置
すべく降下すると、まず第1の搬送手段60に設けられ
た押圧部22が位置決め壁体72の上面と当接する。そ
してさらに第1の搬送手段60が下降することにより、
位置決め壁体72はコイルスプリング20の弾性力に抗
して下方に押動され、図2に示す位置で停止される。こ
の状態では、載置台68の上面は位置決め壁体72の各
内壁面74〜80の上領域T内に移動している。
【0016】次に、第1の搬送手段60はIC70の吸
着を解除して、IC70を載置台68上面に載置する
(図2の状態)。この際にはIC70の側面から突出す
るリード90は各内壁面74〜80の上領域Tが斜面8
4に形成されているため、位置決め壁体72の各内壁面
74〜80とは当接せず、載置の際にリード90にスト
レスが加わることはない。次に、IC70を載置し終え
た第1の搬送手段60は、次のIC70の搬送に備えて
再度上方に移動し、その後載置台68の側方に水平移動
する。位置決め壁体72は、この第1の搬送手段60の
上方への移動に伴い、コイルスプリング20の弾性力に
より図4に示す位置(図1と同じ位置)まで第1の搬送
手段60に密着した状態で上昇する。この上昇の際に図
3に示すように、載置台68の上面に載置されたIC7
0の中心Cが最終的な水平方向の位置決め中心D(各内
壁面74〜80の下領域Sの垂直面82の中心)から距
離Aだけずれていると、IC70のリード90が上昇す
る位置決め壁体72の斜面84と当接し、位置決め中心
D方向に水平に押動される。これにより、最終的には図
4に示すように各内壁面74〜80の下領域Sの垂直面
82間にIC70が位置決めされる。この時には、IC
70の中心Cは位置決め中心Dに対して予め設定された
位置決め許容誤差範囲内に入る。
着を解除して、IC70を載置台68上面に載置する
(図2の状態)。この際にはIC70の側面から突出す
るリード90は各内壁面74〜80の上領域Tが斜面8
4に形成されているため、位置決め壁体72の各内壁面
74〜80とは当接せず、載置の際にリード90にスト
レスが加わることはない。次に、IC70を載置し終え
た第1の搬送手段60は、次のIC70の搬送に備えて
再度上方に移動し、その後載置台68の側方に水平移動
する。位置決め壁体72は、この第1の搬送手段60の
上方への移動に伴い、コイルスプリング20の弾性力に
より図4に示す位置(図1と同じ位置)まで第1の搬送
手段60に密着した状態で上昇する。この上昇の際に図
3に示すように、載置台68の上面に載置されたIC7
0の中心Cが最終的な水平方向の位置決め中心D(各内
壁面74〜80の下領域Sの垂直面82の中心)から距
離Aだけずれていると、IC70のリード90が上昇す
る位置決め壁体72の斜面84と当接し、位置決め中心
D方向に水平に押動される。これにより、最終的には図
4に示すように各内壁面74〜80の下領域Sの垂直面
82間にIC70が位置決めされる。この時には、IC
70の中心Cは位置決め中心Dに対して予め設定された
位置決め許容誤差範囲内に入る。
【0017】次に、図5に示すように第2の搬送手段6
6が載置台68の上方に水平移動し、その後下降して第
1の搬送手段60と同様に位置決め壁体72を下方に押
動する。そして、載置台68上のIC70が位置決め壁
体72の各内壁面74〜80の上領域T内となる位置で
下降を停止し、自らの吸着パッド88でIC70の上面
を吸着して保持する。これにより、第2の搬送手段66
は載置台68の上面で常に所定位置に位置決めされたI
C70を保持することが可能となり、図6のように試験
用ソケット56内に搬送したIC70を、ソケット56
の端子24とIC70のリード90とがずれないように
正確に載置することが可能となる。
6が載置台68の上方に水平移動し、その後下降して第
1の搬送手段60と同様に位置決め壁体72を下方に押
動する。そして、載置台68上のIC70が位置決め壁
体72の各内壁面74〜80の上領域T内となる位置で
下降を停止し、自らの吸着パッド88でIC70の上面
を吸着して保持する。これにより、第2の搬送手段66
は載置台68の上面で常に所定位置に位置決めされたI
C70を保持することが可能となり、図6のように試験
用ソケット56内に搬送したIC70を、ソケット56
の端子24とIC70のリード90とがずれないように
正確に載置することが可能となる。
【0018】(第2の実施形態) まず、ICハンドラ50の位置決め機構10の構成につ
いて図7を用いて説明する。なお、本実施形態は第1の
実施形態と同じ構成であるため、同じ構成に関しては同
じ符号を付し、説明は省略する。本実施形態と第1の実
施形態との相違点は、載置台68内にはIC70が載置
される上面に開口する通気孔26が設けられている点で
ある。この通気孔26内には不図示のコンプレッサから
圧縮空気を送ることが可能となっている。なお、本実施
形態では通気孔26は基台12から連続して形成されて
いるが、この構造に限らず、載置台68の側方から圧縮
空気を送る構造としても良い。続いて、動作について説
明する。基本的な動作は第1の実施形態と同様である
が、位置決め壁体72が載置台68の上面に載置された
IC70を位置決めすべく上昇する際に、コンプレッサ
から通気孔26内に圧縮空気が送られる点が相違してい
る。このようにIC70の位置決めの際に、通気孔26
内に圧縮空気が送られると、圧縮空気は載置台68の上
面とIC70の底面との間に入り込み、IC70が若干
浮き気味になる。これによって載置台68の上面とIC
70の底面との間の摩擦力が低減されて、IC70がス
ムーズに移動可能となる。従って、位置決め壁体72の
斜面84からIC70のリード90が受けるストレスも
一層低減することができ、リード曲がりを防止できる。
いて図7を用いて説明する。なお、本実施形態は第1の
実施形態と同じ構成であるため、同じ構成に関しては同
じ符号を付し、説明は省略する。本実施形態と第1の実
施形態との相違点は、載置台68内にはIC70が載置
される上面に開口する通気孔26が設けられている点で
ある。この通気孔26内には不図示のコンプレッサから
圧縮空気を送ることが可能となっている。なお、本実施
形態では通気孔26は基台12から連続して形成されて
いるが、この構造に限らず、載置台68の側方から圧縮
空気を送る構造としても良い。続いて、動作について説
明する。基本的な動作は第1の実施形態と同様である
が、位置決め壁体72が載置台68の上面に載置された
IC70を位置決めすべく上昇する際に、コンプレッサ
から通気孔26内に圧縮空気が送られる点が相違してい
る。このようにIC70の位置決めの際に、通気孔26
内に圧縮空気が送られると、圧縮空気は載置台68の上
面とIC70の底面との間に入り込み、IC70が若干
浮き気味になる。これによって載置台68の上面とIC
70の底面との間の摩擦力が低減されて、IC70がス
ムーズに移動可能となる。従って、位置決め壁体72の
斜面84からIC70のリード90が受けるストレスも
一層低減することができ、リード曲がりを防止できる。
【0019】(第3の実施形態) まず、ICハンドラ50の位置決め機構10の構成につ
いて図8と図9を用いて説明する。なお、本実施形態は
第1の実施形態と略同じ構成であり、同じ構成に関して
は同じ符号を付し、説明は省略する。本実施形態と第1
の実施形態との相違点は、位置決め壁体72の2対の内
壁面74〜80の下領域Sの下端には、IC70のパッ
ケージ28の側面下部と当接すると共に、当接面30は
パッケージ28の側面下部形状に合わせた斜面に形成さ
れた断面L字状の支持ガイド32が設けられている点で
ある。一般にプラスチックパッケージを採用するIC7
0の場合には、リードフレームの樹脂封止工程の関係
上、パッケージ28の側面形状はパッケージ28の上面
および下面からリード90が突出する中央部分に向かう
2つの斜面で構成される場合が多い。またパッケージの
形状は一定の規格で統一されている。よって、支持ガイ
ド32の載置台68方向に向く当接面30を上方に向け
て次第に外方に広がる斜面としておくことで、支持ガイ
ド32間で保持されるIC70の位置決めを行うことが
可能となる。
いて図8と図9を用いて説明する。なお、本実施形態は
第1の実施形態と略同じ構成であり、同じ構成に関して
は同じ符号を付し、説明は省略する。本実施形態と第1
の実施形態との相違点は、位置決め壁体72の2対の内
壁面74〜80の下領域Sの下端には、IC70のパッ
ケージ28の側面下部と当接すると共に、当接面30は
パッケージ28の側面下部形状に合わせた斜面に形成さ
れた断面L字状の支持ガイド32が設けられている点で
ある。一般にプラスチックパッケージを採用するIC7
0の場合には、リードフレームの樹脂封止工程の関係
上、パッケージ28の側面形状はパッケージ28の上面
および下面からリード90が突出する中央部分に向かう
2つの斜面で構成される場合が多い。またパッケージの
形状は一定の規格で統一されている。よって、支持ガイ
ド32の載置台68方向に向く当接面30を上方に向け
て次第に外方に広がる斜面としておくことで、支持ガイ
ド32間で保持されるIC70の位置決めを行うことが
可能となる。
【0020】次に、位置決め動作について説明する。な
お、基本的な動作は第1の実施形態と同様であるため、
異なる動作についてのみ説明する。位置決め壁体72
は、載置台68にIC70が載置された後に、第1の搬
送手段60の上昇と共に上昇し、その内壁面74〜80
の斜面84でIC70を水平方向に移動させつつ、内壁
面74〜80の垂直面82間でIC70を位置決めす
る。その後、垂直面82間に入り込んだIC70は、位
置決め壁体72が最上位置(図1や図9に示すように第
1の搬送手段60が当接していない位置)に移動する間
に支持ガイド32と当接し、図9に示すようにそのパッ
ケージ28の側面下部が支持ガイド32の載置台68方
向に向く当接面30と当接して支持されることで、再度
精密な位置決めが行われる。
お、基本的な動作は第1の実施形態と同様であるため、
異なる動作についてのみ説明する。位置決め壁体72
は、載置台68にIC70が載置された後に、第1の搬
送手段60の上昇と共に上昇し、その内壁面74〜80
の斜面84でIC70を水平方向に移動させつつ、内壁
面74〜80の垂直面82間でIC70を位置決めす
る。その後、垂直面82間に入り込んだIC70は、位
置決め壁体72が最上位置(図1や図9に示すように第
1の搬送手段60が当接していない位置)に移動する間
に支持ガイド32と当接し、図9に示すようにそのパッ
ケージ28の側面下部が支持ガイド32の載置台68方
向に向く当接面30と当接して支持されることで、再度
精密な位置決めが行われる。
【0021】(第4の実施形態) まず、ICハンドラ50の位置決め機構10の構成につ
いて図10を用いて説明する。なお、本実施形態も第1
の実施形態と略同じ構成であり、同じ構成に関しては同
じ符号を付し、説明は省略する。本実施形態と第1の実
施形態との相違点は、位置決め壁体72の上面と第2の
搬送手段66の下面の当接面間には位置決め用の嵌合ガ
イドが形成されている点である。本実施形態では嵌合ガ
イドは、第2の搬送手段66の下面に突出された嵌合ガ
イドピン34と位置決め壁体72の上面に設けられた嵌
合ガイド孔36とから構成されている。なお、第2の搬
送手段66に嵌合ガイド孔36を設け、嵌合ガイドピン
34を位置決め壁体72の上面に設ける構成としても良
い。この嵌合ガイドピン34と嵌合ガイド孔36とを設
けることによって、IC70を保持する際の第2の搬送
手段66のブレを抑制できて、第2の搬送手段66が位
置決め壁体72と水平方向に関して常に一定の位置関係
を保った状態でIC70を保持することができる。従っ
て、試験用ソケット56にもIC70を一層精度良く載
置することができる。
いて図10を用いて説明する。なお、本実施形態も第1
の実施形態と略同じ構成であり、同じ構成に関しては同
じ符号を付し、説明は省略する。本実施形態と第1の実
施形態との相違点は、位置決め壁体72の上面と第2の
搬送手段66の下面の当接面間には位置決め用の嵌合ガ
イドが形成されている点である。本実施形態では嵌合ガ
イドは、第2の搬送手段66の下面に突出された嵌合ガ
イドピン34と位置決め壁体72の上面に設けられた嵌
合ガイド孔36とから構成されている。なお、第2の搬
送手段66に嵌合ガイド孔36を設け、嵌合ガイドピン
34を位置決め壁体72の上面に設ける構成としても良
い。この嵌合ガイドピン34と嵌合ガイド孔36とを設
けることによって、IC70を保持する際の第2の搬送
手段66のブレを抑制できて、第2の搬送手段66が位
置決め壁体72と水平方向に関して常に一定の位置関係
を保った状態でIC70を保持することができる。従っ
て、試験用ソケット56にもIC70を一層精度良く載
置することができる。
【0022】また、さらに試験用ソケット56側にも、
第2の搬送手段66の嵌合ガイドピン34と嵌合する第
2の嵌合ガイド孔38を設け、この第2の嵌合ガイド孔
38と試験用ソケット56の中心との位置関係を、位置
決め壁体72に設けられた嵌合ガイド孔36と位置決め
壁体72の位置決め中心Dとの位置関係に合わせる。こ
の構成とすると、IC70を試験用ソケット56に載置
する際のブレも抑止できて、さらに高精度な試験用ソケ
ット56へのIC70の載置が行える。
第2の搬送手段66の嵌合ガイドピン34と嵌合する第
2の嵌合ガイド孔38を設け、この第2の嵌合ガイド孔
38と試験用ソケット56の中心との位置関係を、位置
決め壁体72に設けられた嵌合ガイド孔36と位置決め
壁体72の位置決め中心Dとの位置関係に合わせる。こ
の構成とすると、IC70を試験用ソケット56に載置
する際のブレも抑止できて、さらに高精度な試験用ソケ
ット56へのIC70の載置が行える。
【0023】以上、本発明の好適な実施例について種々
述べてきたが、本発明は上述の実施例に限定されるので
はなく、発明の精神を逸脱しない範囲で多くの改変を施
し得るのはもちろんである。
述べてきたが、本発明は上述の実施例に限定されるので
はなく、発明の精神を逸脱しない範囲で多くの改変を施
し得るのはもちろんである。
【0024】
【発明の効果】本発明に係るICハンドラでは、ICが
載置台に載置される際に載置台の上面が斜面の領域内に
位置するまで弾性部材の弾性力に抗して下方に押し下げ
られた位置決め壁体は、押し下げの解除により弾性部材
の弾性力によって上昇し、斜面でICの水平方向のずれ
を修正しつつ垂直面でICを位置決めすることができ
る。よって、従来のようなアクチュエータを用いた上下
動機構が不要となり、機構が簡略化できて製品コストの
低減が可能となる。また、載置台内に通気孔を設け、位
置決め壁体が上昇してICを位置決めする際に通気孔か
ら圧縮空気を吹き出す構成とすれば、載置台上でICが
水平方向に移動しやすくなり、ICのリードに加わるス
トレスの低減が可能となり、リードの曲がりを有効に防
止することができる。また、2対の内壁面の下領域の下
端に、ICのパッケージの側面下部と当接し、当該当接
面がパッケージの側面下部に合わせた斜面に形成された
支持ガイドを設けると、ICのパッケージは一定の規格
で成形されているのでさらに位置決め精度が高くでき
る。また、位置決めされたICを試験用ソケットに搬送
する第2の搬送手段の下面と位置決め壁体の上面との当
接面間に、位置決め用の嵌合ガイドを形成するようにす
れば、第2の搬送手段が位置決め壁体と常に一定の位置
関係を保った状態でICを保持することができ、位置決
めされたICを精度良く保持することが可能となり、結
果としてICを試験用ソケットに高精度に載置できると
いう著効を奏する。
載置台に載置される際に載置台の上面が斜面の領域内に
位置するまで弾性部材の弾性力に抗して下方に押し下げ
られた位置決め壁体は、押し下げの解除により弾性部材
の弾性力によって上昇し、斜面でICの水平方向のずれ
を修正しつつ垂直面でICを位置決めすることができ
る。よって、従来のようなアクチュエータを用いた上下
動機構が不要となり、機構が簡略化できて製品コストの
低減が可能となる。また、載置台内に通気孔を設け、位
置決め壁体が上昇してICを位置決めする際に通気孔か
ら圧縮空気を吹き出す構成とすれば、載置台上でICが
水平方向に移動しやすくなり、ICのリードに加わるス
トレスの低減が可能となり、リードの曲がりを有効に防
止することができる。また、2対の内壁面の下領域の下
端に、ICのパッケージの側面下部と当接し、当該当接
面がパッケージの側面下部に合わせた斜面に形成された
支持ガイドを設けると、ICのパッケージは一定の規格
で成形されているのでさらに位置決め精度が高くでき
る。また、位置決めされたICを試験用ソケットに搬送
する第2の搬送手段の下面と位置決め壁体の上面との当
接面間に、位置決め用の嵌合ガイドを形成するようにす
れば、第2の搬送手段が位置決め壁体と常に一定の位置
関係を保った状態でICを保持することができ、位置決
めされたICを精度良く保持することが可能となり、結
果としてICを試験用ソケットに高精度に載置できると
いう著効を奏する。
【図1】本発明に係るICハンドラの位置決め機構の第
1の実施形態の構成を示す一部切欠側面図(位置決め壁
体が下方に押動される前の状態)
1の実施形態の構成を示す一部切欠側面図(位置決め壁
体が下方に押動される前の状態)
【図2】図1の位置決め壁体が下方に押動された際の状
態を示す一部切欠側面図
態を示す一部切欠側面図
【図3】図2における載置台の上面、IC、位置決め壁
体の要部拡大図
体の要部拡大図
【図4】図2の状態から、位置決め壁体が図1の状態ま
で上方に移動し、ICが位置決めされた状態を示す一部
切欠側面図
で上方に移動し、ICが位置決めされた状態を示す一部
切欠側面図
【図5】図4の状態にあるICを第2の搬送手段で吸着
する際の状態を示す一部切欠側面図
する際の状態を示す一部切欠側面図
【図6】第2の搬送手段が吸着したICを試験用ソケッ
トに載置する際の状態を示す一部切欠側面図
トに載置する際の状態を示す一部切欠側面図
【図7】本発明に係るICハンドラの位置決め機構の第
2の実施形態の構成を示す一部切欠側面図
2の実施形態の構成を示す一部切欠側面図
【図8】本発明に係るICハンドラの位置決め機構の第
3の実施形態の構成を示す要部拡大断面図
3の実施形態の構成を示す要部拡大断面図
【図9】図8の支持ガイドでIC60が位置決めされた
状態を示す要部拡大断面図
状態を示す要部拡大断面図
【図10】本発明に係るICハンドラの位置決め機構の
第4の実施形態の構成を示す一部切欠側面図
第4の実施形態の構成を示す一部切欠側面図
【図11】図10の第2の搬送手段66の嵌合ガイドピ
ン34と嵌合する第2の嵌合ガイド孔38を試験用ソケ
ット56に設けた状態を示す一部切欠側面図
ン34と嵌合する第2の嵌合ガイド孔38を試験用ソケ
ット56に設けた状態を示す一部切欠側面図
【図12】ICハンドラの一般的な構成を示すブロック
図
図
【図13】ICハンドラの従来の位置決め機構の構成を
示し、載置台にICが載置された直後の状態を示す図1
6のB−B断面図
示し、載置台にICが載置された直後の状態を示す図1
6のB−B断面図
【図14】図13の載置台が下方に移動し、ICの位置
決めを行った状態を示す説明図
決めを行った状態を示す説明図
【図15】図14の載置台が再度上方に移動し、ICが
吸着パッドによって吸着される状態を示す説明図
吸着パッドによって吸着される状態を示す説明図
【図16】図13の載置台および位置決め壁体の構成を
示す平面図
示す平面図
20 弾性部材としてのコイルスプリング 68 載置台 70 IC 72 位置決め壁体 82 垂直面 84 斜面 S 下領域 T 上領域
Claims (6)
- 【請求項1】 上面にICが載置される載置台と、 該載置台の周囲に載置台の上面に対して垂直方向にのみ
移動可能に配され、対向する2対の内壁面は下領域が前
記ICの最外形に合わせた垂直面で形成されると共に、
上領域は上方に向かうに従って互いに離間する斜面で形
成された位置決め壁体と、 前記位置決め壁体を弾性的に受ける弾性部材とを具備
し、 前記位置決め壁体は、 前記ICが前記載置台に載置される際には、載置台の上
面が前記斜面の領域内に位置するまで前記弾性部材の弾
性力に抗して下方に押し下げられ、 ICが載置台の上面に載置された後には弾性部材の弾性
力によって上昇し、前記斜面でICの水平方向のずれを
修正しつつ前記垂直面でICを位置決めすることを特徴
とするICハンドラ。 - 【請求項2】 前記ICを前記載置台の上方から載置台
の上面に搬送する搬送手段を具備し、 前記位置決め壁体は、 前記ICを保持した前記搬送手段が前記載置台に向けて
下降する際に、該搬送手段により前記弾性部材の弾性力
に抗して下方に押し下げられ、 ICを載置台の上面に載置した搬送手段が上昇するのに
伴って上方へ移動することを特徴とする請求項1記載の
ICハンドラ。 - 【請求項3】 前記載置台内には前記上面に開口する通
気孔を設け、 前記位置決め壁体が上昇して前記ICを位置決めする際
には、前記通気孔から圧縮空気をICの裏面に向けて吹
き出すことを特徴とする請求項1または2記載のICハ
ンドラ。 - 【請求項4】 前記2対の内壁面の前記下領域の下端に
は、前記ICのパッケージの側面下部と当接すると共
に、当接面は該パッケージの側面下部に合わせた斜面に
形成された支持ガイドが設けられていることを特徴とす
る請求項1、2または3記載のICハンドラ。 - 【請求項5】 前記内壁面間で位置決めされた前記IC
に前記位置決め壁体を上方から下方に押動しつつ接近し
て保持する第2の搬送手段を具備し、 前記位置決め壁体の上面と前記第2の搬送手段の下面の
当接面間には位置決め用の嵌合ガイドが形成されている
ことを特徴とする請求項1、2、3または4記載のIC
ハンドラ。 - 【請求項6】 上面にICが載置される載置台と、 該載置台の周囲に載置台の上面に対して垂直方向にのみ
移動可能に配され、対向する2対の内壁面は下領域が前
記ICの最外形に合わせた垂直面で形成されると共に、
上領域は上方に向かうに従って互いに離間する斜面で形
成された位置決め壁体と、 前記載置台内に設けられ、該載置台の上面に開口する通
気孔とを具備し、 前記位置決め壁体は、前記ICが前記載置台に載置され
た後に上昇して前記斜面でICの水平方向のずれを修正
しつつ前記垂直面でICを位置決めをし、 前記通気孔からは前位置決め壁体が上昇して前記ICの
位置決めを行う際に圧縮空気がICの裏面に向けて吹き
出すことを特徴とするICハンドラ。
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