JP2978329B2 - 半導体メモリ装置及びそのビット線の短絡救済方法 - Google Patents
半導体メモリ装置及びそのビット線の短絡救済方法Info
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Description
り構成され、メモリセルのデータを出力するビット線を
有する半導体メモリ装置に関し、特にビット線間の短絡
(ショート)の処理に関する。
の一例を示す。図において、1はビット線、2はセレク
タ、3は行デコーダ、4はメモリセルをマトリクス状に
配置して成るメモリセルアレイである。メモリセルアレ
イ4のデータ出力線としてのビット線1は平行に複数本
配線され、セレクタ2に接続されている。また、ワード
線(図示せず)は行デコーダ3に接続されている。
ワード線を指定することにより指定されたワード線上す
べてのセルが読み出される。指定されたワード線上のす
べてのセルはその内容をビット線1に出力し、セレクタ
2により、選択されたビット線1のみのデータが出力さ
れる。メモリセルのデータ出力線として例えば隣接する
ビット線1間に異物Eが介在することによりビット線間
ショートが生じる。従来、半導体メモリ装置におけるビ
ット線間ショートのリジェクト(ビット線間が短絡して
いる装置の排除)は、メモリセルの内容を読み出し、そ
れが期待値と一致するか否かの判断で、間接的に行って
いた。
置は以上のように構成されているので、メモリセルのデ
ータ出力線として例えばビット線間ショートのリジェク
トは、間接的なテストで判断しなければならず、テスト
精度の信頼性が低かった。また、テスト時間の長時間化
などの問題点があった。
装置は不良品として排除していたため歩留りが悪かっ
た。
るためになされたもので、ショートを起こしているビッ
ト線間を流れるリーク電流量の観測から、ビット線間シ
ョートのリジェクトを精度良く、短時間で行える半導体
メモリ装置を得ることを目的としている。
ト線間ショート不良を救済できて、歩留りを向上できる
ビット線の短絡救済方法を提供することを目的とする。
る半導体メモリ装置は、メモリセルをマトリクス状に配
置して成るメモリセルアレイ4と、上記メモリセルのデ
ータを出力する複数のビット線1とを有し、隣接するビ
ット線の各々をスイッチング素子を介して順次交互に電
源電位ライン,グランドラインに接続して成るものであ
り、上記電源電位ラインには上記スイッチング素子とし
てPチャネルトランジスタ5が、上記グランドラインに
は上記スイッチング素子としてNチャネルトランジスタ
6が接続されて成るものである。
モリ装置のビット線の短絡救済方法は、上記半導体メモ
リ装置の電源電位ライン,グランドラインに電源10を
接続するとともに、上記スイッチング素子をオンして、
ビット線に過電圧を加え、隣接するビット線間を短絡す
る異物を上記過電圧によるジュール熱で焼き切るように
するものである。さらに、この発明の請求項3による半
導体メモリ装置は、上記電源電位ライン,グランドライ
ンに電源を接続するとともに、上記スイッチング素子を
オンして、ビット線に過電圧を加え、隣接するビット線
間を短絡する異物を上記過電圧によるジュール熱で焼き
切るための手段を備えたものである。
よれば、スイッチング素子をオンして隣接するビット線
間に流れるリーク電流量を観測することで、ビット線間
ショート不良の判定を行う。
モリ装置のビット線の短絡救済方法は、上述の半導体メ
モリ装置のスイッチング素子をオンして、ビット線に過
電圧を加え、線間ショートの原因となる異物をジュール
熱で焼き切る。さらに、この発明の請求項3による半導
体メモリ装置は、隣接するビット線間を短絡する異物を
過電圧によるジュール熱で焼き切るための手段により、
線間ショートの原因となる異物をジュール熱で焼き切
る。
ついて説明する。図1において、1はメモリセルのデー
タを出力するビット線、2はいずれかのビット線1を選
択するセレクタ、3は行デコーダ、4はメモリセルをマ
トリクス状に配置して成るメモリセルアレイ、5,6は
スイッチング素子としてのトランジスタであり、5はP
チャネルトランジスタ、6は制御信号φ(Hレベル)に
よりオンするNチャネルトランジスタである。7はトラ
ンジスタ制御信号φ反転用のインバータであり、Pチャ
ネルトランジスタ5をオンする。8はVCC(電源電
位)、9はVSS(グランド電位)である。上記ビット
線1は平行に複数本配線され、セレクタ2に接続されて
いる。また、行デコーダ3には図示しない複数のワード
線が接続されている。Pチャネルトランジスタ5,Nチ
ャネルトランジスタ6は隣接するビット線1に交互に設
けられており、Pチャネルトランジスタ5はVCC8
に、Nチャネルトランジスタ6はVSS9にソース側が
接続されている。
電流量を測定する測定回路の一例を図4に示す。図4に
おいて、10は電源、11はビット線間のリーク電流を
計測する測定器としての電流計、12は上述の半導体メ
モリ装置、あるいはメモリ内蔵型のマイクロコンピュー
タを示す。13はVCCピン、14は電源電位ライン、
15はVSSピン、16はグランドラインである。
ード時により、セレクタ2及び行デコーダ3から出力さ
れるワード線をアンアクティブ状態にしておく、トラン
ジスタ制御信号φにより、Pチャネルトランジスタ5及
びNチャネルトランジスタ6を同時にアクティブ(オ
ン)状態にすると、ビット線1は交互にVCC,VSS
ラインとなり、隣接するビット線1間に異物Eが介在し
て線間ショートしていれば、VCC8,VSS9間のリ
ーク電流I量は増加することから、これを電流計11で
観測することでビット線ショート不良をリジェクトでき
る。
止時、常温)では、電流値は数μA程度(品種差はあ
る)。しかし、異物Eにより、VCC−VSSがショー
トしていれば数百μA〜数十mA程度流れる。
しテストをすることなくビット線間ショートをリジュク
トできるが、どのビット線間に異物Eが介在しているの
か特定するのならば、メモリセルの読み出しテストをす
れば特定できる。
済方法の一実施例を説明する。前実施例と同じ構成の半
導体メモリ装置において、セレクタ2及び行デコーダ3
から出力されるワード線をアンアクティブ、Pチャネル
トランジスタ5及びNチャネルトランジスタ6をアクテ
ィブ(オン)状態にしておく。異物Eによりビット線間
がショートしていることを、前記実施例の動作に従い確
認されたならば、電源10の電圧を上げてVCC8に加
電圧を印加し、ビット線間に介在している異物Eをジュ
ール熱により焼き切る。これにより、ビット線間ショー
トを救済することができる。
線間の異物にのみジュール熱は発生する。図2に示すよ
うに導伝性の低い異物E1あるいは、伝導路が狭い異物
E2は、図3に示す等価回路のように抵抗Rとなるため
に、過電圧Vにおいて異物E1,E2はジュール熱を発
して焼き切れる。
に、他の回路17へのVCC8Aと別電源10Aに接続
すれば、前実施例のビット線ショート救済時の加電圧
が、他の回路17を破壊するような事態を防止すること
ができる。図において、13A,14A,15A,16
Aはそれぞれ他の回路17のVCCピン,電源電位ライ
ン,VSSピン,グランドラインである。
られているVCCピン13,VSSピン15は、隣接す
るビット線間を短絡する異物を過電圧によるジュール熱
で焼き切るための手段に相当し、これにより、線間ショ
ートの原因となる異物を過電圧によるジュール熱で焼き
切ることができるので、ビット線間ショートを救済でき
て、装置の歩留りを向上できる半導体メモリ装置が得ら
れる。 また、上述した各実施例においては、データ出力
線としてのビット線を例にしたが、ワード線ショートの
リジェクトにも本発明は適用可能である
る半導体メモリ装置によれば、メモリセルをマトリクス
状に配置して成るメモリセルアレイと、上記メモリセル
のデータを出力する複数のビット線とを有し、隣接する
ビット線の各々をスイッチング素子を介して順次交互に
電源電位ライン,グランドラインに接続して成るもので
あり、特に、電源電位ラインには上記スイッチング素子
としてPチャネルトランジスタが、グランドラインには
上記スイッチング素子としてNチャネルトランジスタが
接続されており、ビット線に流れる電流量は大きくなる
ため、ビット線間ショートのリジェクトを、精度良く行
え(即ち、リーク電流があると電流計にその変化が即座
に大きく観測されるため、ビット線間ショートの検出精
度を高くできる)、しかも短時間で行える。また、この
発明の請求項2,3によれば、線間ショートの原因とな
る異物を過電圧によるジュール熱で焼き切ることができ
るので、ビット線間ショートを救済できて、装置の歩留
りを向上できる。
置のビット線の救済方法によれば、上記半導体メモリ装
置の電源電位ライン,グランドラインに電源を接続する
とともに、上記スイッチング素子をオンして、ビット線
に過電圧を加え、隣接するビット線間を短絡する異物を
上記過電圧によるジュール熱で焼き切るようにしたの
で、ビット線間のショートを救済できて、装置の歩留り
を向上できる。
回路図である。
方法の説明図である。
方法の説明図である。
及び過電圧印加回路の一例を示す図である。
方法に使用する過電圧印加回路の他の例を示す図であ
る。
ある。
Claims (3)
- 【請求項1】 メモリセルをマトリクス状に配置して成
るメモリセルアレイと、上記メモリセルのデータを出力
する複数のビット線とを有する半導体メモリ装置におい
て、隣接するビット線の各々をスイッチング素子を介し
て順次交互に電源電位ライン,グランドラインに接続し
て成るものであり、上記電源電位ラインには上記スイッ
チング素子としてPチャネルトランジスタが、上記グラ
ンドラインには上記スイッチング素子としてNチャネル
トランジスタが接続されて成ることを特徴とする半導体
メモリ装置。 - 【請求項2】 メモリセルをマトリクス状に配置して成
るメモリセルアレイと、上記メモリセルのデータを出力
する複数のビット線とを有するとともに、隣接するビッ
ト線の各々をスイッチング素子を介して順次交互に電源
電位ライン,グランドラインに接続して成るものであ
り、上記電源電位ラインには上記スイッチング素子とし
てPチャネルトランジスタが、上記グランドラインには
上記スイッチング素子としてNチャネルトランジスタが
接続されて成る半導体メモリ装置において、上記電源電
位ライン,グランドラインに電源を接続するとともに、
上記スイッチング素子をオンして、ビット線に過電圧を
加え、隣接するビット線間を短絡する異物を上記過電圧
によるジュール熱で焼き切るようにしたことを特徴とす
る半導体メモリ装置のビット線の短絡救済方法。 - 【請求項3】 メモリセルをマトリクス状に配置して成
るメモリセルアレイと、上記メモリセルのデータを出力
する複数のビット線とを有するとともに、隣接するビッ
ト線の各々をスイッチング素子を介して順次交互に電源
電位ライン,グランドラインに接続して成るものであ
り、上記電源電位ラインには上記スイッチング素子とし
てPチャネルトランジスタが、上記グランドラインには
上記スイッチング素子としてNチャネルトランジスタが
接続されて成る半導体メモリ装置において、上記電源電
位ライン,グランドラインに電源を接続するとともに、
上記スイッチング素子をオンして、ビット線に過電圧を
加え、隣接するビット線間を短絡する異物を上記過電圧
によるジュール熱で焼き切るための手段を備えたことを
特徴とする半導体メモリ装置。
Priority Applications (3)
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publication Number | Publication Date |
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-
1993
- 1993-04-06 US US08/043,225 patent/US5343431A/en not_active Expired - Lifetime
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