JP2948596B2 - 高純度セファロスポリン誘導体の製造法 - Google Patents

高純度セファロスポリン誘導体の製造法

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Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は、式(I) で示される化合物又はその塩を含有する生成物を中和型
の強塩基性イオン交換樹脂で処理することを特徴とする
高純度の式(I)の化合物又はその塩の製造法に関す
る。
<従来の技術> 式(I)の化合物は、特開昭61−7280号公報に開示さ
れたものであり、優れた抗菌活性を有するものである。
該化合物の製造法としては、前記公報並びに、特開昭62
−145050号、62−145051号及び63−44582号公報に開示
されたものが知られている。該製造法における生成物は
式(I)の化合物以外に着色物質、反応分解物も含み、
高純度の式(I)の化合物を得るには前記生成物を逆相
高速液体クフロマトクラフィーで処理されていた。しか
しながら、該逆相高速液体クフロマトグラフィーによる
処理は工業的観点から経済的に不利であり、工業的製造
法としては不充分なものであった。
<発明が解決しようとする問題点> 本発明者等は上記問題点を解決すべく鋭意検討した結
果、本発明を完成した。
<発明の構成> 本発明は、式(I)の化合物又はその塩を含有する生
成物を中和型の強塩基性イオン交換樹脂で処理すること
からなる高純度の式(I)の化合物又はその塩の製造法
に関する。
式(I)の化合物の塩としては、塩酸、硫酸等の酸付
加塩をあげることができる。
式(I)の化合物又はその塩を含有する生成物として
は、前記公開公報、特開昭63−44582号公報に示された
製造法によるものをあげることができる。
強塩基性イオン交換樹脂としては、ダイヤイオンSA11
A、ダイヤイオンSA21A、ダイヤイオンPA306、ダイヤイ
オンPA308、ダイヤイオンPA406、ダイヤイオンPA408
(以上、三菱化成工業株式会社製)、アンバーライトIR
A−401、アンバーライトIRA−402、アンバーライトIRA
−904、アンバーライトIRA−938、アンバーライトIRA−
411、アンバーライトIRA−911(以上、ローム・アンド
・ハース社製)等ごあげることができる。中和型の該樹
脂とは、塩酸等の酸で処理したものをいい、その代表的
なものとしては、クロル型を示すことができる。
次に、本発明の製造法を具体的に説明する。
即ち、上記の如き式(I)の化合物またはその塩を含
有する生成物を水に溶解または懸濁させ、必要に応じて
アルカリ溶液を滴下しpH5〜7.5、好ましくは6〜7に中
和し溶解する。用いるアルカリは特に限定されないが、
例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリ
ウム等があげられる。得られた水溶液に、前記の如き中
和型の塩基性イオン交換樹脂を加え攪拌(以下、バッチ
法)するか、もしくは、該イオン交換樹脂を充填したカ
ラムに前記の水溶液を通液する(以下、カラム法)こと
により高純度の式(I)の化合物を製造することができ
る。
使用する樹脂量は、生成物に対しバッチ法の場合で通
常5〜20倍重量部、カラム法の場合で通常5〜30倍重量
部、好ましくは10〜20倍重量部である。また、バッチ法
での処理時間は、通常0.5〜5時間、カラム法の場合の
通液速度は通常S.V.(Spece Velosity)1〜5である。
該カラム法において溶出液に使用される溶媒としては、
水、水とメタノール、エタノール、イソプロピルアルコ
ール、ニトリルの如き有機溶媒との混合溶媒等をあげる
ことができる。上記の処理は一般に0〜10℃で、好まし
くは5℃前後で行うことが望ましい。
このようにして得られた高純度の式(I)の化合物を
含有する溶液は、必要に応じて非イオン性合成吸着樹
脂、例えばダイヤイオンSP207(以上、三菱化成工業株
式会社製)、アンバーライトXAD2、アンバーライトXAD4
(以上、ローム・アンド・ハース社製)を充填したカラ
ムクロマト又は低阻止率逆浸透膜を用いて脱塩し、次い
で凍結乾燥を行うことにより高純度の式(I)の化合物
を単離することができる。
このようにして得られた高純度の式(I)の化合物
は、水に溶解し次いで塩酸、硫酸の如き酸を加え生成す
る結晶を濾取することにより高純度の式(I)の化合物
の塩を単離することができる。
<発明の効果> 本発明の製造法により高純度の式(I)の化合物又は
その塩を容易且つ高収率で製造することができる。従っ
て、本発明の製造法は高純度の式(I)の化合物又はそ
の塩の工業的製造法として優れたものである。
以下、本発明を更に参考例及び実施例により説明する
が、本発明がこれにより限定されるものではない。
参考例 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノアセタミド]−3−[4−(オキサゾ
ール−5−イル)−1−ピリジニオ]メチル−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート(シン異性体)(以下,化
合物A)粗生成物 7β−[2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イ
ル)−2−メトキシイミノアセタミド]−3−[4−
(オキサゾール−5−イル)−1−ピリジニオ]メチル
−3−セフェム−4−カルボン酸p−メトキシベンジル
エステル塩化物の粉末128gを蟻酸50mlに溶解し、室温に
て3時間攪拌した。溶媒を留去し、残渣にエーテルを加
えて固化し、濾取して表題粗生成物121gを得た。得られ
た生成物について高速液体クロマトグラフィーを用い、
以下の条件で純度を測定した結果、その純度は65.9%で
あった。
カラム:YMC−GEL ODS S−5[AMタイプ] 流動相:0.01M酢酸アンモニア水及びアセトニトリルの
混液(23:2) 検出波長:254nm 内容標準:カフェイン 流 量:1.3ml/分 又、生成物中の着色物量を以下の条件により波長450n
mの吸光度を測定したところ0.367であった。
溶媒:0.1Mリン酸緩衝液(pH7) 化合物Aの濃度:0.5% 透過光路長:10mm 実施例1 参考例で得られた化合物Aを粗生成物2.8gに冷水20ml
を加え、氷冷攪拌しながら1N水酸化ナトリウム水溶液を
滴下しpH6.8とした。中和液にダイヤイオンPA306(クロ
ル型)18mlを加え、氷冷下1時間攪拌した。樹脂を除去
し、冷水40mlで洗浄後濾液に8N硫酸を加え、pH1.5とし
た。2時間氷冷攪拌後生成する結晶を濾取し、化合物A
の硫酸塩1.85g(回収率:84%)を得た。
得られた化合物の純度及び吸光度(波長450nm)を参
考例1と同様に測定した結果、それぞれ99.9%及び0.04
0であった。又、このもののNMR及びIRスペクトルは標品
のそれと一致した。
実施例2 参考例で得られた化合物Aの粗生成物2.8gに冷水20ml
を加え、氷冷攪拌しながら1N水酸化ナトリウム水溶液を
滴下しpH6.8とした。不要物を濾去後、ダイヤイオンPA4
06(クロル型)カラム40mlにS.V.2で通液し、さらに冷
水80mlで洗浄した。溶出液を20℃以下で約40mlまで減圧
濃縮し8N硫酸を加えpH1.5とした。2時間氷冷攪拌後生
成する結晶を濾取し、化合物Aの硫酸塩1.75g(回収率:
80%)を得た。
得られた化合物の純度及び吸光度(波長450nm)を参
考例と同様に測定した結果、それぞれ99.8%及び0.022
であった。又、このもののNMR及びIRスペクトルは標品
のそれと一致した。
実施例3 参考例で得られた化合物Aの粗生成物2.8gに冷水20ml
を加え、氷冷攪拌しながら1N水酸化ナトリウム水溶液を
滴下しpH6.8とした。不溶物を濾去後ダイヤイオンPA406
(クロル型)カラム40mlにS.V.2で通夜し、さらに冷水8
0mlで洗浄した。溶出液をダイヤイオンSP−207カラム20
mlにS.V.2で吸着し、40mlの冷水で洗浄後20%アセトニ
トリル水溶液80mlで溶出した。アセトニトリルを留去後
凍結乾燥し、化合物A 1.49(回収率:80%)を得た。
得られた化合物の純度及び吸光度(波長450nm)参考
例と同様に測定した結果,それぞれ99.1%及び0.029で
あった。又,このもののNMR及びIRスペクトルは標品の
それと一致した。
比較例 参考例で得られた化合物Aの粗生成物2.8gに冷水20ml
を加え、氷冷攪拌しながら1N水酸化ナトリウム水溶液を
滴下しpH6.8とした。中和液をダイヤイオンHPカラム40m
lにS.V.1で通液し吸着した。冷水80ml洗浄後10%及び15
%アセトニトリル水溶液で順次S.V.1で溶出した。化合
物A濃度が0.1%以上の溶出替分を集めアセトニトリル
を留去後、凍結乾燥し、化合物A 1.41g(回収率:71
%)を得た。このものの純度及び吸光度(波長450nm)
を参考例と同様に測定した結果、それぞれ93.1%及び0.
121であった。
得られた化合物を冷水20mlに溶解し、次いで8N硫酸を
加えてpH1.5とした。2時間攪拌後析出する結晶を濾取
し、化合物Aの硫酸塩1.51g(回収率:67%)を得た。こ
のものの純度及び吸光度(波長450nm)を参考例と同様
に測定した結果、それぞれ96.9%及び0.093であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07D 501/00 - 501/62 B01J 41/04

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 で示される化合物又はその塩を含有する生成物を中和型
    の強塩基性イオン交換樹脂で処理することを特徴とする
    高純度の式(I)の化合物又はその塩の製造法
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