JP2912641B2 - 芳香族ポリエステル系樹脂フイルム及びその製造方法 - Google Patents
芳香族ポリエステル系樹脂フイルム及びその製造方法Info
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- JP2912641B2 JP2912641B2 JP24798289A JP24798289A JP2912641B2 JP 2912641 B2 JP2912641 B2 JP 2912641B2 JP 24798289 A JP24798289 A JP 24798289A JP 24798289 A JP24798289 A JP 24798289A JP 2912641 B2 JP2912641 B2 JP 2912641B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は芳香族ポリエステル系樹脂フイルム及びその
製造方法に関し、さらに詳しくは、複屈折性に優れた芳
香族ポリエステル系樹脂フイルム及びこの製造方法に関
する。
製造方法に関し、さらに詳しくは、複屈折性に優れた芳
香族ポリエステル系樹脂フイルム及びこの製造方法に関
する。
近年、複屈折性に優れたフイルムは、時計、小型テレ
ビ、ワープロ、計器盤及び各種表示盤等に使用されてい
る液晶表示部及びエレクトロルミネッセンス表示部等の
表面保護膜として、またICカードと表示部及び光フロッ
ピーディスク、光カード、偏光板等の表面保護フイルム
用に近年使用されている。
ビ、ワープロ、計器盤及び各種表示盤等に使用されてい
る液晶表示部及びエレクトロルミネッセンス表示部等の
表面保護膜として、またICカードと表示部及び光フロッ
ピーディスク、光カード、偏光板等の表面保護フイルム
用に近年使用されている。
しかしながら、複屈折性に優れた皮膜としては、ガラ
ス板及び合成樹脂皮膜が使用されているが、未だ実用的
に満足される皮膜が提供されていなかった。
ス板及び合成樹脂皮膜が使用されているが、未だ実用的
に満足される皮膜が提供されていなかった。
すなわち、ガラス板は重量が大きく、また容易に破損
してしまう等、実用的に問題がある。また合成樹脂皮膜
としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフイル
ム（PET）、ポリエーテルスルホンフイルム（PES）、ポ
リカーボネートフイルム（CPC）およびポリトリアセテ
ートフイルム（TAC）等が使用されているが、PETフイル
ムは耐熱性に劣り、複屈折が大きく、また装着時の接着
性に劣れため、低複屈折等を必要とする光学用途には、
実用的にほとんど使用されていない。
してしまう等、実用的に問題がある。また合成樹脂皮膜
としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフイル
ム（PET）、ポリエーテルスルホンフイルム（PES）、ポ
リカーボネートフイルム（CPC）およびポリトリアセテ
ートフイルム（TAC）等が使用されているが、PETフイル
ムは耐熱性に劣り、複屈折が大きく、また装着時の接着
性に劣れため、低複屈折等を必要とする光学用途には、
実用的にほとんど使用されていない。
またPESフイルムは吸湿性が高く、フィッシアイ（F
E）等の表面性に劣り、各種部品の表示部としての外観
がそこなわれる。
E）等の表面性に劣り、各種部品の表示部としての外観
がそこなわれる。
ポリカーボネートフイルム（PC）は耐熱性及び耐薬品
性に劣り、また、ポリトリアセテートフイルム（TAC）
は耐熱性、耐薬品性、耐吸湿性に劣る等、これ等のフイ
ルムは、二次加工工程、例えばフイルム表面への透明電
極作成時のインジウム−酸化チタン（ITO）処理、更に
はエッチング工程等に必要な耐熱性、耐薬品性が劣るた
め、これ等二次加工を必要とする用途には、ほとんど使
用されていない。
性に劣り、また、ポリトリアセテートフイルム（TAC）
は耐熱性、耐薬品性、耐吸湿性に劣る等、これ等のフイ
ルムは、二次加工工程、例えばフイルム表面への透明電
極作成時のインジウム−酸化チタン（ITO）処理、更に
はエッチング工程等に必要な耐熱性、耐薬品性が劣るた
め、これ等二次加工を必要とする用途には、ほとんど使
用されていない。
このように、従来の皮膜は、軽量で、機械的強度も大
きく、透明性、耐熱性、寸法安定性、電気絶縁性に優
れ、かつ複屈折性に優れ、実用的に使用可能な皮膜は提
供されておらず、業界からは実用性に優れた皮膜の開発
が熱望されていた。
きく、透明性、耐熱性、寸法安定性、電気絶縁性に優
れ、かつ複屈折性に優れ、実用的に使用可能な皮膜は提
供されておらず、業界からは実用性に優れた皮膜の開発
が熱望されていた。
本発明の目的は、従来技術が有していた前述の問題点
を解決しようとするものであり、従来全く知られていな
かった新規な合成樹脂フイルムを提供することにある。
を解決しようとするものであり、従来全く知られていな
かった新規な合成樹脂フイルムを提供することにある。
本発明に係る芳香族ポリエステル系樹脂フイルムは、
下式（Ｉ）で表される芳香族ポリエステル系樹脂を主成
分として含有する溶剤流延法により得たフイルム原反
を、前記芳香族ポリエステル系樹脂のガラス転移温度
（Tg）より10℃以上高温で熱処理した後、少なくとも
（Tg＋10）℃から（Tg−15）℃の温度範囲において、冷
却速度を１℃／秒から0.01℃／秒の範囲内に制御して冷
却することにより作製した、復屈折値が50nm以下である
芳香族ポリエステル系樹脂フイルムである。
下式（Ｉ）で表される芳香族ポリエステル系樹脂を主成
分として含有する溶剤流延法により得たフイルム原反
を、前記芳香族ポリエステル系樹脂のガラス転移温度
（Tg）より10℃以上高温で熱処理した後、少なくとも
（Tg＋10）℃から（Tg−15）℃の温度範囲において、冷
却速度を１℃／秒から0.01℃／秒の範囲内に制御して冷
却することにより作製した、復屈折値が50nm以下である
芳香族ポリエステル系樹脂フイルムである。
〔式（Ｉ）中、Ｘは置換基を有することある炭素数１〜
10の２価の炭化水素基、−Ｏ−、−Ｓ−、−SO2−及び
−CO−から選ばれた２価基;R及びＲ′は、各独立して、
置換基を有することある炭素数１〜20のアルキル基、置
換基を有することあるアリル基、置換基を有することあ
るアラルキル基、置換基を有することあるアルコキシル
基、置換基を有することあるアリロキシル基、置換基を
有することあるアリルアルコキシル基及びハロゲン原子
から選ばれた１種又は２種以上の１価基;p及びｑは０又
は自然数であり、ｐ＋ｑ＝０〜4;m及びｎは０又は１で
ある（但し、ｍ＝１のとき、ｎ≠０）。〕 本発明における芳香族ポリエステル系樹脂は、 （式中、Ｘは炭素数１〜10の置換或いは無置換の２価炭
化水素基、−Ｏ−、−Ｓ−、−SO2−及び−CO−から選
ばれる基、Ｒ、Ｒ′は炭素数１〜20のアルキル、アリ
ル、アラルキル、アルコキシル、アリロキシル及びアリ
ルアルコキシル基、その置換体、ハロゲン及びそれらの
混合物から選ばれる１価の基、ｐ、ｑはｐ＋ｑ＝０〜３
の整数、ｍ、ｎは０又は１、但しｍ＝１のときｎ≠０） で示される合成樹脂であれば、いづれの合成樹脂でも良
いが、中でも（Ｉ）式において一部又は全てが、下記一
般式 （式中、Ｘ、ｍ、ｎは（Ｉ）式に同じ、R1〜R4は炭素数
１〜４のアルキル基、アルコキシル基、フエニル基及び
ハロゲン原子から選ばれる１価の基を示す） で示される合成樹脂が好ましく、さらに好ましくは、前
記（II）式中における芳香族ジカルボン酸成分におい
て、モル比率が（10/0〜7/3）で好適には9/1である（テ
レフタン酸／イソフタル酸）とモル比率が2/1である
（ビスフェノールA/3、３′、５、５′テトラメチルビ
スフェノールＦ）とからなる共重合体である。また本発
明に使用される芳香族ポリエステル系樹脂の分子量は、
特に制限されるものではないが、一般的には５〜15万、
好ましくは６〜13万である。
10の２価の炭化水素基、−Ｏ−、−Ｓ−、−SO2−及び
−CO−から選ばれた２価基;R及びＲ′は、各独立して、
置換基を有することある炭素数１〜20のアルキル基、置
換基を有することあるアリル基、置換基を有することあ
るアラルキル基、置換基を有することあるアルコキシル
基、置換基を有することあるアリロキシル基、置換基を
有することあるアリルアルコキシル基及びハロゲン原子
から選ばれた１種又は２種以上の１価基;p及びｑは０又
は自然数であり、ｐ＋ｑ＝０〜4;m及びｎは０又は１で
ある（但し、ｍ＝１のとき、ｎ≠０）。〕 本発明における芳香族ポリエステル系樹脂は、 （式中、Ｘは炭素数１〜10の置換或いは無置換の２価炭
化水素基、−Ｏ−、−Ｓ−、−SO2−及び−CO−から選
ばれる基、Ｒ、Ｒ′は炭素数１〜20のアルキル、アリ
ル、アラルキル、アルコキシル、アリロキシル及びアリ
ルアルコキシル基、その置換体、ハロゲン及びそれらの
混合物から選ばれる１価の基、ｐ、ｑはｐ＋ｑ＝０〜３
の整数、ｍ、ｎは０又は１、但しｍ＝１のときｎ≠０） で示される合成樹脂であれば、いづれの合成樹脂でも良
いが、中でも（Ｉ）式において一部又は全てが、下記一
般式 （式中、Ｘ、ｍ、ｎは（Ｉ）式に同じ、R1〜R4は炭素数
１〜４のアルキル基、アルコキシル基、フエニル基及び
ハロゲン原子から選ばれる１価の基を示す） で示される合成樹脂が好ましく、さらに好ましくは、前
記（II）式中における芳香族ジカルボン酸成分におい
て、モル比率が（10/0〜7/3）で好適には9/1である（テ
レフタン酸／イソフタル酸）とモル比率が2/1である
（ビスフェノールA/3、３′、５、５′テトラメチルビ
スフェノールＦ）とからなる共重合体である。また本発
明に使用される芳香族ポリエステル系樹脂の分子量は、
特に制限されるものではないが、一般的には５〜15万、
好ましくは６〜13万である。
また、これらの芳香族ポリエステル系樹脂は、テレフ
タル酸及び又はイソフタル酸と１種または２種以上のビ
スフェノール類あるいはビスフェノール類と少量の２価
の化合物による重合体または共重合体、さらには、これ
らの混合物によっても得ることができる。共重合体とし
ては、例えば芳香族ジカルボン酸は、テレフタル酸及び
イソフタル酸の単独もしくは混合成分である。
タル酸及び又はイソフタル酸と１種または２種以上のビ
スフェノール類あるいはビスフェノール類と少量の２価
の化合物による重合体または共重合体、さらには、これ
らの混合物によっても得ることができる。共重合体とし
ては、例えば芳香族ジカルボン酸は、テレフタル酸及び
イソフタル酸の単独もしくは混合成分である。
好ましいビスフエノール成分を例示すれば、2,2−ビ
ス（3,5−ジメチル−４−ヒドロキシフエニル）プロパ
ン、2,2−ビス（3,5−ジ−sec−ブチル−４−ヒドロキ
シフエニル）プロパン、2,2−ビス（3,5−ジ−tert−ブ
チル−４−ヒドロキシフエニル）プロパン、ビス（3,5
−ジメチル−４−ヒドロキシフエニル）メタン、1,1−
ビス（3,5−ジメチル−４−ヒドロキシフエニル）エタ
ン、1,1−ビス（3,5−ジメチル−４−ヒドロキシフエニ
ル）シクロヘキサン、ビス（3,5−ジメチル−４−ヒド
ロキシフエニル）ケトン、ビス（3,5−ジメチル−４−
ヒドロキシフエニル）エーテル、ビス（3,5−ジメチル
−４−ヒドロキシフエニル）スルフイド、2,2−ビス
（3,5−ジメチル−４−ヒドロキシフエニル）ヘキサフ
ルオルプロパン、2,2−、ビス（3,5−ジメトキシ−４−
ヒドロキシフエニル）プロパン、ビス（3,5−ジメトキ
シ−４−ヒドロキシフエニル）メタン、2,2−ビス（３
−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−メチルフエニル）プ
ロパン、ビス（３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−メ
チルフエニル）メタン、ビス（3,5−ジフエニル−４−
ヒドロキシフエニル）メタン、2,2−ビス（3,5−ジフエ
ノキシ−４−ヒドロキシフエニル）プロパン、ビス（３
−フエノキシ−４−ヒドロキシ−５−メチル）メタン、
4,4′−ジヒドロキシ−3,3′,5,5′−テトラメチルビフ
エニル、4,4′−ジヒドロキシ−3,3′,5,5−テトラエチ
ルビフエニル、ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフエ
ニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシ−3,5−ジメチ
ルフエニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシ−３−エ
チルフエニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシ−3,5
−ジエチルフエニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシ
−3,5−ジメトキシフエニル）スルホン、ビス（４−ヒ
ドロキシ−3,5−ジエトキシフエニル）スルホン等があ
げられる。
ス（3,5−ジメチル−４−ヒドロキシフエニル）プロパ
ン、2,2−ビス（3,5−ジ−sec−ブチル−４−ヒドロキ
シフエニル）プロパン、2,2−ビス（3,5−ジ−tert−ブ
チル−４−ヒドロキシフエニル）プロパン、ビス（3,5
−ジメチル−４−ヒドロキシフエニル）メタン、1,1−
ビス（3,5−ジメチル−４−ヒドロキシフエニル）エタ
ン、1,1−ビス（3,5−ジメチル−４−ヒドロキシフエニ
ル）シクロヘキサン、ビス（3,5−ジメチル−４−ヒド
ロキシフエニル）ケトン、ビス（3,5−ジメチル−４−
ヒドロキシフエニル）エーテル、ビス（3,5−ジメチル
−４−ヒドロキシフエニル）スルフイド、2,2−ビス
（3,5−ジメチル−４−ヒドロキシフエニル）ヘキサフ
ルオルプロパン、2,2−、ビス（3,5−ジメトキシ−４−
ヒドロキシフエニル）プロパン、ビス（3,5−ジメトキ
シ−４−ヒドロキシフエニル）メタン、2,2−ビス（３
−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−メチルフエニル）プ
ロパン、ビス（３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−メ
チルフエニル）メタン、ビス（3,5−ジフエニル−４−
ヒドロキシフエニル）メタン、2,2−ビス（3,5−ジフエ
ノキシ−４−ヒドロキシフエニル）プロパン、ビス（３
−フエノキシ−４−ヒドロキシ−５−メチル）メタン、
4,4′−ジヒドロキシ−3,3′,5,5′−テトラメチルビフ
エニル、4,4′−ジヒドロキシ−3,3′,5,5−テトラエチ
ルビフエニル、ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフエ
ニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシ−3,5−ジメチ
ルフエニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシ−３−エ
チルフエニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシ−3,5
−ジエチルフエニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシ
−3,5−ジメトキシフエニル）スルホン、ビス（４−ヒ
ドロキシ−3,5−ジエトキシフエニル）スルホン等があ
げられる。
これらの3,5−位に置換基を有するビスフエノール成
分とは、4,4′−ジヒドロキシフエニル、ビス（４−ヒ
ドロキシフエニル）メタン、1,1−ビス（４−ヒドロキ
シフエニル）エタン、2,2−ビス（４−ヒドロキシフエ
ニル）プロパン、ヒドロキノン、レゾルシン等と混合し
て用いることができる。また、フエノールフタレイン、
フルオレセイン、ナフトフタレイン、チモールフタレイ
ンなどのビスフエノール性色素等を使用することも可能
である。
分とは、4,4′−ジヒドロキシフエニル、ビス（４−ヒ
ドロキシフエニル）メタン、1,1−ビス（４−ヒドロキ
シフエニル）エタン、2,2−ビス（４−ヒドロキシフエ
ニル）プロパン、ヒドロキノン、レゾルシン等と混合し
て用いることができる。また、フエノールフタレイン、
フルオレセイン、ナフトフタレイン、チモールフタレイ
ンなどのビスフエノール性色素等を使用することも可能
である。
また、混合物としては、上記芳香族ポリエステル系樹
脂と、例えばポリカーボネート（PC）、ポリアリレート
（PAR）、ポリエーテルスルホン（PES）、変性ポリフエ
ニレンエーテル（PPE）、ポリサルホン（PSF）、ポリア
ミドイミド（PAI）、ポリエーテルイミド（PEI）、ポリ
イミド（PI）等相溶性のある１種または２種以上の混合
物であり、中でも上記芳香族ポリエステル系樹脂とポリ
カーボネート（PC）及び／又はポリアリレート（PAR）
との混合物が好適である。
脂と、例えばポリカーボネート（PC）、ポリアリレート
（PAR）、ポリエーテルスルホン（PES）、変性ポリフエ
ニレンエーテル（PPE）、ポリサルホン（PSF）、ポリア
ミドイミド（PAI）、ポリエーテルイミド（PEI）、ポリ
イミド（PI）等相溶性のある１種または２種以上の混合
物であり、中でも上記芳香族ポリエステル系樹脂とポリ
カーボネート（PC）及び／又はポリアリレート（PAR）
との混合物が好適である。
このようにして得られた芳香族ポリエステル系樹脂の
Tgは特に制限するものではないが、望ましくは300〜150
℃、さらに望ましくは300〜180℃である。
Tgは特に制限するものではないが、望ましくは300〜150
℃、さらに望ましくは300〜180℃である。
さらに、上記芳香族ポリエステル系樹脂の重合方法は
特に制限されるものではなく、従来知られている重合方
法を採用することができる。例えば、芳香族ジカルボン
酸とビスフェノールを高温溶融状態で反応させる溶融重
合法、芳香族ジカルボン酸ジクロライドとビスフェノー
ルを脱酸剤としてのアミンの存在下に有機溶剤中で反応
させる溶液重合法、芳香族ジカルボン酸ジクロライドと
ビスフェノールとを互いに相溶しない２種の溶媒に溶解
した後、アルカリの存在下で２液を混合攪拌して、その
界面で重縮合反応を行なわせる界面重合法があり、いず
れの方法でも、採用することができるが、これらの中で
着色、異物、高重合度及びTgの点から界面重合法が好ま
しい。
特に制限されるものではなく、従来知られている重合方
法を採用することができる。例えば、芳香族ジカルボン
酸とビスフェノールを高温溶融状態で反応させる溶融重
合法、芳香族ジカルボン酸ジクロライドとビスフェノー
ルを脱酸剤としてのアミンの存在下に有機溶剤中で反応
させる溶液重合法、芳香族ジカルボン酸ジクロライドと
ビスフェノールとを互いに相溶しない２種の溶媒に溶解
した後、アルカリの存在下で２液を混合攪拌して、その
界面で重縮合反応を行なわせる界面重合法があり、いず
れの方法でも、採用することができるが、これらの中で
着色、異物、高重合度及びTgの点から界面重合法が好ま
しい。
また本発明でいう「複屈折」とは、物質に入射した光
が、互いに垂直な振動方向をもつ２つの光波に分かれる
現象である。
が、互いに垂直な振動方向をもつ２つの光波に分かれる
現象である。
厚さｄ、復屈折n2−n1なるシートに波長λなる光が入
射したとき、シート内において、速い方の光の波長をλ
１、遅い方の光の波長をλ２とすると、遅い方の光がシ
ートを出て、早い方の光に遅れる量をレターデーション
と呼び、次の式で表わし、この度合Ｒを複屈折値とす
る。
射したとき、シート内において、速い方の光の波長をλ
１、遅い方の光の波長をλ２とすると、遅い方の光がシ
ートを出て、早い方の光に遅れる量をレターデーション
と呼び、次の式で表わし、この度合Ｒを複屈折値とす
る。
Ｒ＝λ（d/λ２−d/λ１） ＝ｄ（λ／λ２−λ／λ１） ＝ｄ（n2−n1） この複屈折値は、例えば日本光学工業（株）の偏光顕
微鏡（OPTIPHOT−POL型）を使用し、セナルモンコンペ
ンセーター法で測定することができ、本発明において
は、複屈折値は、50nm以下、好ましくは20nm以下、さら
に好ましくは10nm以下である。
微鏡（OPTIPHOT−POL型）を使用し、セナルモンコンペ
ンセーター法で測定することができ、本発明において
は、複屈折値は、50nm以下、好ましくは20nm以下、さら
に好ましくは10nm以下である。
複屈折が50nm以上のフイルムを、例えば、２枚の偏光
板の間に設置された液晶セル部に使用すると、各波長に
おける位相差（複屈折率×フイルム厚さの積）に応じた
着色が生じ、液晶画像が極めて不鮮明となり、実用的に
は使用できない。
板の間に設置された液晶セル部に使用すると、各波長に
おける位相差（複屈折率×フイルム厚さの積）に応じた
着色が生じ、液晶画像が極めて不鮮明となり、実用的に
は使用できない。
さらに、本発明における芳香族ポリエステル系樹脂フ
イルムは、以下に特定する工程を経ることにより、はじ
めて得られるフイルムである。すなわち、 （１） 予熱工程 上記フイルムを〔ガラス転移温度（以下「Tg」とい
う）＋10〕℃、好ましくは（Tg＋20）℃、さらに好まし
くは（Tg＋35）℃以上に、１分間好ましくは２分間、さ
らに好ましくは３分間以上、予熱する工程である。
イルムは、以下に特定する工程を経ることにより、はじ
めて得られるフイルムである。すなわち、 （１） 予熱工程 上記フイルムを〔ガラス転移温度（以下「Tg」とい
う）＋10〕℃、好ましくは（Tg＋20）℃、さらに好まし
くは（Tg＋35）℃以上に、１分間好ましくは２分間、さ
らに好ましくは３分間以上、予熱する工程である。
（２） 冷却工程（徐冷工程） 前記予熱工程で予熱されたフイルムを、（１〜0.01）
℃／秒、好ましくは（0.8〜0.05）℃／秒、さらに好ま
しくは（0.5〜0.1）℃／秒の冷却速度で、（Tg−15）℃
まで、好ましくは（Tg−65）℃まで、さらに好ましくは
（Tg−100℃まで徐冷する工程であるこの工程を特に
「徐冷工程」という。
℃／秒、好ましくは（0.8〜0.05）℃／秒、さらに好ま
しくは（0.5〜0.1）℃／秒の冷却速度で、（Tg−15）℃
まで、好ましくは（Tg−65）℃まで、さらに好ましくは
（Tg−100℃まで徐冷する工程であるこの工程を特に
「徐冷工程」という。
このように、上記のような冷却工程を経ることによっ
て、はじめて複屈折性に優れたフイルムを得ることがで
きるのである。
て、はじめて複屈折性に優れたフイルムを得ることがで
きるのである。
また上記予熱工程に供せられる芳香族ポリエステル系
樹脂フイルム原反は、溶剤流延法により作製される。溶
剤流延法で使用される溶媒としては、特に制限されるも
のではないが、一般的には、例えば塩化メチレン、1,1,
2,2−テトラクロルエタン、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ジメチルホルムアルデヒド、ジメチルアセトホ
ルムアルデヒドおよびトルエン等が使用され、中でも塩
化メチレンおよび1,1,2,2−テトラクロルエタンが好ま
しい。
樹脂フイルム原反は、溶剤流延法により作製される。溶
剤流延法で使用される溶媒としては、特に制限されるも
のではないが、一般的には、例えば塩化メチレン、1,1,
2,2−テトラクロルエタン、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ジメチルホルムアルデヒド、ジメチルアセトホ
ルムアルデヒドおよびトルエン等が使用され、中でも塩
化メチレンおよび1,1,2,2−テトラクロルエタンが好ま
しい。
本発明で得られる芳香族ポリエステル系樹脂フイルム
の膜厚は特に制限されるものではないが、一般的には１
〜500μ、好ましくは10〜200μ、さらに好ましくは25〜
100μである。
の膜厚は特に制限されるものではないが、一般的には１
〜500μ、好ましくは10〜200μ、さらに好ましくは25〜
100μである。
以上のとおり、本発明によって得られた芳香族ポリエ
ステル系樹脂フイルムは、軽量で、機械的強度も大き
く、透明性、耐熱性、寸法安定性及び電気絶縁性に優
れ、かつ複屈折性に優れた全く新規なフイルムであり、
業界に寄与する所、極めて大である。
ステル系樹脂フイルムは、軽量で、機械的強度も大き
く、透明性、耐熱性、寸法安定性及び電気絶縁性に優
れ、かつ複屈折性に優れた全く新規なフイルムであり、
業界に寄与する所、極めて大である。
以下実施例により、さらに詳細に説明する。
実施例１ テレフタル酸ジクロライドとイソフタル酸ジクロライ
ドのモル比が9:1である混合酸クロライドの塩化メチレ
ン溶液とビスフェノールＡと3,3,′5,5′−テトラメチ
ルビスフェノールＦのモル比が2:1のアルカリ水溶液よ
り界面重合法にてMw7.0万、Tg215℃のポレアリレート樹
脂を得た。
ドのモル比が9:1である混合酸クロライドの塩化メチレ
ン溶液とビスフェノールＡと3,3,′5,5′−テトラメチ
ルビスフェノールＦのモル比が2:1のアルカリ水溶液よ
り界面重合法にてMw7.0万、Tg215℃のポレアリレート樹
脂を得た。
この樹脂より成る塩化メチレン溶液（15wt％）のドー
プを作成した。
プを作成した。
これをフイルム流延設備にて乾燥し（40℃0.5分、60
℃１分）、更にテンター設備にて、両面乾燥（150℃１
分、230℃５分）及び熱固定（250℃３分）を行い、約75
μ厚さ、1100mm幅の絶乾ポリアリレートフイルム（Ａ）
を得た。
℃１分）、更にテンター設備にて、両面乾燥（150℃１
分、230℃５分）及び熱固定（250℃３分）を行い、約75
μ厚さ、1100mm幅の絶乾ポリアリレートフイルム（Ａ）
を得た。
次いでこのフイルムを、クリップ間隔1050mmの連続フ
イルム熱処理装置（クリップテンター）にて250℃３分
間予熱し、次に250℃から200℃まで連続的に３分間徐冷
した。このフイルムを複屈折は3nmであった。
イルム熱処理装置（クリップテンター）にて250℃３分
間予熱し、次に250℃から200℃まで連続的に３分間徐冷
した。このフイルムを複屈折は3nmであった。
比較例１ 比較例１は実施例１と全く同様にして約75μ厚さ、11
00mm幅の絶乾フイルム（Ａ）を得た。
00mm幅の絶乾フイルム（Ａ）を得た。
次いで、このフイルムをクリップ間隔1050mmの連続熱
処理装置（クリップテンター）にて250℃３分間予熱
し、次に250℃から200℃まで連続的に10秒間急冷した。
このフイルムの複屈折は80nmであった。
処理装置（クリップテンター）にて250℃３分間予熱
し、次に250℃から200℃まで連続的に10秒間急冷した。
このフイルムの複屈折は80nmであった。
以上、実施例１および比較例１で得られた芳香族ポリ
エステル系樹脂のTgと予熱、冷却条件、さらには、フイ
ルム複屈折を第１表にまとめて表示した。
エステル系樹脂のTgと予熱、冷却条件、さらには、フイ
ルム複屈折を第１表にまとめて表示した。
第１表から判るとおり、本発明により得られたフイル
ムは、複屈折性において、極めて優れたフイルムである
ことが判る。
ムは、複屈折性において、極めて優れたフイルムである
ことが判る。
尚ここでTgとは、ガラス転移温度であり、一次の熱力
学的導関数を温度に対してプロットしたとき、不連続が
起こる温度であり、密度、比容積、比熱、音響系数、ま
たは屈折率の関係より求まる。
学的導関数を温度に対してプロットしたとき、不連続が
起こる温度であり、密度、比容積、比熱、音響系数、ま
たは屈折率の関係より求まる。
また物性の測定および評価方法は、以下の方法により
行った値を用いた。
行った値を用いた。
（１） ガラス転位温度（Tg） パーキンエルマー社製のDSC（示差走査熱量計）II型
を用いて測定した。すなわち、試料ポリマー10mgをDSC
装置にセットし、この試料を室温より10℃／分で昇温
し、ガラス転移点を測定した。
を用いて測定した。すなわち、試料ポリマー10mgをDSC
装置にセットし、この試料を室温より10℃／分で昇温
し、ガラス転移点を測定した。
（２） 複屈折 日本光学工業（株）の偏光顕微鏡（OPTIPHOT−POL
型）を使用し、セナルモンコンペンセーター法にて測定
した。
型）を使用し、セナルモンコンペンセーター法にて測定
した。
（３） 寸法安定性 島津製作所（株）製熱応力歪測定装置（TMA）TSA−30
型を用いて180℃×30分の寸法安定性を下記のようにし
て評価を行なった。
型を用いて180℃×30分の寸法安定性を下記のようにし
て評価を行なった。
応力歪変化率0.1％未満…………………○ 0.1％を超えるもの……×
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ２９Ｋ 67:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｃ０８Ｌ 67:03 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B29C 41/00 - 41/52 C08J 5/18 B29C 47/00 - 47/96 B29C 55/00 - 55/30 B29C 71/00 - 71/04 C08G 63/00 - 63/91 C08L 67/00 - 67/08
Claims (3)
- 【請求項１】下式（Ｉ）で表される芳香族ポリエステル
系樹脂を主成分として含有する溶剤流延法により得たフ
イルム原反を、前記芳香族ポリエステル系樹脂のガラス
転移温度（Tg）より10℃以上高温で熱処理した後、少な
くとも（Tg＋10）℃から（Tg−15）℃の温度範囲におい
て、冷却速度ろ１℃／秒から0.01℃／秒の範囲内に制御
して冷却することにより作製した、複屈折値が50nm以下
である芳香族ポリエステル系樹脂フイルム。 〔式（Ｉ）中、Ｘは置換基を有することある炭素数１〜
10の２価の炭化水素基、−Ｏ−、−Ｓ−、−SO2−及び
−CO−から選ばれた２価基;R及びＲ′は、各独立して、
置換基を有することある炭素数１〜20のアルキル基、置
換基を有することあるアリル基、置換基を有することあ
るアラルキル基、置換基を有することあるアルコキシル
基、置換基を有することあるアリロキシル基、置換基を
有することあるアリルアルコキシル基及びハロゲン原子
から選ばれた１種又は２種以上の１価基;p及びｑは０又
は自然数であり、ｐ＋ｑ＝０〜4;m及びｎは０又は１で
ある（但し、ｍ＝１のとき、ｎ≠０）。〕 - 【請求項２】複屈折値が20nm以下である請求項１記載の
芳香族ポリエステル系樹脂フイルム。 - 【請求項３】下式（Ｉ）で表される芳香族ポリエステル
系樹脂を主成分として含有する溶剤流延法により得たフ
イルム原反を、前記芳香族ポリエステル系樹脂のガラス
転移温度（Tg）より10℃以上高温で熱処理した後、少な
くとも（Tg＋10）℃から（Tg−15）℃の温度範囲におい
て、冷却速度を１℃／秒から0.01℃／秒の範囲内に制御
して冷却することを特徴とする芳香族ポリエステル系樹
脂フイルムの製造方法。 〔式（Ｉ）中、Ｘは置換基を有することある炭素数１〜
10の２価の炭化水素基、−Ｏ−、−Ｓ−、−SO2−及び
−CO−から選ばれた２価基;R及びＲ′は、各独立して、
置換基を有することある炭素数１〜20のアルキル基、置
換基を有することあるアリル基、置換基を有することあ
るアラルキル基、置換基を有することあるアルコキシル
基、置換基を有することあるアリロキシル基、置換基を
有することあるアリルアルコキシル基及びハロゲン原子
から選ばれた１種又は２種以上の１価基;p及びｑは０又
は自然数であり、ｐ＋ｑ＝０〜4;m及びｎは０又は１で
ある（但し、ｍ＝１のときｎ≠０）。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24798289A JP2912641B2 (ja) | 1989-09-26 | 1989-09-26 | 芳香族ポリエステル系樹脂フイルム及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24798289A JP2912641B2 (ja) | 1989-09-26 | 1989-09-26 | 芳香族ポリエステル系樹脂フイルム及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03114712A JPH03114712A (ja) | 1991-05-15 |
| JP2912641B2 true JP2912641B2 (ja) | 1999-06-28 |
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ID=17171438
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24798289A Expired - Fee Related JP2912641B2 (ja) | 1989-09-26 | 1989-09-26 | 芳香族ポリエステル系樹脂フイルム及びその製造方法 |
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Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001026636A (ja) * | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Unitika Ltd | 被膜形成用樹脂及びそれから得られる塗工液 |
| JP2008169384A (ja) * | 2006-12-14 | 2008-07-24 | Kaneka Corp | コーティング用樹脂、光学補償用薄膜、光学補償用積層体、光学補償用偏光板、及び液晶表示装置。 |
-
1989
- 1989-09-26 JP JP24798289A patent/JP2912641B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03114712A (ja) | 1991-05-15 |
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