JP2912509B2

JP2912509B2 - 高温加熱用調理機器の調理面構造およびその製造方法

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Publication number: JP2912509B2
Application number: JP30398292A
Authority: JP
Inventors: 暢茂洗
Original assignee: Consejo Superior de Investigaciones Cientificas CSIC
Current assignee: Consejo Superior de Investigaciones Cientificas CSIC
Priority date: 1992-11-13
Filing date: 1992-11-13
Publication date: 1999-06-28
Anticipated expiration: 2014-06-28
Also published as: JPH06145946A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、高温加熱用調理機器の
調理面構造およびその製造方法に関し、特に、高温度で
食品を調理しても、食品の焦げつきの少ない、また、食
品の焦げつき跡の目立たない、高温加熱用調理機器の調
理面構造およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ホットプレート、電気鍋、フライパンな
どの調理面に、フッ素樹脂層等の非粘着性トップコート
層を有する高温加熱用調理機器の調理面構造には、種々
の調理面構造が知られている。

【０００３】図７は、ホットプレートを概略的に示す断
面図である。図７を参照して、このホットプレート２５
は、プレート側面２７と、プレート底面２８を有する。
金属素材２０の内表面２６には、高温加熱用調理機器の
調理面構造２２が形成されている。

【０００４】次に、従来の高温加熱用調理機器の調理面
構造２２の構造を、さらに詳細に説明する。

【０００５】図８は、従来の高温加熱用調理機器の調理
面構造を概略的に示す断面図である。図８を参照して、
この高温加熱用調理機器の調理面構造２２は、たとえ
ば、アルミニウム合金ダイキャスト成形品等の金属素材
２０の調理面とすべき表面をサンドブラスト等で面荒し
し、面荒しがされた調理面とすべき表面２０ｓ上にプラ
ズマ溶射によりぱらぱらと分散溶射付着させたアルミナ
系のセラミックス溶射層２３と、アルミナ系のセラミッ
クス溶射層２３の表面を覆うフッ素樹脂層２４を備え
る。

【０００６】ところで、上述の従来技術に関して、本出
願人は、特公昭６０−２０７３２号公報において、素地
の面荒しとセラミック溶射を行なう、調理機器における
調理面構造の形成方法を開示している。この方法により
形成される調理機器の調理面構造について、さらに詳細
に説明する。

【０００７】図９を参照して、この調理機器の調理面構
造３２は、以下の点を除き、図８に示す調理機器の調理
面構造２２と同様であるので、相当する部分について
は、同一の参照符号を付し、その説明を省略する。

【０００８】この調理機器の調理面構造３２は、溶射処
理により形成されたセラミック溶射層２３の開口部を封
口するために、浸透性のよい耐熱樹脂塗料層３３を有す
る。

【０００９】また、セラミックス溶射層２３と耐熱樹脂
塗料層３３の表面を覆うようにプライマ層３５が設けら
れ、プライマ層３５の表面を覆うようにフッ素樹脂層２
４が設けられる。なお、このプライマ層３５は、セラミ
ックス溶射層２３と、フッ素樹脂層２４との密着性をよ
くする下塗り塗料で形成される。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
高温加熱用調理機器の調理面構造では、調理面が２００
℃前後になると、フッ素樹脂層が軟化し、非粘着面が削
られて、剥離したりして、セラミック溶射層が、調理面
の表面に露出するという問題があった、従来の高温加熱
用調理機器の調理面構造では、最上層のフッ素樹脂層
が、金属へら等でこすられると、金属へらとフッ素樹脂
層との接触面積が大きいという理由により、フッ素樹脂
層が剥離したりした。本出願人は、本願発明に関連する
技術として、特願平３−２７１２５４において、金属へ
らに対する摩耗耐久性が向上するように改良された高温
加熱用調理機器の調理面構造を開示している。

【００１１】特願平３−２７１２５４に記載される調理
機器の調理面構造について、さらに詳細に説明する。図
１０は、特願平３−２７１２５４に記載される高温加熱
用調理機器の調理面構造４２の一実施例を概略的に示す
断面図である。図１１は、金属素材（母材）の表面の概
念図である。図１０および図１１を参照して、金属素材
２０の表面に、凸部である山６の高さＨが１０〜６０μ
ｍ、山６のピッチＤが５０〜４００μｍである凹凸面２
０ｓが形成されている。山６の高さＨは、谷７の底から
山６の頂上までの垂直方向の距離である。

【００１２】凹凸面２０ｓを覆うように、１０μｍ以上
の厚みを有する硬質無機質層２３が形成されている。硬
質無機質層２３の上に、厚み１０±５μｍを有するポリ
シロキサン系プライマ層３５が設けられ、その上に、１
０〜３０μｍの厚みを有するフッ素樹脂層２４が設けら
れている。次に、図１０および図１２を参照して、上述
の構造を有する調理面構造の製造方法について説明す
る。図１２は、図１０に示す調理面構造の拡大図であ
る。尚、図１１では、説明を容易とするためプライマ層
３５を含んでいない調理面構造を示す。

【００１３】図１０に示す調理面構造を形成するために
は、まず、金属素材２０の表面２０ｓに凹凸のある山６
と谷７を形成する必要がある。このような凹凸は、通常
行なう粒度＃５０〜１５０のサンドブラストではなく、
ジェットタガネ（２〜４ｍｍφ）で、エア圧力６〜８Ｋ
ｇ／ｃｍ²で、２〜３分実施して形成される。これによ
り、砂型鋳物肌の凹凸に近い模様が形成される。さら
に、粒度＃１０〜２０のブラストで、エア圧力６〜１０
Ｋｇ／ｃｍ²で２〜３分実施することにより、図１２を
参照して、粗面化と溶射皮膜の密着性を確保させた粗面
Ｚが得られる。

【００１４】次に、プラズマ溶射装置を用いて、Ａｌ₂
Ｏ₃−ＴｉＯ₂のセラミック溶射材で、ガン距離８０〜
１００ｍｍ、流量３０〜４０ｇ／ｍｉｎ、使用ガスにア
ルゴンと水素を用いた条件で、膜厚Ｂが１０μｍ以上に
なるように仕上げられたセラミック溶射層２３を形成す
る。セラミック溶射層２３の表面粗さは、図１２を参照
して、粗面Ｙのように、表面粗さがＲａ＝２０±１０μ
ｍ（中心線平均粗さ）になるようにされる。次に、粗面
Ｙを有するセラミック溶射層２３の上に、非粘着樹脂層
２４を形成する。非粘着樹脂層２４は、厚みＡが１０μ
ｍ〜３０μｍ好ましくは、１０μｍ〜１５μｍに仕上が
るように、ディスパージョン型の四フッ化エチレン樹脂
塗料（公知の市販塗料）を吹付けて、３８０℃〜４２０
℃で、２０分の焼成で硬化させることにより、形成され
る。非粘着樹脂層２４とセラミックス溶射層２３との密
着性をよくするために、セラミックス溶射層２３の上に
プライマ層３５（図１０に示すプライマ層３５）を薄く
（約５〜１０μｍ）塗布し、９０℃〜１２０℃で、１０
分間強制乾燥するという工程を加えてもよい。

【００１５】このように構成された、金属素材２０の粗
面Ｚ、厚み１０μｍ以上のセラミックス溶射層２３とそ
の粗面Ｙ、および厚み１０〜３０μｍの非粘着樹脂層２
４とその粗面Ｘとを含む調理面構造を、図７に示すホッ
トプレートの調理面にした。ホットプレート２５の内表
面２６の側面２７は、調理面ではないため、金属へらで
こする機械がない。それゆえに、側面２７においては、
セラミックス溶射層の厚みＢを１０μｍ以上、フッ素コ
ートの厚みＡを１０〜３０μｍにするという条件は不要
である。側面２７の内面は、セラミックス溶射層が散布
程度、フッ素樹脂層の膜厚Ａが２０〜４０μｍになるよ
うに、すなわち、金属へらでこすると若干傷の付く被膜
構成になっている。

【００１６】以上のように構成されるホットプレート
は、金属へらに対する摩耗耐久性が向上しており、調理
工程において、食品の調理時の手さばきとカット作業
で、切れのよい、素早い作業が可能となり、おいしい調
理ができる。なお、図１０を参照して、セラミック溶射
層２３とフッ素樹脂層２４との間に設けられたプライマ
層３５の代わりに、ポリチタノカルボシランをバインダ
にしたセラミックス顔料を混合配合した塗料を１０±５
μｍになるように仕上げると、耐摩耗性および金属へら
に対する摩耗耐久性が大幅に向上する。

【００１７】しかしながら、特願平３−２７１２５４に
記載される高温加熱用調理機器の調理面構造であって
も、耐食品焦げつき汚染の耐熱性は、最大２７０℃まで
であり、３００℃以上、たとえば、３５０℃程度で、ス
テーキ、野菜炒め、目玉焼き等の調理を行なうと、それ
らが調理面に焦げついたり、焦げつきが原因して、しみ
汚染を起こし、その結果、高温加熱用調理機器の調理面
が見苦しくなり、また、利用価値のない調理面となると
いう問題があった。

【００１８】図１３は、従来の高温加熱用調理機器の調
理面構造の断面を示す走査型電子顕微鏡による５００倍
のＳＥＭ写真の模式図である。図１３を参照して、この
高温加熱用調理機器の調理面構造４２の断面は、たとえ
ば、アルミニウム地金からなる調理面を構成する金属素
材２０の調理面とすべき表面２０ｓ上に設けられ、プラ
ズマ溶射等により形成された、Ａｌ₂Ｏ₃とＴｉＯ₂と
からなる硬質無機質層２３と、硬質無機質層２３の表面
２３ｓを覆うように設けられたフッ素樹脂層２４を含
む。硬質無機質層２３は、プラズマ溶射等により形成さ
れた溶射層であるため、不可避的に多孔質（ポーラス
質）層となり、多数の球状の気孔５０や、線状の気孔５
１を有する。なお、これらの気孔５０、５１は、開孔さ
れているものが多い。また、この硬質無機質層２３の表
面２３ｓには凹凸形状が多数ある。

【００１９】図１４は、図１３に示す硬質無機質層２３
の断面を示す５０００倍のＳＥＭ写真の模式図である。
図１４を参照して、プラズマ溶射等により形成された硬
質無機質層２３は、大きな概ね球状の気孔５０や、概ね
線状の気孔５１を有する。そしてこれらの気孔５０、５
１は、開孔されているものが多い。

【００２０】図１０を参照して、特願平３−２７１２５
４に記載される高温加熱用調理機器の調理面構造を有し
ていても、使用によるフッ素樹脂層２４のはがれや、傷
等はまぬがれ得ず、特に、調理面が３００℃以上に加熱
されると、フッ素樹脂層２４が軟化し、傷等が付きやす
くなり、その結果、硬質無機質層２３の表面が、調理面
に露出する。そして、上記したように、従来の硬質無機
質層２３は多孔質（ポーラス質）であるため、調理面に
露出した硬質無機質層２３に食品の焦げ等が付着する
と、焦げ等が、硬質無機質層２３の気孔へ侵入し、その
結果、調理面に焦げつきを生じたり、しみ汚染を形成し
たりした。また、硬質無機質層２３の表面の凹凸部には
食品が付着しやすく、焦げつきの原因となる。このた
め、従来の高温加熱用調理機器の調理面構造を有する高
温加熱用調理機器では、３００℃以上で食品を調理する
と、調理面に焦げつきやしみ汚染を生じる結果、見苦し
い利用価値のない調理面となるという問題があった。

【００２１】本発明は、以上のような問題を解決するた
めになされたものであって、特に、３００℃以上、たと
えば、３５０℃程度の高温調理を行なっても、調理面が
食品等により焦げついたり、また、しみ汚染を生じたり
することのない高温加熱用調理機器の調理面構造および
その製造方法を提供することを目的とする。

【００２２】

【課題を解決するための手段】本発明に従う高温加熱用
調理機器の調理面構造は、調理面を構成する金属素材上
に形成され、金属素材の調理面とすべき表面を少なくと
も覆うように設けられ、かつ、ゾルゲル塗料を該表面に
塗布することにより形成された金属酸化物を主成分とす
る硬質無機質層と、硬質無機質層の表面を覆うように設
けられたフッ素樹脂層とを備える。

【００２３】本発明で用いるゾルゲル塗料は、好ましく
は、少なくとも２種類の金属アルコキシド化合物と金属
酸化物粒子とを含む。

【００２４】また、本発明に従う高温加熱用調理機器の
調理面構造の製造方法は、金属素材の調理面とすべき表
面を少なくとも覆うように、ゾルゲル塗料を塗布する工
程と、金属素材の調理面とすべき表面を少なくとも覆う
ように塗布されたゾルゲル塗料を加水分解させることに
より、金属素材の調理面とすべき表面を少なくとも覆う
金属酸化物を主成分とする硬質無機質層を形成する工程
と、硬質無機質層の表面を覆う非粘着性樹脂層を形成す
る工程とを備える。

【００２５】なお、本明細書において、「金属」という
用語は、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、亜鉛
（Ｚｎ）、ジルコニウム（Ｚｒ）等の金属の他、硅素
（Ｓｉ）等の半金属類を含む。

【００２６】また、本明細書において、「ゾルゲル塗
料」という用語は、含水酸化物ゾルを脱水処理してゲル
とし、このゲルを加熱して無機酸化物をある一定の形
状、または、基板状の被膜として、調製するための塗料
をいう。

【００２７】

【作用】本発明に係る高温加熱用調理機器の調理面構造
によれば、硬質無機質層が、プラズマ溶射等の溶射層で
はなく、ゾルゲル塗料を加水分解することにより形成さ
れた金属酸化物を主成分とする硬質無機質層で形成され
ている。

【００２８】プラズマ溶射等の溶射により形成される溶
射層は不可避的に多孔質（ポーラス質）層となるため、
気孔等に食品の焦げ等が侵入し、焦げつきや、しみ汚染
の原因となる。

【００２９】また、プラズマ溶射等の溶射により形成さ
れる溶射層の表面は、凹凸形状を多数有するため、食品
の焦げつき等の原因となる。

【００３０】他方、本発明では、硬質無機質層をゾルゲ
ル塗料を用いて形成している。金属素材の調理面とすべ
き表面を少なくとも覆うようにゾルゲル塗料を塗布する
際、ゾルゲル塗料は、ゾル状態であるため、金属素材の
調理面とすべき表面を少なくとも覆うように形成された
ゾルゲル塗料からなるゾルゲル塗料コート層の表面は平
滑であり、このゾルゲル塗料を加水分解させることによ
り形成される金属酸化物を主成分とする硬質無機質層の
表面も平滑である。

【００３１】したがって、フッ素樹脂層の傷等より、食
品が本発明に従って形成された硬質無機質層に接触して
も、本発明に従って形成される硬質無機質層は、その表
面が平滑であるため、食品の焦げつきを生じにくい。

【００３２】また、ゾルゲル塗料を加水分解することに
より形成される金属酸化物を主成分とする硬質無機質層
は、プラズマ溶射等の溶射により形成される溶射層に比
べ、気孔の少ない緻密な硬質無機質層となる。またその
ような気孔も封孔されているものが多い。

【００３３】したがって、フッ素樹脂層の傷等より、食
品の焦げ等が本発明に従って形成された硬質無機質層に
接触しても、本発明に従って形成される硬質無機質層
は、気孔の少ない緻密な硬質無機質層であるため、焦げ
等が、硬質無機質層の深さ方向に侵入しにくいため、食
品の焦げつきや、しみ汚染を生じにくい。

【００３４】

【実施例】この発明の一実施例を図１〜図５を参照しな
がら、以下に説明する。

【００３５】図１は、本発明が適用されたホットプレー
トの断面図である。ホットプレート１５は、プレート側
面１７と、プレート底面１８とからなる。金属素材１０
の内表面１６に、金属へらが使え、３００℃〜３５０℃
の高温で調理しても、焦げつきや、しみ汚染を起こさな
い調理面構造１２が形成されている。

【００３６】次に、金属へらが使え、３００℃〜３５０
℃の高温で調理しても、焦げつきや、しみ汚染を起こさ
ない調理面構造１２について、さらに詳細に説明する。

【００３７】図２は、本発明の一実施例に係る、高温加
熱用調理機器の調理面構造の断面図である。図３は、金
属素材（母材）の表面の概念図である。図２および図３
を参照して、金属素材１０の表面に、凸部である山６の
高さＨが１０〜６０μｍ、山６のピッチＤが５０〜４０
０μｍである凹凸面１０ｓが形成されている。山６の高
さＨは、谷７の底から山６の頂上までの垂直方向の距離
である。

【００３８】凹凸面１０ｓを覆うように、１０μｍ以上
の厚みを有する、ゾルゲル塗料を加水分解して形成され
た金属酸化物を主成分とする硬質無機層、すなわち硬
質、緻密な非晶質無機質層３が形成されている。硬質、
緻密な非晶質無機質層３の上に、厚み１０±５μｍを有
するポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）や、ポリフェニ
レンスルファイド（ＰＰＳ）系の変性フッ素樹脂塗料か
らなるプライマ層５が設けられ、その上に、１０〜３０
μｍの厚みを有するフッ素樹脂からなる非粘着性樹脂層
４が設けられている。

【００３９】次に、図２および図４を参照して、上述の
構造を有する調理面構造の製造方法について説明する。
図４は、図２に示す調理面構造の拡大図である。図２に
示す調理面構造を形成するためには、まず、金属素材１
０の表面１０ｓに凹凸のある山６と谷７を形成する必要
がある。このような凹凸は、通常行なう粒度＃５０−１
５０のサンドブラストではなく、ジェットタガネ（２〜
４ｍｍφ）で、エア圧力６〜８Ｋｇ／ｃｍ²で、２〜３
分実施して形成される。これにより、砂型鋳物肌の凹凸
に近い模様が形成される。一方、金属素材１０を形成す
る折に、たとえば、金属素材１０が、アルミニウムダイ
キャスト成形品から製作するときには、ダイキャスト金
型に調理面に相当する部分を、予め、エンボス加工を施
した金型にしておいて、アルミニウムダイキャスト成形
加工時に、図１を参照して、上記金属素材の調理面とな
る内表面１６に凹凸模様を形成する。

【００４０】図２および図４を再び参照して、さらに、
粒度＃１０〜２０の粒度のブラストで、エア圧力６〜１
０Ｋｇ／ｃｍ²で２〜３分実施することにより、図４を
参照して、粗面化とゾルゲル塗料を加水分解して形成さ
れた金属酸化物を主成分とする非晶質無機質層、即ち、
硬質、緻密な非晶質無機質層３との密着性を確保する粗
面Ｚが得られる。なお、この粗面Ｚを形成する工程は、
特願平３−２７１２５４記載の高温加熱用調理機器の調
理面構造の形成工程と同一である。

【００４１】次に、塗装装置を用いて、表１にその塑性
を示すＳｉＯ₂系のゾルゲル塗料を粗面Ｚに吹付けて、
１２０℃〜２００℃で、１０〜２０分間焼付けを行なっ
て、膜厚Ｂが１０μｍ以上になるように仕上げられた、
ゾルゲル塗料を加水分解して形成された金属酸化物を主
成分とする、硬質、緻密な非晶質無機質層３を形成す
る。

【００４２】

【表１】

【００４３】この硬質、緻密な非晶質無機質層３の表面
粗さは、図４を参照して、粗面Ｙのように、粗面粗さが
Ｒａ＝２０±１０μｍ（中心線平均粗さ）になるように
される。次に、粗面Ｙを有する硬質、緻密な非晶質無機
質層３の上に、非粘着樹脂層４を形成する。非粘着樹脂
層４は、厚みＡが１０〜３０μｍ好ましくは１０〜１５
μｍに仕上がるように、ディスパージョン型の四フッ化
エチレン樹脂塗料（公知の市販塗料）を吹付けて、３８
０℃〜４２０℃で、２０分間の焼成で硬化させることに
より、形成される。非粘着樹脂層４と、硬質、緻密非晶
質系無機質層３の密着性をよくするために、硬質、緻密
な非晶質無機質層３の上に図２および図４に示すように
プライマ層５を薄く（約５〜１０μｍ）塗布し、９０℃
〜１２０℃で、１０分間強制乾燥するという工程を加え
てもよい。

【００４４】このように構成された、金属素材１０の粗
面Ｚ、厚み１０μｍ以上の硬質、緻密な非晶質無機質層
３とその粗面Ｙ、および厚み１０〜３０μｍの非粘着樹
脂層４とその粗面Ｘとを含む調理面構造を、図１に示す
ホットプレートの調理面にした。ホットプレート１５の
内表面１６の側面１７は、調理面でないため、金属へら
でこする機会がない。それゆえに、側面１７において
は、硬質、緻密な非晶質無機質層３の厚みＢを１０μｍ
以上、フッ素コートの厚みＡを１０〜３０μｍにすると
いう、条件は不要である。側面１７の内面は、硬質、緻
密な非晶質無機質層が散布程度、フッ素樹脂層の膜厚Ａ
が２０〜４０μｍになるように、すなわち、金属へらで
こすると若干傷の付く皮膜構成にした。

【００４５】図５は、本発明に従う一実施例としての高
温加熱用調理機器の調理面構造の断面を示す走査型電子
顕微鏡による５００倍のＳＥＭ写真の模式図である。図
５を参照して、この高温加熱用調理機器の調理面構造１
２の断面は、たとえば、アルミニウム地金からなる調理
面を構成する金属素材１０の調理面とすべき表面１０ｓ
上に設けられた、上述した表１にその塑性を示すＳｉＯ
₂系のゾルゲル塗料から形成されたＳｉＯ₂を主成分と
する硬質無機質層３と、硬質無機質層３の表面３Ｓを覆
うように設けられたフッ素樹脂層４を含む。図６は、図
５に示す硬質無機質層３の断面を示す５０００倍のＳＥ
Ｍ写真の模式図である。尚、図５および図６を参照し
て、この硬質無機質層３は、非晶質のＳｉＯ₂よりなる
ガラス質部分３１（図５中の黒斑点部分）と、黒色顔料
が分散してなる非晶質のＳｉＯ₂よりなるガラス質部分
３２（図５中の用紙の地色部分）を含む。図５および図
６より明らかなように、本発明に従って形成された硬質
無機質層３は、図１３および図１４に示す従来の硬質無
機質層２３に比較して、気孔がほとんど存在しない。

【００４６】したがって、本発明に従う高温加熱用調理
機器の調理面構造を有する高温加熱用調理機器は、３０
０℃以上の温度で食品を調理しても、フッ素樹脂層の傷
等を介して、硬質無機質層の表面に食品等が付着して
も、硬質無機質層３が気孔の少ない平滑かつ緻密な層で
あるため、食品の焦げ付きや、硬質無機質層３の内部へ
焦げ等が侵入しないため、しみ汚染等が生じにくい。

【００４７】なお、プラズマ溶射法等を用いてＳｉＯ₂
層を形成すると、このＳｉＯ₂層は、微粉末の粒子によ
り形成された層となる。このため、微粉末のＳｉＯ₂を
ガラス化するためには、約１０００℃程度の高温加熱が
必要であり、しかも、このように高温で形成される溶融
ＳｉＯ₂ガラスは、多孔質（ポーラス質）となる。

【００４８】なお、本実施例では、ゾルゲル塗料の組成
が適切に選ばれている。すなわち、表１に示すゾルゲル
塗料では、２成分の金属アルコキシド化合物、すなわ
ち、エチルシリケートとメチルトリメトキシシランを含
む。このように、２成分の金属アルコキシド化合物を用
いたゾルゲル塗料を同時に加水分解することにより形成
される金属酸化物を主成分とする硬質無機質層は非晶質
（アモルファス）層、すなわち、ガラス質となる。本実
施例では、非晶質（アモルファス）硬質無機質層を形成
しているため、この硬質無機質層は、硬く、また、高い
皮膜強度を有している。なお、主成分であるエチルシリ
ケートは、皮膜形成（バインダ）の役割をする成分であ
り、メチルトリメトキシシランは、エチルシリケートと
反応することによりシリカ網目を形成する補助的な成分
である。

【００４９】また、本実施例では、ゾルゲル塗料１００
重量部に対し、エチルシリケートを約１０〜２０重量部
用いている。エチルシリケートを約１０重量部以下の量
で用いると、ゾルゲル塗料の金属素材の表面に対する密
着性が劣り、また、エチルシリケートを２０重量部以上
の量で用いるとゾルゲル塗料の粘度が高くなり塗料とし
て用いることができない。

【００５０】また、本実施例では、ゾルゲル塗料１００
重量部に対し、メチルトリメトキシシランを約２０〜４
０重量部用いている。メチルトリメトキシシランを約２
０重量部以下の量で用いると、ゾルゲル塗料の加水分解
後に形成される金属酸化物を主成分とする硬質無機質層
の硬度が低下し好ましくなく、また、メチルトリメトキ
シシランを４０重量部以上用いると、ゾルゲル塗料が常
温でゾル状態からゲル状態へゲル化して、ゾルゲル塗料
の貯蔵安定性が低下する。

【００５１】また、表１に示すゾルゲル塗料の他の成分
であるコロイダルシリカは、充填剤としての機能を有す
る。また、このコロイダルシリカは、ゾルゲル塗料の加
水分解後に形成される硬質無機質層の可撓性を発揮する
成分である。また、このコロイダルシリカは、ゾルゲル
塗料のゾル状態における貯蔵安定性を確保する成分でも
ある。さらに、このコロイダルシリカは、ゾルゲル塗料
の加水分解後に形成される硬質無機質層の気孔や亀裂の
発生を防止する成分である。また、このコロイダルシリ
カは、本発明に従って形成される平滑かつ緻密な硬質無
機質層を膜厚に形成するために必要な成分である。すな
わち、ゾルゲル塗料中にコロイダルシリカを無添加の状
態で用いた場合は、硬質無機質層の厚さは、約１０^-4μ
ｍ〜数μｍ程度の膜厚を形成することができるが、この
膜厚では、金属素材の耐食性が確保できない。金属素材
の耐食性を確保するためには、硬質無機質層の厚さを約
２０〜３０μｍの膜厚で形成することが必要となる。こ
のような硬質無機質層の膜厚を得るためには、コロイダ
ルシリカは必要な成分である。

【００５２】また、本実施例では、ゾルゲル塗料１００
重量部に対し、コロイダルシリカを約１０〜２０重量部
用いている。コロイダルシリカを約１０重量部以下の量
で用いると、ゾルゲル塗料の加水分解後に形成される硬
質無機質層の可撓性が低下し好ましくなく、また、コロ
イダルシリカを２０重量部以上用いると、ゾルゲル塗料
の加水分解後に形成される硬質無機質層と、金属素材の
密着性が低下し好ましくない。

【００５３】また、本実施例に示すゾルゲル塗料では、
沈降防止剤を用いている。沈降防止剤としては、種々の
沈降防止剤を用いることができる。そのような沈降防止
剤としては、以下の場合に限定されることはないが、た
とえば、炭素数１９のジカルボン酸のメチルアミン塩お
よびオクチルアミン塩、脂肪酸の２量体のメチルアミン
塩、オクチルアミン塩、オレイルアミン塩、または、脂
肪酸の３量体のメチルアミン塩、オクチルアミン塩、オ
レイルアミン塩等を用いることができる。

【００５４】また、本実施例では酢酸を少量用いてい
る。ゾルゲル塗料の加水分解時の触媒として酸を使用す
ることにより、硬質無機質層の気孔の発生を低減するこ
とができる。本実施例では、酢酸を用いたが、酸であれ
ば、有機酸、無機酸を問わず用いることができる。その
ような無機酸としては、たとえば、塩酸等を用いること
ができる。

【００５５】本実施例の高温加熱用調理機器の調理面構
造によれば、金属へらに対する耐傷付き性および耐剥離
性を向上させることはもちろん、３００℃以上、たとえ
ば、３５０℃での食品調理においても耐焦げ付き性、耐
しみ付き汚染性を向上させるように、金属素材表面の凹
凸形状、金属素材の表面上に形成される硬質、緻密な非
晶質無機質層の厚みとその表面の凹凸形状、および、非
粘着性フッ素コートの厚みの３つの条件が適正に選ばれ
ている。

【００５６】すなわち、調理面となる金属素材表面に形
成される凹凸面は、その凸部である山の高さが１０〜６
０μｍ、かつ、山のピッチが５０〜４００μｍに選ばれ
ている。上記凹凸面を覆う硬質、緻密な非晶質無機質層
は、その膜厚が１０μｍ以上に選ばれている。さらに、
上記、硬質、緻密な非晶質無機質層の表面を覆うフッ素
樹脂層は、その厚みが１０〜３０μｍに選ばれている。
このように条件が選ばれることにより、金属へらに対す
る耐傷付き性および耐剥離性が向上し、３００℃から３
５０℃での食品調理においても耐焦げ付き性、耐しみ付
き汚染性が向上する。

【００５７】以上のように構成された実施例１に示すホ
ットプレートは、従来の技術と同様の金属へらに対する
摩耗耐久性を保持しながら、３００℃〜３５０℃の高温
調理を行なっても、調理食品の付着耐剥離性と、耐汚染
性、耐しみ付き性を確保しているので、調理工程におい
て、食品の調理時の手さばきとカット作業できれの良い
素早い作業が可能でありながら、さらに、高温調理によ
る味の向上と高速調理ができる。

【００５８】なお、上記実施例１では、平滑、緻密な硬
質無機質層として、表１にその組成を示すＳｉＯ₂系の
ゾルゲル塗料を用いた場合を例示したが、そのような平
滑で緻密な硬質無機質層としては、たとえば、ホーロー
仕上げのようなガラス質層であっても同様の効果を奏す
る。しかしながら、ホーロー仕上げをするには、高温処
理を必要とするため、たとえば、調理面を構成する金属
素材として、アルミニウム合金ダイキャスト等の融点の
低い金属素材を用いることはできない。

【００５９】また、平滑で緻密な硬質無機質層は、たと
えば、アルマイト仕上げしたγ−Ａｌ₂Ｏ₃・Ｈ₂Ｏ
（ベーマイト）等としてもよいが、アルミニウム合金ダ
イキャスト等（たとえば、ＪＩＳＡＤＣ１２等）の鋳
物には、アルマイト仕上げができず、アルマイト仕上げ
による効果は望めない。

【００６０】また、上記したように、プラズマ溶射等の
溶射手段で溶射物質を溶融して吹付ける方法や、粉体塗
装のように粉体を吹付けてから焼成によって溶融する方
法では、気孔の少ない緻密で平滑な硬質無機質層を形成
することができない。プラズマ溶射等の溶射手段や、粉
体塗装により形成された硬質無機質層の多孔質層（ポー
ラス層）の気孔を封孔し、緻密な層にするには高い溶融
温度、たとえば、約８００℃〜１０００℃、または、そ
れ以上の温度が必要となり、調理面構造を構成する金属
素材（母材）の耐熱性が問題となる。

【００６１】また、セラミック溶射法を用いて、厚さ約
３０μｍ〜６０μｍ程度の硬質無機質層を形成したが、
形成された硬質無機質層は多孔質層（ポーラス層）であ
った。

【００６２】低温で気孔の少ない、平滑で、緻密な硬質
無機質層を形成するには、ゾルゲル塗料のように液体塗
料を用いることが必要である。そして、ゾルゲル塗料を
用いれば、低温で、気孔の少ない、平滑で、緻密な硬質
無機質層を形成できるため、調理面を構成する金属素材
として、たとえば、アルミニウム合金ダイキャスト等
（たとえば、ＪＩＳＡＤＣ１２等）を用いた場合で
も、その調理面とすべき表面を少なくとも覆うように、
気孔の少ない、平滑で、緻密な硬質無機質層を形成する
ことができる。

【００６３】また、プラズマ溶射等の溶射により形成さ
れる硬質無機質層の色は、金属酸化物の色になるが、本
発明に従えば、ゾルゲル塗料のゾル中に、たとえば、Ｃ
ｏ−Ｆｅ−Ｍｎ系複合酸化物等の黒色無機質顔料を混入
することにより、硬質無機質層を容易に黒色とすること
ができる。したがって、フッ素樹脂層に傷やはがれを生
じ、硬質無機質層が露出しても、黒色等に着色すること
で、目立ちにくく、また、焦げ等の後や、しみ汚染等の
後も目立たない。

【００６４】実用テストにおける金属へらに対する摩耗
テストでは、特願平３−２７１２５４記載の技術と同
様、本発明のものは１万回行なっても、異常が認められ
ず、また、３００℃〜３５０℃における高温での牛ステ
ーキの調理、目玉焼きの調理、野菜傷めの調理からなる
１サイクルの調理テストを１０回繰返しても異常が認め
られなかった。

【００６５】一方、従来技術では、３００℃〜３５０℃
における高温での上記した調理サイクルテスト１回で食
品の焦げ付きと、調理面被膜のしみ跡が大幅に目立っ
て、見苦しい調理面皮膜となった。

【００６６】また、硬質無機質層と上記フッ素樹脂層と
の間に、厚み１０±５μｍを有するポリエーテルサルフ
ォン樹脂（ＰＥＳ）または、ポリフェニルスルファイド
樹脂（ＰＰＳ）系の変形フッ素樹脂塗料プライマ層を設
けてもよい。

【００６７】本実施例では、金属へらに対する耐摩耗性
を保持しながら、３００℃〜３５０℃の高温調理におい
ても焦げ等の汚染に耐える高温で強固な皮膜を有する高
温加熱用調理機器の調理面構造を形成することができ
た。その結果、混ぜる、切る、ひっくり返す等の調理食
品の加工作業が効率良くできることに加え、従来にない
早いスピードでおいしい調理、仕上げ外観のよい調理が
できるという効果を奏する。

【００６８】なお、本実施例では、表１に示すようにＳ
ｉＯ₂系のゾルゲル塗料を用いた例を示したが、本発明
に従う高温加熱用調理機器の調理面構造を製造する際に
用いるゾルゲル塗料としては、ＳｉＯ₂系のゾルゲル塗
料以外のゾルゲル塗料として、チタニア（ＴｉＯ₂）系
ゾルゲル塗料、ジルコニア（ＺｒＯ₂）系ゾルゲル塗料
や、アルミナ（Ａｌ₂Ｏ₃）系ゾルゲル塗料を好適に用
いることができる。

【００６９】チタニア（ＴｉＯ₂）系ゾルゲル塗料の主
成分としては、たとえば、チタンイソプロポキシド（Ｔ
ｉ（ＯＣ₃Ｈ₇）₄）、ジルコニア（ＺｒＯ₂）系ゾル
ゲル塗料の主成分としては、たとえば、ジルコニウムイ
ソプロポキシドのβ−ジケトン誘導体、またアルミナ
（Ａｌ₂Ｏ₃）系ゾルゲル塗料の主成分としては、たと
えば、アルミニウムイソプロポキシド（Ａｌ［ＯＣＨ
（ＣＨ₃）₂］₃）等を好適に用いることができる。

【００７０】

【発明の効果】本発明に従う高温加熱用調理機器の調理
面構造は、ゾルゲル塗料を調理面とすべき表面に塗布す
ることにより形成された金属酸化物を主成分とする硬質
無機質層を備えることを特徴としている。このゾルゲル
塗料塗布層より形成される硬質無機質層は、気孔の少な
い緻密な層であり、かつ、その表面は極めて平滑であ
る。そのため、３００℃以上の温度で食品を調理して
も、高温加熱用調理機器の調理面に焦げ付きや、しみ汚
染等が生じにくい。

【００７１】また、本発明に従う高温加熱用調理機器の
調理面構造の製造方法は、以上のように構成されている
ので、３００℃以上の温度で調理しても、高温加熱用調
理機器の調理面に焦げ付きや、しみ汚染等が生じにくい
高温加熱用調理機器の調理面構造を低温で製造すること
ができる。

【００７２】したがって、本発明に従う高温加熱用調理
機器の調理面構造の製造方法は、調理面を構成する金属
素材が高融点である場合に適用できるのはもちろんのこ
と、該金属素材がアルミニウム等の低融点である場合に
も適用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に従う一実施例としての高温加熱用調理
機器の調理面構造を有するホットプレートを概略的に示
す断面図である。

【図２】本発明の一実施例に係る高温加熱用調理機器の
調理面構造を概略的に示す断面図である。

【図３】本発明の一実施例に係る調理面構造の、金属素
材（母材）の凹凸面の定量方法を示した図である。

【図４】本発明に係る調理面構造を概略的に示す拡大断
面図である。

【図５】本発明に係る調理面構造の断面を示すＳＥＭ写
真の模式図である。

【図６】本発明に係る調理面構造の断面を示すＳＥＭ写
真の模式図である。

【図７】従来のホットプレートを概略的に示す断面図で
ある。

【図８】従来の高温加熱用調理機器の調理面構造を概略
的に示す断面図である。

【図９】特公昭６０−２０７３２号公報に従う高温加熱
用調理機器の調理面構造を概略的に示す断面図である。

【図１０】特願平３−２７１２５４に記載されている一
実施例に係る、高温加熱用調理機器の調理面構造の断面
図である。

【図１１】特願平３−２７１２５４に係る調理面構造
の、母材の凹凸面の定量方法を示した図である。

【図１２】特願平３−２７１２５４に記載される調理面
構造の拡大断面図である。

【図１３】従来の高温加熱用調理機器の調理面構造の断
面を示すＳＥＭ写真の模式図である。

【図１４】従来の高温加熱用調理機器の調理面構造の断
面を示すＳＥＭ写真の模式図である。

【符号の説明】

１０金属素材３硬質無機質層４非粘着性樹脂層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) A47J 36/02 F24C 7/02 C04B 41/85 C09D 1/00 - 1/12

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】調理面を構成する金属素材上に形成され
た調理面構造であって、前記金属素材の調理面とすべき表面を少なくとも覆うよ
うに設けられ、かつ、該表面に塗布することにより金属
酸化物を主成分とする硬質無機質層を形成するゾルゲル
塗料と、前記硬質無機質層の表面を覆うように設けられた非粘着
性樹脂層とを備える、高温加熱用調理機器の調理面構
造。
【請求項２】前記ゾルゲル塗料は、少なくとも、２種
類の金属アルコキシド化合物と、金属酸化物粒子とを含
む、請求項１記載の高温加熱用調理機器の調理面構造。
【請求項３】金属素材の調理面とすべき表面を少なく
とも覆うように、ゾルゲル塗料を塗布する工程と、前記金属素材の調理面とすべき表面を少なくとも覆うよ
うに塗布されたゾルゲル塗料を加水分解させることによ
り、前記金属素材の調理面とすべき表面を少なくとも覆
う金属酸化物を主成分とする硬質無機質層を形成する工
程と、前記硬質無機質層の表面を覆う非粘着性樹脂層を形成す
る工程とを備える、高温加熱用調理機器の調理面構造の
製造方法。