JP2763833B2 - 高温加熱用調理機器の調理面構造 - Google Patents
高温加熱用調理機器の調理面構造Info
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- JP2763833B2 JP2763833B2 JP3186169A JP18616991A JP2763833B2 JP 2763833 B2 JP2763833 B2 JP 2763833B2 JP 3186169 A JP3186169 A JP 3186169A JP 18616991 A JP18616991 A JP 18616991A JP 2763833 B2 JP2763833 B2 JP 2763833B2
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- cooking
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、一般的に、高温加熱
用調理機器の調理面構造に関するものであり、より特定
的には、金属ヘラに対する摩耗耐久性が向上するように
改良された、高温加熱用調理機器の調理面構造に関する
ものである。
用調理機器の調理面構造に関するものであり、より特定
的には、金属ヘラに対する摩耗耐久性が向上するように
改良された、高温加熱用調理機器の調理面構造に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】ホットプレート、電気鍋、フライパンな
どの調理面に被粘着性トップコートを施すために、従来
は、アルミニウム合金ダイキャスト成形品の調理面をサ
ンドブラスト等で面荒しを行ない、フッ素樹脂塗料の下
塗りと上塗りのコーティングをして、焼き付けていた。
また、別法として、面荒しの後、プラズマ溶射でアルミ
ナ系のセラミックを調理面にぱらぱらと分散溶射付着さ
せ、フッ素樹脂塗料の下塗りと上塗りで仕上げて、焼き
付けていた。これらの方法で仕上げられた面は、平滑に
仕上がっている。すなわち、その最上層面は、下地表面
の凹凸やセラミック溶射の凹凸が埋没した、滑らかな面
となっている。しかしながら、このような仕上げ方法に
よって形成された、最上層の塗装膜表面（フッ素樹脂塗
料で仕上げられている）は、以下の理由により、金属ヘ
ラが使用できなかった。すなわち、金属ヘラで擦ると、
金属ヘラと皮膜との接触面積が大きいという理由、ま
た、２００℃前後では、厚み２０〜６０μｍのフッ素樹
脂層が軟化するという理由で、被粘着面が削られて、剥
離するという問題点があった。
どの調理面に被粘着性トップコートを施すために、従来
は、アルミニウム合金ダイキャスト成形品の調理面をサ
ンドブラスト等で面荒しを行ない、フッ素樹脂塗料の下
塗りと上塗りのコーティングをして、焼き付けていた。
また、別法として、面荒しの後、プラズマ溶射でアルミ
ナ系のセラミックを調理面にぱらぱらと分散溶射付着さ
せ、フッ素樹脂塗料の下塗りと上塗りで仕上げて、焼き
付けていた。これらの方法で仕上げられた面は、平滑に
仕上がっている。すなわち、その最上層面は、下地表面
の凹凸やセラミック溶射の凹凸が埋没した、滑らかな面
となっている。しかしながら、このような仕上げ方法に
よって形成された、最上層の塗装膜表面（フッ素樹脂塗
料で仕上げられている）は、以下の理由により、金属ヘ
ラが使用できなかった。すなわち、金属ヘラで擦ると、
金属ヘラと皮膜との接触面積が大きいという理由、ま
た、２００℃前後では、厚み２０〜６０μｍのフッ素樹
脂層が軟化するという理由で、被粘着面が削られて、剥
離するという問題点があった。
【０００３】ところで、上述の従来技術に関連して、本
出願人は特公昭６０−２０７３２号公報において、素地
の面荒しとセラミック溶射を行なう、調理機器における
調理面形成方法を開示している。この方法は、金属ヘラ
を使うことができるように改良するのが目的ではなく、
耐食品腐食性を向上するために開発された方法である。
この方法を、図４を用いて、さらに詳細に説明する。
出願人は特公昭６０−２０７３２号公報において、素地
の面荒しとセラミック溶射を行なう、調理機器における
調理面形成方法を開示している。この方法は、金属ヘラ
を使うことができるように改良するのが目的ではなく、
耐食品腐食性を向上するために開発された方法である。
この方法を、図４を用いて、さらに詳細に説明する。
【０００４】図４を参照して、素地１ａとセラミック溶
射層２３との密着をよくするために、素地１ａの表面２
２がサンドブラストにより面荒しが行なわれる。溶射処
理後、セラミック溶射層２３の開口部を封孔するため
に、浸透性のよい耐熱樹脂塗料３３を含浸させるという
封孔処理が行なわれる。
射層２３との密着をよくするために、素地１ａの表面２
２がサンドブラストにより面荒しが行なわれる。溶射処
理後、セラミック溶射層２３の開口部を封孔するため
に、浸透性のよい耐熱樹脂塗料３３を含浸させるという
封孔処理が行なわれる。
【０００５】次に、下塗り層２４（セラミック溶射層２
３と非粘着性四フッ化エチレン樹脂層２５との密着をよ
くする下塗り塗料で形成される）を形成し、さらに非粘
着性四フッ化エチレン樹脂層２５（以下、非粘着性層２
５という）を形成し、焼成する。この方法によると、最
上層部の非粘着性層２５の表面２８は、平滑な面を呈す
る。なお、セラミックス溶射層２３は、最上層である非
粘着性層２５が、実調理で使われている間に摩耗し、と
ころどころなくなった時点において、以降の耐久性を保
持するために設けられている。このような仕上り膜は、
使用当初から、金属ヘラに対する耐傷付き性および耐隔
離性の効果がない。
３と非粘着性四フッ化エチレン樹脂層２５との密着をよ
くする下塗り塗料で形成される）を形成し、さらに非粘
着性四フッ化エチレン樹脂層２５（以下、非粘着性層２
５という）を形成し、焼成する。この方法によると、最
上層部の非粘着性層２５の表面２８は、平滑な面を呈す
る。なお、セラミックス溶射層２３は、最上層である非
粘着性層２５が、実調理で使われている間に摩耗し、と
ころどころなくなった時点において、以降の耐久性を保
持するために設けられている。このような仕上り膜は、
使用当初から、金属ヘラに対する耐傷付き性および耐隔
離性の効果がない。
【０００６】図５は、他の従来例で、本出願人会社によ
って開示された特許公報昭５８−５８１５５号公報に記
載の“調理器の皮膜形成方法”を示す断面図である。
って開示された特許公報昭５８−５８１５５号公報に記
載の“調理器の皮膜形成方法”を示す断面図である。
【０００７】図５を参照して、素地１ａの上に、上述の
セラミック溶射層の役割を果たす硬質無機質粒子１０を
混入した、下塗り樹脂塗料１１を形成し、さらにその上
に、被粘着塗膜層３５を形成する。このような方法で形
成された皮膜もまた、金属ヘラを使用することができな
い。
セラミック溶射層の役割を果たす硬質無機質粒子１０を
混入した、下塗り樹脂塗料１１を形成し、さらにその上
に、被粘着塗膜層３５を形成する。このような方法で形
成された皮膜もまた、金属ヘラを使用することができな
い。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来の
調理面構造では、金属ヘラを使用することができなかっ
た。それゆえにこの発明は、上記のような問題点を解決
するためになされたもので、金属ヘラに対する摩耗耐久
性が向上するように改良された、高温加熱用調理機器の
調理面構造を提供することにある。
調理面構造では、金属ヘラを使用することができなかっ
た。それゆえにこの発明は、上記のような問題点を解決
するためになされたもので、金属ヘラに対する摩耗耐久
性が向上するように改良された、高温加熱用調理機器の
調理面構造を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者は、金属ヘラに
対する耐傷付き性および耐剥離性を向上させるために、
調理面がどのような構造になっていなければならないか
を鋭意研究した結果、母材表面の凹凸、その上に形成さ
れる硬質無機質層の厚みとその表面の凹凸、非粘着性フ
ッ素コートの厚み、の３つの組合せ条件を適正に選ぶこ
とが効果であることを見いだし、本発明に到達したもの
である。
対する耐傷付き性および耐剥離性を向上させるために、
調理面がどのような構造になっていなければならないか
を鋭意研究した結果、母材表面の凹凸、その上に形成さ
れる硬質無機質層の厚みとその表面の凹凸、非粘着性フ
ッ素コートの厚み、の３つの組合せ条件を適正に選ぶこ
とが効果であることを見いだし、本発明に到達したもの
である。
【００１０】すなわち、本発明にかかる、高温加熱用調
理機器の調理面構造は、調理面となる素材表面を備える
母材と、前記素材表面を覆うように設ける硬質無機質層
と、前記硬質無機質層の表面を覆うように設けるフッ素
樹脂層とを備えた高温加熱用調理機器の調理面構造にお
いて、金型のシボ加工により上記母材の成型時に上記素
材表面に形成する凹凸面と、該凹凸面をブラストにより
加工形成する粗面とを備える。さらに、上記ブラストの
粒度を＃１０〜２０とすることもできる。
理機器の調理面構造は、調理面となる素材表面を備える
母材と、前記素材表面を覆うように設ける硬質無機質層
と、前記硬質無機質層の表面を覆うように設けるフッ素
樹脂層とを備えた高温加熱用調理機器の調理面構造にお
いて、金型のシボ加工により上記母材の成型時に上記素
材表面に形成する凹凸面と、該凹凸面をブラストにより
加工形成する粗面とを備える。さらに、上記ブラストの
粒度を＃１０〜２０とすることもできる。
【００１１】この発明の好ましい実施態様によれば、上
記硬質無機質層と上記フッ素樹脂層との間に、厚み１０
±５μｍを有するポリシロキサン系バインダーが設けら
れる。
記硬質無機質層と上記フッ素樹脂層との間に、厚み１０
±５μｍを有するポリシロキサン系バインダーが設けら
れる。
【００１２】
【作用】本発明にかかる、高温加熱用調理機器の調理面
構造によれば、金属ヘラに対する耐傷付き性および耐剥
離性を向上させるように、金属素材表面に金型のシボ加
工を施すことによりに母材を成型するとともにその素材
表面に凹凸を形成する。該凹凸面を覆う硬質無機質層
は、その膜厚が８０±４０μｍであり、さらに、上記硬
質無機質層の表面を覆うフッ素樹脂層は、その厚みが１
０〜３０μｍである。これにより、金属ヘラに対する耐
傷付き性および耐剥離性が向上する。
構造によれば、金属ヘラに対する耐傷付き性および耐剥
離性を向上させるように、金属素材表面に金型のシボ加
工を施すことによりに母材を成型するとともにその素材
表面に凹凸を形成する。該凹凸面を覆う硬質無機質層
は、その膜厚が８０±４０μｍであり、さらに、上記硬
質無機質層の表面を覆うフッ素樹脂層は、その厚みが１
０〜３０μｍである。これにより、金属ヘラに対する耐
傷付き性および耐剥離性が向上する。
【００１３】
【実施例】以下、この発明の基本となる一例について説
明する。
明する。
【００１４】図３は、本発明が適用されたホットプレー
トの断面図である。ホットプレート１５、プレート側面
１３と、プレート底面１４からなる。母材１の内表面１
６に、金属ヘラの使える皮膜層１２が形成されている。
トの断面図である。ホットプレート１５、プレート側面
１３と、プレート底面１４からなる。母材１の内表面１
６に、金属ヘラの使える皮膜層１２が形成されている。
【００１５】次に、金属ヘラの使える皮膜層１２の構造
を、さらに詳細に説明する。
を、さらに詳細に説明する。
【００１６】図１に示すように、高温加熱用調理機器の
調理面構造は、母材１の表面に凹凸面を形成し、該凹凸
面２を覆うように、８０±４０μｍの厚みを有する硬質
無機質層３が形成されている。硬質無機質層３の上に、
厚み１０±５μｍを有するポリシロキサン系バインダー
４が設けられ、その上に、１０〜３０μｍの厚みを有す
るフッ素樹脂層５が設けられている。
調理面構造は、母材１の表面に凹凸面を形成し、該凹凸
面２を覆うように、８０±４０μｍの厚みを有する硬質
無機質層３が形成されている。硬質無機質層３の上に、
厚み１０±５μｍを有するポリシロキサン系バインダー
４が設けられ、その上に、１０〜３０μｍの厚みを有す
るフッ素樹脂層５が設けられている。
【００１７】上記のような金属ヘラの使える凹凸のある
山６と谷７を具備した調理面構造を形成するためには、
ジェットタガネ（２〜４ｍｍφ）で、エアー圧力６〜８
Ｋｇ／ｃｍ2 で、２〜３分実施して形成される。これに
より、砂型鋳物肌の凹凸に近い模様が形成される。さら
に、＃１０〜２０の粒度のブラストで、エアー圧力６〜
１０Ｋｇ／ｃｍ2 で２〜３分実施することにより、粗面
化と溶射皮膜の密着性を確保させた粗面が得ることがで
きる。
山６と谷７を具備した調理面構造を形成するためには、
ジェットタガネ（２〜４ｍｍφ）で、エアー圧力６〜８
Ｋｇ／ｃｍ2 で、２〜３分実施して形成される。これに
より、砂型鋳物肌の凹凸に近い模様が形成される。さら
に、＃１０〜２０の粒度のブラストで、エアー圧力６〜
１０Ｋｇ／ｃｍ2 で２〜３分実施することにより、粗面
化と溶射皮膜の密着性を確保させた粗面が得ることがで
きる。
【００１８】しかしながら、上記のような方法によると
図６に示すように凹凸面にカエリ８が数多く発生し、該
カエリ８によって空洞部９も形成することになってしま
うため、プレート加熱時にこの空洞部９内の空気膨張等
で硬質無機質層に亀裂が生じ、それによって、フッ素樹
脂のフクレそして破れとなり非粘着性が衰え、腐食性能
の劣化も懸念されることとなってしまう。
図６に示すように凹凸面にカエリ８が数多く発生し、該
カエリ８によって空洞部９も形成することになってしま
うため、プレート加熱時にこの空洞部９内の空気膨張等
で硬質無機質層に亀裂が生じ、それによって、フッ素樹
脂のフクレそして破れとなり非粘着性が衰え、腐食性能
の劣化も懸念されることとなってしまう。
【００１９】このような本発明の基本となる一例におい
ての問題をも解決したものが本発明の高温加熱用調理機
器の調理面構造であり、この本発明構造を有する調理面
構造の製造方法について図１および図２を参照して説明
する。図２は、図１に示す調理面構造の拡大図である。
ての問題をも解決したものが本発明の高温加熱用調理機
器の調理面構造であり、この本発明構造を有する調理面
構造の製造方法について図１および図２を参照して説明
する。図２は、図１に示す調理面構造の拡大図である。
【００２０】図１に示す調理面構造を形成するために
は、まず、母材１の表面２に凹凸のある山と谷を形成す
る必要がある。このような凹凸は、シボ加工を施した金
型を用いて母材を形成する。これにより、砂型鋳物肌の
凹凸に近い模様が形成される。さらに、上述したように
ブラストで凹凸を加工することにより、溶射皮膜の密着
性を確保させた粗面が得ることができる。
は、まず、母材１の表面２に凹凸のある山と谷を形成す
る必要がある。このような凹凸は、シボ加工を施した金
型を用いて母材を形成する。これにより、砂型鋳物肌の
凹凸に近い模様が形成される。さらに、上述したように
ブラストで凹凸を加工することにより、溶射皮膜の密着
性を確保させた粗面が得ることができる。
【００２１】次に、プラズマ溶射装置を用いて、Ａｌ2
Ｏ3 −ＴｉＯ2 のセラミック溶射材で、ガンキョリ８０
〜１００ｍｍ、流量３０〜４０ｇ／ｍｉｎ，使用ガスに
アルゴンと水素を用いた条件で、膜厚Ｂが８０±４０μ
ｍになるように仕上げられたセラミック溶射層３を形成
する。セラミック溶射層３の表面粗さは、図２を参照し
て、粗面Ｙのように、表面粗さがＲａ＝２０±１０μｍ
（中心線平均粗さ）になるようにされる。次に、粗面Ｙ
を有するセラミック溶射層３の上に、非粘着層５を形成
する。非粘着層５は、厚みＡが１０〜３０μｍ好ましく
は１０〜１５μｍに仕上がるように、ディスパージョン
型の四フッ化エチレン樹脂塗料（公知の市販塗料）を吹
き付けて、３８０〜４２０℃、２０分の焼成で硬化させ
ることにより、形成される。非粘着層５とセラミック溶
射層３の密着性をよくするために、セラミック溶射層３
の上にプライマ４を薄く（約５〜１０μｍ）塗布し、９
０〜１２０℃、１０分間強制乾燥するという工程を加え
てもよい。
Ｏ3 −ＴｉＯ2 のセラミック溶射材で、ガンキョリ８０
〜１００ｍｍ、流量３０〜４０ｇ／ｍｉｎ，使用ガスに
アルゴンと水素を用いた条件で、膜厚Ｂが８０±４０μ
ｍになるように仕上げられたセラミック溶射層３を形成
する。セラミック溶射層３の表面粗さは、図２を参照し
て、粗面Ｙのように、表面粗さがＲａ＝２０±１０μｍ
（中心線平均粗さ）になるようにされる。次に、粗面Ｙ
を有するセラミック溶射層３の上に、非粘着層５を形成
する。非粘着層５は、厚みＡが１０〜３０μｍ好ましく
は１０〜１５μｍに仕上がるように、ディスパージョン
型の四フッ化エチレン樹脂塗料（公知の市販塗料）を吹
き付けて、３８０〜４２０℃、２０分の焼成で硬化させ
ることにより、形成される。非粘着層５とセラミック溶
射層３の密着性をよくするために、セラミック溶射層３
の上にプライマ４を薄く（約５〜１０μｍ）塗布し、９
０〜１２０℃、１０分間強制乾燥するという工程を加え
てもよい。
【００２２】このように構成された、母材１の粗面Ｚ、
厚み８０±４０μｍのセラミック溶射層３とその粗面
Ｙ、および厚み１０〜３０μｍの非粘着層５とその粗面
Ｘとを含む調理面構造を、図３に示すホットプレートの
調理面にした。ホットプレート１５の内面１６の側面１
３は、調理面ではないため、金属ヘラで擦る機会がな
い。それゆえに、側面１３においては、セラミックス溶
射層の厚みＢを８０±４０μｍ、フッ素コートの厚みＡ
を１０〜３０μｍにするという、条件は不要である。側
面１３の内面は、セラミック溶射層の厚みＢが１０〜４
０μｍ、フッ素樹脂層の膜厚Ａが２０〜４０μｍになる
ように、すなわち、金属ヘラで擦ると若干傷の付く皮膜
構成にした。
厚み８０±４０μｍのセラミック溶射層３とその粗面
Ｙ、および厚み１０〜３０μｍの非粘着層５とその粗面
Ｘとを含む調理面構造を、図３に示すホットプレートの
調理面にした。ホットプレート１５の内面１６の側面１
３は、調理面ではないため、金属ヘラで擦る機会がな
い。それゆえに、側面１３においては、セラミックス溶
射層の厚みＢを８０±４０μｍ、フッ素コートの厚みＡ
を１０〜３０μｍにするという、条件は不要である。側
面１３の内面は、セラミック溶射層の厚みＢが１０〜４
０μｍ、フッ素樹脂層の膜厚Ａが２０〜４０μｍになる
ように、すなわち、金属ヘラで擦ると若干傷の付く皮膜
構成にした。
【００２３】以上のように構成されるホットプレート
は、金属ヘラに対する摩耗耐久性が向上しており、調理
工程において、食品の調理時の手捌きとカット作業で、
切れのよい、素早い作業が可能となり、おいしい調理が
できる。
は、金属ヘラに対する摩耗耐久性が向上しており、調理
工程において、食品の調理時の手捌きとカット作業で、
切れのよい、素早い作業が可能となり、おいしい調理が
できる。
【００２４】なお、上記実施例では、硬質無機質層とフ
ッ素樹脂層との間にプライマを形成する場合を例示した
が、プライマの代わりに、ポリチタノカルボシランをバ
インダにしたセラミック顔料を混合配合した塗料を１０
±５μｍになるように仕上げると、耐摩耗性および金属
ヘラに対する摩耗耐久性が大幅に向上する。
ッ素樹脂層との間にプライマを形成する場合を例示した
が、プライマの代わりに、ポリチタノカルボシランをバ
インダにしたセラミック顔料を混合配合した塗料を１０
±５μｍになるように仕上げると、耐摩耗性および金属
ヘラに対する摩耗耐久性が大幅に向上する。
【００２５】しかしながら、金型にシボ加工を施した本
発明では、実用テストにおける金属ヘラに対する摩耗テ
ストで、従来のものは、数百回で傷付きが著しく付いた
のに対し、本発明のものは１万回行なっても、異常が認
められなかった。
発明では、実用テストにおける金属ヘラに対する摩耗テ
ストで、従来のものは、数百回で傷付きが著しく付いた
のに対し、本発明のものは１万回行なっても、異常が認
められなかった。
【００２６】
【発明の効果】本発明にかかる、高温加熱用調理機器の
調理面構造は、以上のように構成されているので、凹凸
面と硬質無機質層との密着性を確保できるため、金属ヘ
ラに対する摩耗耐久性が向上する。又、ジェトタガネ等
で母材表面を叩きつけることによってできるカエリや空
洞部等ができることがないので、加熱時においても空洞
部内の空気膨張により硬質無機質層に亀裂がはいった
り、フッ素樹脂の破れたりする非粘着性の低下、腐食性
能の劣化等を全く気に掛けることなく、混ぜる、切る、
ひっくり返す等の、調理食品の加工作業が効率よくで
き、おいしい調理が早いスピードでできるという効果を
奏する。
調理面構造は、以上のように構成されているので、凹凸
面と硬質無機質層との密着性を確保できるため、金属ヘ
ラに対する摩耗耐久性が向上する。又、ジェトタガネ等
で母材表面を叩きつけることによってできるカエリや空
洞部等ができることがないので、加熱時においても空洞
部内の空気膨張により硬質無機質層に亀裂がはいった
り、フッ素樹脂の破れたりする非粘着性の低下、腐食性
能の劣化等を全く気に掛けることなく、混ぜる、切る、
ひっくり返す等の、調理食品の加工作業が効率よくで
き、おいしい調理が早いスピードでできるという効果を
奏する。
【図１】本発明の一実施例にかかる調理面構造の断面図
である。
である。
【図２】本発明にかかる調理面構造の、拡大断面図であ
る。
る。
【図３】本発明が適用されるホットプレートの断面図で
ある。
ある。
【図４】従来の、高温加熱用調理機器の調理面構造の断
面図である。
面図である。
【図５】他の従来技術にかかる、高温加熱用調理機器の
調理面構造の断面図である。
調理面構造の断面図である。
【図６】本発明の基本となる一例にかかる調理面構造の
断面図である。
断面図である。
【符号の説明】 １ 母材 ２ 凹凸面 ３ セラミック溶射層 ５ フッ素樹脂層 ６ 山 ７ 谷
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｆ２４Ｃ 15/10 Ｆ２４Ｃ 15/10 Ｃ (72)発明者 苅田 英之 大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャー プ株式会 社内 (56)参考文献 特開 昭53−100063（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−151921（ＪＰ，Ａ) 実公 昭48−8211（ＪＰ，Ｙ１) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) A47J 36/02 - 36/04 A47J 37/06 321 B22C 9/06 B22D 17/22 F24C 7/04 F24C 15/10
Claims (2)
- 【請求項１】 調理面となる素材表面を備える母材と、
前記素材表面を覆うように設ける硬質無機質層と、前記
硬質無機質層の表面を覆うように設けるフッ素樹脂層と
を備えた高温加熱用調理機器の調理面構造において、 金型のシボ加工により上記母材の成型時に上記素材表面
に形成する凹凸面と、該凹凸面をブラストにより加工形
成する粗面とを備え ることを特徴とする高温加熱用調理
機器の調理面構造。 - 【請求項２】 上記ブラストの粒度を＃１０〜２０とす
ることを特徴とする請求項１記載の高温加熱用調理機器
の調理面構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3186169A JP2763833B2 (ja) | 1991-07-25 | 1991-07-25 | 高温加熱用調理機器の調理面構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3186169A JP2763833B2 (ja) | 1991-07-25 | 1991-07-25 | 高温加熱用調理機器の調理面構造 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0523253A JPH0523253A (ja) | 1993-02-02 |
| JP2763833B2 true JP2763833B2 (ja) | 1998-06-11 |
Family
ID=16183602
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3186169A Expired - Fee Related JP2763833B2 (ja) | 1991-07-25 | 1991-07-25 | 高温加熱用調理機器の調理面構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2763833B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3916738B2 (ja) * | 1997-10-27 | 2007-05-23 | 東洋炭素株式会社 | 調理器 |
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1991
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