JP2892794B2 - 積層フイルム - Google Patents
積層フイルムInfo
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- JP2892794B2 JP2892794B2 JP21296590A JP21296590A JP2892794B2 JP 2892794 B2 JP2892794 B2 JP 2892794B2 JP 21296590 A JP21296590 A JP 21296590A JP 21296590 A JP21296590 A JP 21296590A JP 2892794 B2 JP2892794 B2 JP 2892794B2
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- film
- ultraviolet
- layer
- silicon oxide
- resin
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- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
本発明は透明性、紫外線遮断性、ガス遮断性などの高
機能性を有し包装用フイルムに好適に使用でき、さらに
また建材の保護材、発光素子（エレクトロルミネッセン
ス、液晶表示板など）の保護材などにも使用できる積層
フイルムに関する。
機能性を有し包装用フイルムに好適に使用でき、さらに
また建材の保護材、発光素子（エレクトロルミネッセン
ス、液晶表示板など）の保護材などにも使用できる積層
フイルムに関する。
従来より透明合成樹脂系フイルム上に酸化珪素系薄膜
を形成た、透明性、ガスバリヤー性を有する包装用フイ
ルムが知られている（例えば特公昭52−48510号公報、
実公昭52−3418号公報など）。また食品包装フイルムの
保存性を高めるため紫外線遮断フイルムとして、紫外線
吸収剤をコーティング剤とともに塗布したものが知られ
ているが、食品包装用として実用できるものは少ない。 例えば合成樹脂系フイルムの表面に紫外線吸収剤を塩
化ビニリデン系コーティング剤とともに表面コートした
フイルムが知られている。しかしながらこれは、レトル
ト処理の如き高温、高湿処理により紫外線吸収剤が溶出
し、紫外線遮断性が低下するのみならず、ガスバリヤー
性も大幅に低下するため、食品包装用フイルムとしては
極めて不満足なものであるという問題点があった。 また、合成樹脂系フイルムの表面に酸化珪素系薄膜を
蒸着したフイルムが知られている。しかしながらこれは
レトルト処理の如き高温、高湿処理によりガスバリアヤ
ー性が大幅に低下するようなことはないが、極僅かなが
ら珪素酸化物蒸着膜に存在する微少ピンホール、微少ク
ラックなどの欠陥のために例えば透湿度、酸素透過率な
どの特性が低下するのが普通であって必ずしも満足でき
るものではなく、さらに紫外線遮断性において劣るた
め、食品包装用フイルムとしてはまだ不満足なものであ
るという問題点があった。 更に透湿度、酸素透過率の小さい、紫外線遮断性も優
れた透明なフイルムを得ようとして珪素酸化物蒸着膜の
厚みを厚くすることも試みられたが、実際問題として
は、単に厚みを増加しても微少ピンホール、微少クラッ
クなどの欠陥は改良されることなく、得られる膜の着色
が濃くなるだけであって透明性が悪くなるという新たな
問題点が生じた。
を形成た、透明性、ガスバリヤー性を有する包装用フイ
ルムが知られている（例えば特公昭52−48510号公報、
実公昭52−3418号公報など）。また食品包装フイルムの
保存性を高めるため紫外線遮断フイルムとして、紫外線
吸収剤をコーティング剤とともに塗布したものが知られ
ているが、食品包装用として実用できるものは少ない。 例えば合成樹脂系フイルムの表面に紫外線吸収剤を塩
化ビニリデン系コーティング剤とともに表面コートした
フイルムが知られている。しかしながらこれは、レトル
ト処理の如き高温、高湿処理により紫外線吸収剤が溶出
し、紫外線遮断性が低下するのみならず、ガスバリヤー
性も大幅に低下するため、食品包装用フイルムとしては
極めて不満足なものであるという問題点があった。 また、合成樹脂系フイルムの表面に酸化珪素系薄膜を
蒸着したフイルムが知られている。しかしながらこれは
レトルト処理の如き高温、高湿処理によりガスバリアヤ
ー性が大幅に低下するようなことはないが、極僅かなが
ら珪素酸化物蒸着膜に存在する微少ピンホール、微少ク
ラックなどの欠陥のために例えば透湿度、酸素透過率な
どの特性が低下するのが普通であって必ずしも満足でき
るものではなく、さらに紫外線遮断性において劣るた
め、食品包装用フイルムとしてはまだ不満足なものであ
るという問題点があった。 更に透湿度、酸素透過率の小さい、紫外線遮断性も優
れた透明なフイルムを得ようとして珪素酸化物蒸着膜の
厚みを厚くすることも試みられたが、実際問題として
は、単に厚みを増加しても微少ピンホール、微少クラッ
クなどの欠陥は改良されることなく、得られる膜の着色
が濃くなるだけであって透明性が悪くなるという新たな
問題点が生じた。
本発明は従来の積層フイルムの前記種々問題点を解決
することが目的である。 すなわち、本発明は透明性、ガスバリヤー性、耐レト
ルト殺菌処理性にすぐれた酸化珪素系ガスバリヤー層と
紫外線遮断層とを積層することによってレトルト殺菌処
理の如き過酷な高温、高湿処理後においても良好なガス
バリヤー性と紫外線遮断性が得られる積層フイルムを提
供することにある。
することが目的である。 すなわち、本発明は透明性、ガスバリヤー性、耐レト
ルト殺菌処理性にすぐれた酸化珪素系ガスバリヤー層と
紫外線遮断層とを積層することによってレトルト殺菌処
理の如き過酷な高温、高湿処理後においても良好なガス
バリヤー性と紫外線遮断性が得られる積層フイルムを提
供することにある。
本発明は、合成樹脂系フイルム（Ａ）の少なくとも片
面に酸化珪素系（SiOX、Ｘ＝1.0〜2.0）薄膜層（Ｂ）お
よび紫外線吸収剤または紫外線遮断剤をバインダーに分
散させてなる厚さ0.1〜20μｍの紫外線遮断層（Ｃ）を
設けた、波長550nmにおける光線透過率が76％以上であ
り、かつ波長350nmにおける紫外線遮断率が80％以上で
あり、酸素ガス透過率が1.6cc/m2・24Hrs以下であるこ
とを特徴とする積層フイルムであり、また合成樹脂系フ
イルム（Ａ）、酸化珪素系薄膜層（Ｂ）および紫外線遮
断層（Ｃ）が、A/B/C、A/C/B、B/A/C、C/B/A/B
/C、B/C/A/C/B、B/C/A/B/C、A/B/C/B/A、A/B/C
/Aのいずれかの順に積層されてなる前記の積層フイルム
であります。 さらにまた、これらの構成の最外層にポリオレフィン
系合成樹脂などからなるヒートシール層（Ｄ）を設ける
ようにしてもよい。 また紫外線遮断層（Ｃ）は接着剤層を兼ね備えていて
もよい。 本発明は、上記構成、即ち酸化珪素系ガスバリヤー層
と紫外線遮断層とを積層することによってレトルト殺菌
処理の如き過酷な高温、高湿処理後においても良好なガ
スバリヤー性と紫外線遮断性が得られる積層フイルムを
提供することを可能としたものである。 本発明の積層フイルムにおいて用いる合成樹脂系フイ
ルム（Ａ）としては特に制限はないが、充分な自己保持
性、耐熱性、フレキシビリティ、透明性を有するもので
あればいずれも用いられる。例えばポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテ
レフタレートなどのポリエステル、ナイロン６、ナイロ
ン12などのポリアミド、ポリプロピレン、ポリ４メチル
ペンテン１などのポリオレフィンなどの合成樹脂系フイ
ルムで、厚さとしては４〜100μｍ、好ましくは９〜25
μｍ程度のものを用いるのが、しわや亀裂などのない積
層フイルムの製造が連続的に大量生産できる点から好ま
しい。 また合成樹脂系フイルム（Ａ）は、一軸延伸や二軸延
伸されたものであってもよく、光沢、強度などの面から
は二軸延伸されたものが好ましく用いられる。 また合成樹脂系フイルム（Ａ）は、その表面がコロナ
放電処理、低温プラズマ処理などの表面処理がなされた
ものであってもよく、一般にフイルムと蒸着した珪素酸
化物との密着性を良くすることができて好ましい。 さらにまた合成樹脂系フイルム（Ａ）は、その表面に
下塗層を設けたものであってもよく、下塗層を形成する
ための樹脂としては、例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹
脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂のいずれもが
用いられ、例えばアクリル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、ポリビニルブチラール、ポリカーボネー
ト、ニトロセルロース、セルロースアセテート、ウレタ
ン系樹脂、尿素系樹脂、メラミン系樹脂、尿素−メラミ
ン系樹脂、エポキシ系樹脂、アルキッド系樹脂、アミノ
アルキッド系樹脂、ロジン変性マレイン酸樹脂などの単
独または混合物や、シランカップリング剤が好ましく用
いられる。 下塗層の形成には、前記下塗層を形成するための樹脂
の有機溶剤溶液、水溶液などやカップリング剤をロール
コーティング法、グラビアコーティング法、リバースコ
ーティング法、スプレイコーティング法などの通常のコ
ーティング法により塗布し、乾燥（熱硬化性樹脂、電子
線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂などの場合は硬化）す
ることによって行なわれる。 酸化珪素系薄膜層（Ｂ）としては、SiOx（ｘ＝1.0〜
2.0）を主体とするが、少量のAl2O3、MgO、ZnO、TiO2な
どの他の金属化合物を含有していてもよい。その形成に
は高周波加熱真空蒸着や電子ビーム加熱蒸着などが使わ
れる。 珪素酸化物蒸着膜の厚さとしては特に制限はないが、
その製品の用途と所望される性能などによって適宜選択
決定されるが、ガスバリヤー性と耐屈曲性などを考慮し
て通常は100〜3000Å程度の範囲から、好ましくは200〜
1000Å程度の範囲から選ばれる。 紫外線遮断層（Ｃ）としては、特に制限はないが、例
えば２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）
ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシ−４−オクトキシ
ベンゾフェノンなどの有機系紫外線吸収剤、酸化亜鉛、
酸化セリウム、酸化チタン、酸化マグネシウムなどの微
粉末系紫外線遮蔽剤を有機物バインダーに分散させた層
が好ましい。有機物バインダーは合成樹脂類が使用でき
るが、ポリエステルポリオール、ポリエステルポリウレ
タン、などが好適である。 コーティング膜の形成方法としては、樹脂の有機溶剤
溶液をグラビアコーティング法、リバースコーティング
法などの通常のコーティング法により塗布乾燥、硬化す
る方法が用いられる。 紫外線吸収遮断層の厚さとしては特に制限はないが、
その製品の用途と所望される性能などによって適宜選択
決定されるが、紫外線遮断性などを考慮して通常は0.1
〜20μｍ程度の範囲から、好ましくは0.3〜５μｍ程度
の範囲から選ばれる。 また有機物バインダーに対する紫外線吸収剤、遮断剤
の比率は0.1〜10％、好ましくは0.5〜５％である。 つぎに実施例をあげて本発明を説明する。尚、表１に
実施例と比較例のデータをまとめた。
面に酸化珪素系（SiOX、Ｘ＝1.0〜2.0）薄膜層（Ｂ）お
よび紫外線吸収剤または紫外線遮断剤をバインダーに分
散させてなる厚さ0.1〜20μｍの紫外線遮断層（Ｃ）を
設けた、波長550nmにおける光線透過率が76％以上であ
り、かつ波長350nmにおける紫外線遮断率が80％以上で
あり、酸素ガス透過率が1.6cc/m2・24Hrs以下であるこ
とを特徴とする積層フイルムであり、また合成樹脂系フ
イルム（Ａ）、酸化珪素系薄膜層（Ｂ）および紫外線遮
断層（Ｃ）が、A/B/C、A/C/B、B/A/C、C/B/A/B
/C、B/C/A/C/B、B/C/A/B/C、A/B/C/B/A、A/B/C
/Aのいずれかの順に積層されてなる前記の積層フイルム
であります。 さらにまた、これらの構成の最外層にポリオレフィン
系合成樹脂などからなるヒートシール層（Ｄ）を設ける
ようにしてもよい。 また紫外線遮断層（Ｃ）は接着剤層を兼ね備えていて
もよい。 本発明は、上記構成、即ち酸化珪素系ガスバリヤー層
と紫外線遮断層とを積層することによってレトルト殺菌
処理の如き過酷な高温、高湿処理後においても良好なガ
スバリヤー性と紫外線遮断性が得られる積層フイルムを
提供することを可能としたものである。 本発明の積層フイルムにおいて用いる合成樹脂系フイ
ルム（Ａ）としては特に制限はないが、充分な自己保持
性、耐熱性、フレキシビリティ、透明性を有するもので
あればいずれも用いられる。例えばポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテ
レフタレートなどのポリエステル、ナイロン６、ナイロ
ン12などのポリアミド、ポリプロピレン、ポリ４メチル
ペンテン１などのポリオレフィンなどの合成樹脂系フイ
ルムで、厚さとしては４〜100μｍ、好ましくは９〜25
μｍ程度のものを用いるのが、しわや亀裂などのない積
層フイルムの製造が連続的に大量生産できる点から好ま
しい。 また合成樹脂系フイルム（Ａ）は、一軸延伸や二軸延
伸されたものであってもよく、光沢、強度などの面から
は二軸延伸されたものが好ましく用いられる。 また合成樹脂系フイルム（Ａ）は、その表面がコロナ
放電処理、低温プラズマ処理などの表面処理がなされた
ものであってもよく、一般にフイルムと蒸着した珪素酸
化物との密着性を良くすることができて好ましい。 さらにまた合成樹脂系フイルム（Ａ）は、その表面に
下塗層を設けたものであってもよく、下塗層を形成する
ための樹脂としては、例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹
脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂のいずれもが
用いられ、例えばアクリル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、ポリビニルブチラール、ポリカーボネー
ト、ニトロセルロース、セルロースアセテート、ウレタ
ン系樹脂、尿素系樹脂、メラミン系樹脂、尿素−メラミ
ン系樹脂、エポキシ系樹脂、アルキッド系樹脂、アミノ
アルキッド系樹脂、ロジン変性マレイン酸樹脂などの単
独または混合物や、シランカップリング剤が好ましく用
いられる。 下塗層の形成には、前記下塗層を形成するための樹脂
の有機溶剤溶液、水溶液などやカップリング剤をロール
コーティング法、グラビアコーティング法、リバースコ
ーティング法、スプレイコーティング法などの通常のコ
ーティング法により塗布し、乾燥（熱硬化性樹脂、電子
線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂などの場合は硬化）す
ることによって行なわれる。 酸化珪素系薄膜層（Ｂ）としては、SiOx（ｘ＝1.0〜
2.0）を主体とするが、少量のAl2O3、MgO、ZnO、TiO2な
どの他の金属化合物を含有していてもよい。その形成に
は高周波加熱真空蒸着や電子ビーム加熱蒸着などが使わ
れる。 珪素酸化物蒸着膜の厚さとしては特に制限はないが、
その製品の用途と所望される性能などによって適宜選択
決定されるが、ガスバリヤー性と耐屈曲性などを考慮し
て通常は100〜3000Å程度の範囲から、好ましくは200〜
1000Å程度の範囲から選ばれる。 紫外線遮断層（Ｃ）としては、特に制限はないが、例
えば２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）
ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシ−４−オクトキシ
ベンゾフェノンなどの有機系紫外線吸収剤、酸化亜鉛、
酸化セリウム、酸化チタン、酸化マグネシウムなどの微
粉末系紫外線遮蔽剤を有機物バインダーに分散させた層
が好ましい。有機物バインダーは合成樹脂類が使用でき
るが、ポリエステルポリオール、ポリエステルポリウレ
タン、などが好適である。 コーティング膜の形成方法としては、樹脂の有機溶剤
溶液をグラビアコーティング法、リバースコーティング
法などの通常のコーティング法により塗布乾燥、硬化す
る方法が用いられる。 紫外線吸収遮断層の厚さとしては特に制限はないが、
その製品の用途と所望される性能などによって適宜選択
決定されるが、紫外線遮断性などを考慮して通常は0.1
〜20μｍ程度の範囲から、好ましくは0.3〜５μｍ程度
の範囲から選ばれる。 また有機物バインダーに対する紫外線吸収剤、遮断剤
の比率は0.1〜10％、好ましくは0.5〜５％である。 つぎに実施例をあげて本発明を説明する。尚、表１に
実施例と比較例のデータをまとめた。
実施例１ 厚さ12μｍの二軸延伸されたポリエチレンテレフタレ
ートの透明フイルムを基材（Ａ）として、真空槽内をあ
らかじめ５×10-5Torrに排気した後、一酸化珪素を蒸発
源として電子ビーム加熱方式で蒸発させ、500Å/secの
成膜速度で基材上に蒸着した。形成された酸化珪素薄膜
層（Ｂ）の厚さは約600Åであり、その組成はESCAで分
析したところ、SiOX（Ｘ＝1.6）であった。 次にウレタン変性ポリエステルワニス（東洋紡績株式
会社製、バイロンUR−1200、固形分30％、メチルエチル
ケトン、トルエン、シクロヘキサノン混合溶液）中にベ
ンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（チバガイギー製、チ
ヌビンＰ）を固形分比３％添加したものを上記酸化珪素
蒸着膜上に固形分の膜厚が３μｍになるよう塗布、乾
燥、硬化せしめて紫外線遮断層（Ｃ）を設けて本発明の
積層フィルムを得た。（A/B/C） 上記積層フイルムおよびレトルト処理品の諸物性を測
定した結果、表１の通り、ガスバリア性、紫外線遮断性
は良好であった。 比較例１ 実施例１において、紫外線遮断層（Ｃ）を設けなかっ
た場合（A/B）の積層フイルムの諸特性は表１に示すよ
うに、実施例１に比べ、紫外線遮断性は不満足なるもの
であった。 実施例２ 厚さ12μｍの二軸延伸されたポリエチレンテレフタレ
ートの透明フイルムを基材（Ａ）として、該基材の両面
に紫外線遮断層（Ｃ）を実施例１と同様にして形成し
た。 ウレタン変性ポリエステルワニス（東洋紡績株式会社
性、バイロンUR−1200）中に紫外線吸収剤チヌビンＰ
（チバガイギー製）を固形分比３％添加したものを、固
形分の膜厚が片面３μｍになるようポリエチレンテレフ
タレートフイルムの両面に、塗布、乾燥、硬化せしめ
て、紫外線遮断層（Ｃ）を設けた。 次に上記積層フイルムの両面に実施例１と同様にして
真空蒸着法により酸化ケイ素薄膜層（Ｂ）を各々約600
Åの厚さに形成した。（B/C/A/C/B） 上記積層フイルムおよびレトルト処理品の諸物性を測
定した結果、表１に示すように、レトルト処理後におい
ても良好な透明性、紫外線遮断性、ガスバリア性を示し
た。 比較例２ 実施例２の酸化ケイ素蒸着膜のかわりに酸化アルミニ
ウム蒸着膜を両面に各々約600Å形成した積層フイルム
およびレトルト処理後の諸物性を測定した結果、表１の
結果を得た。 実施例２に比べて、レトルト処理後の紫外線遮断性、
ガスバリア性は不満足なものであった。 実施例３ 実施例１と同じ方法で、ポリエチレンテレフタレート
フイルム上に酸化ケイ素蒸着膜を形成した積層フイルム
（A/B）を作成し、下記の方法で２枚を積層した。 すなわち、上記積層フイルム（A/B）の酸化ケイ素蒸
着膜上にポリエステル系接着剤アドコートAD−810Aおよ
び硬化剤AD−810B（東洋モートン社製）中に紫外線吸収
剤チヌビンＰ（チバガイギー社製）を固形分比３％添加
したものを、固形分の膜厚が３μｍになるように塗布、
乾燥後、別に用意した上記積層フイルム（A/B）の酸化
ケイ素蒸着面と熱圧着法によりラミネートし、アフター
キュアーした。（A/B/C/B/A） この積層フイルムおよびレトルト処理後の諸物性を測
定した結果、表１の通り極めて満足すべき値を得た。 比較例３ 実施例３の酸化ケイ素蒸着膜のかわりに、ポリ塩化ビ
ニリデン系樹脂をコーティングし、固形分として約３μ
ｍのガスバリア層を形成した。 上記積層をフイルム２枚をポリ塩化ビニリデン系樹脂
側が接着剤で接着されるように実施例３と同様ポリエス
テル系接着剤アドコートAD−810Aおよび硬化剤AD−810B
（東洋モートン社製）中に紫外線吸収剤チヌビンＰ（チ
バガイギー社製）を固形分比３％添加したものを用い
て、ラミネートし、アフターキュアーした。 この積層フイルムおよびレトルト処理後の諸物性を測
定した結果、表１の通り、実施例３に比べると、レトル
ト処理後の紫外線遮断性、ガスバリア性は不満足な値で
あった。 実施例４ 実施例１と同様の方法で、二軸延伸されたポリエチレ
ンテレフタレートフイルム上に厚さ約600Åの酸化ケイ
素蒸着膜を形成した積層フイルム（A/B）を作成した。
次いで、酸化ケイ素蒸着膜上にポリエステル系接着剤ア
ドコートAD−810Aおよび硬化剤AD−810B（東洋モートン
社製）中に紫外線吸収剤チヌビンＰ（チバガイギー社
製）を固形分比３％添加したものを、固形分の膜厚が３
μｍになるように塗布、乾燥後、別に用意した厚さ60μ
ｍのポリプロピレン系無延伸フイルム（Ｄ）をラミネー
トし、アフターキュアーした。（A/B/C/D） この積層フイルムは、実施例１で得たものと同様、レ
トルト処理後も良好なガスバリヤー性と紫外線遮断性を
示した。またこの積層フイルムのポリプロピレンフイル
ム面をヒートシール面としてヒートシールした結果、レ
トルト処理後も、充分な接着強さを有していた。
ートの透明フイルムを基材（Ａ）として、真空槽内をあ
らかじめ５×10-5Torrに排気した後、一酸化珪素を蒸発
源として電子ビーム加熱方式で蒸発させ、500Å/secの
成膜速度で基材上に蒸着した。形成された酸化珪素薄膜
層（Ｂ）の厚さは約600Åであり、その組成はESCAで分
析したところ、SiOX（Ｘ＝1.6）であった。 次にウレタン変性ポリエステルワニス（東洋紡績株式
会社製、バイロンUR−1200、固形分30％、メチルエチル
ケトン、トルエン、シクロヘキサノン混合溶液）中にベ
ンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（チバガイギー製、チ
ヌビンＰ）を固形分比３％添加したものを上記酸化珪素
蒸着膜上に固形分の膜厚が３μｍになるよう塗布、乾
燥、硬化せしめて紫外線遮断層（Ｃ）を設けて本発明の
積層フィルムを得た。（A/B/C） 上記積層フイルムおよびレトルト処理品の諸物性を測
定した結果、表１の通り、ガスバリア性、紫外線遮断性
は良好であった。 比較例１ 実施例１において、紫外線遮断層（Ｃ）を設けなかっ
た場合（A/B）の積層フイルムの諸特性は表１に示すよ
うに、実施例１に比べ、紫外線遮断性は不満足なるもの
であった。 実施例２ 厚さ12μｍの二軸延伸されたポリエチレンテレフタレ
ートの透明フイルムを基材（Ａ）として、該基材の両面
に紫外線遮断層（Ｃ）を実施例１と同様にして形成し
た。 ウレタン変性ポリエステルワニス（東洋紡績株式会社
性、バイロンUR−1200）中に紫外線吸収剤チヌビンＰ
（チバガイギー製）を固形分比３％添加したものを、固
形分の膜厚が片面３μｍになるようポリエチレンテレフ
タレートフイルムの両面に、塗布、乾燥、硬化せしめ
て、紫外線遮断層（Ｃ）を設けた。 次に上記積層フイルムの両面に実施例１と同様にして
真空蒸着法により酸化ケイ素薄膜層（Ｂ）を各々約600
Åの厚さに形成した。（B/C/A/C/B） 上記積層フイルムおよびレトルト処理品の諸物性を測
定した結果、表１に示すように、レトルト処理後におい
ても良好な透明性、紫外線遮断性、ガスバリア性を示し
た。 比較例２ 実施例２の酸化ケイ素蒸着膜のかわりに酸化アルミニ
ウム蒸着膜を両面に各々約600Å形成した積層フイルム
およびレトルト処理後の諸物性を測定した結果、表１の
結果を得た。 実施例２に比べて、レトルト処理後の紫外線遮断性、
ガスバリア性は不満足なものであった。 実施例３ 実施例１と同じ方法で、ポリエチレンテレフタレート
フイルム上に酸化ケイ素蒸着膜を形成した積層フイルム
（A/B）を作成し、下記の方法で２枚を積層した。 すなわち、上記積層フイルム（A/B）の酸化ケイ素蒸
着膜上にポリエステル系接着剤アドコートAD−810Aおよ
び硬化剤AD−810B（東洋モートン社製）中に紫外線吸収
剤チヌビンＰ（チバガイギー社製）を固形分比３％添加
したものを、固形分の膜厚が３μｍになるように塗布、
乾燥後、別に用意した上記積層フイルム（A/B）の酸化
ケイ素蒸着面と熱圧着法によりラミネートし、アフター
キュアーした。（A/B/C/B/A） この積層フイルムおよびレトルト処理後の諸物性を測
定した結果、表１の通り極めて満足すべき値を得た。 比較例３ 実施例３の酸化ケイ素蒸着膜のかわりに、ポリ塩化ビ
ニリデン系樹脂をコーティングし、固形分として約３μ
ｍのガスバリア層を形成した。 上記積層をフイルム２枚をポリ塩化ビニリデン系樹脂
側が接着剤で接着されるように実施例３と同様ポリエス
テル系接着剤アドコートAD−810Aおよび硬化剤AD−810B
（東洋モートン社製）中に紫外線吸収剤チヌビンＰ（チ
バガイギー社製）を固形分比３％添加したものを用い
て、ラミネートし、アフターキュアーした。 この積層フイルムおよびレトルト処理後の諸物性を測
定した結果、表１の通り、実施例３に比べると、レトル
ト処理後の紫外線遮断性、ガスバリア性は不満足な値で
あった。 実施例４ 実施例１と同様の方法で、二軸延伸されたポリエチレ
ンテレフタレートフイルム上に厚さ約600Åの酸化ケイ
素蒸着膜を形成した積層フイルム（A/B）を作成した。
次いで、酸化ケイ素蒸着膜上にポリエステル系接着剤ア
ドコートAD−810Aおよび硬化剤AD−810B（東洋モートン
社製）中に紫外線吸収剤チヌビンＰ（チバガイギー社
製）を固形分比３％添加したものを、固形分の膜厚が３
μｍになるように塗布、乾燥後、別に用意した厚さ60μ
ｍのポリプロピレン系無延伸フイルム（Ｄ）をラミネー
トし、アフターキュアーした。（A/B/C/D） この積層フイルムは、実施例１で得たものと同様、レ
トルト処理後も良好なガスバリヤー性と紫外線遮断性を
示した。またこの積層フイルムのポリプロピレンフイル
ム面をヒートシール面としてヒートシールした結果、レ
トルト処理後も、充分な接着強さを有していた。
本発明は、前記構成、即ち酸化珪素系ガスバリヤー層
（Ｂ）と紫外線遮断層（Ｃ）の２層が存在するため、そ
の相互作用によりレトルト処理後においても極めて優れ
た透明性、ガスバリヤー性と紫外線遮断性を発揮する。
したがって、レトルト食品包装用フイルムとして使用す
る場合、レトルト処理後でも内容物の透視性がよく、か
つ食品保存に有害な酸素、紫外線、細菌などを極めて少
ない状態に長時間維持することができ、食品保存特性と
しては抜群の作用効果を発揮する。 紫外線遮断層（Ｃ）の形成を例えばA/C/BやA/B/C/B/A
のように内層に形成することにより、該層が合成樹脂系
フイルム層（Ａ）、酸化珪素系ガスバリヤー層（Ｂ）な
どによって、さらに強固に保護されるため、レトルト殺
菌処理などの過酷な高温、高湿（例えば125℃、30mi
n.）処理を受けても紫外線吸収剤が溶出、揮発などによ
って失われ、その効果が減少することを完全に防止でき
る。このことは、食品包装用フイルムとして使用する場
合には、内容物である食品に紫外線吸収剤が移行せしめ
ないと言う作用効果を発揮し、極めて好ましい。
（Ｂ）と紫外線遮断層（Ｃ）の２層が存在するため、そ
の相互作用によりレトルト処理後においても極めて優れ
た透明性、ガスバリヤー性と紫外線遮断性を発揮する。
したがって、レトルト食品包装用フイルムとして使用す
る場合、レトルト処理後でも内容物の透視性がよく、か
つ食品保存に有害な酸素、紫外線、細菌などを極めて少
ない状態に長時間維持することができ、食品保存特性と
しては抜群の作用効果を発揮する。 紫外線遮断層（Ｃ）の形成を例えばA/C/BやA/B/C/B/A
のように内層に形成することにより、該層が合成樹脂系
フイルム層（Ａ）、酸化珪素系ガスバリヤー層（Ｂ）な
どによって、さらに強固に保護されるため、レトルト殺
菌処理などの過酷な高温、高湿（例えば125℃、30mi
n.）処理を受けても紫外線吸収剤が溶出、揮発などによ
って失われ、その効果が減少することを完全に防止でき
る。このことは、食品包装用フイルムとして使用する場
合には、内容物である食品に紫外線吸収剤が移行せしめ
ないと言う作用効果を発揮し、極めて好ましい。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C23C 14/00 - 14/58 B32B 1/00 - 35/00
Claims (2)
- 【請求項１】合成樹脂系フイルム（Ａ）の少なくとも片
面に酸化珪素系（SiOX、Ｘ＝1.0〜2.0）薄膜層（Ｂ）お
よび紫外線吸収剤または紫外線遮断剤をバインダーに分
散させてなる厚さ0.1〜20μｍの紫外線遮断層（Ｃ）を
設けた、波長550nmにおける光線透過率が76％以上であ
り、かつ波長350nmにおける紫外線遮断率が80％以上で
あり、酸素ガス透過率が1.6cc/m2・24Hrs以下であるこ
とを特徴とする積層フイルム。 - 【請求項２】合成樹脂系フイルム（Ａ）、酸化珪素系薄
膜層（Ｂ）および紫外線遮断層（Ｃ）が、 A/B/C A/C/B B/A/C C/B/A/B/C B/C/A/C/B B/C/A/B/C A/B/C/B/A A/B/C/A の順に積層されてなる請求項１記載の積層フイルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21296590A JP2892794B2 (ja) | 1990-08-10 | 1990-08-10 | 積層フイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21296590A JP2892794B2 (ja) | 1990-08-10 | 1990-08-10 | 積層フイルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0499263A JPH0499263A (ja) | 1992-03-31 |
| JP2892794B2 true JP2892794B2 (ja) | 1999-05-17 |
Family
ID=16631227
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21296590A Expired - Lifetime JP2892794B2 (ja) | 1990-08-10 | 1990-08-10 | 積層フイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2892794B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4717497B2 (ja) * | 2005-04-20 | 2011-07-06 | 富士フイルム株式会社 | ガスバリアフィルム |
| JP5540803B2 (ja) * | 2010-03-23 | 2014-07-02 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルムの製造方法 |
| JP5581816B2 (ja) * | 2010-06-02 | 2014-09-03 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルム、及びそれを用いた有機素子デバイス |
| JP5565129B2 (ja) * | 2010-06-22 | 2014-08-06 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルム、及びそれを用いた有機素子デバイス |
| JP2012134445A (ja) * | 2010-12-01 | 2012-07-12 | Fujifilm Corp | 保護フィルム |
| KR20170139317A (ko) * | 2016-06-09 | 2017-12-19 | 롯데제과 주식회사 | 견과류 제품의 품질열화 방지용 자외선 차단 투명 포장필름 |
-
1990
- 1990-08-10 JP JP21296590A patent/JP2892794B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0499263A (ja) | 1992-03-31 |
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