JP2883732B2 - 電気伝導性透明ハイバリヤーフイルム - Google Patents
電気伝導性透明ハイバリヤーフイルムInfo
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は透明性、電気伝導性、ガス遮断性などの高機
能性を有するフイルム、なかんずく包装材料用に適した
電気伝導性透明ハイバリヤーフイルムに関する。
能性を有するフイルム、なかんずく包装材料用に適した
電気伝導性透明ハイバリヤーフイルムに関する。
従来より透明合成樹脂系フイルム上に酸化珪素系薄膜
を形成した、透明性、ガスバリヤー性を有する包装用フ
イルムが知られている（例えば特公昭52−48510号公
報、実公昭52−3418号公報など）。また食品包装フイル
ムの保存性を高めるため、あるいは電子部品などの静電
気障害を受けやすい内容物を保護するために金属蒸着膜
や金属箔を貼合した包装用フイルムも知られているが、
透明性、電気伝導性、ガス遮断性などを併せ持つものは
未だに知られていない。 たとえば、合成樹脂系フイルムの表面に酸化珪素系薄
膜を蒸着したものが透明性、ガスバリヤー性を有する包
装用フイルムとして知られている。しかしながらこれは
レトルト処理の如き高温、高湿処理によりガスバリアヤ
ー性が大幅に低下するようなことはないが、極僅かなが
ら珪素酸化物蒸着膜に存在する微少ピンホール、微少ク
ラックなどの欠陥のためにたとえば透湿度、酸素透過率
などの特性が低下するのが普通であって必ずしも満足で
きるものではなく、さらに電気伝導性において劣るため
電子部品などの静電気障害を受けやすい内容物を保護す
るための包装用フイルムとしては不満足なものであると
いう問題点があった。 さらには透湿度、酸素透過率の小さい、電気伝導性も
優れた透明なフイルムを得ようとして珪素酸化物蒸着膜
の厚みを厚くすることも試みられたが、実際問題として
は、単に厚みを増加しても微少ピンホール、微少クラッ
クなどの欠陥は改良されることなく、得られる膜の着色
が濃くなるだけであって透明性が悪くなるという新たな
問題点が生じた。そのうえ電気伝導性をもたせる為には
酸化錫などを同時蒸着する必要があり特別な蒸着技術や
設備が必要であるという問題点があった。 また透明フイルムに金属蒸着層を設けたり金属箔をラ
ミネートした包装用フイルムが知られている。このフイ
ルムは電気伝導性という点においては満足できるもので
ある。しかしながら不透明であるために包装内容物を目
視で確認できないという問題点があった。
を形成した、透明性、ガスバリヤー性を有する包装用フ
イルムが知られている（例えば特公昭52−48510号公
報、実公昭52−3418号公報など）。また食品包装フイル
ムの保存性を高めるため、あるいは電子部品などの静電
気障害を受けやすい内容物を保護するために金属蒸着膜
や金属箔を貼合した包装用フイルムも知られているが、
透明性、電気伝導性、ガス遮断性などを併せ持つものは
未だに知られていない。 たとえば、合成樹脂系フイルムの表面に酸化珪素系薄
膜を蒸着したものが透明性、ガスバリヤー性を有する包
装用フイルムとして知られている。しかしながらこれは
レトルト処理の如き高温、高湿処理によりガスバリアヤ
ー性が大幅に低下するようなことはないが、極僅かなが
ら珪素酸化物蒸着膜に存在する微少ピンホール、微少ク
ラックなどの欠陥のためにたとえば透湿度、酸素透過率
などの特性が低下するのが普通であって必ずしも満足で
きるものではなく、さらに電気伝導性において劣るため
電子部品などの静電気障害を受けやすい内容物を保護す
るための包装用フイルムとしては不満足なものであると
いう問題点があった。 さらには透湿度、酸素透過率の小さい、電気伝導性も
優れた透明なフイルムを得ようとして珪素酸化物蒸着膜
の厚みを厚くすることも試みられたが、実際問題として
は、単に厚みを増加しても微少ピンホール、微少クラッ
クなどの欠陥は改良されることなく、得られる膜の着色
が濃くなるだけであって透明性が悪くなるという新たな
問題点が生じた。そのうえ電気伝導性をもたせる為には
酸化錫などを同時蒸着する必要があり特別な蒸着技術や
設備が必要であるという問題点があった。 また透明フイルムに金属蒸着層を設けたり金属箔をラ
ミネートした包装用フイルムが知られている。このフイ
ルムは電気伝導性という点においては満足できるもので
ある。しかしながら不透明であるために包装内容物を目
視で確認できないという問題点があった。
本発明は従来の透明性、ガスバリアヤー性や電気伝導
性フイルムの前記種々の問題点を解決することが目的で
ある。 すなわち、本発明は透明性、電気伝導性、ガス遮断性
などの高機能性を有し、透明性であるため包装内容物を
目視で確認でき、電気伝導性であるため電子部品などの
静電気障害を受けやすい包装内容物を静電気障害から保
護でき、また粉体の医薬品や食品を高速充填する場合に
問題となる静電気障害を防止でき、ガス遮断性であるか
ら包装内容物を酸素、水分などから保護しうることがで
きる電気伝導性透明ハイバリヤーフイルムを提供するこ
とにある。
性フイルムの前記種々の問題点を解決することが目的で
ある。 すなわち、本発明は透明性、電気伝導性、ガス遮断性
などの高機能性を有し、透明性であるため包装内容物を
目視で確認でき、電気伝導性であるため電子部品などの
静電気障害を受けやすい包装内容物を静電気障害から保
護でき、また粉体の医薬品や食品を高速充填する場合に
問題となる静電気障害を防止でき、ガス遮断性であるか
ら包装内容物を酸素、水分などから保護しうることがで
きる電気伝導性透明ハイバリヤーフイルムを提供するこ
とにある。
本発明の電気伝導性透明ハイバリヤーフイルムは、合
成樹脂系フイルム（Ａ）の少なくとも片面に酸化珪素系
（SiOX、Ｘ＝1.0〜1.8）薄膜層（Ｂ）および金属薄膜層
（Ｃ）を設けたハイバリヤーフイルムであって、波長55
0nmの光線透過率が10〜50％、表面電気抵抗が106Ω／□
以下、酸素ガス透過率が2.5cc/m2・24hrs以下、透湿度
2.7g/m2・24hrs以下であることを特徴とする電気伝導性
透明ハイバリヤーフイルムであり、さらには、合成樹脂
系フイルム（Ａ）、酸化珪素系薄膜層（Ｂ）および金属
薄膜層（Ｃ）がA/B/C、A/C/Bの順に積層されてなる
前記の電気伝導性透明ハイバリヤーフイルムである。 さらにまた、これらの構成の最外層にポリオレフィン
系合成樹脂などからなるヒートシール層（Ｄ）を設ける
ようにしてもよい。 本発明は上記構成、すなわち酸化珪素系ガスバリアヤ
ー層と金属薄膜層とを積層することによってそれぞれを
単独で合成樹脂系フイルムに蒸着した物の個々のバリヤ
ー性能から予測できるものより格段に優れたバリヤー性
能がえられる。このバリヤー性能の向上は金属薄膜と酸
化珪素を積層することにより、この界面に新規なガスバ
リアヤー性の層が形成されることに起因すると考えられ
る。さらにまたこの様な構成としたのでレトルト殺菌処
理の如き過酷な高温、高湿処理後においても良好なガス
バリヤー性と電気伝導性が得られる電気伝導性透明ハイ
バリヤーフイルムを提供することを可能としたものであ
る。 本発明の電気伝導性透明ハイバリヤーフイルムにおい
て用いる合成樹脂系フイルム（Ａ）としては特に制限は
なく、充分な自己保持性、耐熱性、フレキシビリティ、
透明性を有するものであればいずれも用いられる。たと
えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタ
レート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステ
ル、ナイロン６、ナイロン12などのポリアミド、ポリプ
ロピレン、ポリ４メチルペンテン１などのポリオレフィ
ンなどの合成樹脂系フイルムで、厚さとしては４〜100
μｍ、好ましくは９〜25μｍ程度のものを用いるのが、
しわや亀裂などのない電気伝導性透明ハイバリヤーフイ
ルムの製造が連続的に大量生産できる点から好ましい。 また合成樹脂系フイルム（Ａ）は、一軸延伸や二軸延
伸されたものであってもよく、光沢、強度などの面から
は二軸延伸されたものが好ましくは用いられる。 また合成樹脂系フイルム（Ａ）は、その表面がコロナ
放電処理、低温プラズマ処理などの表面処理がなされた
ものであってもよく、一般にフイルムと蒸着した珪素酸
化物との密着性を良くすることができて好ましい。 さらにまた合成樹脂系フイルム（Ａ）は、その表面に
下塗層を設けたものであってもよく、下塗層を形成する
ための樹脂としては、たとえば熱可塑性樹脂、熱硬化性
樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂のいずれも
が用いられ、たとえばアクリル系樹脂、塩化ビニルー酢
酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、ポリカーボ
ネート、ニトロセルロース、セルロースアセテート、ウ
レタン系樹脂、尿素系樹脂、メラミン系樹脂、尿素ーメ
ラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、アルキッド系樹脂、ア
ミノアルキッド系樹脂、ロジン変性マレイン酸樹脂など
の単独または混合物や、シランカップリング剤が好まし
く用いられる。 下塗層の形成には、前記下塗層を形成するための樹脂
の有機溶剤溶液、水溶液などやカップリング剤をロール
コーティング法、グラビアコーティング法、リバースコ
ーティング法、スプレイコーティング法などの通常のコ
ーティング法により塗布し、乾燥（熱硬化性樹脂、電子
線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂などの場合は硬化）す
ることによって行なわれる。 酸化珪素系薄膜層（Ｂ）としては、SiOx、（ｘ＝1.0
〜2.0、好ましくはｘ＝1.0〜1.8）を主体とするが、少
量のAl2O3、MgO、ZnO、TiO2などの他の金属化合物を含
有していてもよい。その形成には高周波加熱真空蒸着や
電子ビーム加熱蒸着などが使われる。SiOxのｘが1.0以
下では透明性とガスバリヤー性に劣り、2.0では透明性
に優れるもののガスバリヤー性に劣るなどの問題がある
ので好ましくない。 珪素酸化物蒸着膜の厚さとしては特に制限はないが、
その製品の用途と所望される性能などによって適宜選択
決定されるが、ガスバリヤー性と耐屈曲性などを考慮し
て通常は300〜2000Å程度の範囲から、好ましくは500〜
1000Å程度の範囲から選ばれる。300Å以下ではバリヤ
ー性に劣り、2000Å以上では透明性に劣るばかりか、耐
屈曲性にも劣り、またSiOx膜の応力により後工程での作
業に支障をきたしたり、経済性に劣るなどの問題がある
ので好ましくない。 金属薄膜層（Ｃ）としては、特に制限はないが光線透
過率が10％以上、好ましくは40〜50％、表面電気抵抗が
106Ω／□以下、好ましくは103Ω／□以下とする為に
は、たとえばAl、Ni、Cr、Ti、Au、Ag、Cu、Ptなどの金
属単体もしくはその合金が好ましく用いられる。金属の
種類にもよるが上記の光線透過率がえられる金属または
合金の膜厚はおおむね30Å以上程度、好ましくは30〜10
0Å程度の範囲である。その形成には高周波加熱真空蒸
着や電子ビーム加熱蒸着などが使われる。光線透過率を
10％以下では透明性に劣り、表面電気抵抗が106Ω／□
以上では電気伝導性に劣るなどの問題があるので好まし
くない。 つぎに実施例をあげて本発明を説明する。尚、表１に
実施例と比較例のデータをまとめた。
成樹脂系フイルム（Ａ）の少なくとも片面に酸化珪素系
（SiOX、Ｘ＝1.0〜1.8）薄膜層（Ｂ）および金属薄膜層
（Ｃ）を設けたハイバリヤーフイルムであって、波長55
0nmの光線透過率が10〜50％、表面電気抵抗が106Ω／□
以下、酸素ガス透過率が2.5cc/m2・24hrs以下、透湿度
2.7g/m2・24hrs以下であることを特徴とする電気伝導性
透明ハイバリヤーフイルムであり、さらには、合成樹脂
系フイルム（Ａ）、酸化珪素系薄膜層（Ｂ）および金属
薄膜層（Ｃ）がA/B/C、A/C/Bの順に積層されてなる
前記の電気伝導性透明ハイバリヤーフイルムである。 さらにまた、これらの構成の最外層にポリオレフィン
系合成樹脂などからなるヒートシール層（Ｄ）を設ける
ようにしてもよい。 本発明は上記構成、すなわち酸化珪素系ガスバリアヤ
ー層と金属薄膜層とを積層することによってそれぞれを
単独で合成樹脂系フイルムに蒸着した物の個々のバリヤ
ー性能から予測できるものより格段に優れたバリヤー性
能がえられる。このバリヤー性能の向上は金属薄膜と酸
化珪素を積層することにより、この界面に新規なガスバ
リアヤー性の層が形成されることに起因すると考えられ
る。さらにまたこの様な構成としたのでレトルト殺菌処
理の如き過酷な高温、高湿処理後においても良好なガス
バリヤー性と電気伝導性が得られる電気伝導性透明ハイ
バリヤーフイルムを提供することを可能としたものであ
る。 本発明の電気伝導性透明ハイバリヤーフイルムにおい
て用いる合成樹脂系フイルム（Ａ）としては特に制限は
なく、充分な自己保持性、耐熱性、フレキシビリティ、
透明性を有するものであればいずれも用いられる。たと
えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタ
レート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステ
ル、ナイロン６、ナイロン12などのポリアミド、ポリプ
ロピレン、ポリ４メチルペンテン１などのポリオレフィ
ンなどの合成樹脂系フイルムで、厚さとしては４〜100
μｍ、好ましくは９〜25μｍ程度のものを用いるのが、
しわや亀裂などのない電気伝導性透明ハイバリヤーフイ
ルムの製造が連続的に大量生産できる点から好ましい。 また合成樹脂系フイルム（Ａ）は、一軸延伸や二軸延
伸されたものであってもよく、光沢、強度などの面から
は二軸延伸されたものが好ましくは用いられる。 また合成樹脂系フイルム（Ａ）は、その表面がコロナ
放電処理、低温プラズマ処理などの表面処理がなされた
ものであってもよく、一般にフイルムと蒸着した珪素酸
化物との密着性を良くすることができて好ましい。 さらにまた合成樹脂系フイルム（Ａ）は、その表面に
下塗層を設けたものであってもよく、下塗層を形成する
ための樹脂としては、たとえば熱可塑性樹脂、熱硬化性
樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂のいずれも
が用いられ、たとえばアクリル系樹脂、塩化ビニルー酢
酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、ポリカーボ
ネート、ニトロセルロース、セルロースアセテート、ウ
レタン系樹脂、尿素系樹脂、メラミン系樹脂、尿素ーメ
ラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、アルキッド系樹脂、ア
ミノアルキッド系樹脂、ロジン変性マレイン酸樹脂など
の単独または混合物や、シランカップリング剤が好まし
く用いられる。 下塗層の形成には、前記下塗層を形成するための樹脂
の有機溶剤溶液、水溶液などやカップリング剤をロール
コーティング法、グラビアコーティング法、リバースコ
ーティング法、スプレイコーティング法などの通常のコ
ーティング法により塗布し、乾燥（熱硬化性樹脂、電子
線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂などの場合は硬化）す
ることによって行なわれる。 酸化珪素系薄膜層（Ｂ）としては、SiOx、（ｘ＝1.0
〜2.0、好ましくはｘ＝1.0〜1.8）を主体とするが、少
量のAl2O3、MgO、ZnO、TiO2などの他の金属化合物を含
有していてもよい。その形成には高周波加熱真空蒸着や
電子ビーム加熱蒸着などが使われる。SiOxのｘが1.0以
下では透明性とガスバリヤー性に劣り、2.0では透明性
に優れるもののガスバリヤー性に劣るなどの問題がある
ので好ましくない。 珪素酸化物蒸着膜の厚さとしては特に制限はないが、
その製品の用途と所望される性能などによって適宜選択
決定されるが、ガスバリヤー性と耐屈曲性などを考慮し
て通常は300〜2000Å程度の範囲から、好ましくは500〜
1000Å程度の範囲から選ばれる。300Å以下ではバリヤ
ー性に劣り、2000Å以上では透明性に劣るばかりか、耐
屈曲性にも劣り、またSiOx膜の応力により後工程での作
業に支障をきたしたり、経済性に劣るなどの問題がある
ので好ましくない。 金属薄膜層（Ｃ）としては、特に制限はないが光線透
過率が10％以上、好ましくは40〜50％、表面電気抵抗が
106Ω／□以下、好ましくは103Ω／□以下とする為に
は、たとえばAl、Ni、Cr、Ti、Au、Ag、Cu、Ptなどの金
属単体もしくはその合金が好ましく用いられる。金属の
種類にもよるが上記の光線透過率がえられる金属または
合金の膜厚はおおむね30Å以上程度、好ましくは30〜10
0Å程度の範囲である。その形成には高周波加熱真空蒸
着や電子ビーム加熱蒸着などが使われる。光線透過率を
10％以下では透明性に劣り、表面電気抵抗が106Ω／□
以上では電気伝導性に劣るなどの問題があるので好まし
くない。 つぎに実施例をあげて本発明を説明する。尚、表１に
実施例と比較例のデータをまとめた。
実施例１ 厚さ25μｍの二軸延伸されたポリエチレンテレフタレ
ートの透明フイルムを基材（Ａ）とし、真空槽内をあら
かじめ５×10-5Torrに排気した後、一酸化珪素を蒸発源
として電子ビーム加熱方式で蒸発させ、基材上に酸化珪
素薄膜層（Ｂ）を形成した。形成された酸化珪素薄膜層
（Ｂ）の厚さは約600Åであり、その組成はESCAで分析
したところ、SiOx（Ｘ＝1.7）であった。次いで酸化珪
素薄膜層の面上にアルミニウムを約50Åに蒸着して光線
透過率45％の金属薄膜層（Ｃ）を形成して、本発明の電
気伝導性透明ハイバリヤーフイルムを得た。（A/B/C） 比較例１ 実施例１において金属薄膜層（Ｃ）を設けなかった場
合（A/B）の電気伝導性透明ハイバリヤーフイルムの諸
特性は表１に示すように実施例１に比べ電気伝導性は不
満足なるものであった。 実施例２ 厚さ12μｍの二軸延伸されたポリエチレンテレフタレ
ートの透明フイルムを基材（Ａ）とし、実施例１と同様
にして該基材の面上にアルミニウムを約50Åに蒸着して
光線透過率50％の金属薄膜層（Ｃ）を形成した後、実施
例１と同様にして該金属薄膜層の面上に厚さが約300Å
で、その組成がSiOx（Ｘ＝1.7）である酸化珪素薄膜層
（Ｂ）を形成して、本発明の電気伝導性透明ハイバリヤ
ーフイルムを得た。（A/C/B） 比較例２ 実施例２において、酸化珪素薄膜層（Ｂ）を設けなか
った場合（A/C）の電気伝導性透明ハイバリヤーフイル
ムの諸特性は表１に示すように、実施例２に比べ、バリ
ヤー性は不満足なるものであった。 実施例３ 厚さ25μｍの二軸延伸されたポリエチレンテレフタレ
ートの透明フイルムを基材（Ａ）とし、真空槽内をあら
かじめ５×10-5Torrに排気した後、珪素粉末と二酸化珪
素粉末の等モル混合したものを蒸発源として電子ビーム
加熱方式で蒸発させ、基材上に酸化珪素薄膜層（Ｂ）を
形成した。形成された酸化珪素薄膜層（Ｂ）の厚さは約
900Åであり、その組成はSiOx（Ｘ＝1.5）であった。次
いで酸化珪素薄膜層の面上にクロムを約50Åに蒸着して
光線透過率45％の金属薄膜層（Ｃ）を形成して、本発明
の電気伝導性透明ハイバリヤーフイルムを得た。（A/B/
C） 比較例３ 厚さ12μｍの二軸延伸されたポリエチレンテレフタレ
ートの透明フイルムを基材（Ａ）とし、実施例３におけ
る蒸発源として珪素粉末と二酸化珪素粉末の等モル混合
したものにかえて二酸化珪素を、クロムにかえてニッケ
ルを蒸発源としたほかは実施例３と同様にして、基材
（Ａ）の面上に厚さが約500Å、その組成がSiOx（Ｘ＝
２）の酸化珪素薄膜層（Ｂ）を、次いでその面上に厚さ
が約60Å、光線透過率が40％のニッケル金属薄膜層
（Ｃ）形成した。 実施例４ 厚さ12μｍの二軸延伸されたポリエチレンテレフタレ
ートの透明フイルムを基材（Ａ）とし、実施例１と同様
にして該基材の面上にチタニウムを約30Åに蒸着して光
線透過率55％の金属薄膜層（Ｃ）を形成した後、酸素ガ
スを導入しながら酸素分圧８×10-5Torrで珪素を蒸発源
として反応性蒸発法で、基材上に酸化珪素薄膜層（Ｂ）
を形成した。形成された酸化珪素薄膜層（Ｂ）の厚さは
約300Åであり、その組成はSiOx（Ｘ＝1.2）であった。
（A/C/B） 実施例５ 実施例１で得た、透明ポリエチレンテレフタレートフ
イルムを基材（Ａ）と基材上に形成した酸化珪素薄膜層
（Ｂ）と酸化珪素薄膜層上に形成したアルミニウムから
なる電気伝導性透明ハイバリヤーフイルムのアルミニウ
ムの面上に、アクリル樹脂系塗液を塗布乾燥して厚さ約
１μｍの透明樹脂保護層を形成し、ポリエチレンテレフ
タレート基材の面上には厚さ60μｍのポリエチレン樹脂
を押出しラミネートして複合フイルムを得た。 実施例６ 実施例２で得た透明ポリエチレンテレフタレートフイ
ルムを基材（Ａ）と基材上に形成したアルミニウム金属
薄膜層（Ｃ）と酸化珪素薄膜層（Ｂ）とからなる電気伝
導性透明ハイバリヤーフイルムのポリエチレンテレフタ
レート基材の面上に厚さ60μｍのポリエチレン樹脂を押
出しラミネートして複合フイルムを得た。
ートの透明フイルムを基材（Ａ）とし、真空槽内をあら
かじめ５×10-5Torrに排気した後、一酸化珪素を蒸発源
として電子ビーム加熱方式で蒸発させ、基材上に酸化珪
素薄膜層（Ｂ）を形成した。形成された酸化珪素薄膜層
（Ｂ）の厚さは約600Åであり、その組成はESCAで分析
したところ、SiOx（Ｘ＝1.7）であった。次いで酸化珪
素薄膜層の面上にアルミニウムを約50Åに蒸着して光線
透過率45％の金属薄膜層（Ｃ）を形成して、本発明の電
気伝導性透明ハイバリヤーフイルムを得た。（A/B/C） 比較例１ 実施例１において金属薄膜層（Ｃ）を設けなかった場
合（A/B）の電気伝導性透明ハイバリヤーフイルムの諸
特性は表１に示すように実施例１に比べ電気伝導性は不
満足なるものであった。 実施例２ 厚さ12μｍの二軸延伸されたポリエチレンテレフタレ
ートの透明フイルムを基材（Ａ）とし、実施例１と同様
にして該基材の面上にアルミニウムを約50Åに蒸着して
光線透過率50％の金属薄膜層（Ｃ）を形成した後、実施
例１と同様にして該金属薄膜層の面上に厚さが約300Å
で、その組成がSiOx（Ｘ＝1.7）である酸化珪素薄膜層
（Ｂ）を形成して、本発明の電気伝導性透明ハイバリヤ
ーフイルムを得た。（A/C/B） 比較例２ 実施例２において、酸化珪素薄膜層（Ｂ）を設けなか
った場合（A/C）の電気伝導性透明ハイバリヤーフイル
ムの諸特性は表１に示すように、実施例２に比べ、バリ
ヤー性は不満足なるものであった。 実施例３ 厚さ25μｍの二軸延伸されたポリエチレンテレフタレ
ートの透明フイルムを基材（Ａ）とし、真空槽内をあら
かじめ５×10-5Torrに排気した後、珪素粉末と二酸化珪
素粉末の等モル混合したものを蒸発源として電子ビーム
加熱方式で蒸発させ、基材上に酸化珪素薄膜層（Ｂ）を
形成した。形成された酸化珪素薄膜層（Ｂ）の厚さは約
900Åであり、その組成はSiOx（Ｘ＝1.5）であった。次
いで酸化珪素薄膜層の面上にクロムを約50Åに蒸着して
光線透過率45％の金属薄膜層（Ｃ）を形成して、本発明
の電気伝導性透明ハイバリヤーフイルムを得た。（A/B/
C） 比較例３ 厚さ12μｍの二軸延伸されたポリエチレンテレフタレ
ートの透明フイルムを基材（Ａ）とし、実施例３におけ
る蒸発源として珪素粉末と二酸化珪素粉末の等モル混合
したものにかえて二酸化珪素を、クロムにかえてニッケ
ルを蒸発源としたほかは実施例３と同様にして、基材
（Ａ）の面上に厚さが約500Å、その組成がSiOx（Ｘ＝
２）の酸化珪素薄膜層（Ｂ）を、次いでその面上に厚さ
が約60Å、光線透過率が40％のニッケル金属薄膜層
（Ｃ）形成した。 実施例４ 厚さ12μｍの二軸延伸されたポリエチレンテレフタレ
ートの透明フイルムを基材（Ａ）とし、実施例１と同様
にして該基材の面上にチタニウムを約30Åに蒸着して光
線透過率55％の金属薄膜層（Ｃ）を形成した後、酸素ガ
スを導入しながら酸素分圧８×10-5Torrで珪素を蒸発源
として反応性蒸発法で、基材上に酸化珪素薄膜層（Ｂ）
を形成した。形成された酸化珪素薄膜層（Ｂ）の厚さは
約300Åであり、その組成はSiOx（Ｘ＝1.2）であった。
（A/C/B） 実施例５ 実施例１で得た、透明ポリエチレンテレフタレートフ
イルムを基材（Ａ）と基材上に形成した酸化珪素薄膜層
（Ｂ）と酸化珪素薄膜層上に形成したアルミニウムから
なる電気伝導性透明ハイバリヤーフイルムのアルミニウ
ムの面上に、アクリル樹脂系塗液を塗布乾燥して厚さ約
１μｍの透明樹脂保護層を形成し、ポリエチレンテレフ
タレート基材の面上には厚さ60μｍのポリエチレン樹脂
を押出しラミネートして複合フイルムを得た。 実施例６ 実施例２で得た透明ポリエチレンテレフタレートフイ
ルムを基材（Ａ）と基材上に形成したアルミニウム金属
薄膜層（Ｃ）と酸化珪素薄膜層（Ｂ）とからなる電気伝
導性透明ハイバリヤーフイルムのポリエチレンテレフタ
レート基材の面上に厚さ60μｍのポリエチレン樹脂を押
出しラミネートして複合フイルムを得た。
本発明は、前記構成、即ち酸化珪素系ガスバリヤー層
（Ｂ）と金属薄膜層（Ｃ）の２層が存在するため、その
相互作用により極めて優れた透明性、ガスバリヤー性と
電気伝導性を発揮する。したがって、透明性であるため
包装内容物を目視で確認することができ、電気伝導性で
あるため電子部品などの静電気障害を受けやすい包装内
容物を静電気障害から保護することができ、また粉体の
医薬品や食品を高速充填する場合に問題となる静電気障
害を防止することができ、ガス遮断性であるから包装内
容物を酸素、水分などから保護することができるという
極めて優れた作用効果を発揮する。
（Ｂ）と金属薄膜層（Ｃ）の２層が存在するため、その
相互作用により極めて優れた透明性、ガスバリヤー性と
電気伝導性を発揮する。したがって、透明性であるため
包装内容物を目視で確認することができ、電気伝導性で
あるため電子部品などの静電気障害を受けやすい包装内
容物を静電気障害から保護することができ、また粉体の
医薬品や食品を高速充填する場合に問題となる静電気障
害を防止することができ、ガス遮断性であるから包装内
容物を酸素、水分などから保護することができるという
極めて優れた作用効果を発揮する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C23C 14/00 - 14/58 B32B 15/00 - 15/20
Claims (2)
- 【請求項１】合成樹脂系フイルム（Ａ）の少なくとも片
面に酸化珪素系（SiOX、Ｘ＝1.0〜1.8）薄膜層（Ｂ）お
よび金属薄膜層（Ｃ）を設けたハイバリヤーフイルムで
あって、波長550nmの光線透過率が10〜50％、表面電気
抵抗が106Ω／□以下、酸素ガス透過率が2.5cc/m2・24h
rs以下、透湿度2.7g/m2・24hrs以下であることを特徴と
する電気伝導性透明ハイバリヤーフイルム。 - 【請求項２】合成樹脂系フイルム（Ａ）、酸化珪素系薄
膜層（Ｂ）および金属薄膜層（Ｃ）が、 A/B/C A/C/B の順に積層されてなる請求項１記載の電気伝導性透明ハ
イバリヤーフイルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34124390A JP2883732B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 電気伝導性透明ハイバリヤーフイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34124390A JP2883732B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 電気伝導性透明ハイバリヤーフイルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04210464A JPH04210464A (ja) | 1992-07-31 |
| JP2883732B2 true JP2883732B2 (ja) | 1999-04-19 |
Family
ID=18344510
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34124390A Expired - Lifetime JP2883732B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 電気伝導性透明ハイバリヤーフイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2883732B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20010038894A1 (en) * | 2000-03-14 | 2001-11-08 | Minoru Komada | Gas barrier film |
| JP2001341225A (ja) * | 2000-05-30 | 2001-12-11 | Toppan Printing Co Ltd | 透明なガスバリア性積層フィルムおよびその製造方法 |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP34124390A patent/JP2883732B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04210464A (ja) | 1992-07-31 |
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