JP2888250B2 - 光学活性なヘキサデカン誘導体及びその製造方法 - Google Patents
光学活性なヘキサデカン誘導体及びその製造方法Info
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- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、光学活性なヘキサデカン誘導体およびその
製造方法に関する。
製造方法に関する。
［従来の技術］ ビタミンＥはトコールのメチル化誘導体で、天然には
８種の化合物、即ち、α−、β−、γ−およびδ−トコ
フェロール、並びにα−、β−、γ−およびδ−トコト
リエノールが存在する。トコフェロールおよびトコトリ
エノールには、ｄ体、ｌ体およびdl体の光学異性体が存
在するが、天然のものは全てｄ体である。また、合成ト
コフェロールは、一般にはジアステレオマー混合物とし
て調製される。そして、トコフェロールの生理活性が、
クロマン環上の２位−炭素原子におけるキラリティーに
大きく左右されることは知られている。
８種の化合物、即ち、α−、β−、γ−およびδ−トコ
フェロール、並びにα−、β−、γ−およびδ−トコト
リエノールが存在する。トコフェロールおよびトコトリ
エノールには、ｄ体、ｌ体およびdl体の光学異性体が存
在するが、天然のものは全てｄ体である。また、合成ト
コフェロールは、一般にはジアステレオマー混合物とし
て調製される。そして、トコフェロールの生理活性が、
クロマン環上の２位−炭素原子におけるキラリティーに
大きく左右されることは知られている。
光学活性なフィトールを出発材料として、光学活性な
トコフェロールを合成する方法は、例えば、特開昭59−
29678号または特開昭59−31726号各公報に記載されてい
る。これらの特許公報に記載の方法によれば、エナンチ
オ選択的酸化によって、天然フィトールの2,3−位にエ
ポキシ基を立体選択的に導入する。次に、３位のキラリ
ティーを維持しながら、そのエポキシ基を還元的に開裂
してヒドロキシ基とし、更にそのヒドロキシ基を保護し
た後で１位のヒドロキシ基を酸化してアルデヒド基とす
る。続いて、そのアルデヒド基にハロゲン化フェニルマ
グネシウムを作用させてベンゼン環を導入し、前記の３
位ヒドロキシ基を利用して閉環し、クロマン環の２位に
目的とするキラリティーを取り込むものである。
トコフェロールを合成する方法は、例えば、特開昭59−
29678号または特開昭59−31726号各公報に記載されてい
る。これらの特許公報に記載の方法によれば、エナンチ
オ選択的酸化によって、天然フィトールの2,3−位にエ
ポキシ基を立体選択的に導入する。次に、３位のキラリ
ティーを維持しながら、そのエポキシ基を還元的に開裂
してヒドロキシ基とし、更にそのヒドロキシ基を保護し
た後で１位のヒドロキシ基を酸化してアルデヒド基とす
る。続いて、そのアルデヒド基にハロゲン化フェニルマ
グネシウムを作用させてベンゼン環を導入し、前記の３
位ヒドロキシ基を利用して閉環し、クロマン環の２位に
目的とするキラリティーを取り込むものである。
しかしながら、前記の特許公報に記載の方法では、エ
ポキシ基を開環した後に２個のヒドロキシ基の一方のみ
を選択的に保護する必要があるので、多工程を要する。
また、不安定なβ−オキシアルデヒド中間体を経由する
ので、反応条件の設定が困難である。更に、無水条件で
しかもエーテルを必要とするグリニヤール試薬の使用
や、ベンジル位のヒドロキシ基を除去するための煩雑な
工程が必要になるなどの欠点があった。
ポキシ基を開環した後に２個のヒドロキシ基の一方のみ
を選択的に保護する必要があるので、多工程を要する。
また、不安定なβ−オキシアルデヒド中間体を経由する
ので、反応条件の設定が困難である。更に、無水条件で
しかもエーテルを必要とするグリニヤール試薬の使用
や、ベンジル位のヒドロキシ基を除去するための煩雑な
工程が必要になるなどの欠点があった。
［発明が解決しようとする課題］ 本発明の目的は、入手が容易な天然フィトールを用い
て、トコフェロールの生理活性に大きな影響を与える、
クロマン環上の２位−炭素原子におけるキラリティーを
天然型（Ｒ）に構築し、天然型α−トコフェロールを容
易に合成することができる、簡便で効率の良い手段を提
供することにある。
て、トコフェロールの生理活性に大きな影響を与える、
クロマン環上の２位−炭素原子におけるキラリティーを
天然型（Ｒ）に構築し、天然型α−トコフェロールを容
易に合成することができる、簡便で効率の良い手段を提
供することにある。
［課題を解決するための手段］ 前記の目的は、本発明である、一般式（Ｉ） ［式中、Ｚは、 （ｉ）３位がハロゲン原子で置換されている（1S,2S）
−1,2−エポキシ−１−メチル−プロピル基、 または（ii）３位が一般式（II） （式中、R1、R2およびR3はそれぞれ独立に水素原子また
は炭素数１〜４個の低級アルキル基であり、そしてＲは
ヒドロキシ基を保護する基である） で表される置換フェニル基で置換されている（1S）−１
−ヒドロキシ−１−メチル−プロピニル−２基である］ で表される化合物によって達成することができる。
−1,2−エポキシ−１−メチル−プロピル基、 または（ii）３位が一般式（II） （式中、R1、R2およびR3はそれぞれ独立に水素原子また
は炭素数１〜４個の低級アルキル基であり、そしてＲは
ヒドロキシ基を保護する基である） で表される置換フェニル基で置換されている（1S）−１
−ヒドロキシ−１−メチル−プロピニル−２基である］ で表される化合物によって達成することができる。
また、本発明は、一般式（I b） （式中、Ｘはハロゲン原子である） で表される化合物を強塩基で処理することを特徴とす
る、 一般式（I c） で表される化合物の製造方法にも関する。前記一般式
（Ｉ）で表される化合物は、天然フィトールから天然型
α−トコフェロールへ至る新規の合成経路において有用
な中間体であり、その合成経路の一部を示せば以下のと
おりである。
る、 一般式（I c） で表される化合物の製造方法にも関する。前記一般式
（Ｉ）で表される化合物は、天然フィトールから天然型
α−トコフェロールへ至る新規の合成経路において有用
な中間体であり、その合成経路の一部を示せば以下のと
おりである。
（ａ）式（III） で表される光学活性なフィトールエポキシド体の１−位
ヒドロキシ基をスルホニル化、特にはトシル化して、式
（I a） （式中、Ｔはアルキルスルホニル基、特に低級アルキル
スルホニル基、例えば、メチルスルホニル基；アルキル
部分が置換されているアルキルスルホニル基、特にハロ
ゲン置換低級アルキルスルホニル基、例えば、トリクロ
ロメチルスルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル
基；フェニルスルホニル基；またはベンゼン環が置換さ
れているフェニルスルホニル基、特にはベンゼン環が低
級アルキル基またはハロゲン原子で置換されているフェ
ニルスルホニル基、例えば、トシル基、ｐ−ブロモフェ
ニルスルホニル基、またはｐ−ニトロフェニルスルホニ
ル基である） で表される相当する（即ち、立体配置をそのまま保存し
て）光学活性なスルホン酸エステル体を生成する工程。
ヒドロキシ基をスルホニル化、特にはトシル化して、式
（I a） （式中、Ｔはアルキルスルホニル基、特に低級アルキル
スルホニル基、例えば、メチルスルホニル基；アルキル
部分が置換されているアルキルスルホニル基、特にハロ
ゲン置換低級アルキルスルホニル基、例えば、トリクロ
ロメチルスルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル
基；フェニルスルホニル基；またはベンゼン環が置換さ
れているフェニルスルホニル基、特にはベンゼン環が低
級アルキル基またはハロゲン原子で置換されているフェ
ニルスルホニル基、例えば、トシル基、ｐ−ブロモフェ
ニルスルホニル基、またはｐ−ニトロフェニルスルホニ
ル基である） で表される相当する（即ち、立体配置をそのまま保存し
て）光学活性なスルホン酸エステル体を生成する工程。
（ｂ）前記の式（I a）で表されるスルホン酸エステル
体をハロゲン化剤で処理して、一般式（I b） （式中、Ｘはハロゲン原子、特に塩素原子、臭素原子、
またはヨウ素原子である） で表される相当する（即ち、立体配置をそのまま保存し
て）光学活性なハロゲン化体を生成する工程。
体をハロゲン化剤で処理して、一般式（I b） （式中、Ｘはハロゲン原子、特に塩素原子、臭素原子、
またはヨウ素原子である） で表される相当する（即ち、立体配置をそのまま保存し
て）光学活性なハロゲン化体を生成する工程。
（ｃ）前記の式（I b）で表されるハロゲン化体を強塩
基で処理して、一般式（I c） で表される相当する（即ち、立体配置をそのまま保存し
て）光学活性なアセチレンアルコール体を生成する工
程。
基で処理して、一般式（I c） で表される相当する（即ち、立体配置をそのまま保存し
て）光学活性なアセチレンアルコール体を生成する工
程。
（ｄ）前記の式（I c）で表されるアセチレンアルコー
ル体と一般式（IV） ［式中、Ｒはヒドロキシ基を保護する基、好ましくは、
場合により炭素数１〜４個の低級アルコキシ基で置換さ
れていることのある炭素数１〜４個の低級アルキル基
（例えばメチル基、メトキシメチル基、またはメトキシ
エトキシメチル基）、ベンジル基若しくは置換ベンジル
基、置換フェニル基（例えばｐ−メトキシフェニル
基）、また炭素数１〜４個の低級アルコキシ基で置換さ
れているシリル基（例えばｔ−ブチルジメチルシリル
基）であり、R1、R2およびR3はそれぞれ独立に水素原子
または炭素数１〜４個の低級アルキル基、好ましくはメ
チル基またはエチル基であり、そしてＸ′はハロゲン原
子、好ましくは臭素原子またはヨウ素原子である］ で表されるハロゲン化ベンゼン化合物とを反応させて一
般式（I d） （式中、Ｒ、R1、R2およびR3は、それぞれ前記と同じ意
味である） で表される相当する（即ち、立体配置をそのまま保存し
て）光学活性なフェニルアセチレン体を生成する工程。
ル体と一般式（IV） ［式中、Ｒはヒドロキシ基を保護する基、好ましくは、
場合により炭素数１〜４個の低級アルコキシ基で置換さ
れていることのある炭素数１〜４個の低級アルキル基
（例えばメチル基、メトキシメチル基、またはメトキシ
エトキシメチル基）、ベンジル基若しくは置換ベンジル
基、置換フェニル基（例えばｐ−メトキシフェニル
基）、また炭素数１〜４個の低級アルコキシ基で置換さ
れているシリル基（例えばｔ−ブチルジメチルシリル
基）であり、R1、R2およびR3はそれぞれ独立に水素原子
または炭素数１〜４個の低級アルキル基、好ましくはメ
チル基またはエチル基であり、そしてＸ′はハロゲン原
子、好ましくは臭素原子またはヨウ素原子である］ で表されるハロゲン化ベンゼン化合物とを反応させて一
般式（I d） （式中、Ｒ、R1、R2およびR3は、それぞれ前記と同じ意
味である） で表される相当する（即ち、立体配置をそのまま保存し
て）光学活性なフェニルアセチレン体を生成する工程。
（ｅ）前記の式（I d）で表されるフェニルアセチレン
体を還元して、一般式（Ｖ） （式中、Ｒ、R1、R2およびR3は前記と同じ意味である） で表される相当する（即ち、立体配置をそのまま保存し
て）光学活性な飽和体を生成する工程。
体を還元して、一般式（Ｖ） （式中、Ｒ、R1、R2およびR3は前記と同じ意味である） で表される相当する（即ち、立体配置をそのまま保存し
て）光学活性な飽和体を生成する工程。
次に工程（ａ）から工程（ｅ）について説明する。
工程（ａ） 出発材料である前記（III）のフィトールエポキシド
は、天然型フィトール（VI） から公知のエナンチオ選択的酸化によって調製すること
ができる。
は、天然型フィトール（VI） から公知のエナンチオ選択的酸化によって調製すること
ができる。
フィトールエポキシド（III）からスルホン酸エステ
ル体（I a）への変換は、不活性ガス（例えば、アルゴ
ンガスまたは窒素ガス）の雰囲気下で、低温下（例え
ば、＋５℃〜−５℃）にて、無水の非プロトン系溶媒
（例えば、ジクロロメタン）中で、３級アミンの存在下
にて、スルホン酸またはその誘導体を反応させることに
よって行うことができる。この工程において、フィトー
ルエポキシド（III）のキラリティーは保存される。
ル体（I a）への変換は、不活性ガス（例えば、アルゴ
ンガスまたは窒素ガス）の雰囲気下で、低温下（例え
ば、＋５℃〜−５℃）にて、無水の非プロトン系溶媒
（例えば、ジクロロメタン）中で、３級アミンの存在下
にて、スルホン酸またはその誘導体を反応させることに
よって行うことができる。この工程において、フィトー
ルエポキシド（III）のキラリティーは保存される。
得られた化合物を必要により精製（例えば、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー処理）して、次の工程に用
いる。
ルカラムクロマトグラフィー処理）して、次の工程に用
いる。
工程（ｂ） ハロゲン化剤としては、アルカリ金属ハロゲン化物、
例えば、リチウム、ナトリウムまたはカリウムの塩化
物、臭化物またはヨウ化物を用いる。ハロゲン化は、不
活性ガス（例えば、アルゴンガスまたは窒素ガス）の雰
囲気下で、加熱下（例えば、50〜100℃）にて、無水条
件下で、非プロトン系溶媒（例えば、ジメチルホルムア
ミド）中で行うことができる。この工程において、出発
材料スルホン酸エステル体（I a）のキラリティーは保
存される。
例えば、リチウム、ナトリウムまたはカリウムの塩化
物、臭化物またはヨウ化物を用いる。ハロゲン化は、不
活性ガス（例えば、アルゴンガスまたは窒素ガス）の雰
囲気下で、加熱下（例えば、50〜100℃）にて、無水条
件下で、非プロトン系溶媒（例えば、ジメチルホルムア
ミド）中で行うことができる。この工程において、出発
材料スルホン酸エステル体（I a）のキラリティーは保
存される。
得られた化合物を必要により精製（例えば、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー処理）して、次の工程に用
いる。
ルカラムクロマトグラフィー処理）して、次の工程に用
いる。
工程（ｃ） 前記工程（ｂ）で得られたハロゲン体（I b）を、不
活性ガス（例えば、アルゴンガスまたは窒素ガス）の雰
囲気下で、低温下（例えば、−10〜−30℃）にて、非プ
ロトン性溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、トルエ
ン、ヘキサンまたはエーテル）中で、強塩基、例えば、
金属アミド（例えば、リチウムアミド、リチウムジイソ
プロピルアミド、ナトリウムアミドまたはカリウムアミ
ド）、アルカリ金属アルキルまたはフェニル（例えば、
ブチルリチウムまたはフェニルリチウム）によって処理
すると、出発材料ハロゲン体（I b）の３位のキラリテ
ィーを保存したままでアセチレンアルコール体（I c）
が得られる。
活性ガス（例えば、アルゴンガスまたは窒素ガス）の雰
囲気下で、低温下（例えば、−10〜−30℃）にて、非プ
ロトン性溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、トルエ
ン、ヘキサンまたはエーテル）中で、強塩基、例えば、
金属アミド（例えば、リチウムアミド、リチウムジイソ
プロピルアミド、ナトリウムアミドまたはカリウムアミ
ド）、アルカリ金属アルキルまたはフェニル（例えば、
ブチルリチウムまたはフェニルリチウム）によって処理
すると、出発材料ハロゲン体（I b）の３位のキラリテ
ィーを保存したままでアセチレンアルコール体（I c）
が得られる。
得られた化合物を必要により精製（例えば、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー処理）して、次の工程に用
いる。
ルカラムクロマトグラフィー処理）して、次の工程に用
いる。
工程（ｄ） ハロゲン化ベンゼン化合物（IV）としては、塩化物、
臭化物またはヨウ化物を用いることができる。工程
（ｄ）の反応は、不活性ガス（例えば、アルゴンガスま
たは窒素ガス）の雰囲気下で、常温または加熱下（例え
ば、約100℃）にて、無水条件下で、有機溶媒（例え
ば、トリエチルアミン、アセトニトリルまたはジメチル
スルホキシド）中で、パラジウム触媒の存在下にて、そ
して好ましくは超音波照射下にて、実施することができ
る。
臭化物またはヨウ化物を用いることができる。工程
（ｄ）の反応は、不活性ガス（例えば、アルゴンガスま
たは窒素ガス）の雰囲気下で、常温または加熱下（例え
ば、約100℃）にて、無水条件下で、有機溶媒（例え
ば、トリエチルアミン、アセトニトリルまたはジメチル
スルホキシド）中で、パラジウム触媒の存在下にて、そ
して好ましくは超音波照射下にて、実施することができ
る。
この工程により、出発材料アセチレンアルコール体
（I c）のキラリティーを保存したままでフェニルアセ
チレン体（I d）が得られる。
（I c）のキラリティーを保存したままでフェニルアセ
チレン体（I d）が得られる。
得られた化合物を必要により精製（例えば、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー処理）して、次の工程に用
いる。
ルカラムクロマトグラフィー処理）して、次の工程に用
いる。
工程（ｅ） フェニルアセチレン体（I d）の還元は、触媒（例え
ば、酸化白金、パラジウム炭素またはラネーニッケル）
の存在下で、アルコール溶媒中にて、常温下で、水素気
流（１〜５気圧）を通すことによって行うことができ
る。オレフィン体が得られた場合には、更に前記と同じ
条件下で還元する。
ば、酸化白金、パラジウム炭素またはラネーニッケル）
の存在下で、アルコール溶媒中にて、常温下で、水素気
流（１〜５気圧）を通すことによって行うことができ
る。オレフィン体が得られた場合には、更に前記と同じ
条件下で還元する。
この工程（ｅ）により、出発材料フェニルアセチレン
体（I d）のキラリティーを保存したままで飽和体
（Ｖ）が得られる。
体（I d）のキラリティーを保存したままで飽和体
（Ｖ）が得られる。
得られた化合物を必要により精製（例えば、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー処理）して、次の工程に用
いる。
ルカラムクロマトグラフィー処理）して、次の工程に用
いる。
前記の工程（ｅ）によって得られた一般式（Ｖ）の光
学活性な飽和体は、公知の方法によって、天然型（2R）
のトコフェロールに変えることができる。即ち、不活性
ガス（例えば、アルゴンガスまたは窒素ガス）の雰囲気
下で、常温にて、水性有機溶媒、特に含水アセトニトリ
ル、含水テトラヒドロフラン、含水ジオキサン溶媒中
で、飽和体（Ｖ）を酸化剤［例えば、セリウム（IV）塩
類、特に硝酸セリウムアンモニウム］によって処理する
と、キラリティーを維持したままで一般式（VII） （式中、R1、R2およびR3は前記と同じ意味である） で表される相当する（即ち、立体配置をそのまま保存し
て）光学活性なベンゾキノン体を生成することができ
る。
学活性な飽和体は、公知の方法によって、天然型（2R）
のトコフェロールに変えることができる。即ち、不活性
ガス（例えば、アルゴンガスまたは窒素ガス）の雰囲気
下で、常温にて、水性有機溶媒、特に含水アセトニトリ
ル、含水テトラヒドロフラン、含水ジオキサン溶媒中
で、飽和体（Ｖ）を酸化剤［例えば、セリウム（IV）塩
類、特に硝酸セリウムアンモニウム］によって処理する
と、キラリティーを維持したままで一般式（VII） （式中、R1、R2およびR3は前記と同じ意味である） で表される相当する（即ち、立体配置をそのまま保存し
て）光学活性なベンゾキノン体を生成することができ
る。
続いて、このベンゾキノン体（VII）を、常圧または
加圧下の水素気流中にて、接触還元触媒（例えば白金ま
たはパラジウム）の存在下で、常温で還元すると、キラ
リティーを維持したままで一般式（VIII） （式中、R1、R2およびR3は前記と同じ意味である） で表される相当する（即ち、立体配置をそのまま保存し
て）光学活性なヒドロキノン体を生成することができ
る。このヒドロキノン体（VIII）を公知の方法で環化す
るとキラリティーを維持したままで天然型のα−トコフ
ェロールが得られる。
加圧下の水素気流中にて、接触還元触媒（例えば白金ま
たはパラジウム）の存在下で、常温で還元すると、キラ
リティーを維持したままで一般式（VIII） （式中、R1、R2およびR3は前記と同じ意味である） で表される相当する（即ち、立体配置をそのまま保存し
て）光学活性なヒドロキノン体を生成することができ
る。このヒドロキノン体（VIII）を公知の方法で環化す
るとキラリティーを維持したままで天然型のα−トコフ
ェロールが得られる。
こうして、天然型フィトールのキラリティーがそのま
ま維持された天然型α−トコフェロールを簡単な工程で
得ることができる。
ま維持された天然型α−トコフェロールを簡単な工程で
得ることができる。
［実施例］ 以下、本発明によって本発明を更に具体的に説明する
が、これらは本発明の範囲を限定するものではない。
が、これらは本発明の範囲を限定するものではない。
例１ （ａ）：（2S,3S）−エポキシ−（3S,7R,11R）−3,7,1
1,15−テトラメチルヘキサデカン−１−オールの調製 ジクロロメタン20ml中に4A分子フルイ2.38gを懸濁さ
せた懸濁液に、−30℃およびアルゴン気流の条件下で、
Ｄ−（−）−酒石酸ジイソプロピル1.45ml（6.90ミリモ
ル）およびチタンテトライソプロポキシド2.05ml（6.89
ミリモル）を加えた。７分間放置した後、ｔ−ブチルパ
ーオキサイド（1.76モル）のジクロロメタン溶液5.60ml
（9.86ミリモル）を加え、同じ温度下で１時間45分撹拌
した。続いてフィトール［（3S,7R,11R）−１−ヒドロ
キシ−3,7,11,15−テトラメチル−２−ヘキサデセン］
2.01g（6.77ミリモル）のジクロロメタン（40ml）溶液
を10分間かけて滴下し、更に同じ条件下で16時間撹拌し
た。次に、3NのK2CO3水溶液6.0mlを加え、室温まで昇温
させた。１時間後、ゼライト4.0gを加え、更に15分間撹
拌した。続いてセライトを去し、液を減圧下で濃縮
し、ジエチルエーテルおよび水を加え、有機層を分取し
た、更に、水層をジエチルエーテルで抽出し、この抽出
物と前記の有機層とを一緒にし、飽和塩化ナトリウム水
溶液で洗浄し、硫酸マグネシムで乾燥し、減圧下で溶媒
を留去させると、淡黄色油状の粗生成物3.52gが得られ
た。この粗生成物をカラムクロマトグラフィ（シリカゲ
ル80g使用）で処理し、ジエチルエーテル/n−ヘキサン
（1:4、v/v）の溶出部から無色油状の標記エポキシド体
（１）2.00g（収率:95％）を得た。
1,15−テトラメチルヘキサデカン−１−オールの調製 ジクロロメタン20ml中に4A分子フルイ2.38gを懸濁さ
せた懸濁液に、−30℃およびアルゴン気流の条件下で、
Ｄ−（−）−酒石酸ジイソプロピル1.45ml（6.90ミリモ
ル）およびチタンテトライソプロポキシド2.05ml（6.89
ミリモル）を加えた。７分間放置した後、ｔ−ブチルパ
ーオキサイド（1.76モル）のジクロロメタン溶液5.60ml
（9.86ミリモル）を加え、同じ温度下で１時間45分撹拌
した。続いてフィトール［（3S,7R,11R）−１−ヒドロ
キシ−3,7,11,15−テトラメチル−２−ヘキサデセン］
2.01g（6.77ミリモル）のジクロロメタン（40ml）溶液
を10分間かけて滴下し、更に同じ条件下で16時間撹拌し
た。次に、3NのK2CO3水溶液6.0mlを加え、室温まで昇温
させた。１時間後、ゼライト4.0gを加え、更に15分間撹
拌した。続いてセライトを去し、液を減圧下で濃縮
し、ジエチルエーテルおよび水を加え、有機層を分取し
た、更に、水層をジエチルエーテルで抽出し、この抽出
物と前記の有機層とを一緒にし、飽和塩化ナトリウム水
溶液で洗浄し、硫酸マグネシムで乾燥し、減圧下で溶媒
を留去させると、淡黄色油状の粗生成物3.52gが得られ
た。この粗生成物をカラムクロマトグラフィ（シリカゲ
ル80g使用）で処理し、ジエチルエーテル/n−ヘキサン
（1:4、v/v）の溶出部から無色油状の標記エポキシド体
（１）2.00g（収率:95％）を得た。
▲［α］26 D▼＝＋4.44゜（ｃ＝0.99、CHCl3） ▲［α］28 D▼＝＋4.88゜（ｃ＝2.80、エチルアルコー
ル） Ｈ−NMR（CDCl3、δ）： 0.70−1.83（37H、ｍ、1H交換可能） 2.96（1H、dd、Ｊ＝6.1Hz、4.6Hz） 3.45−4.03（2H、ｍ） シャープなピーク:0.83、0.88、0.90、1.60 Ｃ−NMR（CDCl3、δ）:16.74（ｑ）、19.64（ｑ）、19.
75（ｑ）、22.55（ｔ）、22.64（ｑ）、22.73（ｑ）、2
4.48（ｔ）、24.80（ｔ）、27.98（ｄ）、32.75
（ｄ）、32.79（ｄ）、36.96（ｔ）、37.30（ｔ）、37.
34（ｔ）、37.43（ｔ）、38.84（ｔ）、39.38（ｔ）、6
1.39（ｔ）、61.47（ｓ）、63.20（ｄ） MS m/z:312（M+）、294、281、250、97、71、57（100
％） High−MS m/z（M+） 理論値（C20H40O2）:312.3028 測定値:312.3053 なお、本例で使用した天然フィトールのデータは以下
のとおりである。
ル） Ｈ−NMR（CDCl3、δ）： 0.70−1.83（37H、ｍ、1H交換可能） 2.96（1H、dd、Ｊ＝6.1Hz、4.6Hz） 3.45−4.03（2H、ｍ） シャープなピーク:0.83、0.88、0.90、1.60 Ｃ−NMR（CDCl3、δ）:16.74（ｑ）、19.64（ｑ）、19.
75（ｑ）、22.55（ｔ）、22.64（ｑ）、22.73（ｑ）、2
4.48（ｔ）、24.80（ｔ）、27.98（ｄ）、32.75
（ｄ）、32.79（ｄ）、36.96（ｔ）、37.30（ｔ）、37.
34（ｔ）、37.43（ｔ）、38.84（ｔ）、39.38（ｔ）、6
1.39（ｔ）、61.47（ｓ）、63.20（ｄ） MS m/z:312（M+）、294、281、250、97、71、57（100
％） High−MS m/z（M+） 理論値（C20H40O2）:312.3028 測定値:312.3053 なお、本例で使用した天然フィトールのデータは以下
のとおりである。
▲［α］29 D▼＝−1.35゜（ｃ＝1.00、CHCl3） Ｈ−NMR（CDCl3、δ）： 0.70−1.80（35H、ｍ、1HD2Oで交換可能） 1.85−2.15（2H、ｍ） 4.00−4.30（2H、ｍ） 5.23−5.57（1H、ｍ） シャープなピーク:0.83、0.88、0.90、1.57、1.68［4.0
0−4.30（2H、ｍ）はD2O置換により、4.14（2H、brd、
Ｊ＝6.8Hz）となる］ Ｃ−NMR（CDCl3、δ）:16.14（ｑ）、19.72（ｑ）、19.
75（ｑ）、22.63（ｑ）、22.73（ｑ）、24.50（ｔ）、2
4.82（ｔ）、25.18（ｔ）、27.98（ｄ）、32.71
（ｄ）、32.80（ｄ）、36.73（ｔ）、37.32（ｔ）、37.
40（ｔ）、37.46（ｔ）、39.39（ｔ）、39.91（ｔ）、5
9.16（ｔ）、123.34（ｄ）、139.63（ｓ） MS m/z:297（M+＋１）、296（M+）、278、196、123、7
1（100％）、57 High−MS m/z（M+） 理論値（C20H40O）:296.3079 測定値:296.3078 （ｂ）：（2S,3S）−エポキシ−（3S,7R,11R）−3,7,1
1,15−テトラメチル−１−トシルオキシ−ヘキサデカン
の調製 ［前記の式（２）中で、Tosはトシル基である。］ 前記例１（ａ）で調製したフィトールエポキシド体
（１）492mg（1.57ミリモル）をジクロロメタン10mlに
溶解した溶液中に、アルゴン気流下で、しかも無水およ
び氷冷条件において、トリエチルアミン0.55ml（3.95ミ
リモル）および４−ジメチルアミノピリジン19.0mg（0.
156ミリモル）を加え、更にその後、ｐ−トルエンスル
ホニルクロライド370mg（1.94ミリモル）を加えた。５
分間放置した後、反応液を室温まで昇温させ、更に12時
間撹拌した。次に、ジクロロメタン10mlを加えた後、５
％塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽
和塩化ナトリウム水溶液によって順に洗浄を行い、硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去して、淡黄
色油状の粗生成物1.00gを得た。
0−4.30（2H、ｍ）はD2O置換により、4.14（2H、brd、
Ｊ＝6.8Hz）となる］ Ｃ−NMR（CDCl3、δ）:16.14（ｑ）、19.72（ｑ）、19.
75（ｑ）、22.63（ｑ）、22.73（ｑ）、24.50（ｔ）、2
4.82（ｔ）、25.18（ｔ）、27.98（ｄ）、32.71
（ｄ）、32.80（ｄ）、36.73（ｔ）、37.32（ｔ）、37.
40（ｔ）、37.46（ｔ）、39.39（ｔ）、39.91（ｔ）、5
9.16（ｔ）、123.34（ｄ）、139.63（ｓ） MS m/z:297（M+＋１）、296（M+）、278、196、123、7
1（100％）、57 High−MS m/z（M+） 理論値（C20H40O）:296.3079 測定値:296.3078 （ｂ）：（2S,3S）−エポキシ−（3S,7R,11R）−3,7,1
1,15−テトラメチル−１−トシルオキシ−ヘキサデカン
の調製 ［前記の式（２）中で、Tosはトシル基である。］ 前記例１（ａ）で調製したフィトールエポキシド体
（１）492mg（1.57ミリモル）をジクロロメタン10mlに
溶解した溶液中に、アルゴン気流下で、しかも無水およ
び氷冷条件において、トリエチルアミン0.55ml（3.95ミ
リモル）および４−ジメチルアミノピリジン19.0mg（0.
156ミリモル）を加え、更にその後、ｐ−トルエンスル
ホニルクロライド370mg（1.94ミリモル）を加えた。５
分間放置した後、反応液を室温まで昇温させ、更に12時
間撹拌した。次に、ジクロロメタン10mlを加えた後、５
％塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽
和塩化ナトリウム水溶液によって順に洗浄を行い、硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去して、淡黄
色油状の粗生成物1.00gを得た。
この粗生成物をカラムクロマトグラフィ（シリカゲル
25g使用）で処理し、ジエチルエーテル/n−ヘキサン
（1:15、v/v）の溶出部から無色油状の標記トシル体
（２）720mg（収率:99％）を得た。
25g使用）で処理し、ジエチルエーテル/n−ヘキサン
（1:15、v/v）の溶出部から無色油状の標記トシル体
（２）720mg（収率:99％）を得た。
▲［α］27 D▼＝＋15.92゜（ｃ＝1.06、CHCl3） Ｈ−NMR（CDCl3、δ）： 0.60−1.82（36H、ｍ） 2.45（3H、ｓ） 2.96（1H、ｔ、Ｊ＝5.6Hz） 3.88−4.33（2H、ｍ） 7.35（2H、ｄ、Ｊ＝8.4Hz） 7.86（2H、ｄ、Ｊ＝8.4Hz） シャープなピーク:0.83、0.88、0.90、1.19 2.96（1H、ｔ、Ｊ＝5.6Hz）は、2.96（1H、dd、Ｊ＝
5.7Hz、4.7Hz）と思われる。
5.7Hz、4.7Hz）と思われる。
3.88−4.33（2H、ｍ）は、4.12（1H、ｄ、Ｊ＝5.7H
z）＋3.88−4.33（1H、ｍ） MS m/z:466（M+）、448、436、355、281、97、91、7
1、57（100％） High−MS m/z（M+） 理論値（C27H46O4S）:466.3117 測定値:466.3136 例2:（2S,3S）−エポキシ−（3S,7R,11R）−3,7,11,15
−テトラメチル−１−クロロ−ヘキサデカンの調製 前記例１（ｂ）で調製したトシル体（２）720mg（1.5
4ミリモル）をジメチルホルムアミド10mlに溶解した溶
液中に、塩化リチウム80mg（1.89ミリモル）を加え、ア
ルゴン気流下および無水条件下で、60℃で約５時間加熱
した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にジエチ
ルエーテル（20ml）及び水（10ml）を加え、有機層を分
取した。更に、水層をジエチルエーテルで抽出し、この
抽出物と前記の有機層とを一緒にし、硫酸マグネシム乾
燥し、減圧下で溶媒を留去させると、淡黄色油状の粗生
成物650mgが得られた。この粗生成物をカラムクロマト
グラフィ（シリカゲル40g使用）で処理し、ジエチルエ
ーテル/n−ヘキサン（1:20、v/v）の溶出部から無色油
状の標記塩化物体（３）497mg（収率:97％）を得た。
z）＋3.88−4.33（1H、ｍ） MS m/z:466（M+）、448、436、355、281、97、91、7
1、57（100％） High−MS m/z（M+） 理論値（C27H46O4S）:466.3117 測定値:466.3136 例2:（2S,3S）−エポキシ−（3S,7R,11R）−3,7,11,15
−テトラメチル−１−クロロ−ヘキサデカンの調製 前記例１（ｂ）で調製したトシル体（２）720mg（1.5
4ミリモル）をジメチルホルムアミド10mlに溶解した溶
液中に、塩化リチウム80mg（1.89ミリモル）を加え、ア
ルゴン気流下および無水条件下で、60℃で約５時間加熱
した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にジエチ
ルエーテル（20ml）及び水（10ml）を加え、有機層を分
取した。更に、水層をジエチルエーテルで抽出し、この
抽出物と前記の有機層とを一緒にし、硫酸マグネシム乾
燥し、減圧下で溶媒を留去させると、淡黄色油状の粗生
成物650mgが得られた。この粗生成物をカラムクロマト
グラフィ（シリカゲル40g使用）で処理し、ジエチルエ
ーテル/n−ヘキサン（1:20、v/v）の溶出部から無色油
状の標記塩化物体（３）497mg（収率:97％）を得た。
▲［α］30 D▼＝−9.47゜（ｃ＝1.07、CHCl3） Ｈ−NMR（CDCl3、δ）： 0.60−1.85（36H、ｍ） 3.02（1H、ｔ、Ｊ＝6.5Hz） 3.44（1H、dd、Ｊ＝11.2Hz、6.8Hz） 3.72（1H、dd、Ｊ＝11.2Hz、6.1Hz） シャープなピーク:0.80、0.83、0.88、1.31 3.02（1H、ｔ、Ｊ＝6.5Hz）は、3.02（1H、dd、Ｊ＝
6.8Hz、6.1Hz）と思われる。
6.8Hz、6.1Hz）と思われる。
MS m/z:295（M+−Cl）、281、250、97、71、57（100
％） High−MS m/z（M+−Cl） 理論値（C20H39O）:295.3001 測定値:295.3002 例3:（2S,3S）−エポキシ−（3S,7R,11R）−3,7,11,15
−テトラメチル−１−クロロ−ヘキサデカンの調製 前記例１（ａ）で調製したエポキシド体（１）859mg
（2.75ミリモル）を四塩化炭素15mlに溶解した溶液中
に、トリフェニルホスフィン1.09g（4.16ミリモル）を
加え、アルゴン気流下および無水条件下で、80℃にて20
時間加熱した。室温まで冷却した後、ジエチルエーテル
30mlを加え、セライトで過した。液を塩化ナトリウ
ム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシムで乾燥し、減圧
下で溶媒を留去させると、白色結晶の粗生成物2.78gが
得られた。この粗生成物をカラムクロマトグラフィ（シ
リカゲル50g使用）で処理し、ジエチルエーテル/n−ヘ
キサン（1:100、v/v）の溶出部から無色油状の標記塩化
物体（３）739mg（収率:81％）を得た。
％） High−MS m/z（M+−Cl） 理論値（C20H39O）:295.3001 測定値:295.3002 例3:（2S,3S）−エポキシ−（3S,7R,11R）−3,7,11,15
−テトラメチル−１−クロロ−ヘキサデカンの調製 前記例１（ａ）で調製したエポキシド体（１）859mg
（2.75ミリモル）を四塩化炭素15mlに溶解した溶液中
に、トリフェニルホスフィン1.09g（4.16ミリモル）を
加え、アルゴン気流下および無水条件下で、80℃にて20
時間加熱した。室温まで冷却した後、ジエチルエーテル
30mlを加え、セライトで過した。液を塩化ナトリウ
ム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシムで乾燥し、減圧
下で溶媒を留去させると、白色結晶の粗生成物2.78gが
得られた。この粗生成物をカラムクロマトグラフィ（シ
リカゲル50g使用）で処理し、ジエチルエーテル/n−ヘ
キサン（1:100、v/v）の溶出部から無色油状の標記塩化
物体（３）739mg（収率:81％）を得た。
▲［α］30 D▼、IR、Ｈ−NMR、MSおよびHigh−MSの各デ
ータは前記例２と同じであった。
ータは前記例２と同じであった。
例4:3−ヒドロキシ（3S,7R,11R）−3,7,11,15−テトラ
メチル−１−ヘキサデシンの調製 1.40Mのｎ−ブチルリチウム/n−ヘキサン溶液8.00ml
（11.2ミリモル）とテトラヒドロフラン5.0mlとの混合
溶液を調製し、この混合溶液中に、前記例２で調製した
塩化物体（３）739mg（2.23ミリモル）をテトラヒドロ
フラン16mlに溶解した溶液を、アルゴン気流下および無
水条件下で、−20℃で加えた。20分後に、塩化アンモニ
ウム飽和水溶液2.0mlを加え、続いて室温まで昇温させ
た。水（5.0ml）およびジエチルエーテル（20ml）を加
え、有機層を分取した。更に、水層をジエチルエーテル
で抽出し、この抽出物と前記の有機層とを一緒にし、塩
化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシムで乾
燥し、減圧下で溶媒を留去させると、無色液状の粗生成
物796mgが得られた。この粗生成物をカラムクロマトグ
ラフィ（シリカゲル40g使用）で処理し、ジエチルエー
テル/n−ヘキサン（1:6、v/v）の溶出部から無色油状の
標記アセチレンアルコール体（４）624mg（収率:95％）
を得た。
メチル−１−ヘキサデシンの調製 1.40Mのｎ−ブチルリチウム/n−ヘキサン溶液8.00ml
（11.2ミリモル）とテトラヒドロフラン5.0mlとの混合
溶液を調製し、この混合溶液中に、前記例２で調製した
塩化物体（３）739mg（2.23ミリモル）をテトラヒドロ
フラン16mlに溶解した溶液を、アルゴン気流下および無
水条件下で、−20℃で加えた。20分後に、塩化アンモニ
ウム飽和水溶液2.0mlを加え、続いて室温まで昇温させ
た。水（5.0ml）およびジエチルエーテル（20ml）を加
え、有機層を分取した。更に、水層をジエチルエーテル
で抽出し、この抽出物と前記の有機層とを一緒にし、塩
化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシムで乾
燥し、減圧下で溶媒を留去させると、無色液状の粗生成
物796mgが得られた。この粗生成物をカラムクロマトグ
ラフィ（シリカゲル40g使用）で処理し、ジエチルエー
テル/n−ヘキサン（1:6、v/v）の溶出部から無色油状の
標記アセチレンアルコール体（４）624mg（収率:95％）
を得た。
▲［α］30 D▼＝＋1.37゜（ｃ＝0.73、CHCl3） Ｈ−NMR（CDCl3、δ）： 0.70−1.86（36H、ｍ） 1.94（1H、brs、交換可能） 2.43（1H、ｓ） シャープなピーク:0.83、0.90、1.50、2.43 MS m/z:279（M+−15）、269、261、163、121、95、8
4、69（100％）、57 High−MS m/z（M+−15） 理論値（C19H35O）:279.2688 測定値:279.2661 High−MS m/z（M+−25） 理論値（C18H37O）:269.2844 測定値:269.2812 例5:3−ヒドロキシ−（3S,7R,11R）−3,7,11,15−テト
ラメチル−１−（2,5−ジメトキシ−3,4,6−トリメチ
ル）−フェニル−ヘキサデシンの調製 前記例４で調製したアセチレンアルコール体（４）26
7mg（0.907ミリモル）と2,5−ジメトキシ−3,4,6−トリ
メチル−ベンゼンヨージド561mg（1.83ミリモル）とを
トリエチルアミン5.0mlに溶解した溶液に、ビス（トリ
フェニルホスフィン）パラジウムクロライド18.6mg（2
6.5μモル）とヨウ化銅3.2mg（17μモル）とを、アルゴ
ン気流下および無水条件下で加えた。太陽光照射下で、
室温にて45分間撹拌し、更に45℃にて10時間超音波照射
を行った。ジエチルエーテル（5ml）を加え、セライト
で過した後、減圧下で溶媒を留去させ、残留物をジエ
チルエーテル（10ml）に溶解させた。次に、５％塩酸水
溶液、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および塩化ナトリ
ウム飽和水溶液で順に洗浄し、硫酸マグネシムで乾燥
し、減圧下で溶媒を留去させると、橙色油状の粗生成物
が得られた。この粗生成物をカラムクロマトグラフィ
（シリカゲル20g使用）で処理し、ジエチルエーテル/n
−ヘキサン（1:3、v/v）の溶出部から淡黄色油状の標記
フェニルアセチレン体（５）326mg（収率:76％）を得
た。また、ジアセチレンジオール体［淡黄色油状:32mg
（収率:12％）］が副生成物として同時に得られた。
4、69（100％）、57 High−MS m/z（M+−15） 理論値（C19H35O）:279.2688 測定値:279.2661 High−MS m/z（M+−25） 理論値（C18H37O）:269.2844 測定値:269.2812 例5:3−ヒドロキシ−（3S,7R,11R）−3,7,11,15−テト
ラメチル−１−（2,5−ジメトキシ−3,4,6−トリメチ
ル）−フェニル−ヘキサデシンの調製 前記例４で調製したアセチレンアルコール体（４）26
7mg（0.907ミリモル）と2,5−ジメトキシ−3,4,6−トリ
メチル−ベンゼンヨージド561mg（1.83ミリモル）とを
トリエチルアミン5.0mlに溶解した溶液に、ビス（トリ
フェニルホスフィン）パラジウムクロライド18.6mg（2
6.5μモル）とヨウ化銅3.2mg（17μモル）とを、アルゴ
ン気流下および無水条件下で加えた。太陽光照射下で、
室温にて45分間撹拌し、更に45℃にて10時間超音波照射
を行った。ジエチルエーテル（5ml）を加え、セライト
で過した後、減圧下で溶媒を留去させ、残留物をジエ
チルエーテル（10ml）に溶解させた。次に、５％塩酸水
溶液、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および塩化ナトリ
ウム飽和水溶液で順に洗浄し、硫酸マグネシムで乾燥
し、減圧下で溶媒を留去させると、橙色油状の粗生成物
が得られた。この粗生成物をカラムクロマトグラフィ
（シリカゲル20g使用）で処理し、ジエチルエーテル/n
−ヘキサン（1:3、v/v）の溶出部から淡黄色油状の標記
フェニルアセチレン体（５）326mg（収率:76％）を得
た。また、ジアセチレンジオール体［淡黄色油状:32mg
（収率:12％）］が副生成物として同時に得られた。
目的生成物（フェニルアセチレン体）： ▲［α］30 D▼＝＋4.03゜（ｃ＝0.73、CHCl3） Ｈ−NMR（CDCl3、δ）： 0.53−2.20（37H、ｍ、1H交換可能）、2.15（3H、
ｓ） 2.19（3H、ｓ）、2.33（3H、ｓ） 3.65（3H、ｓ）、3.80（3H、ｓ） シャープなピーク:0.83、0.86、0.89、1.49（交換可
能）、1.62 MS m/z:473（M+＋15）、472（M+）、454、441、368、2
99、271、249、247（100％）、205、273、149、135、10
9、95、83、69、57 High−MS m/z（M+） 理論値（C31H52O3）:472.3916 測定値:472.3914 副生成物（ジアセチレンジオール体）： Ｈ−NMR（CDCl3、δ）： 0.65−1.83（72H、ｍ） 2.01（2H、brs、交換可能） シャープなピーク:0.83、0.90、1.50 MS m/z:586（M+）、568（M+−18）、385、361、343、2
50、161、147、93、71、57（100％） High−MS m/z（M+） 理論値（C40H74O2）:586.5689 測定値:586.5683 High−MS m/z（M+−18） 理論値（C40H72O）:568.5583 測定値:568.5551 この例５で用いたヨウ化物は、以下の方法によって調
製した。
ｓ） 2.19（3H、ｓ）、2.33（3H、ｓ） 3.65（3H、ｓ）、3.80（3H、ｓ） シャープなピーク:0.83、0.86、0.89、1.49（交換可
能）、1.62 MS m/z:473（M+＋15）、472（M+）、454、441、368、2
99、271、249、247（100％）、205、273、149、135、10
9、95、83、69、57 High−MS m/z（M+） 理論値（C31H52O3）:472.3916 測定値:472.3914 副生成物（ジアセチレンジオール体）： Ｈ−NMR（CDCl3、δ）： 0.65−1.83（72H、ｍ） 2.01（2H、brs、交換可能） シャープなピーク:0.83、0.90、1.50 MS m/z:586（M+）、568（M+−18）、385、361、343、2
50、161、147、93、71、57（100％） High−MS m/z（M+） 理論値（C40H74O2）:586.5689 測定値:586.5683 High−MS m/z（M+−18） 理論値（C40H72O）:568.5583 測定値:568.5551 この例５で用いたヨウ化物は、以下の方法によって調
製した。
1,4−ジメトキシ−2,3,5−トリメチルベンゼン2.88g
（16.0ミリモル）を濃硫酸（0.48ml）−水（3.50ml）−
酢酸（16.0ml）に溶解させた溶液に、ヨウ素2.11g（8.3
1ミリモル）と過ヨウ素酸［HIO4・2H2O］1.11g（4.87ミ
リモル）とを加え、アルゴン気流下で、室温にて24時間
撹拌した。減圧下で溶媒を留去させた後、残留物にジエ
チルエーテル（20ml）および水（20ml）を加えて溶解さ
せ、有機層を分取した。更に、水層をジエチルエーテル
（20ml）で抽出し、この抽出物と前記の有機層とを一緒
にし、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および５％チオ硫
酸ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシムで乾燥
し、減圧下で溶媒を留去させると、淡黄色半固形油状の
粗生成物3.99gが得られた。この粗生成物をカラムクロ
マトグラフィ（シリカゲル80g使用）で処理し、ジエチ
ルエーテル/n−ヘキサン（1:100、v/v）の溶出部をジエ
チルエーテル/n−ヘキサンから再結晶させて、白色の柱
状結晶として目的のヨウ化物3.67g（12.0ミリモル）
（収率:75％）を得た。
（16.0ミリモル）を濃硫酸（0.48ml）−水（3.50ml）−
酢酸（16.0ml）に溶解させた溶液に、ヨウ素2.11g（8.3
1ミリモル）と過ヨウ素酸［HIO4・2H2O］1.11g（4.87ミ
リモル）とを加え、アルゴン気流下で、室温にて24時間
撹拌した。減圧下で溶媒を留去させた後、残留物にジエ
チルエーテル（20ml）および水（20ml）を加えて溶解さ
せ、有機層を分取した。更に、水層をジエチルエーテル
（20ml）で抽出し、この抽出物と前記の有機層とを一緒
にし、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および５％チオ硫
酸ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシムで乾燥
し、減圧下で溶媒を留去させると、淡黄色半固形油状の
粗生成物3.99gが得られた。この粗生成物をカラムクロ
マトグラフィ（シリカゲル80g使用）で処理し、ジエチ
ルエーテル/n−ヘキサン（1:100、v/v）の溶出部をジエ
チルエーテル/n−ヘキサンから再結晶させて、白色の柱
状結晶として目的のヨウ化物3.67g（12.0ミリモル）
（収率:75％）を得た。
例6:3−ヒドロキシ−（3S,7R,11R）−3,7,11,15−テト
ラメチル−１−（2,5−ジメトキシ−3,4,6−トリメチ
ル）−フェニル−ヘキサデカンの調製 前記例５で調製したフェニルアセチレン体（５）42.0
mg（88.8μモル）をメチルアルコール2.5mlに溶解した
溶液に、水素気流下で、酸化白金（IV）5.2mgを加え、
室温にて15時間撹拌した。セライトで過した後、減圧
下で溶媒を留去させ、残留物をカラムクロマトグラフィ
（シリカゲル6.0g使用）で処理し、ジエチルエーテル/n
−ヘキサン（1:9、v/v）の溶出部から無色油状のオレフ
ィン体（24.0mg:57％）および無色油状の標記飽和体
（６）（18.0mg:42％）を得た。
ラメチル−１−（2,5−ジメトキシ−3,4,6−トリメチ
ル）−フェニル−ヘキサデカンの調製 前記例５で調製したフェニルアセチレン体（５）42.0
mg（88.8μモル）をメチルアルコール2.5mlに溶解した
溶液に、水素気流下で、酸化白金（IV）5.2mgを加え、
室温にて15時間撹拌した。セライトで過した後、減圧
下で溶媒を留去させ、残留物をカラムクロマトグラフィ
（シリカゲル6.0g使用）で処理し、ジエチルエーテル/n
−ヘキサン（1:9、v/v）の溶出部から無色油状のオレフ
ィン体（24.0mg:57％）および無色油状の標記飽和体
（６）（18.0mg:42％）を得た。
更に、前記のオレフィン体（24.0mg:50.5μモル）を
メチルアルコール1.0mlに溶解した溶液に、水素気流下
で、酸化白金（IV）2.6mgを加え、室温にて41時間撹拌
した。セライトで過した後、減圧下で溶媒を留去さ
せ、残留物をカラムクロマトグラフィ（シリカゲル5.0g
使用）で処理し、ジエチルエーテル/n−ヘキサン（1:
9、v/v）の溶出部から無色油状の標記飽和体（６）（2
4.0mg:100％）を得た。全体の収率は99％であった。
メチルアルコール1.0mlに溶解した溶液に、水素気流下
で、酸化白金（IV）2.6mgを加え、室温にて41時間撹拌
した。セライトで過した後、減圧下で溶媒を留去さ
せ、残留物をカラムクロマトグラフィ（シリカゲル5.0g
使用）で処理し、ジエチルエーテル/n−ヘキサン（1:
9、v/v）の溶出部から無色油状の標記飽和体（６）（2
4.0mg:100％）を得た。全体の収率は99％であった。
目的生成物（飽和体）： ▲［α］32 D▼＝＋1.64゜（ｃ＝0.72、CHCl3） Ｈ−NMR（CDCl3、δ）： 0.70−1.78（39H、ｍ、1H交換可能） 2.17（9H、ｓ）、2.22（9H、ｓ） 2.53−2.72（2H、ｍ） 3.64（6H、ｓ）、3.69（6H、ｓ） シャープなピーク:0.83、0.89、1.24、1.62（1H、brs、
1H交換可能） MS m/z:477（M+＋１）、476（M+、100％）、458、25
1、193 High−MS m/z（M+） 理論値（C31H56O3）:476.4229 測定値:476.4204 中間生成物（シス−オレフィン体）： ▲［α］31 D▼＝−30.87゜（ｃ＝0.40、CHCl3） Ｈ−NMR（CDCl3、δ）： 0.70−1.80（36H、ｍ） 2.15（9H、ｓ）、2.17（9H、ｓ） 3.63（6H、ｓ）、3.64（6H、ｓ） 3.70−4.10（1H、br、交換可能） 5.77（1H、br、Ｊ＝12.4Hz） 6.16（1H、ｄ、Ｊ＝12.4Hz） シャープなピーク:0.83、0.87、0.90、1.58 MS m/z:475（M+＋１）、474（M+）、250、249（100
％）、231、207、193 High−MS m/z（M+） 理論値（C31H54O3）:474.4073 測定値:474.4065 例7:3−ヒドロキシ−（3S,7R,11R）−3,7,11,15−テト
ラメチル−１−（2,5−ジメトキシ−3,4,6−トリメチ
ル）−フェニル−ヘキサデカンの調製 前記例５で調製したフェニルアセチレン体41.0mg（8
6.9μモル）をメチルアルコール1.5mlに溶解した溶液に
酸化白金（IV）3.8mgを加え、水素気流下で室温にて７
日間撹拌した。セライトで過した後、減圧下で溶媒を
留去させ、残留物をカラムクロマトグラフィ（シリカゲ
ル7.0g使用）で処理し、ジエチルエーテル/n−ヘキサン
（1:10、v/v）の溶出部から無色油状の標記飽和体（38.
0mg:79.8μモル:92％）を得た。この飽和体のデータは
前記例６のものと同じであった。
1H交換可能） MS m/z:477（M+＋１）、476（M+、100％）、458、25
1、193 High−MS m/z（M+） 理論値（C31H56O3）:476.4229 測定値:476.4204 中間生成物（シス−オレフィン体）： ▲［α］31 D▼＝−30.87゜（ｃ＝0.40、CHCl3） Ｈ−NMR（CDCl3、δ）： 0.70−1.80（36H、ｍ） 2.15（9H、ｓ）、2.17（9H、ｓ） 3.63（6H、ｓ）、3.64（6H、ｓ） 3.70−4.10（1H、br、交換可能） 5.77（1H、br、Ｊ＝12.4Hz） 6.16（1H、ｄ、Ｊ＝12.4Hz） シャープなピーク:0.83、0.87、0.90、1.58 MS m/z:475（M+＋１）、474（M+）、250、249（100
％）、231、207、193 High−MS m/z（M+） 理論値（C31H54O3）:474.4073 測定値:474.4065 例7:3−ヒドロキシ−（3S,7R,11R）−3,7,11,15−テト
ラメチル−１−（2,5−ジメトキシ−3,4,6−トリメチ
ル）−フェニル−ヘキサデカンの調製 前記例５で調製したフェニルアセチレン体41.0mg（8
6.9μモル）をメチルアルコール1.5mlに溶解した溶液に
酸化白金（IV）3.8mgを加え、水素気流下で室温にて７
日間撹拌した。セライトで過した後、減圧下で溶媒を
留去させ、残留物をカラムクロマトグラフィ（シリカゲ
ル7.0g使用）で処理し、ジエチルエーテル/n−ヘキサン
（1:10、v/v）の溶出部から無色油状の標記飽和体（38.
0mg:79.8μモル:92％）を得た。この飽和体のデータは
前記例６のものと同じであった。
例8:3−ヒドロキシ−（3S,7R,11R）−3,7,11,15−テト
ラメチル−１−（2,5−ジオキシ−3,4,6−トリメチル）
−ベンゾキノン−ヘキサデカンの調製 前記例６で調製した飽和体（６）42.0mg（88.1μモ
ル）をアセトニトリル（1.0ml）−水（1.0ml）に溶解し
た溶液を、アルゴン気流下で、室温にて撹拌しながら、
硝酸セリウム（IV）アンモニウム［（NH4）2Ce（NO3）
６］148mg（270μモル）を加え、２時間撹拌した。ジエ
チルエーテル（2.0ml）および水（1.0ml）を加えて希釈
し、有機層を分取した。更に、水層をジエチルエーテル
で抽出し、この抽出物と前記の有機層とを一緒にし、飽
和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下で溶媒を留去させると、橙色油状の粗生
成物44.0mgが得られた。この粗生成物をカラムクロマト
グラフィ（シリカゲル6.0g使用）で処理し、ジエチルエ
ーテル/n−ヘキサン（1:10v/v）の溶出部から橙色油状
のオレフィン体（24.0mg:57％）および無色油状の標記
キノン体（７）（22.0mg:56％）を得た。
ラメチル−１−（2,5−ジオキシ−3,4,6−トリメチル）
−ベンゾキノン−ヘキサデカンの調製 前記例６で調製した飽和体（６）42.0mg（88.1μモ
ル）をアセトニトリル（1.0ml）−水（1.0ml）に溶解し
た溶液を、アルゴン気流下で、室温にて撹拌しながら、
硝酸セリウム（IV）アンモニウム［（NH4）2Ce（NO3）
６］148mg（270μモル）を加え、２時間撹拌した。ジエ
チルエーテル（2.0ml）および水（1.0ml）を加えて希釈
し、有機層を分取した。更に、水層をジエチルエーテル
で抽出し、この抽出物と前記の有機層とを一緒にし、飽
和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下で溶媒を留去させると、橙色油状の粗生
成物44.0mgが得られた。この粗生成物をカラムクロマト
グラフィ（シリカゲル6.0g使用）で処理し、ジエチルエ
ーテル/n−ヘキサン（1:10v/v）の溶出部から橙色油状
のオレフィン体（24.0mg:57％）および無色油状の標記
キノン体（７）（22.0mg:56％）を得た。
▲［α］30 D▼＝＋2.45゜（ｃ＝0.53、CHCl3） Ｈ−NMR（CDCl3、δ）： 0.64−2.38（48H、ｍ、1H交換可能） 2.38−2.82（2H、ｍ） シャープなピーク:0.83、0.90、1.23、1.25、2.01、2.0
4 1.59（brs）は、交換可能 例9:3−ヒドロキシ−（3S,7R,11R）−3,7,11,15−テト
ラメチル−１−（2,5−ジヒドロキシ−3,4,6−トリメチ
ル）−フェニル−ヘキサデカンの調製 前記例８で調製したキノン体（７）64.0mg（0.143ミ
リモル）をメチルアルコール（1.5ml）に溶解した溶液
に、木炭上の10％パラジウム6.4mgを加え、水素気流下
で室温にて３時間撹拌した。セライトで過し、溶媒を
減圧下で留去させると、淡黄色油状の粗生成物（９）65
mgが得られた。この粗生成物を、そのまま次の反応に用
いた。
4 1.59（brs）は、交換可能 例9:3−ヒドロキシ−（3S,7R,11R）−3,7,11,15−テト
ラメチル−１−（2,5−ジヒドロキシ−3,4,6−トリメチ
ル）−フェニル−ヘキサデカンの調製 前記例８で調製したキノン体（７）64.0mg（0.143ミ
リモル）をメチルアルコール（1.5ml）に溶解した溶液
に、木炭上の10％パラジウム6.4mgを加え、水素気流下
で室温にて３時間撹拌した。セライトで過し、溶媒を
減圧下で留去させると、淡黄色油状の粗生成物（９）65
mgが得られた。この粗生成物を、そのまま次の反応に用
いた。
例10:（2R,4′R,8′Ｒ）−α−トコフェロールの調製 前記例９で調製したヒドロキノン体（８）65mgをベン
ゼン（2.0ml）に溶解した溶液に、ｐ−トルエンスルホ
ン酸4.0mg（21μモル）を加え、アルゴン気流下で30分
間加熱還流した。冷却した後、ジエチルエーテル（4m
l）を加えて希釈し、有機層を炭酸水素ナトリウム飽和
水溶液および塩化ナトリウム飽和水溶液で順に洗浄し、
硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶媒を減圧下で留去させ
ると、淡黄色油状の粗生成物64mgが得られた。この粗生
成物をカラムクロマトグラフィ（シリカゲル6.0g使用）
で処理し、ジエチルエーテル/n−ヘキサン（1:20、v/
v）の溶出部から無色油状の標記トコフェロール体
（９）（40.7mg:94.7μモル:2段階で66％）を得た。
ゼン（2.0ml）に溶解した溶液に、ｐ−トルエンスルホ
ン酸4.0mg（21μモル）を加え、アルゴン気流下で30分
間加熱還流した。冷却した後、ジエチルエーテル（4m
l）を加えて希釈し、有機層を炭酸水素ナトリウム飽和
水溶液および塩化ナトリウム飽和水溶液で順に洗浄し、
硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶媒を減圧下で留去させ
ると、淡黄色油状の粗生成物64mgが得られた。この粗生
成物をカラムクロマトグラフィ（シリカゲル6.0g使用）
で処理し、ジエチルエーテル/n−ヘキサン（1:20、v/
v）の溶出部から無色油状の標記トコフェロール体
（９）（40.7mg:94.7μモル:2段階で66％）を得た。
▲［α］30 D▼＝−3.29゜（ｃ＝0.79、ベンゼン） Ｈ−NMR（CDCl3、δ）： 0.65−1.93（36H、ｍ） 1.78（2H、brt、Ｊ＝6.8Hz） 2.11（6H、ｓ）、2.16（3H、ｓ） 2.60（2H、brt、Ｊ＝6.8Hz） 4.16（1H、brs、交換可能） シャープなピーク:0.83、0.90、1.22 MS m/z:431（M+＋１）、430（M+、100％）、207、165 High−MS m/z（M+） 理論値（C29H50O2）:430.3811 測定値:430.3800 ［発明の効果］ 本発明によれば、入手が容易な天然型フィトールを出
発材料として用いて、クロマン環状の２位−炭素原子を
天然型の立体配置に構築することができる簡便で効率の
良い手段が提供される。
発材料として用いて、クロマン環状の２位−炭素原子を
天然型の立体配置に構築することができる簡便で効率の
良い手段が提供される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｍ 7:00 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07C 33/042 C07C 29/58 C07D 311/72 101 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (2)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） ［式中、Ｚは、 （ｉ）３位がハロゲン原子で置換されている（1S,2S）
−1,2−エポキシ−１−メチル−プロピル基、または （ii）３位が一般式（II） （式中、R1、R2およびR3はそれぞれ独立に水素原子また
は炭素数１〜４個の低級アルキル基であり、そしてＲは
ヒドロキシ基を保護する基である） で表される置換フェニル基で置換されている（1S）−１
−ヒドロキシ−１−メチル−プロピニル−２基である］ で表される化合物。 - 【請求項２】一般式（I b） （式中、Ｘはハロゲン原子である） で表される化合物を強塩基で処理することを特徴とす
る、 一般式（I c） で表される化合物の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2039322A JP2888250B2 (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 | 光学活性なヘキサデカン誘導体及びその製造方法 |
| US07/658,179 US5262552A (en) | 1990-02-20 | 1991-02-20 | Optically active compounds and intermediates thereof, and process for manufacturing same |
| US08/036,887 US5352845A (en) | 1990-02-20 | 1993-03-25 | Process for manufacture of optically active saturated compounds |
| US08/243,760 US5504219A (en) | 1990-02-20 | 1994-05-17 | Optically active compounds and intermediates thereof, and process for manufacturing same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2039322A JP2888250B2 (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 | 光学活性なヘキサデカン誘導体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03246240A JPH03246240A (ja) | 1991-11-01 |
| JP2888250B2 true JP2888250B2 (ja) | 1999-05-10 |
Family
ID=12549870
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2039322A Expired - Fee Related JP2888250B2 (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 | 光学活性なヘキサデカン誘導体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2888250B2 (ja) |
-
1990
- 1990-02-20 JP JP2039322A patent/JP2888250B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｅｎｇ．Ｄａｔｅ，１９８８，３３，ｐ．５１２−５１８ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03246240A (ja) | 1991-11-01 |
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