JPH054981A - ヒドロキノン誘導体 - Google Patents
ヒドロキノン誘導体Info
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- JPH054981A JPH054981A JP3302776A JP30277691A JPH054981A JP H054981 A JPH054981 A JP H054981A JP 3302776 A JP3302776 A JP 3302776A JP 30277691 A JP30277691 A JP 30277691A JP H054981 A JPH054981 A JP H054981A
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- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/12—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
- C07D303/18—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by etherified hydroxyl radicals
- C07D303/20—Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
- C07C43/02—Ethers
- C07C43/20—Ethers having an ether-oxygen atom bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C46/00—Preparation of quinones
- C07C46/02—Preparation of quinones by oxidation giving rise to quinoid structures
-
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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- C07C50/26—Quinones containing groups having oxygen atoms singly bound to carbon atoms
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-
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-
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- C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
- C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D311/04—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring
- C07D311/58—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring other than with oxygen or sulphur atoms in position 2 or 4
- C07D311/70—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring other than with oxygen or sulphur atoms in position 2 or 4 with two hydrocarbon radicals attached in position 2 and elements other than carbon and hydrogen in position 6
- C07D311/72—3,4-Dihydro derivatives having in position 2 at least one methyl radical and in position 6 one oxygen atom, e.g. tocopherols
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 式
【化１】
式中、Ｒはエーテル保護基を表わす、で示される化合
物。 【効果】 本化合物はｄ−α−トコフエロール（天然ビ
タミンＥ）を製造する際の中間体として有用である。
物。 【効果】 本化合物はｄ−α−トコフエロール（天然ビ
タミンＥ）を製造する際の中間体として有用である。
Description
【０００１】本発明はｄ−α−トコフエロール（天然ビ
タミンＥ）を製造する際の出発物質として使用しうる新
規なヒドロキノン誘導体に関し、さらに詳しくは、一般
式
タミンＥ）を製造する際の出発物質として使用しうる新
規なヒドロキノン誘導体に関し、さらに詳しくは、一般
式
【０００２】
【化２】
【０００３】式中、Ｒはエーテル保護基を表わす、の化
合物に関する。
合物に関する。
【０００４】天然ビタミンＥの数種の製造方法は既知で
あるが、しかしこれらの方法は技術的にみてあまり興味
のないものである。従って、天然ビタミンＥは従来ほと
んど天然源から抽出されていた。
あるが、しかしこれらの方法は技術的にみてあまり興味
のないものである。従って、天然ビタミンＥは従来ほと
んど天然源から抽出されていた。
【０００５】従って、天然ビタミンＥが良好な収率且つ
高度の光学的純度で得ることができる技術的に合理的な
方法に対する必要性がある。この方法が本発明の化合物
を出発物質として用いる方法により可能となる。
高度の光学的純度で得ることができる技術的に合理的な
方法に対する必要性がある。この方法が本発明の化合物
を出発物質として用いる方法により可能となる。
【０００６】その方法は一般式
【０００７】
【化３】
【０００８】式中、Ｒはエーテル保護基を表わす、の化
合物を部位選択的に（ｒｅｇｉｏｓｅｌｅｃｔｉｖｅｌ
ｙ）還元し、必要に応じてかくして得られる一般式
合物を部位選択的に（ｒｅｇｉｏｓｅｌｅｃｔｉｖｅｌ
ｙ）還元し、必要に応じてかくして得られる一般式
【０００９】
【化４】
【００１０】式中、Ｒは上記の意味を有する、の化合物
を一般式
を一般式
【００１１】
【化５】
【００１２】式中、Ｒは上記の意味を有する、の化合物
に転化し、そして必要に応じて、式ＩＩＩの化合物を式
に転化し、そして必要に応じて、式ＩＩＩの化合物を式
【００１３】
【化６】
【００１４】のｄ−α−トコフエロールに転化すること
からなる。
からなる。
【００１５】「エーテル保護基」なる用語は、本発明の
範囲内において、加水分解によって開裂させ得る基、例
えばトリアルキルシリル基、アルコキシアルキル基（例
えばメトキシメチル基）またはテトラヒドロピラニル基
のみならず、また酸化的に開裂させ得る基（例えばＣ1
〜Ｃ6アルキル基）を表わす。更に表示「▲」は対応す
る残基が分子の面の上に位置すること、一方、表示「--
-」は対応する残基が分子の面の下に位置することを意
味する。
範囲内において、加水分解によって開裂させ得る基、例
えばトリアルキルシリル基、アルコキシアルキル基（例
えばメトキシメチル基）またはテトラヒドロピラニル基
のみならず、また酸化的に開裂させ得る基（例えばＣ1
〜Ｃ6アルキル基）を表わす。更に表示「▲」は対応す
る残基が分子の面の上に位置すること、一方、表示「--
-」は対応する残基が分子の面の下に位置することを意
味する。
【００１６】上記の方法において、式Ｉの化合物の式Ｉ
Ｉの化合物への部位選択的還元、即ちエポキシドの還元
的開裂は不活性有機溶媒中で有利に行われる。特に適当
な不活性有機溶媒は脂肪族及び芳香族炭化水素類、例え
ばペンタン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等；エーテ
ル類、例えばジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエー
テル、テトラヒドロフラン及びジオキサン；または炭化
水素とエーテル類の混合物である。溶媒または溶媒混合
物を出発物質がこれに溶解するように選ぶことが好まし
い。
Ｉの化合物への部位選択的還元、即ちエポキシドの還元
的開裂は不活性有機溶媒中で有利に行われる。特に適当
な不活性有機溶媒は脂肪族及び芳香族炭化水素類、例え
ばペンタン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等；エーテ
ル類、例えばジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエー
テル、テトラヒドロフラン及びジオキサン；または炭化
水素とエーテル類の混合物である。溶媒または溶媒混合
物を出発物質がこれに溶解するように選ぶことが好まし
い。
【００１７】錯金属水素化物がエポキシドの部位選択的
開環に対して特に適する還元剤である。好ましい錯金属
水素化物は水素化ナトリウムビス（２−メトキシ−エト
キシアルミニウム［Ｒｅｄ−ａｌR］、水素化リチウム
アルミニウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ア
ルミニウム、水素化アルミニウムジボラン等である。水
素化ナトリウムビス（２−メトキシ−エトキシ）アルミ
ニウム及び水素化リチウムアルミニウムが殊に好まし
い。
開環に対して特に適する還元剤である。好ましい錯金属
水素化物は水素化ナトリウムビス（２−メトキシ−エト
キシアルミニウム［Ｒｅｄ−ａｌR］、水素化リチウム
アルミニウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ア
ルミニウム、水素化アルミニウムジボラン等である。水
素化ナトリウムビス（２−メトキシ−エトキシ）アルミ
ニウム及び水素化リチウムアルミニウムが殊に好まし
い。
【００１８】温度及び圧力は臨界的ではなく、部位選択
還元を室温及び常圧下で容易に行うことができる。
還元を室温及び常圧下で容易に行うことができる。
【００１９】式ＩＩの化合物の式ＩＩＩの化合物への転
化はそれ自体既知の方法において行うことができる。こ
の転化は酸性媒質中で水素添加によって有利に行われ
る。水素添加は普通の水素添加触媒（例えばパラジウ
ム、白金等）の存在において、担体物質の存在下でまた
はこれなしに行うことができる。酸は無機酸、例えば塩
化水素酸もしくは硫酸、過塩素酸またはカルボン酸、例
えばギ酸、酢酸等であることができる。温度及び圧力は
臨界的ではなく、この転化は室温及び常圧下で容易に行
うことができる。
化はそれ自体既知の方法において行うことができる。こ
の転化は酸性媒質中で水素添加によって有利に行われ
る。水素添加は普通の水素添加触媒（例えばパラジウ
ム、白金等）の存在において、担体物質の存在下でまた
はこれなしに行うことができる。酸は無機酸、例えば塩
化水素酸もしくは硫酸、過塩素酸またはカルボン酸、例
えばギ酸、酢酸等であることができる。温度及び圧力は
臨界的ではなく、この転化は室温及び常圧下で容易に行
うことができる。
【００２０】式ＩＩＩの化合物は既知のものであり、既
知の方法においてｄ−α−トコフエロールに転化するこ
とができる。この転化は、例えば基Ｒが加水分解によっ
て開裂させ得る場合、酸で処理する簡単な方法で行うこ
とができる。基Ｒが酸化的に開裂され得る場合、転化は
例えば硝酸セリウムアンモニウム［(Ｃｅ(ＮＨ4)2(ＮＯ
3)6］で処理し、次いで得られるキノンの還元的環化に
よる簡単な方法において行われる。
知の方法においてｄ−α−トコフエロールに転化するこ
とができる。この転化は、例えば基Ｒが加水分解によっ
て開裂させ得る場合、酸で処理する簡単な方法で行うこ
とができる。基Ｒが酸化的に開裂され得る場合、転化は
例えば硝酸セリウムアンモニウム［(Ｃｅ(ＮＨ4)2(ＮＯ
3)6］で処理し、次いで得られるキノンの還元的環化に
よる簡単な方法において行われる。
【００２１】上記の方法に出発物質として用いられる式
Ｉの化合物は新規なものである。これらの化合物は一般
式
Ｉの化合物は新規なものである。これらの化合物は一般
式
【００２２】
【化７】
【００２３】式中、Ｒは上記の意味を有し、そしてＸは
塩素または臭素を表わす、の化合物との反応によって式
塩素または臭素を表わす、の化合物との反応によって式
【００２４】
【化８】
【００２５】の化合物から出発して製造することができ
る。
る。
【００２６】この反応はそれ自体既知の方法において、
即ちグリニアール反応に対して普通の条件を用いて行う
ことができる。
即ちグリニアール反応に対して普通の条件を用いて行う
ことができる。
【００２７】この反応は不活性有機溶媒、例えばエーテ
ル例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等中に
て、約−２０℃乃至ほぼ室温、好ましくは約−２０℃〜
約０℃の温度で有利に行われる。
ル例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等中に
て、約−２０℃乃至ほぼ室温、好ましくは約−２０℃〜
約０℃の温度で有利に行われる。
【００２８】また、上記の式Ｖの化合物は新規なもので
あり、式
あり、式
【００２９】
【化９】
【００３０】の既知の化合物を酸化する簡単な方法で製
造することができる。この酸化はそれ自体既知の方法に
おいて、例えば、塩化メチレン中のピリジニウムクロロ
クロメート［コレイ試薬（Ｃｏｒｅｙ ｒｅａｇｅｎ
ｔ）］を用いて行うことができる。
造することができる。この酸化はそれ自体既知の方法に
おいて、例えば、塩化メチレン中のピリジニウムクロロ
クロメート［コレイ試薬（Ｃｏｒｅｙ ｒｅａｇｅｎ
ｔ）］を用いて行うことができる。
【００３１】式ＶＩの化合物は既知のものであるか、ま
たは既知の化合物の同族体であり、それ自体既知の方法
に従って製造することができる。
たは既知の化合物の同族体であり、それ自体既知の方法
に従って製造することができる。
【００３２】
【製造例】以下の製造例は本発明をさらに具体的に説明
するものである： 製造例１ ｔ−ブチルメチルエーテル１ｍｌ中の（１ＲＳ，２Ｒ，
３Ｒ，７Ｒ，１１Ｒ）−１−（２′，５′−ジメトキシ
−３′，４′，６′−トリメチルフェニル）−２，３−
エポキシ−３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデ
カノール３４２ｍｇ（０．７０ミリモル）の溶液を室温
で撹拌しながら、ｔ−ブチルメチルエーテル１０ｍｌ中
の水素化リチウムアルミニウム５１ｍｇ（２ミリモル）
の懸濁液に滴下し、次に混合物を室温で更に１時間撹拌
した。次いで水０．５ｍｌを滴下し、混合物を硫酸ナト
リウムを通して濾過し、エーテルですすぎ、濾液を回転
蒸発機で濃縮した。かくして得られた生成物（３４１ｍ
ｇ）をシリカゲル上でトルエン／酢酸エチル（２：１）
によってクロマトグラフィーにかけ、（１ＲＳ，３Ｒ，
７Ｒ，１１Ｒ）−１−（２′，５′−ジメトキシ−
３′，４′，６′−トリメチルフェニル）−３，７，１
１，１５−テトラメチルヘキサデカン−１，３− ％、クロロホルム中）。
するものである： 製造例１ ｔ−ブチルメチルエーテル１ｍｌ中の（１ＲＳ，２Ｒ，
３Ｒ，７Ｒ，１１Ｒ）−１−（２′，５′−ジメトキシ
−３′，４′，６′−トリメチルフェニル）−２，３−
エポキシ−３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデ
カノール３４２ｍｇ（０．７０ミリモル）の溶液を室温
で撹拌しながら、ｔ−ブチルメチルエーテル１０ｍｌ中
の水素化リチウムアルミニウム５１ｍｇ（２ミリモル）
の懸濁液に滴下し、次に混合物を室温で更に１時間撹拌
した。次いで水０．５ｍｌを滴下し、混合物を硫酸ナト
リウムを通して濾過し、エーテルですすぎ、濾液を回転
蒸発機で濃縮した。かくして得られた生成物（３４１ｍ
ｇ）をシリカゲル上でトルエン／酢酸エチル（２：１）
によってクロマトグラフィーにかけ、（１ＲＳ，３Ｒ，
７Ｒ，１１Ｒ）−１−（２′，５′−ジメトキシ−
３′，４′，６′−トリメチルフェニル）−３，７，１
１，１５−テトラメチルヘキサデカン−１，３− ％、クロロホルム中）。
【００３３】出発物質として用いた（ＩＲＳ，２Ｒ，３
Ｒ，７Ｒ，１１Ｒ）−１−（２′，５′−ジメトキシ−
２′，４′，６′−トリメチルフェニル）−２，３−エ
ポキシ−３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデカ
ノールは次の如くして製造した： Ａ）塩化メチレン５ｍｌ中の（２Ｒ，３Ｒ，７Ｒ，１１
Ｒ）−２，３−エポキシ−３，７，１１，１５−テトラ
メチルヘキサデカノール１．７０ｇ（５．４５ミリモ
ル）を室温で撹拌しながら塩化メチレン５０ｍｌ中のピ
リジニウムクロロクロメート１．６ｇ（５．４５ミリモ
ル）の懸濁液に滴下し、この混合物を室温で一夜撹拌し
た。次にヒフロ（Ｈｙｆｌｏ）を加え、混合物をエーテ
ル１００ｍｌと共に１時間撹拌し、次に濾過し、エーテ
ルですすいだ。粗製の生成物をシリカゲル上でトルエン
によってクロマトグラフィーにかけた。（２Ｒ，３Ｒ，
７Ｒ，１１Ｒ）−２，３−エポキシ−３，７，１１，１
５−テトラメチルヘキサデカ 、クロロホルム中）。
Ｒ，７Ｒ，１１Ｒ）−１−（２′，５′−ジメトキシ−
２′，４′，６′−トリメチルフェニル）−２，３−エ
ポキシ−３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデカ
ノールは次の如くして製造した： Ａ）塩化メチレン５ｍｌ中の（２Ｒ，３Ｒ，７Ｒ，１１
Ｒ）−２，３−エポキシ−３，７，１１，１５−テトラ
メチルヘキサデカノール１．７０ｇ（５．４５ミリモ
ル）を室温で撹拌しながら塩化メチレン５０ｍｌ中のピ
リジニウムクロロクロメート１．６ｇ（５．４５ミリモ
ル）の懸濁液に滴下し、この混合物を室温で一夜撹拌し
た。次にヒフロ（Ｈｙｆｌｏ）を加え、混合物をエーテ
ル１００ｍｌと共に１時間撹拌し、次に濾過し、エーテ
ルですすいだ。粗製の生成物をシリカゲル上でトルエン
によってクロマトグラフィーにかけた。（２Ｒ，３Ｒ，
７Ｒ，１１Ｒ）−２，３−エポキシ−３，７，１１，１
５−テトラメチルヘキサデカ 、クロロホルム中）。
【００３４】Ｂ）テトラヒドロフラン２ｍｌ中の２，５
−ジメトキシ−３，４，６−トリメチルフェニルマグネ
シウムブロマイド１ミリモルを０℃で撹拌しながらテト
ラヒドロフラン１０ｍｌ中の（２Ｒ，３Ｒ，７Ｒ，１１
Ｒ）−２，３−エポキシ−３，７，１１，１５−テトラ
メチルヘキサデカナール３００ｍｇ（０．９７ミリモ
ル）の溶液に滴下した。滴下終了後、混合物を室温で更
に３時間撹拌した。次に水２０ｍｌを加え、この混合物
をエーテル各２０ｍｌで３回抽出した。合液した有機相
を硫酸ナトリウム上で乾燥し、回転蒸発機で濃縮した。
かくして得られた粗製の生成物（５０２ｍｇ）をシリカ
ゲル上でトルエン／酢酸エチル（２：１）によってクロ
マトグラフィーにかけ、（１ＲＳ、２Ｒ、３Ｒ、７Ｒ，
１１Ｒ）−１−（２′，５′−ジメトキシ−３′，
４′，６′−トリメチルフェニル）−２，３−エポキシ
−３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデカノール
４４８ｍ ム中）。
−ジメトキシ−３，４，６−トリメチルフェニルマグネ
シウムブロマイド１ミリモルを０℃で撹拌しながらテト
ラヒドロフラン１０ｍｌ中の（２Ｒ，３Ｒ，７Ｒ，１１
Ｒ）−２，３−エポキシ−３，７，１１，１５−テトラ
メチルヘキサデカナール３００ｍｇ（０．９７ミリモ
ル）の溶液に滴下した。滴下終了後、混合物を室温で更
に３時間撹拌した。次に水２０ｍｌを加え、この混合物
をエーテル各２０ｍｌで３回抽出した。合液した有機相
を硫酸ナトリウム上で乾燥し、回転蒸発機で濃縮した。
かくして得られた粗製の生成物（５０２ｍｇ）をシリカ
ゲル上でトルエン／酢酸エチル（２：１）によってクロ
マトグラフィーにかけ、（１ＲＳ、２Ｒ、３Ｒ、７Ｒ，
１１Ｒ）−１−（２′，５′−ジメトキシ−３′，
４′，６′−トリメチルフェニル）−２，３−エポキシ
−３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデカノール
４４８ｍ ム中）。
【００３５】製造例２ ７０％過塩素酸１ｍｌをメタノール２０ｍｌ中の（１Ｒ
Ｓ，３Ｓ，７Ｒ，１１Ｒ）−１−（２′，５′−ジメト
キシ−３′，４′，６′−トリメチルフェニル）−３，
７，１１，１５−テトラメチルヘキサデカン−１，３−
ジオール１９７ｍｇ（０．４０ミリモル）の溶液に加
え、この混合物を１０％パラジウム／炭素の存在下にお
いて水素雰囲気下にて室温で１５時間振盪した。次に混
合物を炭酸ナトリウムで中和し、酢酸エチル５０ｍｌを
加え、生じた混合物をヒフロを通して濾過し、濾液を回
転蒸発機で濃縮した。（３Ｒ，７Ｒ，１１Ｒ）−１−
（２′，５′−ジメトキシ−３′，４′，６′−トリメ
チルフェニル）−３，７，１１，１５−テトラメチルヘ
キサデカン−３−オール１６５ｍｇ（８５％）が得られ
Ｓ，３Ｓ，７Ｒ，１１Ｒ）−１−（２′，５′−ジメト
キシ−３′，４′，６′−トリメチルフェニル）−３，
７，１１，１５−テトラメチルヘキサデカン−１，３−
ジオール１９７ｍｇ（０．４０ミリモル）の溶液に加
え、この混合物を１０％パラジウム／炭素の存在下にお
いて水素雰囲気下にて室温で１５時間振盪した。次に混
合物を炭酸ナトリウムで中和し、酢酸エチル５０ｍｌを
加え、生じた混合物をヒフロを通して濾過し、濾液を回
転蒸発機で濃縮した。（３Ｒ，７Ｒ，１１Ｒ）−１−
（２′，５′−ジメトキシ−３′，４′，６′−トリメ
チルフェニル）−３，７，１１，１５−テトラメチルヘ
キサデカン−３−オール１６５ｍｇ（８５％）が得られ
【００３６】 製造例３ 水５ｍｌ中の硝酸セリウム（ＩＶ）アンモニウム１．３
ｇをアセトニトリル５０ｍｌ中の（３Ｒ，７Ｒ，１１
Ｒ）−１−（２′，５′−ジメトキシ−３′，４′，
６′−トリメチルフェニル）−３，７，１１，１５−テ
トラメチルヘキサデカン−３−オール５３０ｍｇ（１．
１３ミリモル）の溶液に撹拌しながら加え、この混合物
を室温で１時間撹拌した。混合物を塩化メチレン各２０
ｍｌで抽出し、合液した有機相を硫酸ナトリウム上で乾
燥し、回転蒸発機で蒸発させた。（３′Ｒ，７′Ｒ，１
１′Ｒ）−２−（３′−ヒドロキシ−３′，７′，１
１′，１５′−テトラメチルヘキサデカン−１′−イ
ル）−３，５，６−トリメチル−１，４−ベンゾキノン
４８０ｍｇが得られた。
ｇをアセトニトリル５０ｍｌ中の（３Ｒ，７Ｒ，１１
Ｒ）−１−（２′，５′−ジメトキシ−３′，４′，
６′−トリメチルフェニル）−３，７，１１，１５−テ
トラメチルヘキサデカン−３−オール５３０ｍｇ（１．
１３ミリモル）の溶液に撹拌しながら加え、この混合物
を室温で１時間撹拌した。混合物を塩化メチレン各２０
ｍｌで抽出し、合液した有機相を硫酸ナトリウム上で乾
燥し、回転蒸発機で蒸発させた。（３′Ｒ，７′Ｒ，１
１′Ｒ）−２−（３′−ヒドロキシ−３′，７′，１
１′，１５′−テトラメチルヘキサデカン−１′−イ
ル）−３，５，６−トリメチル−１，４−ベンゾキノン
４８０ｍｇが得られた。
【００３７】上記の生成物をメタノール１００ｍｌに溶
解し、１０％パラジウム／炭素上で水素添加した。次に
濃塩酸０．５ｍｌを加え、この混合物を５０℃に２時間
加温した。その後、混合物を炭酸水素ナトリウムの添加
によって中和し、次いで濾過した；濾液を蒸発させ、残
渣をシリカゲル上でトルエン／酢酸エチル（２：１）に
よってクロマトグラフィーにかけた。この方法で淡い帯
黄色油として２Ｒ，４′Ｒ，８′Ｒ−α−トコフエロー
ル（ｄ−α−トコフエロール）３７５ｍｇ（９０％）が
得られた。上記の方法で得られたｄ−α−トコフエロー
ルの光学的純度に対しては９５％の値が測定された。
解し、１０％パラジウム／炭素上で水素添加した。次に
濃塩酸０．５ｍｌを加え、この混合物を５０℃に２時間
加温した。その後、混合物を炭酸水素ナトリウムの添加
によって中和し、次いで濾過した；濾液を蒸発させ、残
渣をシリカゲル上でトルエン／酢酸エチル（２：１）に
よってクロマトグラフィーにかけた。この方法で淡い帯
黄色油として２Ｒ，４′Ｒ，８′Ｒ−α−トコフエロー
ル（ｄ−α−トコフエロール）３７５ｍｇ（９０％）が
得られた。上記の方法で得られたｄ−α−トコフエロー
ルの光学的純度に対しては９５％の値が測定された。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 一般式 【化１】 式中、Ｒはエーテル保護基を表わす、で示される化合
物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH6270/82-1 | 1982-10-27 | ||
| CH627082 | 1982-10-27 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58197725A Division JPS5995231A (ja) | 1982-10-27 | 1983-10-24 | 光学活性化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH054981A true JPH054981A (ja) | 1993-01-14 |
| JPH0639468B2 JPH0639468B2 (ja) | 1994-05-25 |
Family
ID=4306940
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58197725A Granted JPS5995231A (ja) | 1982-10-27 | 1983-10-24 | 光学活性化合物の製造方法 |
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|---|---|---|---|
| JP58197725A Granted JPS5995231A (ja) | 1982-10-27 | 1983-10-24 | 光学活性化合物の製造方法 |
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-
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