JP2662162B2 - 3−アルキルピロールの製造法 - Google Patents
3−アルキルピロールの製造法Info
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Description
【0001】〔発明の背景〕
【産業上の利用分野】本発明は、一般式(II)
【0002】
【化3】 (式中、Rは炭素数1〜20のアルキル基を表わす)で
示される3‐アルキルピロールの製造法に関する。
示される3‐アルキルピロールの製造法に関する。
【0003】更に詳しくは、本発明は、一般式(I)
【0004】
【化4】 (式中、R′は炭素数1〜20のアルキルないしアルケ
ニル基、Xは基は置換基を有してもよいアリール基を表
わす)で示される、3‐アルカノイル‐1‐アリールス
ルホニルピロールを、有機溶媒中で水素化ビスメトキシ
エトキシアルミニウムナトリウムで化学還元することに
より、良好な収率で3‐アルキルピロールを製造する方
法に関するものである。
ニル基、Xは基は置換基を有してもよいアリール基を表
わす)で示される、3‐アルカノイル‐1‐アリールス
ルホニルピロールを、有機溶媒中で水素化ビスメトキシ
エトキシアルミニウムナトリウムで化学還元することに
より、良好な収率で3‐アルキルピロールを製造する方
法に関するものである。
【0005】本発明により有利に製造される3‐アルキ
ルピロールは、ピロール系誘導体合成における中間体と
して、特に、医薬品、農薬、合成染料の中間体物質とし
て、工業的に用いることができる。また、3‐アルキル
ピロールは、それを重合させることによってπ共役系高
分子が得られるところから、そのような高分子製造用の
モノマーとしても利用することができる。
ルピロールは、ピロール系誘導体合成における中間体と
して、特に、医薬品、農薬、合成染料の中間体物質とし
て、工業的に用いることができる。また、3‐アルキル
ピロールは、それを重合させることによってπ共役系高
分子が得られるところから、そのような高分子製造用の
モノマーとしても利用することができる。
【0006】
【従来の技術】従来、ピロールの3位に置換基を導入す
る試みは、古くから研究され多くの試みがなされてき
た。近年、それらをまとめた総説がいくつか報告され、
そのひとつにAndersonらが報告した3‐アルキ
ルピロール合成における総説(Synthesis,3
53(1985))がある。
る試みは、古くから研究され多くの試みがなされてき
た。近年、それらをまとめた総説がいくつか報告され、
そのひとつにAndersonらが報告した3‐アルキ
ルピロール合成における総説(Synthesis,3
53(1985))がある。
【0007】その中で、ピロール環に直接アルキル基を
導入する方法も報告されているが、そのような直接アル
キル化は、ピロールからの合成収率が非常に低く、また
合成における位置選択性が非常に低いものであり、更に
分離精製が煩雑なものであった。これは、ピロール環の
2位での反応性が3位よりも高いことに起因し、副生成
物として2位置換誘導体が生成するためである。
導入する方法も報告されているが、そのような直接アル
キル化は、ピロールからの合成収率が非常に低く、また
合成における位置選択性が非常に低いものであり、更に
分離精製が煩雑なものであった。これは、ピロール環の
2位での反応性が3位よりも高いことに起因し、副生成
物として2位置換誘導体が生成するためである。
【0008】また、位置選択性に優れた方法としては、
2位にあらかじめ電子吸引性の基を導入し、3位に選択
的に置換基を導入する方法、あるいは、ピロール環の1
位(N位)に嵩高い置換基を導入し、2位及び5位の反
応を立体障害的に防いで、選択的に3位に置換基を導入
する方法(Kakushima et al.J.Or
g.Chem.,48,3214(1983)が提案さ
れている。
2位にあらかじめ電子吸引性の基を導入し、3位に選択
的に置換基を導入する方法、あるいは、ピロール環の1
位(N位)に嵩高い置換基を導入し、2位及び5位の反
応を立体障害的に防いで、選択的に3位に置換基を導入
する方法(Kakushima et al.J.Or
g.Chem.,48,3214(1983)が提案さ
れている。
【0009】しかし、前者の2位に導入した電子吸引性
の基による3位に対する位置選択性を利用する方法で
は、2位への、次いで3位への置換基の導入の収率が高
くないので出発物質であるピロールから高収率で目的の
3位置換ピロールを得ることは難しく、また合成経路に
おいて工程数が多く、工業的な面からみて実用性にかけ
ていた。
の基による3位に対する位置選択性を利用する方法で
は、2位への、次いで3位への置換基の導入の収率が高
くないので出発物質であるピロールから高収率で目的の
3位置換ピロールを得ることは難しく、また合成経路に
おいて工程数が多く、工業的な面からみて実用性にかけ
ていた。
【0010】これに対して、後者の1位に導入した置換
基の立体障害による3位に対する位置選択性を利用する
方法では、合成における工程数に関しては前者の方法と
同程度の工程数がかかるものの、1位への、次いで3位
への置換基の導入に係る各工程での合成収率が高く、3
位への位置選択性が非常に高いものであり、従って3‐
アルキルピロールの合成法として好ましいと考えられる
方法であった。
基の立体障害による3位に対する位置選択性を利用する
方法では、合成における工程数に関しては前者の方法と
同程度の工程数がかかるものの、1位への、次いで3位
への置換基の導入に係る各工程での合成収率が高く、3
位への位置選択性が非常に高いものであり、従って3‐
アルキルピロールの合成法として好ましいと考えられる
方法であった。
【0011】いずれの方法によるにしても、先ず合成さ
れるのは、中間体、すなわち最終化合物である3‐アル
キルピロールに対して不要である2位または1位置換基
を有する化合物、であるから、このような中間体から不
要な置換基を除去する工程、ならびに3位に導入される
置換基が目的のアルキル基でなくてその前駆体であるこ
とがふつうであるところより(すなわちたとえばフリー
デルクラフツ反応によって3位に置換基を導入する場合
はアルキル化よりアシル化の方が一般に容易である)、
この前駆体基を目的のアルキル基に変換させる工程、を
実施することが必要であって、この追加的な2工程を実
施することによって目的の3‐アルキルピロールが得ら
れる。
れるのは、中間体、すなわち最終化合物である3‐アル
キルピロールに対して不要である2位または1位置換基
を有する化合物、であるから、このような中間体から不
要な置換基を除去する工程、ならびに3位に導入される
置換基が目的のアルキル基でなくてその前駆体であるこ
とがふつうであるところより(すなわちたとえばフリー
デルクラフツ反応によって3位に置換基を導入する場合
はアルキル化よりアシル化の方が一般に容易である)、
この前駆体基を目的のアルキル基に変換させる工程、を
実施することが必要であって、この追加的な2工程を実
施することによって目的の3‐アルキルピロールが得ら
れる。
【0012】3‐アルキルピロールの合成法として、
1,3‐ジ置換ピロールを中間体とする方法が有利であ
ったことは前記したころであるが、この追加的な2工程
は、具体的には、たとえば、下記の通りに行なわれてい
る。すなわち、3‐アルカノイル‐1‐アリールスルホ
ニルピロールをジオキサン中アルカリの存在下で加熱す
ることにより、脱アリールスルホニル化し、さらに還元
剤である金属ハイドライド、例えば水素化アルミニウム
リチウム、をエーテル中で作用させることにより、ケト
ン基を還元する(比較例3参照)。しかし、この追加的
な2工程は、それが2工程であるという点で複雑である
ばかりでなく、目的の3‐アルキルピロールのトータル
収率が低く、また、製造における費用がかかるため、こ
のような工程が必要である前記の方法は工業的に好まし
いものであるといい難い。
1,3‐ジ置換ピロールを中間体とする方法が有利であ
ったことは前記したころであるが、この追加的な2工程
は、具体的には、たとえば、下記の通りに行なわれてい
る。すなわち、3‐アルカノイル‐1‐アリールスルホ
ニルピロールをジオキサン中アルカリの存在下で加熱す
ることにより、脱アリールスルホニル化し、さらに還元
剤である金属ハイドライド、例えば水素化アルミニウム
リチウム、をエーテル中で作用させることにより、ケト
ン基を還元する(比較例3参照)。しかし、この追加的
な2工程は、それが2工程であるという点で複雑である
ばかりでなく、目的の3‐アルキルピロールのトータル
収率が低く、また、製造における費用がかかるため、こ
のような工程が必要である前記の方法は工業的に好まし
いものであるといい難い。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】〔発明の概要〕 本発明は1,3‐ジ置換中間体から目的の3‐アルキル
ピロールを合成する場合の、この中間体から最終化合物
への過程に改善を与えることを目的とし、この中間体に
対して特定の還元手段を適用することによって、この目
的を達成しようとするものである。
ピロールを合成する場合の、この中間体から最終化合物
への過程に改善を与えることを目的とし、この中間体に
対して特定の還元手段を適用することによって、この目
的を達成しようとするものである。
【0014】
【課題を解決するための手段】<要旨> すなわち、本発明による3‐アルキルピロールの製造法
は、下記−般式(I)で示される3−アルカノイル‐1
‐アリールスルホニルピロールを、有機溶媒中で水素化
ビスメトキシエトキシアルミニウムナトリウムで還元し
て、下記一般式(II)で示される3‐アルキルピロー
ルを得ること、を特徴とするものである。
は、下記−般式(I)で示される3−アルカノイル‐1
‐アリールスルホニルピロールを、有機溶媒中で水素化
ビスメトキシエトキシアルミニウムナトリウムで還元し
て、下記一般式(II)で示される3‐アルキルピロー
ルを得ること、を特徴とするものである。
【0015】
【化5】 (式中、R′は炭素数1〜20のアルキルないしアルケ
ニル基、Xは置換基を有してもよいアリール基を表わ
す)
ニル基、Xは置換基を有してもよいアリール基を表わ
す)
【0016】
【化6】 (式中、Rは炭素数1〜20のアルキル基を表わす) <効果> 本発明によれば、1,3‐ジ置換中間体に対して必要で
あった追加の2工程を、1工程に短縮することができ
る。すなわち、有機溶剤中で、還元剤である水素化ビス
メトキシエトキシアルミニウムナトリウムを用いて、脱
アリールスルホニル化反応とケトン基の還元反応を同時
に行って、目的の3‐アルキルピロールを1工程で製造
することができる。
あった追加の2工程を、1工程に短縮することができ
る。すなわち、有機溶剤中で、還元剤である水素化ビス
メトキシエトキシアルミニウムナトリウムを用いて、脱
アリールスルホニル化反応とケトン基の還元反応を同時
に行って、目的の3‐アルキルピロールを1工程で製造
することができる。
【0017】従って、本発明による3‐アルキルピロー
ルの製造法は、前記した1,3‐ジ置換中間体の製造に
生得的な利点を保存しているところより、本発明によれ
ば合成における収率が非常に高く、選択的に目的物を得
ることが可能となる。 〔発明の具体的説明〕 <1,3‐ジ置換中間体> 本発明に従って特定の化学還元に付すべき1,3‐ジ置
換中間体は、一般式(I)で示される化合物である。
ルの製造法は、前記した1,3‐ジ置換中間体の製造に
生得的な利点を保存しているところより、本発明によれ
ば合成における収率が非常に高く、選択的に目的物を得
ることが可能となる。 〔発明の具体的説明〕 <1,3‐ジ置換中間体> 本発明に従って特定の化学還元に付すべき1,3‐ジ置
換中間体は、一般式(I)で示される化合物である。
【0018】
【化7】 (式中、R′は炭素数1〜20のアルキルないしアルケ
ニル基、Xは置換基を有してもよいアリール基を表わ
す)次工程の3位置換選択性を実現する1位置換基中の
Xは、アリール基または置換アリール基である。
ニル基、Xは置換基を有してもよいアリール基を表わ
す)次工程の3位置換選択性を実現する1位置換基中の
Xは、アリール基または置換アリール基である。
【0019】アリール基は、基本的なフェニル基および
α−ないしβ‐ナフチル基の外に、その炭化水素置換誘
導体をも包含するものとする。その場合の炭化水素置換
基は、炭素数1〜4程度のアルキル基が代表的であっ
て、o‐、m‐およびp‐のいずれの位置(好ましくは
p‐位)に導入されたものであってもよい。また、この
炭化水素からなる置換基は、それが結合するフェニル基
またはナフチル基と縮合環を形成するもの、たとえばフ
ェニル基の場合に縮合6員環を形成してテトラリニル基
を形成するもの、であってもよい。
α−ないしβ‐ナフチル基の外に、その炭化水素置換誘
導体をも包含するものとする。その場合の炭化水素置換
基は、炭素数1〜4程度のアルキル基が代表的であっ
て、o‐、m‐およびp‐のいずれの位置(好ましくは
p‐位)に導入されたものであってもよい。また、この
炭化水素からなる置換基は、それが結合するフェニル基
またはナフチル基と縮合環を形成するもの、たとえばフ
ェニル基の場合に縮合6員環を形成してテトラリニル基
を形成するもの、であってもよい。
【0020】Xは置換アリール基であってもよく、その
場合の置換基としてはハロゲン原子、たとえばフッ素、
塩基および臭素、アルコキシ基、特に低級アルコキシ
基、たとえばメトキシ基、非置換またはモノないしジ置
換アミノ基(置換基は、低級アルキル基または低級アル
カノイル基)、モノ、ジないしトリハロアルキル基(た
とえば、クロロメチル基またはトリフルオロメチル
基)、その他がある。
場合の置換基としてはハロゲン原子、たとえばフッ素、
塩基および臭素、アルコキシ基、特に低級アルコキシ
基、たとえばメトキシ基、非置換またはモノないしジ置
換アミノ基(置換基は、低級アルキル基または低級アル
カノイル基)、モノ、ジないしトリハロアルキル基(た
とえば、クロロメチル基またはトリフルオロメチル
基)、その他がある。
【0021】1位置換基中のXは、3位のアシル化に対
して位置選択性を与えるためのものであるから、その大
きさないし嵩高性ならびに3‐アシル化に対する配向
性、ひいてはその電子供与性の程度、の観点からその種
類(置換基の種類を含む)が定まる。勿論、化学還元に
よるの脱離の難易の観点からの判断も必要である。
して位置選択性を与えるためのものであるから、その大
きさないし嵩高性ならびに3‐アシル化に対する配向
性、ひいてはその電子供与性の程度、の観点からその種
類(置換基の種類を含む)が定まる。勿論、化学還元に
よるの脱離の難易の観点からの判断も必要である。
【0022】そのような観点から特に好ましい1位置換
基中のXは、フェニル基、低級アルキル置換フェニル
基、特にp‐低級アルキル置換フェニル基、就中p‐ト
リル基、である。
基中のXは、フェニル基、低級アルキル置換フェニル
基、特にp‐低級アルキル置換フェニル基、就中p‐ト
リル基、である。
【0023】3位置換基−COR′の基R′は、炭素数
1〜20、好ましくは5〜17、のアルキルないしアル
ケニル基、特にアルキル基、である。アルキルないしア
ルケニル基は、直鎖状でも、分岐鎖状でもよく、またシ
クロアルキル基およびシクロアルケニル基を包含するも
のとする。
1〜20、好ましくは5〜17、のアルキルないしアル
ケニル基、特にアルキル基、である。アルキルないしア
ルケニル基は、直鎖状でも、分岐鎖状でもよく、またシ
クロアルキル基およびシクロアルケニル基を包含するも
のとする。
【0024】一般式(I)の中間体化合物は、1‐アリ
ールスルホニルピロールのアシル化、特にフリーデルク
ラフツアシル化、によって合成することがふつうであ
る。その場合のアシル化剤は、酸ハライドR′−CO−
Y(Yはハロゲン)または酸無水物R′−CO−O−C
O−R″(R″は、R′と同一または異なる、R′と同
様の基)であることがふつうであり、使用されるフリー
デルクラフツ触媒も慣用のもの、たとえば、三塩化アル
ミニウム、四塩化スズ、塩化亜鉛、その他であることが
ふつうである。なお、一般式(I)の1,3‐ジ置換ピ
ロールは公知の化合物である。従って、この化合物につ
いての更なる詳細については、前記の公知文献その他を
参照することが許容されよう。 <化学還元> 本発明では、1,3‐ジ置換ピロールの1位置換基の還
元的除去ならびに3位置換基のアシル基の還元を、水素
化ビスメトキシエトキシアルミニウムナトリウムによる
化学還元によって行なう。
ールスルホニルピロールのアシル化、特にフリーデルク
ラフツアシル化、によって合成することがふつうであ
る。その場合のアシル化剤は、酸ハライドR′−CO−
Y(Yはハロゲン)または酸無水物R′−CO−O−C
O−R″(R″は、R′と同一または異なる、R′と同
様の基)であることがふつうであり、使用されるフリー
デルクラフツ触媒も慣用のもの、たとえば、三塩化アル
ミニウム、四塩化スズ、塩化亜鉛、その他であることが
ふつうである。なお、一般式(I)の1,3‐ジ置換ピ
ロールは公知の化合物である。従って、この化合物につ
いての更なる詳細については、前記の公知文献その他を
参照することが許容されよう。 <化学還元> 本発明では、1,3‐ジ置換ピロールの1位置換基の還
元的除去ならびに3位置換基のアシル基の還元を、水素
化ビスメトキシエトキシアルミニウムナトリウムによる
化学還元によって行なう。
【0025】水素化ビスメトキシエトキシアルミニウム
ナトリウムによる化学還元は、有機合成における単位操
作ないし単位反応として周知のものである。従って、本
発明での化学還元も、下記した点以外の事項について必
要がある場合は、有機合成の教科書ないし総説その他を
参照されたい。
ナトリウムによる化学還元は、有機合成における単位操
作ないし単位反応として周知のものである。従って、本
発明での化学還元も、下記した点以外の事項について必
要がある場合は、有機合成の教科書ないし総説その他を
参照されたい。
【0026】さて、本発明の方法に用いる還元剤は、水
素化ビスメトキシエトキシアルミニウムナトリウム(以
下、SAHと記す)である。SAHは、一般的な有機溶
剤に溶解するため、反応が均一で反応効率が高い。SA
Hは、試薬として70%SAHトルエン溶液が市販され
ているため、このトルエン溶液を用いると反応における
取扱い性がよい。
素化ビスメトキシエトキシアルミニウムナトリウム(以
下、SAHと記す)である。SAHは、一般的な有機溶
剤に溶解するため、反応が均一で反応効率が高い。SA
Hは、試薬として70%SAHトルエン溶液が市販され
ているため、このトルエン溶液を用いると反応における
取扱い性がよい。
【0027】反応に用いる溶剤には、一般的な有機溶剤
であるジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエー
テル類、もしくはベンゼン、トルエン、キシレン等のア
ルキルベンゼン類が使用できる。特に、後者のアルキル
ベンゼン類は還元剤にSAHを用いた場合に適し、特に
トルエンが好ましい。なお、化学還元に使用する有機溶
剤は反応体および(または)生成体が少なくとも部分的
に溶解する程度の溶解能を持つものが望ましい。
であるジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエー
テル類、もしくはベンゼン、トルエン、キシレン等のア
ルキルベンゼン類が使用できる。特に、後者のアルキル
ベンゼン類は還元剤にSAHを用いた場合に適し、特に
トルエンが好ましい。なお、化学還元に使用する有機溶
剤は反応体および(または)生成体が少なくとも部分的
に溶解する程度の溶解能を持つものが望ましい。
【0028】反応溶液に対する還元剤の濃度は、比較的
低レベル、たとえばリットル当り0.01〜0.50モ
ルが好ましく、0.1〜0.2モルがさらに好ましい。
特に、SAHを用いたトルエン中での還元反応では、あ
まり濃度が高すぎると溶液中の粘度が高くなり、反応中
に発生する水素の気泡が溶液中に分散して、反応容器内
の液面の制御が困難となるためである。
低レベル、たとえばリットル当り0.01〜0.50モ
ルが好ましく、0.1〜0.2モルがさらに好ましい。
特に、SAHを用いたトルエン中での還元反応では、あ
まり濃度が高すぎると溶液中の粘度が高くなり、反応中
に発生する水素の気泡が溶液中に分散して、反応容器内
の液面の制御が困難となるためである。
【0029】3‐アルカノイル‐1‐アリールスルホニ
ルピロール1モルを還元するのに必要な還元剤の量は、
還元剤であるSAHを化学式MHnで示すと、その量は
8/nである。これは、反応によって脱離したフェニル
スルホニル基も同時に還元剤により還元されチオールに
変換されるので、このために余分に還元剤が消費される
からである。また、この反応では必要量よりも多く還元
剤を用いたときに、目的の3‐アルキルピロールが収率
よく得られる(実施例2参照)。よって、実際の反応に
必要な量は、8/n〜((8/n)+2)モル、特に好
ましくは8/n〜((8/n)+1)モル、の範囲が最
も望ましい。
ルピロール1モルを還元するのに必要な還元剤の量は、
還元剤であるSAHを化学式MHnで示すと、その量は
8/nである。これは、反応によって脱離したフェニル
スルホニル基も同時に還元剤により還元されチオールに
変換されるので、このために余分に還元剤が消費される
からである。また、この反応では必要量よりも多く還元
剤を用いたときに、目的の3‐アルキルピロールが収率
よく得られる(実施例2参照)。よって、実際の反応に
必要な量は、8/n〜((8/n)+2)モル、特に好
ましくは8/n〜((8/n)+1)モル、の範囲が最
も望ましい。
【0030】反応温度は、室温から反応に用いた溶媒の
沸点までの範囲が好ましい。室温に近い温度では反応を
穏和に進めることができるが、反応が終了するまでに非
常に時間がかかる。従って、できるだけ高い温度で反応
させることが好ましく、特に、還流下で反応を行うのが
好ましい。反応液からの目的3‐アルキルピロールの回
収は、常法によればよい。
沸点までの範囲が好ましい。室温に近い温度では反応を
穏和に進めることができるが、反応が終了するまでに非
常に時間がかかる。従って、できるだけ高い温度で反応
させることが好ましく、特に、還流下で反応を行うのが
好ましい。反応液からの目的3‐アルキルピロールの回
収は、常法によればよい。
【0031】
【実施例】〔実施例1〕 3つ口フラスコにジムロート及び滴下ロートを取り付
け、20℃、窒素気流下に保った反応容器に無水トルエ
ン500mlを入れ、次いで70重量%水素化ビス(2
‐メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウムのトルエ
ン溶液100g(0.350モル)を徐々に加え、撹拌
した。さらに、同温で、3‐ドデカノイル‐1‐トルエ
ンスルホニルピロール33.2g(82.2ミリモル)
をトルエン150mlに溶かした溶液を、1時間かけて
滴下した。そのまま1時間撹拌した後、110℃に加熱
し、4時間撹拌して反応させた。反応終了後、反応液を
室温に戻し、撹拌しながら徐々にイオン交換水を加え
て、水素の発生が治まるまで撹拌し、その後しばらく放
置した。
け、20℃、窒素気流下に保った反応容器に無水トルエ
ン500mlを入れ、次いで70重量%水素化ビス(2
‐メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウムのトルエ
ン溶液100g(0.350モル)を徐々に加え、撹拌
した。さらに、同温で、3‐ドデカノイル‐1‐トルエ
ンスルホニルピロール33.2g(82.2ミリモル)
をトルエン150mlに溶かした溶液を、1時間かけて
滴下した。そのまま1時間撹拌した後、110℃に加熱
し、4時間撹拌して反応させた。反応終了後、反応液を
室温に戻し、撹拌しながら徐々にイオン交換水を加え
て、水素の発生が治まるまで撹拌し、その後しばらく放
置した。
【0032】反応混合物は、有機層と水層及び固形物に
分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。水層及び固形物は吸引濾過し、トルエ
ンで洗浄した。濾液を抽出し、得られた有機層は飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。2つの
乾燥した有機層を濃縮して、粗生成物として褐色の粘性
溶液を21.5g得た。この粗生成物をフラッシュクロ
マトグラフィー(東京理化器械(株)製、展開層:メル
ク製シリカゲル60、展開溶媒:ヘキサン:酢酸エチル
=10:1)で分離精製して、3‐ドデシルピロールを
17.0g(収率88%)得た。
分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。水層及び固形物は吸引濾過し、トルエ
ンで洗浄した。濾液を抽出し、得られた有機層は飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。2つの
乾燥した有機層を濃縮して、粗生成物として褐色の粘性
溶液を21.5g得た。この粗生成物をフラッシュクロ
マトグラフィー(東京理化器械(株)製、展開層:メル
ク製シリカゲル60、展開溶媒:ヘキサン:酢酸エチル
=10:1)で分離精製して、3‐ドデシルピロールを
17.0g(収率88%)得た。
【0033】精製した化合物は、IR、1H−NMRお
よび13C−NMRによって構造を確認した。 (1)IR(cm−1)3408、3097、296
2、2932、2859、1065 (2)1H−NMR(δ:CDCl3)0.87(3
H,t)J=5Hz、1.2〜2.0(20H,m)、
2.46(2H,t)J=7Hz、6.0〜6.2(1
H,m)、6.4〜6.8(2H,m) (3)13C−NMR(δ:CDCl3)124.6、
117.5、114.7、108.5、31.9、3
1.3、29.7、29.6、29.4、27.0、2
2.7、14.1 〔実施例2〜10、比較例1、2〕 実施例1の3−アルカノイル(すなわちドデカノイル)
‐1‐トルエンスルホニルピロールのアルカノイル基中
のアルキル基のみを表1に記載のアルキル基に替えて、
他は実施例1と同様の条件で実験を行った(実施例2、
3、4、5、6)。また、実施例1の還元剤であるSA
Hを表1記載の水素化アルミニウムリチウム(以下、L
AHと記す)(比較例1)に替えて、他は実施例1と同
様の条件で実験を行った。さらにまた、実施例1及び比
較例1の3‐ドデカノイル‐1‐アリールスルホニル
(すなわちトルエンスルホニル)ピロールのアリール基
(X)のみを表2に記載のアリール基に替えて、他は実
施例1と同様の条件で実験を行った(実施例7〜10)
比較例2)。それら実施例及び比較例の結果は、表1〜
2に示す通りであった。
よび13C−NMRによって構造を確認した。 (1)IR(cm−1)3408、3097、296
2、2932、2859、1065 (2)1H−NMR(δ:CDCl3)0.87(3
H,t)J=5Hz、1.2〜2.0(20H,m)、
2.46(2H,t)J=7Hz、6.0〜6.2(1
H,m)、6.4〜6.8(2H,m) (3)13C−NMR(δ:CDCl3)124.6、
117.5、114.7、108.5、31.9、3
1.3、29.7、29.6、29.4、27.0、2
2.7、14.1 〔実施例2〜10、比較例1、2〕 実施例1の3−アルカノイル(すなわちドデカノイル)
‐1‐トルエンスルホニルピロールのアルカノイル基中
のアルキル基のみを表1に記載のアルキル基に替えて、
他は実施例1と同様の条件で実験を行った(実施例2、
3、4、5、6)。また、実施例1の還元剤であるSA
Hを表1記載の水素化アルミニウムリチウム(以下、L
AHと記す)(比較例1)に替えて、他は実施例1と同
様の条件で実験を行った。さらにまた、実施例1及び比
較例1の3‐ドデカノイル‐1‐アリールスルホニル
(すなわちトルエンスルホニル)ピロールのアリール基
(X)のみを表2に記載のアリール基に替えて、他は実
施例1と同様の条件で実験を行った(実施例7〜10)
比較例2)。それら実施例及び比較例の結果は、表1〜
2に示す通りであった。
【0034】表1〜2から明らかなように、本発明によ
れば、高収率で3‐アルキルピロールが得られた。
れば、高収率で3‐アルキルピロールが得られた。
【0035】 〔比較例3〕 三つ口フラスコにジムロートおよび滴下ロートを取り付
け、窒素気流下20℃に保ち、精製したジオキサン30
0mlを入れ、3‐ドデカノイル‐1‐トルエンスルホ
ニルピロール93g(0.230モル)を溶解させた。
次いで、5Nの水酸化ナトリウム水溶液400mlを加
え、20℃で1時間、さらに100℃に加熱して6時間
撹拌した。反応終了後、撹拌を停止させると2層に分離
した。有機層をデカンテーションした後、水層をジエチ
ルエーテルで抽出した。有機層を水で洗浄し、その後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して、58gの粗生
成物を得た。さらに、2%トルエンを含有するヘキサン
中で再結晶を行って、45gの3‐ドデカノイルピロー
ルの白色結晶を得た(収率78%)。
け、窒素気流下20℃に保ち、精製したジオキサン30
0mlを入れ、3‐ドデカノイル‐1‐トルエンスルホ
ニルピロール93g(0.230モル)を溶解させた。
次いで、5Nの水酸化ナトリウム水溶液400mlを加
え、20℃で1時間、さらに100℃に加熱して6時間
撹拌した。反応終了後、撹拌を停止させると2層に分離
した。有機層をデカンテーションした後、水層をジエチ
ルエーテルで抽出した。有機層を水で洗浄し、その後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して、58gの粗生
成物を得た。さらに、2%トルエンを含有するヘキサン
中で再結晶を行って、45gの3‐ドデカノイルピロー
ルの白色結晶を得た(収率78%)。
【0036】次に、別途用意した三つ口フラスコにジム
ロートおよび滴下ロートを取り付け、アルゴン気流下に
0℃に保ち、精製したジエチルエーテル500mlを入
れ、さらに水素化リチウムアルミニウム9.50g
(0.250モル)をゆっくり添加した。同気流下で前
記白色結晶の3‐ドデカノイルピロール45g(0.1
80モル)を精製したジエチルエーテルに溶解させて滴
下ロートに入れ、フラスコ内を撹拌しながら1時間かけ
て滴下した。
ロートおよび滴下ロートを取り付け、アルゴン気流下に
0℃に保ち、精製したジエチルエーテル500mlを入
れ、さらに水素化リチウムアルミニウム9.50g
(0.250モル)をゆっくり添加した。同気流下で前
記白色結晶の3‐ドデカノイルピロール45g(0.1
80モル)を精製したジエチルエーテルに溶解させて滴
下ロートに入れ、フラスコ内を撹拌しながら1時間かけ
て滴下した。
【0037】この混合物を還流下で撹拌しながら3時間
反応させた。反応容器を放冷した後、さらに0〜5℃に
冷却し、滴下ロートからゆっくり飽和食塩水を加えた
後、生成した白色の沈殿物を吸引濾過し、エーテルで洗
浄した。
反応させた。反応容器を放冷した後、さらに0〜5℃に
冷却し、滴下ロートからゆっくり飽和食塩水を加えた
後、生成した白色の沈殿物を吸引濾過し、エーテルで洗
浄した。
【0038】吸引濾過によって得られた濾液を抽出して
有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮し
て、液状生成物を得た。この液状粗生成物をフラッシュ
クロマトグラフィーにて分離して、3‐ドデシルピロー
ル33.1gを得た(収率78%)。
有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮し
て、液状生成物を得た。この液状粗生成物をフラッシュ
クロマトグラフィーにて分離して、3‐ドデシルピロー
ル33.1gを得た(収率78%)。
【0039】
【発明の効果】3‐アルカノイル‐1‐アリールスルホ
ニルピロールから3‐アルキルピロールを1工程で製造
することが可能となり、また、合成における収率が非常
に高く、選択的に目的物を得ることが可能となったこと
は、〔発明の概要〕の項において前記したところであ
る。
ニルピロールから3‐アルキルピロールを1工程で製造
することが可能となり、また、合成における収率が非常
に高く、選択的に目的物を得ることが可能となったこと
は、〔発明の概要〕の項において前記したところであ
る。
Claims (2)
- 【請求項1】下記一般式(I)で示される3−アルカノ
イル‐1‐アリールスルホニルピロールを、有機溶媒中
で水素化ビスメトキシエトキシアルミニウムナトリウム
で還元して下記一般式(II)で示される3−アルキル
ピロールを得ることを特徴とする、3‐アルキルピロー
ルの製造法。 【化1】 (式中、R′は炭素数1〜20のアルキルないしアルケ
ニル基、Xは置換基を有してもよいアリール基を表わ
す) 【化2】 (式中、Rは、炭素数1〜20のアルキル基を表わす) - 【請求項2】R′が炭素数1〜20のアルキル基であ
り、Xがフェニル基またはトリル基である、請求項1に
記載の3‐アルキルピロールの製造法。
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JP5060341A JP2662162B2 (ja) | 1993-03-19 | 1993-03-19 | 3−アルキルピロールの製造法 |
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JP3285857B2 (ja) * | 1989-07-06 | 2002-05-27 | マツダ株式会社 | 排気ガス浄化用触媒 |
-
1993
- 1993-03-19 JP JP5060341A patent/JP2662162B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (2)
Title |
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NEW J.CHEM.,VOL.14(1990) P.637−640 |
SYNTHESIS,NO.4 (APRIL 1985) P.353−364 |
Also Published As
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