JP2946678B2 - キラルなフェロセン誘導体 - Google Patents
キラルなフェロセン誘導体Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、キラルなフェロセン誘導体に関し、さらに
詳細には、不斉合成触媒として有用なキラルなフェロセ
ン誘導体に関する。
詳細には、不斉合成触媒として有用なキラルなフェロセ
ン誘導体に関する。
光学活性体の製造法の１つである不斉合成法には、不
斉合成用触媒が使用されることが多い。良く知られた触
媒として、エフェドリン、プロリノール誘導体等の天然
物由来の化合物がある。
斉合成用触媒が使用されることが多い。良く知られた触
媒として、エフェドリン、プロリノール誘導体等の天然
物由来の化合物がある。
しかし、これら天然物由来の化合物は、基質特異性を
有することが多く、高いエナンチオ選択率を示す基質
と、そうでない基質とが存在する。そのために、適用で
きないか、あるいは、効率の悪い反応がある。
有することが多く、高いエナンチオ選択率を示す基質
と、そうでない基質とが存在する。そのために、適用で
きないか、あるいは、効率の悪い反応がある。
そこで、このような基質特異性を低下させる目的およ
び反応効率等の特性を向上させる目的で、天然物由来の
不斉合成用触媒の改良が試みられている。しかるに、そ
れらの不斉炭素上の置換基を変更することは、容易でな
い場合が多く、所望の特性を有する不斉合成用触媒を入
手できないことが多かった。
び反応効率等の特性を向上させる目的で、天然物由来の
不斉合成用触媒の改良が試みられている。しかるに、そ
れらの不斉炭素上の置換基を変更することは、容易でな
い場合が多く、所望の特性を有する不斉合成用触媒を入
手できないことが多かった。
そこで本発明の目的は、上記天然物由来の化合物に代
わる新規な不斉合成触媒を提供することにある。
わる新規な不斉合成触媒を提供することにある。
さらに本発明の目的は、不斉炭素上の置換基を比較的
容易に変更することができる不斉合成用触媒を提供する
ことにある。
容易に変更することができる不斉合成用触媒を提供する
ことにある。
本発明は、下記一般式〔Ｉ〕で表わされるキラルなフ
ェロセン誘導体に関する。
ェロセン誘導体に関する。
（式中、R1は炭素数１〜６の低級アルキル基を示し、R2
及びR3は、同一又は異なり、水素原子、炭素数１〜６の
低級アルキル基を示すか、R2とR3は、それぞれが結合す
る窒素原子と炭素数４〜６の複素環を形成し、R4及びR5
は、同一又は異なり、水素、炭素数２〜６の低級アルキ
ル基又はアリール基を示す。ただし、R1、R2及びR3がメ
チル基である場合には、R4及びR5は同時にフェニル基で
はない。） 以下に本発明を詳細に説明する。
及びR3は、同一又は異なり、水素原子、炭素数１〜６の
低級アルキル基を示すか、R2とR3は、それぞれが結合す
る窒素原子と炭素数４〜６の複素環を形成し、R4及びR5
は、同一又は異なり、水素、炭素数２〜６の低級アルキ
ル基又はアリール基を示す。ただし、R1、R2及びR3がメ
チル基である場合には、R4及びR5は同時にフェニル基で
はない。） 以下に本発明を詳細に説明する。
一般式〔Ｉ〕のR1、R2及びR3の炭素数１〜６の低級ア
ルキル基は、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、
iso−プロピル、ｎ−ブチル、tert−ブチルｎ−ペンチ
ル、ｎ−ヘキシル等を挙げることができる。特に、R1と
してはメチル、iso−プロピルが好ましく、R2及びR3と
してはメチル、エチル及びiso−プロピルが好ましい。
又、R2とR3とが、結合する窒素原子とともに、形成する
複素環としては、ピロリジル、ピペリジル等を例示で
き、特にピペリジルであることが好ましい。
ルキル基は、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、
iso−プロピル、ｎ−ブチル、tert−ブチルｎ−ペンチ
ル、ｎ−ヘキシル等を挙げることができる。特に、R1と
してはメチル、iso−プロピルが好ましく、R2及びR3と
してはメチル、エチル及びiso−プロピルが好ましい。
又、R2とR3とが、結合する窒素原子とともに、形成する
複素環としては、ピロリジル、ピペリジル等を例示で
き、特にピペリジルであることが好ましい。
R4及びR5で示される炭素数２〜６の低級アルキル基と
しては、例えばエチル、ｎ−プロピル、iso−プロピ
ル、ｎ−ブチル、tert−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘ
キシル等を挙げることができる。特にiso−プロピル及
びtert−ブチルであることが好ましい。又、R4とR5で例
示されるアリール基としては、例えばフェニル基、2,6
−ジメトキシフェニル基及び４−メトキシフェニル基を
挙げることができる。
しては、例えばエチル、ｎ−プロピル、iso−プロピ
ル、ｎ−ブチル、tert−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘ
キシル等を挙げることができる。特にiso−プロピル及
びtert−ブチルであることが好ましい。又、R4とR5で例
示されるアリール基としては、例えばフェニル基、2,6
−ジメトキシフェニル基及び４−メトキシフェニル基を
挙げることができる。
表１に本発明の化合物の具体例のR1〜R5を示す。
以下に本発明の化合物の製造法を説明する 本発明の化合物は一般式〔II〕で示されるフェロセン
のヨウ化物とｎ−、ブチルリチウムを反応させてリチオ
化し、次いでリチオ化物を一般式〔III〕 で示されるケトン（又はアルデヒド）と反応させること
により得られる。
のヨウ化物とｎ−、ブチルリチウムを反応させてリチオ
化し、次いでリチオ化物を一般式〔III〕 で示されるケトン（又はアルデヒド）と反応させること
により得られる。
上記リチオ化に用いる有機リチウム化合物としては、
ｎ−ブチルリチウム以外にsec−ブチルリチウム、ｔ−
ブチルリチウム、メチルリチウム及びフェニルリチウム
を例示できる。これら有機リチウム化合物の使用量はフ
ェロセンのヨウ化物〔II〕に対して0.1〜2.0当量、好ま
しくは0.7〜1.5当量とすることが適当である。またこれ
らの有機リチウム化合物はヘキサンあるいはエーテルの
５〜30％溶液として使用することが好ましい。さらにリ
チウム化反応は、溶媒（例えば、エチルエーテル、テト
ラヒドロフラン等のエーテル類；ペンタン、ヘキサン、
ヘプタン等の炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；又はこれ
ら溶媒の一種または二種以上の混合溶媒）の存在下、以
下の条件下で行うことが適当である。
ｎ−ブチルリチウム以外にsec−ブチルリチウム、ｔ−
ブチルリチウム、メチルリチウム及びフェニルリチウム
を例示できる。これら有機リチウム化合物の使用量はフ
ェロセンのヨウ化物〔II〕に対して0.1〜2.0当量、好ま
しくは0.7〜1.5当量とすることが適当である。またこれ
らの有機リチウム化合物はヘキサンあるいはエーテルの
５〜30％溶液として使用することが好ましい。さらにリ
チウム化反応は、溶媒（例えば、エチルエーテル、テト
ラヒドロフラン等のエーテル類；ペンタン、ヘキサン、
ヘプタン等の炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；又はこれ
ら溶媒の一種または二種以上の混合溶媒）の存在下、以
下の条件下で行うことが適当である。
反応温度：−30゜〜50℃、好ましくは−10゜〜30℃ 反応時間:0.1〜５時間 反応圧力：常圧から加圧、好ましくは１〜３気圧下 雰囲気 ：窒素またはアルゴン下 次にリチオ化物とケトン（又はアルデヒド）〔III〕
との反応は、好ましくはケトン（又はアルデヒド）〔II
I〕のエーテル溶液を反応系に添加することにより行
う。ケトン（又はアルデヒド）〔III〕の使用量は、リ
チオ化に用いたフェロセンのヨウ化物〔II〕に対して、
0.1〜2.0当量、好ましくは0.7〜1.5当量とすることが適
当である。この反応は以下の条件で行うことが好まし
い。
との反応は、好ましくはケトン（又はアルデヒド）〔II
I〕のエーテル溶液を反応系に添加することにより行
う。ケトン（又はアルデヒド）〔III〕の使用量は、リ
チオ化に用いたフェロセンのヨウ化物〔II〕に対して、
0.1〜2.0当量、好ましくは0.7〜1.5当量とすることが適
当である。この反応は以下の条件で行うことが好まし
い。
反応温度：−40〜70℃好ましくは−20〜40℃ 反応時間:1〜３時間 反応圧力：常圧から加圧、好ましくは１〜３気圧下 雰囲気 ：窒化又はアルゴン下 反応終了時に、反応系にリン酸水溶液を添加して反応を
停止させた後、水層をアルカリ性とした後エーテル抽出
し、カラムクロマトグラフィーにより目的生成物である
一般式〔Ｉ〕の化合物を分取することができる。
停止させた後、水層をアルカリ性とした後エーテル抽出
し、カラムクロマトグラフィーにより目的生成物である
一般式〔Ｉ〕の化合物を分取することができる。
上記反応に原料化合物のうち一般式〔III〕のケトン
（又はアルデヒド）は、市販品を入手できる。又、一般
式〔II〕の化合物は、以下のようにして合成される。
（又はアルデヒド）は、市販品を入手できる。又、一般
式〔II〕の化合物は、以下のようにして合成される。
公知化合物である一般式〔IV〕（J.Am.Chem.Soc.、92
巻、5389（1970））で表わされるフェロセン誘導体をヨ
ウ化メチルと反応させて四級アンモニウム塩とし、次い
で一級あるいは二級アミン誘導体あるいはアンモニアと
反応させることにより、適宜R2及びR3がメチル以外のフ
ェロセン誘導体〔Ｖ〕を合成できる〔G.Gokelら、Ange
w.Chem.,Int.Ed.Engl.、９巻、64（1970）。
巻、5389（1970））で表わされるフェロセン誘導体をヨ
ウ化メチルと反応させて四級アンモニウム塩とし、次い
で一級あるいは二級アミン誘導体あるいはアンモニアと
反応させることにより、適宜R2及びR3がメチル以外のフ
ェロセン誘導体〔Ｖ〕を合成できる〔G.Gokelら、Ange
w.Chem.,Int.Ed.Engl.、９巻、64（1970）。
四級アンモニウム塩とする反応 MeI:0.5〜40当量 溶媒：アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、
アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類 温度：−30〜80℃、好ましくは−10〜40℃ 時間:0.1〜５時間 圧力：常圧から加圧、好ましくは１〜３気圧 雰囲気：窒素またはアルゴン下 単離：生成物が結晶化している時はろ過により、そう
でない場合はエチルエーテルあるいはヘキサンを加えて
結晶を析出させた後、ろ過する。
アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類 温度：−30〜80℃、好ましくは−10〜40℃ 時間:0.1〜５時間 圧力：常圧から加圧、好ましくは１〜３気圧 雰囲気：窒素またはアルゴン下 単離：生成物が結晶化している時はろ過により、そう
でない場合はエチルエーテルあるいはヘキサンを加えて
結晶を析出させた後、ろ過する。
アミン又はアンモニアとの反応 HNR2R3:1〜30当量 溶 媒：アセトニトリル、ベンズニトリル等のニトリ
ル類、エチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類 温 度:0゜〜100℃、好ましくは10゜〜90℃ 時 間:0.5〜100時間 圧 力：常圧から加圧、好ましくは１〜３気圧 雰囲気下：窒素またはアルゴン下 単 離：再結晶化またはカラムクロマトグラフィー 一般式〔Ｖ〕のフェロセン誘導体をTetrahedron、2
6、5453（1970）に記載の方法を適用することにより、
以下のスキームに従って一般式〔II〕のハロフェロセン
誘導体を合成できる。
ル類、エチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類 温 度:0゜〜100℃、好ましくは10゜〜90℃ 時 間:0.5〜100時間 圧 力：常圧から加圧、好ましくは１〜３気圧 雰囲気下：窒素またはアルゴン下 単 離：再結晶化またはカラムクロマトグラフィー 一般式〔Ｖ〕のフェロセン誘導体をTetrahedron、2
6、5453（1970）に記載の方法を適用することにより、
以下のスキームに従って一般式〔II〕のハロフェロセン
誘導体を合成できる。
上記方法とは別に一般式〔Ｖ〕で表わされるフェロセ
ン誘導体を、有機リチウム化合物でリチオ化し、次いで
ハロゲン化剤と反応させることにより一般式〔II〕で表
わされるハロフェロセン誘導体を製造することができ
る。
ン誘導体を、有機リチウム化合物でリチオ化し、次いで
ハロゲン化剤と反応させることにより一般式〔II〕で表
わされるハロフェロセン誘導体を製造することができ
る。
上記リチオ化に用いる有機リチウム化合物としては、
ｎ−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、ｔ−ブチ
ルリチウム、メチルリチウム及びフェニルリチウムを例
示できる。これら有機リチウム化合物の使用量はフェロ
セン誘導体〔Ｖ〕に対して0.1〜2.0当量、好ましくは0.
7〜1.5当量とすることが適当である。また、これらの有
機リチウム化合物はヘキサンあるいはエーテルの５〜30
％溶液として使用することが好ましい。さらに、リチオ
化反応は、溶媒（例えば、エチルエーテル、テトラヒド
ロフラン等のエーテル類；ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン等の炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ジ
クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；又はこれらの溶
媒の一種または二種以上の混合溶媒）の存在下、以下の
条件下で行うことが適当である。
ｎ−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、ｔ−ブチ
ルリチウム、メチルリチウム及びフェニルリチウムを例
示できる。これら有機リチウム化合物の使用量はフェロ
セン誘導体〔Ｖ〕に対して0.1〜2.0当量、好ましくは0.
7〜1.5当量とすることが適当である。また、これらの有
機リチウム化合物はヘキサンあるいはエーテルの５〜30
％溶液として使用することが好ましい。さらに、リチオ
化反応は、溶媒（例えば、エチルエーテル、テトラヒド
ロフラン等のエーテル類；ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン等の炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ジ
クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；又はこれらの溶
媒の一種または二種以上の混合溶媒）の存在下、以下の
条件下で行うことが適当である。
反応温度：−30゜〜50℃、好ましくは−10〜30℃ 反応時間:0.1〜５時間 反応応力：常圧から加圧、好ましくは１〜３気圧下 雰囲気：窒素またはアルゴン下 尚、リチオ化反応は既知の方法（UgiらJ.Am.Chem.So
c.、92巻、5389（1970））によっても行うことができ
る。
c.、92巻、5389（1970））によっても行うことができ
る。
次にリチオ化物のハロゲン化は、ハロゲン化剤として
例えば、ヨウ素、臭素、塩素、Ｎ−ヨードスクシンイミ
ド、Ｎ−ブロモスクシンイミド、Ｎ−クロロスクシンイ
ミドを用いて行うことができる。これらハロゲン化剤は
そのままの状態、もしくは溶媒に溶解した溶液として反
応系中に加えることができる。
例えば、ヨウ素、臭素、塩素、Ｎ−ヨードスクシンイミ
ド、Ｎ−ブロモスクシンイミド、Ｎ−クロロスクシンイ
ミドを用いて行うことができる。これらハロゲン化剤は
そのままの状態、もしくは溶媒に溶解した溶液として反
応系中に加えることができる。
溶媒は、前記リチオ化用溶媒として例示したものを用
いることができ、ハロゲン化反応用溶媒もリチオ化用溶
媒として例示したものを用いることができる。ハロゲン
化剤の使用量はリチオ化に用いたフェロセン誘導体
〔Ｖ〕に対して0.1〜2.0当量、好ましくは0.7〜1.5当量
とすることが適当である。
いることができ、ハロゲン化反応用溶媒もリチオ化用溶
媒として例示したものを用いることができる。ハロゲン
化剤の使用量はリチオ化に用いたフェロセン誘導体
〔Ｖ〕に対して0.1〜2.0当量、好ましくは0.7〜1.5当量
とすることが適当である。
ハロゲン化反応は以下の条件下で行うことが好まし
い。
い。
反応温度：−120゜〜０℃、好ましくは−100゜〜−30
℃ 反応時間:0.1〜10時間 反応応力：常圧から加圧、好ましくは１〜３気圧下 雰囲気：窒素またはアルゴン下 ハロゲン化は、薄層クロマトグラフィーにより進行状
況を判断することができる。反応終了後時に、反応系に
水を加えて反応を停止させた後、エーテル抽出し、カラ
ムクロマトグロフィーにより目的生成物を分取すること
ができる。
℃ 反応時間:0.1〜10時間 反応応力：常圧から加圧、好ましくは１〜３気圧下 雰囲気：窒素またはアルゴン下 ハロゲン化は、薄層クロマトグラフィーにより進行状
況を判断することができる。反応終了後時に、反応系に
水を加えて反応を停止させた後、エーテル抽出し、カラ
ムクロマトグロフィーにより目的生成物を分取すること
ができる。
尚、一般式〔II〕のハロフェロセン誘導体のうちR2及
びR3がメチル基である化合物は、前述のヨウ化メチルに
よる四級アンモニウム塩化及び次いで一級又は二級アミ
ンとの反応により、一級及び二級アミンを適宜選ぶこと
により、R2及びR3がメチル基以外の化合物に変換するこ
とができる〔I.Ugiら、J.Org.Chem.、37巻、3052（197
2）;T.Hayashiら、Bull.Chem.Soc.Jpn、53巻、1138（19
80）;G.Gokelら、Angew.Chem.,Int.Ed.Engl,９、64（19
70）〕。
びR3がメチル基である化合物は、前述のヨウ化メチルに
よる四級アンモニウム塩化及び次いで一級又は二級アミ
ンとの反応により、一級及び二級アミンを適宜選ぶこと
により、R2及びR3がメチル基以外の化合物に変換するこ
とができる〔I.Ugiら、J.Org.Chem.、37巻、3052（197
2）;T.Hayashiら、Bull.Chem.Soc.Jpn、53巻、1138（19
80）;G.Gokelら、Angew.Chem.,Int.Ed.Engl,９、64（19
70）〕。
本発明の光学活性なフェロセン誘導体は、ルイス酸的
な金属に対して有効な配位子となり得、亜鉛、アルミニ
ウム、チタン、セリウム、ニッケル等のルイス酸的な金
属を用いる、不斉導入反応において、高鏡像面選択性を
示す触媒を提供できる。
な金属に対して有効な配位子となり得、亜鉛、アルミニ
ウム、チタン、セリウム、ニッケル等のルイス酸的な金
属を用いる、不斉導入反応において、高鏡像面選択性を
示す触媒を提供できる。
本発明によれば種々の置換基を有するキラルなフェロ
セン誘導体を提供でき、この誘導体は種々の不斉合成反
応に適用できる。又、本発明の光学活性なフェロセン誘
導体を用いて不均一系不斉合成触媒及び高分子光学分割
用ゲル等として有用なポリマーを提供することもできる
（F.S.Arimotoら、J.Am.Chem.Soc.、77巻、6295（195
5）;G.F.Hayesら、Polymer、18巻、1286（1977）参
照）。
セン誘導体を提供でき、この誘導体は種々の不斉合成反
応に適用できる。又、本発明の光学活性なフェロセン誘
導体を用いて不均一系不斉合成触媒及び高分子光学分割
用ゲル等として有用なポリマーを提供することもできる
（F.S.Arimotoら、J.Am.Chem.Soc.、77巻、6295（195
5）;G.F.Hayesら、Polymer、18巻、1286（1977）参
照）。
参考例１ アルゴン雰囲気下、撹拌機を有する100mlガラス製常
圧反応装置に（−）−（Ｓ）−N,N−ジメチル−１−フ
ェロセニルエチルアミン2.70g（10.5mmol）を加え、エ
ーテル25mlに溶解させた。氷冷後、第二級ブチルリチウ
ムのシクロヘキサン溶液12.4ml（0.94M、11.7mmol）を
滴下した。氷冷下で１時間反応させた。ドライアイス−
アセトン浴で冷却後、ヨウ素3.00g（11.7mmol）をテト
ラヒドロフラン25mlに溶解させた溶液を滴下した。冷却
下、１時間反応させた後、水を加えて反応を停止させ
た。水層をアルカリ性とし、エーテルで抽出した。有機
層は無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去した
後、残渣をアルミナカラムクロマトグラフィーにより精
製したところ、（＋）−（Ｓ）−N,N−ジメチル−１−
〔（Ｒ）−２−ヨードフェロセニル〕エチルアミンが3.
30g（製造収率82％）得らえた。さらに、アセトニトリ
ルから再結晶化した。
圧反応装置に（−）−（Ｓ）−N,N−ジメチル−１−フ
ェロセニルエチルアミン2.70g（10.5mmol）を加え、エ
ーテル25mlに溶解させた。氷冷後、第二級ブチルリチウ
ムのシクロヘキサン溶液12.4ml（0.94M、11.7mmol）を
滴下した。氷冷下で１時間反応させた。ドライアイス−
アセトン浴で冷却後、ヨウ素3.00g（11.7mmol）をテト
ラヒドロフラン25mlに溶解させた溶液を滴下した。冷却
下、１時間反応させた後、水を加えて反応を停止させ
た。水層をアルカリ性とし、エーテルで抽出した。有機
層は無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去した
後、残渣をアルミナカラムクロマトグラフィーにより精
製したところ、（＋）−（Ｓ）−N,N−ジメチル−１−
〔（Ｒ）−２−ヨードフェロセニル〕エチルアミンが3.
30g（製造収率82％）得らえた。さらに、アセトニトリ
ルから再結晶化した。
▲〔α〕22 D▼＝＋9.35゜（c1.42,EtOH） 融点 78〜79℃ 90MHz 1H NMR（CDCl3）δ 1.47（d,J＝6.3Hz,3H）,2.13（s,6H）,3.60（q.J＝7.5H
z,1H）,4.10（s,5H）,4.11〜4.31（m,2H）,4.38〜4.53
（m,1H） IR（KBr）3100、2970、2940、2802、2760、1370、118
5、1102、1085、1000、918、820cm-1 参考例２ アルゴン雰囲気下、撹拌機を有するガラス製常圧反応
装置に参考例１で得た（Ｓ）−N,N−ジメチル−１−
〔（Ｒ）−２−ヨードフェロセニル〕エチルアミン2.94
g（7.66mmol）を加え、アセトン15mlに溶解させた。室
温下でヨウ化メチル2.1ml（34mmol）加え、10分間反応
させた。エチルエーテル80mlを加えて、沈澱を生じさ
せ、ろ過により、四級アンモニウム塩4.02g（7.66mmo
l）を得た。
z,1H）,4.10（s,5H）,4.11〜4.31（m,2H）,4.38〜4.53
（m,1H） IR（KBr）3100、2970、2940、2802、2760、1370、118
5、1102、1085、1000、918、820cm-1 参考例２ アルゴン雰囲気下、撹拌機を有するガラス製常圧反応
装置に参考例１で得た（Ｓ）−N,N−ジメチル−１−
〔（Ｒ）−２−ヨードフェロセニル〕エチルアミン2.94
g（7.66mmol）を加え、アセトン15mlに溶解させた。室
温下でヨウ化メチル2.1ml（34mmol）加え、10分間反応
させた。エチルエーテル80mlを加えて、沈澱を生じさ
せ、ろ過により、四級アンモニウム塩4.02g（7.66mmo
l）を得た。
引き続いて、得られた四級アンモニウム塩は、アセト
ニトリル100mlに溶解させた後、ピペリジン20ml（200mm
ol）を加え、30℃で48時間撹拌した。エチルエーテルを
加え、水洗した。エチルエーテル溶液は無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、溶媒を留去した。残渣はエチルアルコー
ルを用いて再結晶化を行ない、（Ｓ）−１−〔（Ｒ）−
２−ヨードフェロセニル〕−１−ピペリジノエタン3.08
g（製造収率95％）を得た。
ニトリル100mlに溶解させた後、ピペリジン20ml（200mm
ol）を加え、30℃で48時間撹拌した。エチルエーテルを
加え、水洗した。エチルエーテル溶液は無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、溶媒を留去した。残渣はエチルアルコー
ルを用いて再結晶化を行ない、（Ｓ）−１−〔（Ｒ）−
２−ヨードフェロセニル〕−１−ピペリジノエタン3.08
g（製造収率95％）を得た。
▲〔α〕22 D▼＋21.9゜（c0.844,EtOH） 融点 67〜68℃ 90MHz 1H NMR（CDCl3）δ 1.16〜1.75（m,6H）,1.50（d,J＝6.3Hz,3H）,2.36（t,J
＝5.1Hz,4H）,3.70（q.J＝6.6Hz,1H）,4.10（s,5H）,4.
11〜4.28（m,2H）,4.35〜4.49（m,1H） IR（KBr）3100、2998、2950、2860、2805、2760、137
7、1108、1002、917、820cm-1 参考例３ ピペリジンの代わりにイソプロピルアミン17ml（200m
mol）を使用したこと以外は参考例２と同様な操作を繰
り返して（Ｓ）−Ｎ−イソプロピル−１−〔（Ｒ）−２
−ヨードフェロセニル〕エチルアミン2.83g（製造収率9
3％）を得た。
＝5.1Hz,4H）,3.70（q.J＝6.6Hz,1H）,4.10（s,5H）,4.
11〜4.28（m,2H）,4.35〜4.49（m,1H） IR（KBr）3100、2998、2950、2860、2805、2760、137
7、1108、1002、917、820cm-1 参考例３ ピペリジンの代わりにイソプロピルアミン17ml（200m
mol）を使用したこと以外は参考例２と同様な操作を繰
り返して（Ｓ）−Ｎ−イソプロピル−１−〔（Ｒ）−２
−ヨードフェロセニル〕エチルアミン2.83g（製造収率9
3％）を得た。
▲〔α〕22 D▼＋44.8゜（c1.16,EtOH） オイル 90MHz 1H NMR（CDCl3）δ 1.01（d,J＝3Hz,3H）,1.08（d,J＝3Hz,3H）,1.52（d,J
＝6.3Hz,3H）,2.70〜3.08（m,1H）,3.76（q,J＝6.6Hz,1
H）,4.12（s,5H） 4.15〜4.28（m,2H）,4.36〜4.48（m,
1H） IR（neat）3100、2960、2865、1370、1165、1109、100
0、938、820cm-1 実施例１ アルゴン雰囲気下、撹拌機を有するガラス製常圧反応
装置に参考例で得た（Ｓ）−N,N−ジメチル−１−
〔（Ｒ）−２−ヨードフェロセニル〕エチルアミン2.70
g（7.06mmol）を加え、エチルエーテル15mlに溶解させ
た。氷冷後、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液5.0ml
（1.56M、7.8mmol）を滴下した。氷冷下で５分間反応さ
せた後、ベンズアルデヒド0.94g（8.8mmol）のエチルエ
ーテル溶液15mlを加えた。室温下で１時間反応させた。
８％リン酸水溶液を加えて反応を停止させた後、４時間
撹拌した。エチルエーテルで酸性液を洗浄後、濃アルカ
リ水溶液を加えて、この酸性液を強アルカリ性とした。
エチルエーテルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。溶媒を留去した後、残渣をアルミナカラムクロマト
グラフィーにより精製して、（Ｓ）−N,N−ジメチル−
１−〔（Ｒ）−２−（（Ｒ）−フェニルヒドロキシメチ
ル）フェロセニル〕エチルアミンが1.80g（製造収率70
％）が得られた。
＝6.3Hz,3H）,2.70〜3.08（m,1H）,3.76（q,J＝6.6Hz,1
H）,4.12（s,5H） 4.15〜4.28（m,2H）,4.36〜4.48（m,
1H） IR（neat）3100、2960、2865、1370、1165、1109、100
0、938、820cm-1 実施例１ アルゴン雰囲気下、撹拌機を有するガラス製常圧反応
装置に参考例で得た（Ｓ）−N,N−ジメチル−１−
〔（Ｒ）−２−ヨードフェロセニル〕エチルアミン2.70
g（7.06mmol）を加え、エチルエーテル15mlに溶解させ
た。氷冷後、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液5.0ml
（1.56M、7.8mmol）を滴下した。氷冷下で５分間反応さ
せた後、ベンズアルデヒド0.94g（8.8mmol）のエチルエ
ーテル溶液15mlを加えた。室温下で１時間反応させた。
８％リン酸水溶液を加えて反応を停止させた後、４時間
撹拌した。エチルエーテルで酸性液を洗浄後、濃アルカ
リ水溶液を加えて、この酸性液を強アルカリ性とした。
エチルエーテルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。溶媒を留去した後、残渣をアルミナカラムクロマト
グラフィーにより精製して、（Ｓ）−N,N−ジメチル−
１−〔（Ｒ）−２−（（Ｒ）−フェニルヒドロキシメチ
ル）フェロセニル〕エチルアミンが1.80g（製造収率70
％）が得られた。
▲〔α〕25 D▼＋121.6゜（c1.04,EtOH） オイル 90MHz 1H NMR（CDCl3）δ 1.35（d,J＝6.6Hz,3H）,2.21（s,6H）,3.38〜3.58（m,1
H）,3.80〜4.40（m,3H）,4.03（s,5H）,5.93（s,1H）,
7.12〜7.46（m,3H）,7.46〜7.69（m,2H）,7.92（br s,1
H） IR（neat）3102、3049、2998、2955、2849、2800、160
5、1450、1369、1270、1180、1105、1042、1019、100
0、938、819、770、738、700cm-1 実施例２〜６ フェロセン化合物及びカルボニル化合物として表２に
示す原料を使用したこと以外は実施例１と同様な操作を
繰り返して表２に示す生成物を得た。
H）,3.80〜4.40（m,3H）,4.03（s,5H）,5.93（s,1H）,
7.12〜7.46（m,3H）,7.46〜7.69（m,2H）,7.92（br s,1
H） IR（neat）3102、3049、2998、2955、2849、2800、160
5、1450、1369、1270、1180、1105、1042、1019、100
0、938、819、770、738、700cm-1 実施例２〜６ フェロセン化合物及びカルボニル化合物として表２に
示す原料を使用したこと以外は実施例１と同様な操作を
繰り返して表２に示す生成物を得た。
実施例２の生成物 90MHz 1H NMR（CDCl3）δ 1.33（d,J＝6.9Hz,3H）,2.19（s,6H）,3.84（s,3H）,4.
01〜4.15（m,4H）,4.03（s,5H）,6.94（s,1H）,6.95,7.
08,7.50,7.65（ABパターン,J＝9Hz,4H） IR（KBr）3095、2980、2825、1610、1460、1240、116
7、1102、1068、1035、999、930、820cm-1 実施例３の生成物 90MHz 1H NMR（CDCl3）δ 1.35（d,J＝6.6Hz,3H）,2.20（s,6H）,3.63〜4.00（m,2
H）,3.82（s,6H）,3.97（s,5H）,4.02〜4.20（m,1H）,
4.30（q,J＝6,9Hz,1H）,6.58（s,1H）,6.68（d,J＝3.3H
z,2H）,7.23（dd,J＝6.9Hz,8.4Hz,1H）， IR（KBr）3450、3100、2998、2950、2848、2800、159
5、1475、1245、1180、1100、1072、1004、920、808、7
30cm-1 実施例４の生成物 90MHz 1H NMR（CDCl3）δ 0.37（d,J＝6.6Hz,3H）,0.85（d,J＝6.3Hz,3H）,1.26
（d,J＝6.6Hz,6H）,1.45（d,J＝6.6Hz,3H）,1.60〜1.97
（m,1H）,2.12（s,6H）,2.30〜2.68（m,1H）,3.78〜3.9
5（m,1H）,4.09（s,5H）,4.11〜4.27（m,3H）,7.69（br
s,1H） IR（KBr）3420、3100、2998、2960、2898、2800、146
0、1250、1108、1015、1004、941、828、820cm1 実施例５の生成物 90MHz 1H NMR（CDCl3）δ 0.29〜1.40（m,6H）,1.24（d,J＝6.3Hz,3H）,2.25（t,J
＝5.7Hz,4H）,3.82（s,5H）,3.89〜4.01（m,1H）,4.03
〜4.16（m,1H）,4.20〜4.30（m,1H）,4.40（q,J＝6.9H
z,1H）,6.98〜7.45（m,8H）,7.50〜7.75（m,2H）,8.72
（br s,1H） IR（KBr）3460、3100、3070、3050、2998、2950、284
0、1600、1444、1248、1104、1068、1036、1002、820、
762、753、703cm-1 実施例６の生成物 90MHz 1H NMR（CDCl3）δ 0.70（d,J＝6.6Hz,3H）,1.09（d,J＝3Hz,3H）,1.16（d,
J＝3Hz,3H）,2.68〜3.10（m,1H）,3.20〜3.58（m,1H）,
3.66（q,J＝7.2Hz,1H）,3.95〜4.19（m,1H）,4.13（s,5
H）,7.06〜7.43（m,8H）,7.45〜7.68（m,2H） IR（neat）3450、3100、3020、2950、2850、1600、148
0、1225、1178、1105、1050、1030、1002、820、759、7
05cm-1 実施例７ アルゴン雰囲気下、撹拌機を有するガラス製常圧反応
装置に（Ｓ）−N,N−ジメチル−１−フェロセニルイソ
ブチルアミン（既知化合物）1.99g（5.58mmol）を加
え、エチルエーテル15mlに溶解させた。氷冷後、ｎ−ブ
チルリチウムのヘキサン溶液3.9ml（1.63M、6.35mmol）
を滴下した後、室温で１時間撹拌した。氷冷下、ベンズ
アルデヒド0.69g（6.48mmol）のエチルエーテル溶液10m
lを加えた。室温で３時間反応させた。８％リン酸水溶
液を加えて反応を停止させた後、２時間撹拌した。エチ
ルエーテルで酸性液を洗浄後、濃アルカリ水溶液を加え
て、この酸性液を強アルカリ性とし、さらにエチルエー
テルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を
留去した後、残渣をアルミナカラムクロマトグラフィー
により精製して、（Ｓ）−N,N−ジメチル−１−
〔（Ｒ）−２−（（Ｒ）−フェニルヒドロキシメチル）
フェロセニル〕イソブチルアミンが0.94g（製造収率43
％）得られた。
01〜4.15（m,4H）,4.03（s,5H）,6.94（s,1H）,6.95,7.
08,7.50,7.65（ABパターン,J＝9Hz,4H） IR（KBr）3095、2980、2825、1610、1460、1240、116
7、1102、1068、1035、999、930、820cm-1 実施例３の生成物 90MHz 1H NMR（CDCl3）δ 1.35（d,J＝6.6Hz,3H）,2.20（s,6H）,3.63〜4.00（m,2
H）,3.82（s,6H）,3.97（s,5H）,4.02〜4.20（m,1H）,
4.30（q,J＝6,9Hz,1H）,6.58（s,1H）,6.68（d,J＝3.3H
z,2H）,7.23（dd,J＝6.9Hz,8.4Hz,1H）， IR（KBr）3450、3100、2998、2950、2848、2800、159
5、1475、1245、1180、1100、1072、1004、920、808、7
30cm-1 実施例４の生成物 90MHz 1H NMR（CDCl3）δ 0.37（d,J＝6.6Hz,3H）,0.85（d,J＝6.3Hz,3H）,1.26
（d,J＝6.6Hz,6H）,1.45（d,J＝6.6Hz,3H）,1.60〜1.97
（m,1H）,2.12（s,6H）,2.30〜2.68（m,1H）,3.78〜3.9
5（m,1H）,4.09（s,5H）,4.11〜4.27（m,3H）,7.69（br
s,1H） IR（KBr）3420、3100、2998、2960、2898、2800、146
0、1250、1108、1015、1004、941、828、820cm1 実施例５の生成物 90MHz 1H NMR（CDCl3）δ 0.29〜1.40（m,6H）,1.24（d,J＝6.3Hz,3H）,2.25（t,J
＝5.7Hz,4H）,3.82（s,5H）,3.89〜4.01（m,1H）,4.03
〜4.16（m,1H）,4.20〜4.30（m,1H）,4.40（q,J＝6.9H
z,1H）,6.98〜7.45（m,8H）,7.50〜7.75（m,2H）,8.72
（br s,1H） IR（KBr）3460、3100、3070、3050、2998、2950、284
0、1600、1444、1248、1104、1068、1036、1002、820、
762、753、703cm-1 実施例６の生成物 90MHz 1H NMR（CDCl3）δ 0.70（d,J＝6.6Hz,3H）,1.09（d,J＝3Hz,3H）,1.16（d,
J＝3Hz,3H）,2.68〜3.10（m,1H）,3.20〜3.58（m,1H）,
3.66（q,J＝7.2Hz,1H）,3.95〜4.19（m,1H）,4.13（s,5
H）,7.06〜7.43（m,8H）,7.45〜7.68（m,2H） IR（neat）3450、3100、3020、2950、2850、1600、148
0、1225、1178、1105、1050、1030、1002、820、759、7
05cm-1 実施例７ アルゴン雰囲気下、撹拌機を有するガラス製常圧反応
装置に（Ｓ）−N,N−ジメチル−１−フェロセニルイソ
ブチルアミン（既知化合物）1.99g（5.58mmol）を加
え、エチルエーテル15mlに溶解させた。氷冷後、ｎ−ブ
チルリチウムのヘキサン溶液3.9ml（1.63M、6.35mmol）
を滴下した後、室温で１時間撹拌した。氷冷下、ベンズ
アルデヒド0.69g（6.48mmol）のエチルエーテル溶液10m
lを加えた。室温で３時間反応させた。８％リン酸水溶
液を加えて反応を停止させた後、２時間撹拌した。エチ
ルエーテルで酸性液を洗浄後、濃アルカリ水溶液を加え
て、この酸性液を強アルカリ性とし、さらにエチルエー
テルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を
留去した後、残渣をアルミナカラムクロマトグラフィー
により精製して、（Ｓ）−N,N−ジメチル−１−
〔（Ｒ）−２−（（Ｒ）−フェニルヒドロキシメチル）
フェロセニル〕イソブチルアミンが0.94g（製造収率43
％）得られた。
▲〔α〕22 D▼＋142.4゜（c0.644,EtOH） オイル 90MHz 1H NMR（CDCl3）δ 1.25（d,J＝6.6Hz,3H）,1.46（d,J＝6.6Hz,3H）,2.45
（s,6H）,2.46〜2.80（m,1H）,3.45〜3.62（m,1H）,3.8
2〜4,29（m,3H）,4.01（s,5H）,5.87（s,1H）,7.17〜7.
48（m,3H）,7.48〜7.69（s,2H）,7.75（br s,1H） IR（neat）3100、3040、2960、2940、2880、2800、160
0、1446、1382、1363、1262、1197、1181、1104、107
8、1041、1018、1000、942、840、816、740、700cm-1
（s,6H）,2.46〜2.80（m,1H）,3.45〜3.62（m,1H）,3.8
2〜4,29（m,3H）,4.01（s,5H）,5.87（s,1H）,7.17〜7.
48（m,3H）,7.48〜7.69（s,2H）,7.75（br s,1H） IR（neat）3100、3040、2960、2940、2880、2800、160
0、1446、1382、1363、1262、1197、1181、1104、107
8、1041、1018、1000、942、840、816、740、700cm-1
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07F 17/00 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】下記一般式〔Ｉ〕で表わされるキラルなフ
ェロセン誘導体。 （式中、R1は炭素数１〜６の低級アルキル基を示し、R2
及びR3は、同一又は異なり、水素原子、炭素数１〜６の
低級アルキル基を示すか、R2とR3は、それぞれが結合す
る窒素原子と炭素数４〜６の複素環を形成し、R4及びR5
は、同一又は異なり、水素、炭素数２〜６の低級アルキ
ル基又はアリール基を示す。ただし、R1、R2及びR3がメ
チル基である場合には、R4及びR5は同時にフェニル基で
はない。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21404590A JP2946678B2 (ja) | 1990-08-13 | 1990-08-13 | キラルなフェロセン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21404590A JP2946678B2 (ja) | 1990-08-13 | 1990-08-13 | キラルなフェロセン誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0499786A JPH0499786A (ja) | 1992-03-31 |
| JP2946678B2 true JP2946678B2 (ja) | 1999-09-06 |
Family
ID=16649360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21404590A Expired - Fee Related JP2946678B2 (ja) | 1990-08-13 | 1990-08-13 | キラルなフェロセン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2946678B2 (ja) |
-
1990
- 1990-08-13 JP JP21404590A patent/JP2946678B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0499786A (ja) | 1992-03-31 |
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