JPH0625039A - シクロヘキサントリオール誘導体 - Google Patents
シクロヘキサントリオール誘導体Info
- Publication number
- JPH0625039A JPH0625039A JP4087463A JP8746392A JPH0625039A JP H0625039 A JPH0625039 A JP H0625039A JP 4087463 A JP4087463 A JP 4087463A JP 8746392 A JP8746392 A JP 8746392A JP H0625039 A JPH0625039 A JP H0625039A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dimethylmethylenedioxy
- group
- added
- reduced pressure
- under reduced
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D493/00—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
- C07D493/02—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D493/04—Ortho-condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D261/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings
- C07D261/20—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
- C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D311/76—Benzo[c]pyrans
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D317/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D317/08—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3
- C07D317/44—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D317/46—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems condensed with one six-membered ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Abstract
(57)【要約】
【構成】 式
【化１】
式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は同一または相異なり、各々
水素原子または水酸基の保護基を表し、Ｘは酸素原子、
＝ＣＨＣＨ2ＯＲ4基、＝ＣＨＣＨＯ基または＝ＣＨＣＯ
2Ｒ5基を表し、そしてＹは水素原子を表し且つＺは−Ｏ
Ｒ6基を表すか又はＹとＺは一緒になって単結合を表わ
し；或いはＸとＺは一緒になつて＝ＮＯ−基、＝ＣＨＣ
Ｈ（ＯＲ7）Ｏ−基または＝ＣＨＣＯ2−基を表し、且つ
Ｙは水素原子を表し、Ｒ4およびＲ6は水素原子または水
酸基の保護基を表し、Ｒ5は低級アルキル基を表し、Ｒ7
は水素原子または低級アルキル基を表す、で示されるシ
クロヘキサントリオール誘導体。 【効果】 この化合物は１α−ヒドロキシビタミンＤ誘
導体の合成中間体として有用である。
水素原子または水酸基の保護基を表し、Ｘは酸素原子、
＝ＣＨＣＨ2ＯＲ4基、＝ＣＨＣＨＯ基または＝ＣＨＣＯ
2Ｒ5基を表し、そしてＹは水素原子を表し且つＺは−Ｏ
Ｒ6基を表すか又はＹとＺは一緒になって単結合を表わ
し；或いはＸとＺは一緒になつて＝ＮＯ−基、＝ＣＨＣ
Ｈ（ＯＲ7）Ｏ−基または＝ＣＨＣＯ2−基を表し、且つ
Ｙは水素原子を表し、Ｒ4およびＲ6は水素原子または水
酸基の保護基を表し、Ｒ5は低級アルキル基を表し、Ｒ7
は水素原子または低級アルキル基を表す、で示されるシ
クロヘキサントリオール誘導体。 【効果】 この化合物は１α−ヒドロキシビタミンＤ誘
導体の合成中間体として有用である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規なシクロヘキサント
リオール誘導体に関する。さらに詳しくは、各種の１α
−ヒドロキシビタミンＤ誘導体、殊に２β−位に置換基
を有する１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体、例えば２
β−ヒドロキシプロポキシ−１α，２５−ジヒドロキシ
ビタミンＤ3などを合成するための重要なＡ−環合成部
分(keyA-ring synthons)として有用な１α，２β，３β
−シクロヘキサントリオール誘導体に関する。
リオール誘導体に関する。さらに詳しくは、各種の１α
−ヒドロキシビタミンＤ誘導体、殊に２β−位に置換基
を有する１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体、例えば２
β−ヒドロキシプロポキシ−１α，２５−ジヒドロキシ
ビタミンＤ3などを合成するための重要なＡ−環合成部
分(keyA-ring synthons)として有用な１α，２β，３β
−シクロヘキサントリオール誘導体に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、ビタミンＤ研究の進展に伴い、上
記の１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体を始め、数多く
の１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体が医薬品として開
発されてきているが、これらの製造だけでなく医薬品と
して開発する上で必須となる代謝物や分解物あるいは標
識化合物を合成するためにはコンバージェントな合成法
が有用である。
記の１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体を始め、数多く
の１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体が医薬品として開
発されてきているが、これらの製造だけでなく医薬品と
して開発する上で必須となる代謝物や分解物あるいは標
識化合物を合成するためにはコンバージェントな合成法
が有用である。
【０００３】血中持続性の高い骨粗鬆治療薬としてその
実用化が期待されている２β−ヒドロキシプロポキシ−
１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ3は、従来、ステ
ロイド化合物を出発原料に用い、そのＡ環部分をエポキ
シ化した後に開環することによって２位にヒドロキシア
ルコキシ基を導入する方法で合成することが提案されて
いるが［例えばU.S.Patent No. ４,６６６,６３４（＝
特開昭６１−２６７５４９号公報）参照］、原料の入手
が困難であること、最終工程が収率の低い光反応である
ことなどの欠点がある。
実用化が期待されている２β−ヒドロキシプロポキシ−
１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ3は、従来、ステ
ロイド化合物を出発原料に用い、そのＡ環部分をエポキ
シ化した後に開環することによって２位にヒドロキシア
ルコキシ基を導入する方法で合成することが提案されて
いるが［例えばU.S.Patent No. ４,６６６,６３４（＝
特開昭６１−２６７５４９号公報）参照］、原料の入手
が困難であること、最終工程が収率の低い光反応である
ことなどの欠点がある。
【０００４】また、コンバージェントな１α−ヒドロキ
シビタミンＤ誘導体の合成法としては、例えば、（Ｓ）
−（＋）−カルボンを原料とする方法［J. Org. Chem.
１９８６，５１，３０９８−３１０８参照］、（Ｒ）−
（−）−カルボンを原料とする方法［J. Org. Chem. １
９８９，５４，３５１５−３５１７参照］、シクロヘキ
センジカルボン酸エステルを用いる方法［Tetrahedron
Letters, Vol. ３１，NO.１１，pp１５７７−１５８
０，１９９０参照］などにより１α−ヒドロキシビタミ
ンＤ誘導体のＡ−環構成部分(A-ring synthons)を合成
し、ＣＤ環構成部分（ＣＤ−ring synthons）と結合さ
せる方法が報告されている。
シビタミンＤ誘導体の合成法としては、例えば、（Ｓ）
−（＋）−カルボンを原料とする方法［J. Org. Chem.
１９８６，５１，３０９８−３１０８参照］、（Ｒ）−
（−）−カルボンを原料とする方法［J. Org. Chem. １
９８９，５４，３５１５−３５１７参照］、シクロヘキ
センジカルボン酸エステルを用いる方法［Tetrahedron
Letters, Vol. ３１，NO.１１，pp１５７７−１５８
０，１９９０参照］などにより１α−ヒドロキシビタミ
ンＤ誘導体のＡ−環構成部分(A-ring synthons)を合成
し、ＣＤ環構成部分（ＣＤ−ring synthons）と結合さ
せる方法が報告されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の方法は出発原料が高価であること、工業上入手が困難
又は使用に制限がある化合物の使用を必要とすること、
重要な中間体までの合成ルートが長く及び／または煩雑
であること、等の欠点があり、工業的に実施する上で必
ずしも満足できるものではない。
の方法は出発原料が高価であること、工業上入手が困難
又は使用に制限がある化合物の使用を必要とすること、
重要な中間体までの合成ルートが長く及び／または煩雑
であること、等の欠点があり、工業的に実施する上で必
ずしも満足できるものではない。
【０００６】しかも、上記文献に記載の方法はいずれも
２−位に置換基を有しない１α−ヒドロキシビタミンＤ
誘導体の合成に関するものであり、従来、２β−ヒドロ
キシプロポキシ−１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ
3のように２−位に置換基を有する１α−ヒドロキシビ
タミンＤ誘導体の合成に適用可能なＡ−環構成部分は知
られていない。
２−位に置換基を有しない１α−ヒドロキシビタミンＤ
誘導体の合成に関するものであり、従来、２β−ヒドロ
キシプロポキシ−１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ
3のように２−位に置換基を有する１α−ヒドロキシビ
タミンＤ誘導体の合成に適用可能なＡ−環構成部分は知
られていない。
【０００７】しかして、本発明の目的は、入手容易で安
価な原料を出発原料として用い、比較的短工程で製造す
ることができる、１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体、
殊に２−位に置換基を有する１α−ヒドロキシビタミン
Ｄ誘導体の合成に際してＡ−環構成部分として有用な新
規なシクロヘキサントリオール誘導体を提供するにあ
る。
価な原料を出発原料として用い、比較的短工程で製造す
ることができる、１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体、
殊に２−位に置換基を有する１α−ヒドロキシビタミン
Ｄ誘導体の合成に際してＡ−環構成部分として有用な新
規なシクロヘキサントリオール誘導体を提供するにあ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、一般式
【０００９】
【化２】
【００１０】式中、Ｒ1、Ｒ2、およびＲ3は同一または
相異なり、各々水素原子または水酸基の保護基を表し、
Ｘは酸素原子、＝ＣＨＣＨ2ＯＲ4基、＝ＣＨＣＨＯ基ま
たは＝ＣＨＣＯ2Ｒ5基を表し、Ｙは水素原子を表し且つ
Ｚは−ＯＲ6基を表すか又はＹとＺは一緒になって単結
合を表し；或いはＸとＺは一緒になって＝ＮＯ−基、＝
ＣＨＣＨ（ＯＲ7）Ｏ−基または＝ＣＨＣＯ2−基を表し
且つＹは水素原子を表し、Ｒ4およびＲ6は水素原子また
は水酸基の保護基を表し、Ｒ5は低級アルキル基を表
し、Ｒ7は水素原子または低級アルキル基を表す、で示
されるシクロヘキサントリオール誘導体が提供される。
相異なり、各々水素原子または水酸基の保護基を表し、
Ｘは酸素原子、＝ＣＨＣＨ2ＯＲ4基、＝ＣＨＣＨＯ基ま
たは＝ＣＨＣＯ2Ｒ5基を表し、Ｙは水素原子を表し且つ
Ｚは−ＯＲ6基を表すか又はＹとＺは一緒になって単結
合を表し；或いはＸとＺは一緒になって＝ＮＯ−基、＝
ＣＨＣＨ（ＯＲ7）Ｏ−基または＝ＣＨＣＯ2−基を表し
且つＹは水素原子を表し、Ｒ4およびＲ6は水素原子また
は水酸基の保護基を表し、Ｒ5は低級アルキル基を表
し、Ｒ7は水素原子または低級アルキル基を表す、で示
されるシクロヘキサントリオール誘導体が提供される。
【００１１】本発明により提供される上記式（Ｉ）のシ
クロヘキサントリオール誘導体は、血中持続性の高い骨
粗鬆治療薬としてその臨床応用が期待されている２β−
ヒドロキシプロポキシ−１α，２５−ジヒドロキシビタ
ミンＤ3の合成中間体(A-ringsynthons)として有用であ
り、さらにまた、慢性腎不全、副甲状腺機能低下症、二
次性副甲状腺機能亢進症、骨軟化症、骨粗鬆症などのカ
ルシウム代謝の欠陥症の治療に有効とされている１α−
ヒドロキシビタミンＤ3、１α，２５−ジヒドロキシビ
タミンＤ3、１α−ヒドロキシビタミンＤ2、２４−エピ
−１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ2などの１α−
ヒドロキシビタミンＤ誘導体、および乾癬等の皮膚疾患
や骨髄性白血病などの細胞分化機能に異常をきたした疾
患の治療に効果が期待されている１α，２４−ジヒドロ
キシビタミンＤ3、２２−オキサ−１α，２５−ジヒド
ロキシビタミンＤ3、２２−デヒドロ−２６，２７−シ
クロ−１α，２４−ジヒドロキシビタミンＤ3などの１
α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体の合成中間体としても
極めて有用である。
クロヘキサントリオール誘導体は、血中持続性の高い骨
粗鬆治療薬としてその臨床応用が期待されている２β−
ヒドロキシプロポキシ−１α，２５−ジヒドロキシビタ
ミンＤ3の合成中間体(A-ringsynthons)として有用であ
り、さらにまた、慢性腎不全、副甲状腺機能低下症、二
次性副甲状腺機能亢進症、骨軟化症、骨粗鬆症などのカ
ルシウム代謝の欠陥症の治療に有効とされている１α−
ヒドロキシビタミンＤ3、１α，２５−ジヒドロキシビ
タミンＤ3、１α−ヒドロキシビタミンＤ2、２４−エピ
−１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ2などの１α−
ヒドロキシビタミンＤ誘導体、および乾癬等の皮膚疾患
や骨髄性白血病などの細胞分化機能に異常をきたした疾
患の治療に効果が期待されている１α，２４−ジヒドロ
キシビタミンＤ3、２２−オキサ−１α，２５−ジヒド
ロキシビタミンＤ3、２２−デヒドロ−２６，２７−シ
クロ−１α，２４−ジヒドロキシビタミンＤ3などの１
α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体の合成中間体としても
極めて有用である。
【００１２】本明細書において、「低級」なる語は、こ
の語が付された基又は化合物の炭素数が６個以下、好ま
しくは４個以下であることを意味するために用いる。
の語が付された基又は化合物の炭素数が６個以下、好ま
しくは４個以下であることを意味するために用いる。
【００１３】上記一般式（Ｉ）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ
3、Ｒ4および／またはＲ6によって表されうる水酸基の
保護基は、分子の他の部分に実質的に悪影響を及ぼすこ
となく、例えば加水分解、加水素分解などの保護基離脱
手段によって除去しうる任意の保護基であることがで
き、具体的には例えば次のものが挙げられる。
3、Ｒ4および／またはＲ6によって表されうる水酸基の
保護基は、分子の他の部分に実質的に悪影響を及ぼすこ
となく、例えば加水分解、加水素分解などの保護基離脱
手段によって除去しうる任意の保護基であることがで
き、具体的には例えば次のものが挙げられる。
【００１４】（ｉ） 式ＲaＣＯ−で示されるアシル基
［ここで、Ｒaは水素原子、Ｃ1〜Ｃ8アルキル基、Ｃ1〜
Ｃ4ハロアルキル基、アリール基を表わす］：例えばホ
ルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチ
リル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、カプロイ
ル、ベンゾイル、トリフルオロアセチル基など； （ii） 式ＲbＯＣＯ−で示されるアルコキシカルボニ
ル基［ここで、Ｒbは低級アルキル基、低級アルケニル
基、Ｃ7〜Ｃ9アラルキル基、アリール基を表わす］：例
えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロ
ポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、アリル
オキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、フェノ
キシカルボニル基など； 一もしくは相異なり、各々低級アルキル基、アリール基
又はＣ7〜Ｃ9アラルキル基を表わす］：例えば、トリメ
チルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリ
ル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチ
ルジフェニルシリル、トリベンジルシリル基など； 宜低級アルコキシ基で置換されていてもよい低級アルキ
ル基を表わし、Ｒg及びＲg′は各々水素原子または低級
アルキル基を表わす］：例えば、メトキシメチル、メト
キシエトキシメチル、１−エトキシエチル、メトキシイ
ソプロピル基など； （ｖ） 式
［ここで、Ｒaは水素原子、Ｃ1〜Ｃ8アルキル基、Ｃ1〜
Ｃ4ハロアルキル基、アリール基を表わす］：例えばホ
ルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチ
リル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、カプロイ
ル、ベンゾイル、トリフルオロアセチル基など； （ii） 式ＲbＯＣＯ−で示されるアルコキシカルボニ
ル基［ここで、Ｒbは低級アルキル基、低級アルケニル
基、Ｃ7〜Ｃ9アラルキル基、アリール基を表わす］：例
えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロ
ポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、アリル
オキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、フェノ
キシカルボニル基など； 一もしくは相異なり、各々低級アルキル基、アリール基
又はＣ7〜Ｃ9アラルキル基を表わす］：例えば、トリメ
チルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリ
ル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチ
ルジフェニルシリル、トリベンジルシリル基など； 宜低級アルコキシ基で置換されていてもよい低級アルキ
ル基を表わし、Ｒg及びＲg′は各々水素原子または低級
アルキル基を表わす］：例えば、メトキシメチル、メト
キシエトキシメチル、１−エトキシエチル、メトキシイ
ソプロピル基など； （ｖ） 式
【００１５】
【化３】
【００１６】で示される２−オキサシクロアルキル基
［ここで、ｎは３〜６の整数である］：例えばテトラヒ
ドロフラニル、テトラヒドロピラニル基など。また、Ｒ
1とＲ2又はＲ2とＲ3は一緒になって式
［ここで、ｎは３〜６の整数である］：例えばテトラヒ
ドロフラニル、テトラヒドロピラニル基など。また、Ｒ
1とＲ2又はＲ2とＲ3は一緒になって式
【００１７】
【化４】
【００１８】で示されるアセタール基［ここで、Ｒh及
びＲiは同一もしくは相異なり、各々水素原子、低級ア
ルキル基、アリール基又はＣ7〜Ｃ11アラルキル基を表
わす］、例えば、エチリデン、イソプロピリデン、ベン
ジリデン基などを形成していてもよい。
びＲiは同一もしくは相異なり、各々水素原子、低級ア
ルキル基、アリール基又はＣ7〜Ｃ11アラルキル基を表
わす］、例えば、エチリデン、イソプロピリデン、ベン
ジリデン基などを形成していてもよい。
【００１９】しかして、水酸基の保護基として好適なも
のは、Ｒ1およびＲ3の場合は、アセチル、ピバロイル、
ベンゾイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェ
ニルシリル、メトキシメチル、メトキシエトキシメチ
ル、１−エトキシエチルまたはテトラヒドロピラニル基
であり；Ｒ2の場合は、アセチル、ピバロイル、ベンゾ
イル、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニル基
であり；Ｒ4の場合は、テトラヒドロピラニル、エトキ
シエチルまたはメトキシイソプロピル基であり；そして
Ｒ6の場合は、１−エトキシエチル、テトラヒドロピラ
ニル、メトキシイソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリルまたはトリエチルシリル基である。また、Ｒ1
とＲ2は一緒になってイソプロピリデン基を形成するこ
ともできる。
のは、Ｒ1およびＲ3の場合は、アセチル、ピバロイル、
ベンゾイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェ
ニルシリル、メトキシメチル、メトキシエトキシメチ
ル、１−エトキシエチルまたはテトラヒドロピラニル基
であり；Ｒ2の場合は、アセチル、ピバロイル、ベンゾ
イル、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニル基
であり；Ｒ4の場合は、テトラヒドロピラニル、エトキ
シエチルまたはメトキシイソプロピル基であり；そして
Ｒ6の場合は、１−エトキシエチル、テトラヒドロピラ
ニル、メトキシイソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリルまたはトリエチルシリル基である。また、Ｒ1
とＲ2は一緒になってイソプロピリデン基を形成するこ
ともできる。
【００２０】より好適な水酸基の保護基としては、Ｒ1
の場合は、アセチル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
又はｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基であり；Ｒ2
の場合は、アセチル又はメトキシカルボニル基であり；
Ｒ3の場合は、アセチル、メトキシメチル、１−エトキ
シエチル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル又はｔｅｒ
ｔ−ブチルジフェニルシリル基であり、Ｒ4の場合は、
テトラヒドロピラニル基であり、そしてＲ6の場合は、
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基である。また、Ｒ1
とＲ2は一緒になってイソプロピリデン基を形成するこ
ともできる。
の場合は、アセチル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
又はｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基であり；Ｒ2
の場合は、アセチル又はメトキシカルボニル基であり；
Ｒ3の場合は、アセチル、メトキシメチル、１−エトキ
シエチル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル又はｔｅｒ
ｔ−ブチルジフェニルシリル基であり、Ｒ4の場合は、
テトラヒドロピラニル基であり、そしてＲ6の場合は、
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基である。また、Ｒ1
とＲ2は一緒になってイソプロピリデン基を形成するこ
ともできる。
【００２１】一方、Ｒ5およびＲ7が表しうる低級アルキ
ル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、
ペンチル、ヘキシル基などを挙げることができ、中で
も、メチル、エチル、イソプロピル基が好適である。
ル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、
ペンチル、ヘキシル基などを挙げることができ、中で
も、メチル、エチル、イソプロピル基が好適である。
【００２２】しかして、前記一般式（Ｉ）で示される化
合物の中、好適なものとしては、同式中、Ｒ1が水素原
子、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、トリエチルシリル、トリ
イソプロピルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、メトキシメチ
ル、メトキシエトキシメチル、１−エトキシエチルまた
はテトラヒドロピラニル基を表わし；Ｒ2が水素原子、
アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、メトキシカルボニ
ルまたはエトキシカルボニル基を表すか、或いはＲ1と
Ｒ2は一緒になってイソプロピリデン基を表わし；Ｒ3は
水素原子、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、トリエチルシリ
ル、トリイソプロピルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、メトキ
シメチル、メトキシエトキシメチル、１−エトキシエチ
ルまたはテトラヒドロピラニル基を表わす化合物が挙げ
られる。さらに好適な化合物としては、一般式(I)にお
いてＲ1が水素原子、アセチル、ｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリルまたはｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基
を表わし；Ｒ2が水素原子、アセチル又はメトキシカル
ボニル基を表わすか、或いはＲ1とＲ2は一緒になってイ
ソプロピリデン基を表わし；Ｒ3は水素原子、アセチ
ル、メトキシメチル、１−エトキシエチル、ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリル又はｔｅｒｔ−ブチルジフェニル
シリル基を表わす化合物が挙げられる。
合物の中、好適なものとしては、同式中、Ｒ1が水素原
子、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、トリエチルシリル、トリ
イソプロピルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、メトキシメチ
ル、メトキシエトキシメチル、１−エトキシエチルまた
はテトラヒドロピラニル基を表わし；Ｒ2が水素原子、
アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、メトキシカルボニ
ルまたはエトキシカルボニル基を表すか、或いはＲ1と
Ｒ2は一緒になってイソプロピリデン基を表わし；Ｒ3は
水素原子、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、トリエチルシリ
ル、トリイソプロピルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、メトキ
シメチル、メトキシエトキシメチル、１−エトキシエチ
ルまたはテトラヒドロピラニル基を表わす化合物が挙げ
られる。さらに好適な化合物としては、一般式(I)にお
いてＲ1が水素原子、アセチル、ｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリルまたはｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基
を表わし；Ｒ2が水素原子、アセチル又はメトキシカル
ボニル基を表わすか、或いはＲ1とＲ2は一緒になってイ
ソプロピリデン基を表わし；Ｒ3は水素原子、アセチ
ル、メトキシメチル、１−エトキシエチル、ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリル又はｔｅｒｔ−ブチルジフェニル
シリル基を表わす化合物が挙げられる。
【００２３】本発明の化合物は、その置換基の種類に応
じて次の３つのグループに大別することができる。
じて次の３つのグループに大別することができる。
【００２４】グループ１：ＸとＺが一緒になって＝ＮＯ
−基を表わしそしてＹが水素原子である場合の式（Ｉ）
の化合物、すなわち下記式
−基を表わしそしてＹが水素原子である場合の式（Ｉ）
の化合物、すなわち下記式
【００２５】
【化５】
【００２６】で示される化合物； グループ２：ＸとＺが一緒になって＝ＣＨＣＨ（Ｏ
Ｒ7）Ｏ−基または＝ＣＨＣＯ2−基を表わし、そしてＹ
が水素原子である場合の式（Ｉ）の化合物、すなわち下
記式
Ｒ7）Ｏ−基または＝ＣＨＣＯ2−基を表わし、そしてＹ
が水素原子である場合の式（Ｉ）の化合物、すなわち下
記式
【００２７】
【化６】
【００２８】で示される化合物； グループ３：Ｘが酸素原子、＝ＣＨＣＨ2ＯＲ4基、＝Ｃ
ＨＣＨＯ基又は＝ＣＨＣＯ2Ｒ5基を表わし、そしてＹが
水素原子を表し且つＺが−ＯＲ6基を表わすか、又はＹ
とＺが一緒になって単結合を表わす場合の式（Ｉ）の化
合物、すなわち、下記式
ＨＣＨＯ基又は＝ＣＨＣＯ2Ｒ5基を表わし、そしてＹが
水素原子を表し且つＺが−ＯＲ6基を表わすか、又はＹ
とＺが一緒になって単結合を表わす場合の式（Ｉ）の化
合物、すなわち、下記式
【００２９】
【化７】
【００３０】で示される化合物。
【００３１】下記反応工程Ａにおける式（Ｉ−１）の化
合物がグループ１に、式（Ｉ−６）及び（Ｉ−７）の化
合物がグループ２に、そして式（Ｉ−２）、（Ｉ−
３）、（Ｉ−４）、（Ｉ−５）、（Ｉ−８）、（Ｉ−
９）及び（Ｉ−１０）の化合物がグループ３に属する。
合物がグループ１に、式（Ｉ−６）及び（Ｉ−７）の化
合物がグループ２に、そして式（Ｉ−２）、（Ｉ−
３）、（Ｉ−４）、（Ｉ−５）、（Ｉ−８）、（Ｉ−
９）及び（Ｉ−１０）の化合物がグループ３に属する。
【００３２】本発明のシクロヘキサントリオール誘導体
は、安価なマンニトールを原料にして以下に示す反応工
程Ａに従って工業的に実施するのに容易な反応で製造す
ることができる。
は、安価なマンニトールを原料にして以下に示す反応工
程Ａに従って工業的に実施するのに容易な反応で製造す
ることができる。
【００３３】
【化８】
【００３４】上記各式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、
Ｒ6およびＲ7は前記の意味を有し、Ｒは水酸基の保護基
を表し、Ｒ’はアルキル基（例えば、メチル基、エチル
基、オクチル基など）又は置換もしくは未置換のアリー
ル基（例えば、フェニル基、ｐ‐トリル基、ｐ-クロル
フェニル基、ナフチル基など）を表わす。
Ｒ6およびＲ7は前記の意味を有し、Ｒは水酸基の保護基
を表し、Ｒ’はアルキル基（例えば、メチル基、エチル
基、オクチル基など）又は置換もしくは未置換のアリー
ル基（例えば、フェニル基、ｐ‐トリル基、ｐ-クロル
フェニル基、ナフチル基など）を表わす。
【００３５】上記反応工程Ａに示す各工程の反応につい
て以下さらに詳しく説明する。
て以下さらに詳しく説明する。
【００３６】マンニトール（Ｘ）から常法に従いその
３，４，５，６−位の水酸基が保護されたジオール（Ｉ
Ｘ）を合成し、次いで該ジオール（ＩＸ）と該ジオール
に対し１〜２０倍モルのジメチルホルムアミドジメチル
アセタール、オルトギ酸メチル、オルトギ酸エチルなど
と酸触媒の存在下または不存在下に室温ないし約２００
℃の温度に加熱することにより環状オルトエステルを得
る。これに必要に応じて１〜１０倍モルの無水酢酸、無
水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物
を加えて室温ないし約２００℃の温度に加熱することに
より、水酸基が保護された５−ヘキセン−１，２，３，
４−テトラオール誘導体（ＶＩＩＩ）を得る。 水酸基
が保護された５−ヘキセン−１，２，３，４−テトラオ
ール誘導体（ＶＩＩＩ）を常法に従い脱保護反応に付
し、３，４−位のみが保護された５−ヘキセン−１，
２，３，４−テトラオール誘導体（ＶＩＩ）を得る。
３，４，５，６−位の水酸基が保護されたジオール（Ｉ
Ｘ）を合成し、次いで該ジオール（ＩＸ）と該ジオール
に対し１〜２０倍モルのジメチルホルムアミドジメチル
アセタール、オルトギ酸メチル、オルトギ酸エチルなど
と酸触媒の存在下または不存在下に室温ないし約２００
℃の温度に加熱することにより環状オルトエステルを得
る。これに必要に応じて１〜１０倍モルの無水酢酸、無
水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物
を加えて室温ないし約２００℃の温度に加熱することに
より、水酸基が保護された５−ヘキセン−１，２，３，
４−テトラオール誘導体（ＶＩＩＩ）を得る。 水酸基
が保護された５−ヘキセン−１，２，３，４−テトラオ
ール誘導体（ＶＩＩＩ）を常法に従い脱保護反応に付
し、３，４−位のみが保護された５−ヘキセン−１，
２，３，４−テトラオール誘導体（ＶＩＩ）を得る。
【００３７】３，４−位のみが保護された５−ヘキセン
−１，２，３，４−テトラオール誘導体（ＶＩＩ）は、
ピリジン、トリエチルアミンなどの塩基の存在下に、１
〜５倍モルのｐ−トルエンスルホニルクロリド、メタン
スルホニルクロリドなどのスルホニル化剤と、不活性溶
媒の存在下または不存在下に約−３０〜約８０℃の温度
で反応させることにより、３、４−位のみが保護された
２，３，４−トリヒドロキシ−５−ヘキセン−１−イル
モノスルホナート誘導体（ＶＩ）に変換する。
−１，２，３，４−テトラオール誘導体（ＶＩＩ）は、
ピリジン、トリエチルアミンなどの塩基の存在下に、１
〜５倍モルのｐ−トルエンスルホニルクロリド、メタン
スルホニルクロリドなどのスルホニル化剤と、不活性溶
媒の存在下または不存在下に約−３０〜約８０℃の温度
で反応させることにより、３、４−位のみが保護された
２，３，４−トリヒドロキシ−５−ヘキセン−１−イル
モノスルホナート誘導体（ＶＩ）に変換する。
【００３８】モノスルホナート（ＶＩ）は常法に従いエ
ポキシドに変換する。例えば、該モノトシラートをメタ
ノール、エタノール、テトラヒドロフランなどの不活性
溶媒に溶解し、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化
ナトリウム、水素化ナトリウムなどの塩基を作用させる
ことにより、３、４−位が保護された１，２−エポキシ
−５−ヘキセン−３，４−ジオール誘導体（Ｖ）を得る
ことができる。また、１,２−エポキシ−５−ヘキセン
−３,４−ジオール誘導体（Ｖ）はＤ−ジギトキソース
又は酒石酸を原料とする公知の方法[U. Kuefner et a
l., Liebig′s Ann.Chem., １９８６, １６００−１６
０９など参照］によっても得ることができる。
ポキシドに変換する。例えば、該モノトシラートをメタ
ノール、エタノール、テトラヒドロフランなどの不活性
溶媒に溶解し、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化
ナトリウム、水素化ナトリウムなどの塩基を作用させる
ことにより、３、４−位が保護された１，２−エポキシ
−５−ヘキセン−３，４−ジオール誘導体（Ｖ）を得る
ことができる。また、１,２−エポキシ−５−ヘキセン
−３,４−ジオール誘導体（Ｖ）はＤ−ジギトキソース
又は酒石酸を原料とする公知の方法[U. Kuefner et a
l., Liebig′s Ann.Chem., １９８６, １６００−１６
０９など参照］によっても得ることができる。
【００３９】エポキシド（Ｖ）は常法に従いニトリルに
変換する。例えば、該エポキシドをメタノール、エタノ
ール、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミドなど
の不活性溶媒に溶解し、シアン化カリウム、シアン化ナ
トリウム、シアン化マグネシウムなどのシアノ化剤と反
応させ、必要に応じて水酸基の保護、脱保護を行うこと
により、３，４，５−トリヒドロキシ−６−ヘプテニト
リルおよびその水酸基保護体（ＩＶ）を得ることができ
る。
変換する。例えば、該エポキシドをメタノール、エタノ
ール、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミドなど
の不活性溶媒に溶解し、シアン化カリウム、シアン化ナ
トリウム、シアン化マグネシウムなどのシアノ化剤と反
応させ、必要に応じて水酸基の保護、脱保護を行うこと
により、３，４，５−トリヒドロキシ−６−ヘプテニト
リルおよびその水酸基保護体（ＩＶ）を得ることができ
る。
【００４０】得られるニトリル（ＩＶ）を必要に応じて
水酸基を保護した後、常法に従い水素化ジイソプロピル
アルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウムなどで
還元し、３，４，５−トリヒドロキシ−６−ヘプテナー
ルおよびその水酸基保護体（ＩＩＩ）とする。
水酸基を保護した後、常法に従い水素化ジイソプロピル
アルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウムなどで
還元し、３，４，５−トリヒドロキシ−６−ヘプテナー
ルおよびその水酸基保護体（ＩＩＩ）とする。
【００４１】アルデヒド（ＩＩＩ）を、常法に従い、ヒ
ドロキシルアミンと反応させ、オキシム（ＩＩ）とす
る。
ドロキシルアミンと反応させ、オキシム（ＩＩ）とす
る。
【００４２】このようにして得られる水酸基が保護され
た３，４，５−トリヒドロキシ−６−ヘプテナールオキ
シム（ＩＩ）を塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロ
エタン、トルエン、ジオキサンなどの不活性溶媒に溶解
し、トリエチルアミン、ピリジンなどの触媒の存在下ま
たは不存在下、該オキシムに対し１〜２０倍モルの次亜
塩素酸ナトリウム水溶液、次亜塩素酸ｔｅｒｔ−ブチル
などの酸化剤を約−２０〜約３０℃で反応させることに
より、生成したニトリルオキシドが１，３−双極子付加
し環化したシクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−１）
を得ることができる。
た３，４，５−トリヒドロキシ−６−ヘプテナールオキ
シム（ＩＩ）を塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロ
エタン、トルエン、ジオキサンなどの不活性溶媒に溶解
し、トリエチルアミン、ピリジンなどの触媒の存在下ま
たは不存在下、該オキシムに対し１〜２０倍モルの次亜
塩素酸ナトリウム水溶液、次亜塩素酸ｔｅｒｔ−ブチル
などの酸化剤を約−２０〜約３０℃で反応させることに
より、生成したニトリルオキシドが１，３−双極子付加
し環化したシクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−１）
を得ることができる。
【００４３】シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
１）は、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン
などの不活性溶媒またはその水との混合溶媒中で、必要
に応じてホウ酸、酢酸などの酸の存在下に、ラネーニッ
ケル、パラジウム−炭素、酸化白金などの水素化触媒と
ともに、水素雰囲気下で加水素分解し、そして必要に応
じて水酸基を保護することにより、シクロヘキサントリ
オール誘導体（Ｉ−２）を得ることができる。
１）は、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン
などの不活性溶媒またはその水との混合溶媒中で、必要
に応じてホウ酸、酢酸などの酸の存在下に、ラネーニッ
ケル、パラジウム−炭素、酸化白金などの水素化触媒と
ともに、水素雰囲気下で加水素分解し、そして必要に応
じて水酸基を保護することにより、シクロヘキサントリ
オール誘導体（Ｉ−２）を得ることができる。
【００４４】シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
２）は常法に従い脱水することにより、シクロヘキサン
トリオール誘導体（Ｉ−３）に導くことができる。
２）は常法に従い脱水することにより、シクロヘキサン
トリオール誘導体（Ｉ−３）に導くことができる。
【００４５】シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
３）は常法に従い、例えばウィティッヒ・ホーナー反応
等によりアルコキシカルボニルメチレン基を導入し、次
いで二重結合の立体をトランスからシスへと光増感反応
等により異性化することにより、シクロヘキサントリオ
ール誘導体（Ｉ−４）を得ることができる。
３）は常法に従い、例えばウィティッヒ・ホーナー反応
等によりアルコキシカルボニルメチレン基を導入し、次
いで二重結合の立体をトランスからシスへと光増感反応
等により異性化することにより、シクロヘキサントリオ
ール誘導体（Ｉ−４）を得ることができる。
【００４６】シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
４）は常法に従い、エステル部分を水素化ジイソブチル
アルミニウムなどで還元することにより、シクロヘキサ
ントリオール誘導体（Ｉ−５）を得ることができる。
４）は常法に従い、エステル部分を水素化ジイソブチル
アルミニウムなどで還元することにより、シクロヘキサ
ントリオール誘導体（Ｉ−５）を得ることができる。
【００４７】さらに、シクロヘキサントリオール誘導体
（Ｉ−４）またはシクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ
−５）を水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化リチ
ウムアルミニウム、水素化ビスメトキシエトキシアルミ
ニウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウ
ム、水素化リチウムトリイソブチルアルミニウムなどで
還元し、必要に応じて水酸基を保護することにより、シ
クロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−８）を得ることが
できる。
（Ｉ−４）またはシクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ
−５）を水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化リチ
ウムアルミニウム、水素化ビスメトキシエトキシアルミ
ニウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウ
ム、水素化リチウムトリイソブチルアルミニウムなどで
還元し、必要に応じて水酸基を保護することにより、シ
クロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−８）を得ることが
できる。
【００４８】一方、シクロヘキサントリオール誘導体
（Ｉ−２）の側鎖水酸基をホスフィノ酢酸と例えばジシ
クロヘキシルカルボジイミドなどを縮合剤としてエステ
ル化した後、分子内ウィティッヒ・ホーナー反応を行う
ことにより、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
６）を得ることができる。
（Ｉ−２）の側鎖水酸基をホスフィノ酢酸と例えばジシ
クロヘキシルカルボジイミドなどを縮合剤としてエステ
ル化した後、分子内ウィティッヒ・ホーナー反応を行う
ことにより、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
６）を得ることができる。
【００４９】シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
６）は常法に従い、エステル部分を水素化ジイソブチル
アルミニウムなどで還元し、必要に応じて低級アルコー
ルを用いてアセタール化することにより、シクロヘキサ
ントリオール誘導体（Ｉ−７）を得ることができる。
６）は常法に従い、エステル部分を水素化ジイソブチル
アルミニウムなどで還元し、必要に応じて低級アルコー
ルを用いてアセタール化することにより、シクロヘキサ
ントリオール誘導体（Ｉ−７）を得ることができる。
【００５０】シクロヘキサントリオール（Ｉ‐７）はテ
トラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノー
ルなどの水溶性溶媒と水の混合溶媒中、ｐ‐トルエンス
ルホン酸、硫酸、塩酸などの存在下、脱水することによ
り、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ‐５）とする
ことができる。
トラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノー
ルなどの水溶性溶媒と水の混合溶媒中、ｐ‐トルエンス
ルホン酸、硫酸、塩酸などの存在下、脱水することによ
り、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ‐５）とする
ことができる。
【００５１】さらに、シクロヘキサントリオール誘導体
（Ｉ‐６）は、低級アルコール中、水酸化ナトリウム、
水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、ナ
トリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドなどの塩基
を作用させ、必要に応じエステル化、水酸基の保護、脱
保護を行うことにより、シクロヘキサントリオール誘導
体（Ｉ‐９）を得ることができる。
（Ｉ‐６）は、低級アルコール中、水酸化ナトリウム、
水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、ナ
トリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドなどの塩基
を作用させ、必要に応じエステル化、水酸基の保護、脱
保護を行うことにより、シクロヘキサントリオール誘導
体（Ｉ‐９）を得ることができる。
【００５２】シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ‐
９）は、常法に従い脱水することによりシクロヘキサン
トリオール誘導体（Ｉ‐４）を得ることができる。この
脱水反応はスルホニル化、ハロゲン化を経由する一般的
な方法でも行うことができるが、有機セレン化合物を経
由する方法［テトラヘドロン レタース（Ｔetrahedron
Ｌetters）第３１巻第１５７７〜１５８０頁（１９９０
年）参照］により好ましく行うことができる。
９）は、常法に従い脱水することによりシクロヘキサン
トリオール誘導体（Ｉ‐４）を得ることができる。この
脱水反応はスルホニル化、ハロゲン化を経由する一般的
な方法でも行うことができるが、有機セレン化合物を経
由する方法［テトラヘドロン レタース（Ｔetrahedron
Ｌetters）第３１巻第１５７７〜１５８０頁（１９９０
年）参照］により好ましく行うことができる。
【００５３】また、シクロヘキサントリオール誘導体
（Ｉ−９）は、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
２）にシリル酢酸エステルを反応させ、次いでPeterson
脱離反応に付すことによっても得ることができる。
（Ｉ−９）は、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
２）にシリル酢酸エステルを反応させ、次いでPeterson
脱離反応に付すことによっても得ることができる。
【００５４】シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
９）は、常法に従いエステル部分を水素化リチウムアル
ミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウムなどの錯金
属水素化物で還元し、必要に応じて生成物中の水酸基を
保護することにより、シクロヘキサントリオール誘導体
（Ｉ−１０）を得ることができる。
９）は、常法に従いエステル部分を水素化リチウムアル
ミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウムなどの錯金
属水素化物で還元し、必要に応じて生成物中の水酸基を
保護することにより、シクロヘキサントリオール誘導体
（Ｉ−１０）を得ることができる。
【００５５】このようにして得られるシクロヘキサント
リオール誘導体（Ｉ）［前記反応工程Ａにおける式（Ｉ
−１）ないし（Ｉ−１０）の化合物］の反応混合物から
の単離・精製は、通常の有機反応において行われている
単離・精製方法と同様にして行われる。例えば、反応混
合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの有機溶媒で
抽出し、冷希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄し、乾燥
後濃縮して粗生成物を得、必要に応じて再結晶、クロマ
トグラフィなどにより精製し、シクロヘキサントリオー
ル誘導体（Ｉ）を得ることができる。
リオール誘導体（Ｉ）［前記反応工程Ａにおける式（Ｉ
−１）ないし（Ｉ−１０）の化合物］の反応混合物から
の単離・精製は、通常の有機反応において行われている
単離・精製方法と同様にして行われる。例えば、反応混
合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの有機溶媒で
抽出し、冷希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄し、乾燥
後濃縮して粗生成物を得、必要に応じて再結晶、クロマ
トグラフィなどにより精製し、シクロヘキサントリオー
ル誘導体（Ｉ）を得ることができる。
【００５６】かくして得られるシクロヘキサントリオー
ル誘導体（Ｉ−８）は、２−位の水酸基をトリエチルア
ミン、ピリジンなどの存在下、塩化メタンスルホニル、
塩化ｐ−トルエンスルホニル、塩化ベンゼンスルホニル
などでスルホニル化した後、水素化リチウムアルミニウ
ム、水素化トリエチルホウ素リチウムなどで還元するこ
とにより、シクロヘキサンジオール誘導体（ＸＩ）にす
ることができる。このシクロヘキサンジオール誘導体は
１α−ヒドロキシビタミンＤ化合物の製造のためのＡ−
環構成部分として公知のものであり、それ自体既知の方
法により［例えば、E. G. Baggiolini et al., J. Am.
Chem. Soc., １０４，２９４５−２９４８（１９８２）
参照］により薬理学的活性をもつ前述した如き各種の１
α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体に導くことができる。
ル誘導体（Ｉ−８）は、２−位の水酸基をトリエチルア
ミン、ピリジンなどの存在下、塩化メタンスルホニル、
塩化ｐ−トルエンスルホニル、塩化ベンゼンスルホニル
などでスルホニル化した後、水素化リチウムアルミニウ
ム、水素化トリエチルホウ素リチウムなどで還元するこ
とにより、シクロヘキサンジオール誘導体（ＸＩ）にす
ることができる。このシクロヘキサンジオール誘導体は
１α−ヒドロキシビタミンＤ化合物の製造のためのＡ−
環構成部分として公知のものであり、それ自体既知の方
法により［例えば、E. G. Baggiolini et al., J. Am.
Chem. Soc., １０４，２９４５−２９４８（１９８２）
参照］により薬理学的活性をもつ前述した如き各種の１
α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体に導くことができる。
【００５７】しかも、本発明のシクロヘキサントリオー
ル誘導体は、１,３−位のみならず２−位にも水酸基を
有しているので、この２−位の水酸基を利用して２−位
に置換基を有する１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体を
製造するためのＡ−環構成部分として有利に利用するこ
とができる。例えば、本発明のシクロヘキサントリオー
ル誘導体（Ｉ−８）の２−位の水酸基に３−ヒドロキシ
プロピル基を導入することにより下記式
ル誘導体は、１,３−位のみならず２−位にも水酸基を
有しているので、この２−位の水酸基を利用して２−位
に置換基を有する１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体を
製造するためのＡ−環構成部分として有利に利用するこ
とができる。例えば、本発明のシクロヘキサントリオー
ル誘導体（Ｉ−８）の２−位の水酸基に３−ヒドロキシ
プロピル基を導入することにより下記式
【００５８】
【化９】
【００５９】で示される化合物を合成し、次いでこの化
合物を必要に応じ水酸基を保護した後、それ自体既知の
方法［例えば、E. G. Baggiolini et at., J. Am. Che
m. Soc., １０４，２９４５−２９４８（１９８２）参
照］に準拠した方法により１α−ヒドロキシビタミンＤ
3のＣＤ環部分を結合することによって、前述したよう
に高い血中持続性を有する骨粗鬆治療薬としてその実用
化が期待されている下記式
合物を必要に応じ水酸基を保護した後、それ自体既知の
方法［例えば、E. G. Baggiolini et at., J. Am. Che
m. Soc., １０４，２９４５−２９４８（１９８２）参
照］に準拠した方法により１α−ヒドロキシビタミンＤ
3のＣＤ環部分を結合することによって、前述したよう
に高い血中持続性を有する骨粗鬆治療薬としてその実用
化が期待されている下記式
【００６０】
【化１０】
【００６１】で示される２β−ヒドロキシプロポキシ−
１α,２５−ジヒドロキシビタミンＤ3を製造することが
できる。
１α,２５−ジヒドロキシビタミンＤ3を製造することが
できる。
【００６２】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明するが、これらの実施例により本発明は何ら制限
されるものではない。
に説明するが、これらの実施例により本発明は何ら制限
されるものではない。
【００６３】参考例 １ ［１，２：３，４‐ビス（ジメチルメチレンジオキシ）
‐５‐ヘキセンの合成］３，４：５，６‐Ｏ‐ジイソプ
ロピリデン‐Ｄ‐マンニトール１２８．５ｇにＮ，Ｎ‐
ジメチルホルムアミドジメチルアセタール２００ｍｌを
加え、１００℃に加熱してメタノールを留去した。１０
０℃で１時間加熱を続け、薄層クロマトグラフィにより
ほぼ原料が消失していることを確認した後、１７０℃に
加熱して過剰量のＮ，Ｎ‐ジメチルホルムアミドジメチ
ルアセタールを約１時間かけて留去した。留出物がなく
なった後、１５０℃にし、無水酢酸１００ｍｌを少しづ
つ加え、留出温度約９０℃前後の留出物を留去させた。
得られた反応液を室温まで冷却し、ジエチルエーテルを
加え、有機層を食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、下記
の物性を有する１，２：３，４‐ビス（ジメチルメチレ
ンジオキシ）‐５‐ヘキセンを６０．７ｇ得た（収率５
４％）。
‐５‐ヘキセンの合成］３，４：５，６‐Ｏ‐ジイソプ
ロピリデン‐Ｄ‐マンニトール１２８．５ｇにＮ，Ｎ‐
ジメチルホルムアミドジメチルアセタール２００ｍｌを
加え、１００℃に加熱してメタノールを留去した。１０
０℃で１時間加熱を続け、薄層クロマトグラフィにより
ほぼ原料が消失していることを確認した後、１７０℃に
加熱して過剰量のＮ，Ｎ‐ジメチルホルムアミドジメチ
ルアセタールを約１時間かけて留去した。留出物がなく
なった後、１５０℃にし、無水酢酸１００ｍｌを少しづ
つ加え、留出温度約９０℃前後の留出物を留去させた。
得られた反応液を室温まで冷却し、ジエチルエーテルを
加え、有機層を食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、下記
の物性を有する１，２：３，４‐ビス（ジメチルメチレ
ンジオキシ）‐５‐ヘキセンを６０．７ｇ得た（収率５
４％）。
【００６４】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣl4）
δ：５．９０（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．７，１０．２，
１７．２Ｈｚ）、５．１３〜５．５２（ｍ，２Ｈ）、
４．３７（ｄｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝０．９，５．７，７．６
Ｈｚ）、３．８〜４．２（ｍ，３Ｈ）、３．７０（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６，７．６Ｈｚ）、１．４１（ｓ，
９Ｈ）、１．３４（ｓ，３Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ２９８４、２９３２、２８８０、１４５５、１３７８、
１２５０、１２１４、１１５４、１１２０、１０６５、
９９３、９２４、８４６、５１２ 旋光度 ［α］D＝４．１８°（ｃ＝２．００，ＣＨＣl3） 参考例 ２ ［３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５‐ヘキセ
ン‐１,２‐ジオールの合成］参考例１により得られた
１，２：３，４‐ビス（ジメチルメチレンジオキシ）‐
５‐ヘキセン３６．８ｇに氷酢酸３００ｍｌおよび水６
０ｍｌを加え、室温で１４時間撹拌した後、反応液を氷
の入った５０％水酸化ナトリウム水溶液５００ｍｌに少
しずつ加えた。生成した酢酸ナトリウムの結晶を濾過
し、結晶を塩化メチレンで洗浄した。有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、下記
の物性を有する３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）
‐５‐ヘキセン‐１,２‐ジオールを１３．５ｇ得た
（収率４４％）。
δ：５．９０（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．７，１０．２，
１７．２Ｈｚ）、５．１３〜５．５２（ｍ，２Ｈ）、
４．３７（ｄｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝０．９，５．７，７．６
Ｈｚ）、３．８〜４．２（ｍ，３Ｈ）、３．７０（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６，７．６Ｈｚ）、１．４１（ｓ，
９Ｈ）、１．３４（ｓ，３Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ２９８４、２９３２、２８８０、１４５５、１３７８、
１２５０、１２１４、１１５４、１１２０、１０６５、
９９３、９２４、８４６、５１２ 旋光度 ［α］D＝４．１８°（ｃ＝２．００，ＣＨＣl3） 参考例 ２ ［３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５‐ヘキセ
ン‐１,２‐ジオールの合成］参考例１により得られた
１，２：３，４‐ビス（ジメチルメチレンジオキシ）‐
５‐ヘキセン３６．８ｇに氷酢酸３００ｍｌおよび水６
０ｍｌを加え、室温で１４時間撹拌した後、反応液を氷
の入った５０％水酸化ナトリウム水溶液５００ｍｌに少
しずつ加えた。生成した酢酸ナトリウムの結晶を濾過
し、結晶を塩化メチレンで洗浄した。有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、下記
の物性を有する３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）
‐５‐ヘキセン‐１,２‐ジオールを１３．５ｇ得た
（収率４４％）。
【００６５】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣl4）
δ：５．９３（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．９，９．１，１
５．３Ｈｚ）、５．１７〜５．５２（ｍ，２Ｈ）、４．
４２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．９，６．４Ｈｚ）、３．５
〜３．９（ｍ，４Ｈ）、３．０〜３．４（ｂｒｓ，２
Ｈ）、１．４２（ｓ，６Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３４１４、２９８４、２９３０、２８７８、１７２７、
１６４５、１４５５、１４２８、１４０７、１３７１、
１２５０、１２１４、１１６８、１１２０、１０５５、
９２５、８７４、８１２、７７９、７３４、６６４、６
２１、５１１ 旋光度 ［α］D＝＋４．６６°（ｃ＝１．０７，ＣＨＣl3） 参考例 ３ ［３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐２‐ヒドロ
キシ‐５‐ヘキセン‐１‐イル ｐ‐トルエンスルホナ
ートの合成］３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐
５‐ヘキセン‐１，２‐ジオール９．７７ｇをピリジン
１５５ｍｌ、クロロホルム５２ｍｌと混合し、０℃で塩
化ｐ‐トルエンスルホニル１１．３９ｇを４回に分けて
少しずつ加えた。０℃で６時間撹拌し、氷の入った６Ｎ
の塩酸にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を
飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、下記の物性を有
する３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐２‐ヒド
ロキシ‐５‐ヘキセン‐１‐イル） ｐ‐トルエンスル
ホナートを１７．８８ｇ得た。
δ：５．９３（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．９，９．１，１
５．３Ｈｚ）、５．１７〜５．５２（ｍ，２Ｈ）、４．
４２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．９，６．４Ｈｚ）、３．５
〜３．９（ｍ，４Ｈ）、３．０〜３．４（ｂｒｓ，２
Ｈ）、１．４２（ｓ，６Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３４１４、２９８４、２９３０、２８７８、１７２７、
１６４５、１４５５、１４２８、１４０７、１３７１、
１２５０、１２１４、１１６８、１１２０、１０５５、
９２５、８７４、８１２、７７９、７３４、６６４、６
２１、５１１ 旋光度 ［α］D＝＋４．６６°（ｃ＝１．０７，ＣＨＣl3） 参考例 ３ ［３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐２‐ヒドロ
キシ‐５‐ヘキセン‐１‐イル ｐ‐トルエンスルホナ
ートの合成］３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐
５‐ヘキセン‐１，２‐ジオール９．７７ｇをピリジン
１５５ｍｌ、クロロホルム５２ｍｌと混合し、０℃で塩
化ｐ‐トルエンスルホニル１１．３９ｇを４回に分けて
少しずつ加えた。０℃で６時間撹拌し、氷の入った６Ｎ
の塩酸にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を
飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、下記の物性を有
する３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐２‐ヒド
ロキシ‐５‐ヘキセン‐１‐イル） ｐ‐トルエンスル
ホナートを１７．８８ｇ得た。
【００６６】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣl4）
δ：７．８０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．３５
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、５．８７（ｄｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝６．４，８．９，１７．３Ｈｚ）、５．１５〜
５．４９（ｍ，２Ｈ）、３．５８〜４．５０（ｍ，５
Ｈ）、２．４５（ｓ，３Ｈ）、１．３７（ｓ，６Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３５０８、３０８４、３０６４、２９８４、２９３２、
２８８２、１６４７、１５９７、１４９４、１４５３、
１３６９、１３０８、１２９１、１２１３、１１７４、
１１１８、１０９６、１０６３、９８０、９３０、８９
６、８７３、８３４、８１４、６９１、６６４、５５
２、５１４ 参考例 ４ １，２‐エポキシ‐３，４‐（ジメチルメチレンジオキ
シ）‐５‐ヘキセンの合成］３，４‐（ジメチルメチレ
ンジオキシ）‐２‐ヒドロキシ‐５‐ヘキセン‐１‐イ
ル ｐ‐トルエンスルホナート１７．８８ｇをメタノー
ル８０ｍｌに溶解し、室温で無水炭酸ナトリウム１７．
１１ｇを加えて１５分間撹拌した。反応液をセライトを
通して濾過し、ジエチルエーテルで結晶を洗浄した。濾
液を濃縮した後、シリカゲルカラムを通して固形物を除
去した。減圧下に濃縮し、下記の物性を有する１，２‐
エポキシ‐３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５
‐ヘキセンを７．８７ｇを得た。
δ：７．８０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．３５
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、５．８７（ｄｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝６．４，８．９，１７．３Ｈｚ）、５．１５〜
５．４９（ｍ，２Ｈ）、３．５８〜４．５０（ｍ，５
Ｈ）、２．４５（ｓ，３Ｈ）、１．３７（ｓ，６Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３５０８、３０８４、３０６４、２９８４、２９３２、
２８８２、１６４７、１５９７、１４９４、１４５３、
１３６９、１３０８、１２９１、１２１３、１１７４、
１１１８、１０９６、１０６３、９８０、９３０、８９
６、８７３、８３４、８１４、６９１、６６４、５５
２、５１４ 参考例 ４ １，２‐エポキシ‐３，４‐（ジメチルメチレンジオキ
シ）‐５‐ヘキセンの合成］３，４‐（ジメチルメチレ
ンジオキシ）‐２‐ヒドロキシ‐５‐ヘキセン‐１‐イ
ル ｐ‐トルエンスルホナート１７．８８ｇをメタノー
ル８０ｍｌに溶解し、室温で無水炭酸ナトリウム１７．
１１ｇを加えて１５分間撹拌した。反応液をセライトを
通して濾過し、ジエチルエーテルで結晶を洗浄した。濾
液を濃縮した後、シリカゲルカラムを通して固形物を除
去した。減圧下に濃縮し、下記の物性を有する１，２‐
エポキシ‐３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５
‐ヘキセンを７．８７ｇを得た。
【００６７】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣl4）
δ：５．９０（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．７，９．８，１
７．２Ｈｚ）、５．２〜５．５２（ｍ，２Ｈ）、４．３
６（ｄｄ，１Ｈ、Ｊ＝５．４，６．７Ｈｚ）、３．６１
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．１，５．４Ｈｚ）、３．０９
（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６，４．１，４．９Ｈｚ）、
２．８３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．１，４．９Ｈｚ）、
２．７０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６，４．９Ｈｚ）、
１．４４（ｓ，６Ｈｚ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３５２０、２９８４、２９２８、１７２５、１６５９、
１５９７、１４９４、１４５４、１３５８、１３０６、
１２９０、１２５０、１２１２、１１８８、１１７６、
１１２０、１０９５、１０７１、１００３、９１９、８
７６、８３６、８１６、７７８、７１３、６９０、６６
３、５７１、５５４ 参考例 ５ ［４，５‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐３‐ヒドロ
キシ‐６‐ヘプテンニトリルの合成］飽和硫酸マグネシ
ウム水溶液５０ｍｌを１０℃に冷却し、シアン化ナトリ
ウム１０．２３ｇを発熱させないように少しずつ加え
た。１０℃で４５分間撹拌した後、１，２‐エポキシ‐
３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５‐ヘキセン
７．６１ｇをメタノール３０ｍｌに溶解し、発熱しない
程度に少しずつ加えた。室温で２時間撹拌した後、反応
液を酢酸エチルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製
し、下記の物性を有する４，５‐（ジメチルメチレンジ
オキシ）‐３‐ヒドロキシ‐６‐ヘプテンニトリルを
２．１１ｇ得た。
δ：５．９０（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．７，９．８，１
７．２Ｈｚ）、５．２〜５．５２（ｍ，２Ｈ）、４．３
６（ｄｄ，１Ｈ、Ｊ＝５．４，６．７Ｈｚ）、３．６１
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．１，５．４Ｈｚ）、３．０９
（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６，４．１，４．９Ｈｚ）、
２．８３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．１，４．９Ｈｚ）、
２．７０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６，４．９Ｈｚ）、
１．４４（ｓ，６Ｈｚ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３５２０、２９８４、２９２８、１７２５、１６５９、
１５９７、１４９４、１４５４、１３５８、１３０６、
１２９０、１２５０、１２１２、１１８８、１１７６、
１１２０、１０９５、１０７１、１００３、９１９、８
７６、８３６、８１６、７７８、７１３、６９０、６６
３、５７１、５５４ 参考例 ５ ［４，５‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐３‐ヒドロ
キシ‐６‐ヘプテンニトリルの合成］飽和硫酸マグネシ
ウム水溶液５０ｍｌを１０℃に冷却し、シアン化ナトリ
ウム１０．２３ｇを発熱させないように少しずつ加え
た。１０℃で４５分間撹拌した後、１，２‐エポキシ‐
３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５‐ヘキセン
７．６１ｇをメタノール３０ｍｌに溶解し、発熱しない
程度に少しずつ加えた。室温で２時間撹拌した後、反応
液を酢酸エチルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製
し、下記の物性を有する４，５‐（ジメチルメチレンジ
オキシ）‐３‐ヒドロキシ‐６‐ヘプテンニトリルを
２．１１ｇ得た。
【００６８】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣl4）
δ：５．９４（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６，１０．７，
１８．３Ｈｚ）、５．２５〜５．５５（ｍ，２Ｈ）、
４．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６，８．０Ｈｚ）、
４．０８（ｍ，１Ｈ）、３．７６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
５．８，７．７Ｈｚ）、２．６４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．
９Ｈｚ）、２．６３（ｄ，１Ｈ，６．４Ｈｚ）、２．４
６（ｂｒｓ，１Ｈ）、１．４２（ｓ，６Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３４４６、３０８６、２９８６、２９３４、２９８２、
２２５０、１６４５、１４５６、１４１１、１３７２、
１２１５、１１６８、１１２１、１０６８、９９１、９
３３、８７３、８１０、５１１ 参考例 ６ ［４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−メトキ
シメトキシ−６−ヘプテンニトリルの合成］４，５−
（ジメチルメチレンジオキシ）−３−ヒドロキシ−６−
ヘプテンニトリル２．１１ｇにジイソプロピルエチルア
ミン９ｍｌを加え、ついで０℃でメトキシメチルクロリ
ド２ｍｌを少しずつ加えた。０℃で１６時間撹拌した
後、ジエチルエーテル３００ｍｌで希釈し、１Ｎ塩酸、
飽和重曹水、食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧下に濃縮し、得られた残渣をシリカ
ゲルカラムで濾過して下記の物性を有する４，５−（ジ
メチルメチレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６
−ヘプテンニトリルを２．２８ｇ得た（収率８８％）。
δ：５．９４（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６，１０．７，
１８．３Ｈｚ）、５．２５〜５．５５（ｍ，２Ｈ）、
４．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６，８．０Ｈｚ）、
４．０８（ｍ，１Ｈ）、３．７６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
５．８，７．７Ｈｚ）、２．６４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．
９Ｈｚ）、２．６３（ｄ，１Ｈ，６．４Ｈｚ）、２．４
６（ｂｒｓ，１Ｈ）、１．４２（ｓ，６Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３４４６、３０８６、２９８６、２９３４、２９８２、
２２５０、１６４５、１４５６、１４１１、１３７２、
１２１５、１１６８、１１２１、１０６８、９９１、９
３３、８７３、８１０、５１１ 参考例 ６ ［４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−メトキ
シメトキシ−６−ヘプテンニトリルの合成］４，５−
（ジメチルメチレンジオキシ）−３−ヒドロキシ−６−
ヘプテンニトリル２．１１ｇにジイソプロピルエチルア
ミン９ｍｌを加え、ついで０℃でメトキシメチルクロリ
ド２ｍｌを少しずつ加えた。０℃で１６時間撹拌した
後、ジエチルエーテル３００ｍｌで希釈し、１Ｎ塩酸、
飽和重曹水、食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧下に濃縮し、得られた残渣をシリカ
ゲルカラムで濾過して下記の物性を有する４，５−（ジ
メチルメチレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６
−ヘプテンニトリルを２．２８ｇ得た（収率８８％）。
【００６９】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ4）δ：５．９３（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．３， １
０．２， １７．３Ｈｚ），５．１６〜５．５２（ｍ，
２Ｈ），４．７４（ｓ，２Ｈ），４．３５（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝６．６， ７．３ＨZ），３．７８〜４．００
（ｍ，２Ｈ），３．４５（ｓ，３Ｈ），２．６０〜２．
８０（ｍ，２Ｈ），１．４２（ｓ，６Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ２９８６，２９３４，２８９６，２８２６，２２４８，
１６４４，１４５５，１４１４，１３８０，１３７２，
１２４５，１２１６，１１５４，１１０６，１０６２，
１０３９，９９２，９２０，８７５，８０９，５１２ 参考例 ７ ［４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−メトキ
シメトキシ−６−ヘプテナールオキシムの合成］４，５
−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−メトキシメトキ
シ−６−ヘプテンニトリル１５９.８ｍｇを乾燥トルエ
ンに溶解し、−７８℃にて０．５Ｎ−水素化ジイソプロ
ピルアルミニウム１．６ｍｌを加えた。−７８℃で２時
間撹拌し、−４０℃で３０分間撹拌し、ついで０℃にて
５％希硫酸を少しずつ加えた。反応液をジエチルエーテ
ルで希釈し、有機層を食塩水で洗浄した。無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、４，５−（ジ
メチルメチレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６
−ヘプテナールを９１．１ｍｇ得た。
ｌ4）δ：５．９３（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．３， １
０．２， １７．３Ｈｚ），５．１６〜５．５２（ｍ，
２Ｈ），４．７４（ｓ，２Ｈ），４．３５（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝６．６， ７．３ＨZ），３．７８〜４．００
（ｍ，２Ｈ），３．４５（ｓ，３Ｈ），２．６０〜２．
８０（ｍ，２Ｈ），１．４２（ｓ，６Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ２９８６，２９３４，２８９６，２８２６，２２４８，
１６４４，１４５５，１４１４，１３８０，１３７２，
１２４５，１２１６，１１５４，１１０６，１０６２，
１０３９，９９２，９２０，８７５，８０９，５１２ 参考例 ７ ［４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−メトキ
シメトキシ−６−ヘプテナールオキシムの合成］４，５
−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−メトキシメトキ
シ−６−ヘプテンニトリル１５９.８ｍｇを乾燥トルエ
ンに溶解し、−７８℃にて０．５Ｎ−水素化ジイソプロ
ピルアルミニウム１．６ｍｌを加えた。−７８℃で２時
間撹拌し、−４０℃で３０分間撹拌し、ついで０℃にて
５％希硫酸を少しずつ加えた。反応液をジエチルエーテ
ルで希釈し、有機層を食塩水で洗浄した。無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、４，５−（ジ
メチルメチレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６
−ヘプテナールを９１．１ｍｇ得た。
【００７０】上記により得られた４，５−（ジメチルメ
チレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプテ
ナール９１．９ｍｇをピリジン１ｍｌに溶解し、室温で
ヒドロキシルアミン塩酸塩４５ｍｇを加えた。室温で８
時間撹拌し、得られた反応液をジエチルエーテルで希釈
した。反応液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した、得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することによ
り、下記の物性を有する４，５−（ジメチルメチレンジ
オキシ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプテナールオ
キシムを８９．５ｍｇ得た（収率５２％）。
チレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプテ
ナール９１．９ｍｇをピリジン１ｍｌに溶解し、室温で
ヒドロキシルアミン塩酸塩４５ｍｇを加えた。室温で８
時間撹拌し、得られた反応液をジエチルエーテルで希釈
した。反応液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した、得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することによ
り、下記の物性を有する４，５−（ジメチルメチレンジ
オキシ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプテナールオ
キシムを８９．５ｍｇ得た（収率５２％）。
【００７１】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
１4）δ：８．０２（ｂｒｓ，１Ｈ），７．６２（ｂ
ｓ，１Ｈ），７．４９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），
６．９３（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），５．６４〜
６．１０（ｍ，２Ｈ），５．１６〜５．００（ｍ４
Ｈ），４．５６〜４．９０（ｍ，４Ｈ），４．２４〜
４．４８（ｍ，２Ｈ），３．７２〜４．１０（ｍ，４
Ｈ），３．３９（ｓ，６Ｈ），２．６７（ｔ，２Ｈ，Ｊ
＝５．７Ｈｚ），２．５０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈ
ｚ），１．４２（ｓ，１２Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３３７９，３０８８，２９８４，２８９２，２８２６，
１７２７，１６４７，１４５３，１４２７，１３８０，
１３７１，１２４４，１２１４，１１５２，１１００，
１０３２，９９１，９２０，８７６，８１３，７０５，
６６５，５１２，４５３ 参考例 ８ ［４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ）−６−ヘプテンニトリル
の合成］４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−
ヒドロキシ−６−ヘプテンニトリル２．１１ｇとイミダ
ゾール２．０ｇおよび塩化メチレン５０ｍｌからなる溶
液に０℃でｔ−ブチルジメチルシリルクロリド２．０ｇ
を少しずつ加えた。室温で１６時間撹拌した後、ジエチ
ルエーテル３００ｍｌで希釈し、１Ｎ塩酸、飽和重曹
水、食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧下に濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィで精製して下記の物性を有する４，
５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−６−ヘプテンニトリルを２．
６３ｇ得た（収率７９％）。
１4）δ：８．０２（ｂｒｓ，１Ｈ），７．６２（ｂ
ｓ，１Ｈ），７．４９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），
６．９３（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），５．６４〜
６．１０（ｍ，２Ｈ），５．１６〜５．００（ｍ４
Ｈ），４．５６〜４．９０（ｍ，４Ｈ），４．２４〜
４．４８（ｍ，２Ｈ），３．７２〜４．１０（ｍ，４
Ｈ），３．３９（ｓ，６Ｈ），２．６７（ｔ，２Ｈ，Ｊ
＝５．７Ｈｚ），２．５０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈ
ｚ），１．４２（ｓ，１２Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３３７９，３０８８，２９８４，２８９２，２８２６，
１７２７，１６４７，１４５３，１４２７，１３８０，
１３７１，１２４４，１２１４，１１５２，１１００，
１０３２，９９１，９２０，８７６，８１３，７０５，
６６５，５１２，４５３ 参考例 ８ ［４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ）−６−ヘプテンニトリル
の合成］４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−
ヒドロキシ−６−ヘプテンニトリル２．１１ｇとイミダ
ゾール２．０ｇおよび塩化メチレン５０ｍｌからなる溶
液に０℃でｔ−ブチルジメチルシリルクロリド２．０ｇ
を少しずつ加えた。室温で１６時間撹拌した後、ジエチ
ルエーテル３００ｍｌで希釈し、１Ｎ塩酸、飽和重曹
水、食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧下に濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィで精製して下記の物性を有する４，
５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−６−ヘプテンニトリルを２．
６３ｇ得た（収率７９％）。
【００７２】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+３１１ 参考例 ９ ［４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ）−６−ヘプテナールオキ
シムの合成］参考例７において、４，５−（ジメチルメ
チレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプテ
ンニトリル１５９．８ｍｇのかわりに４，５−（ジメチ
ルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）−６−ヘプテンニトリル２０６．２ｍｇを用
いた以外は参考例７と同様に反応および分離精製を行う
ことにより、４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−
３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−６−ヘプテ
ナールオキシムを１６７ｍｇ得た（収率７７％）。
ブチルジメチルシリルオキシ）−６−ヘプテナールオキ
シムの合成］参考例７において、４，５−（ジメチルメ
チレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプテ
ンニトリル１５９．８ｍｇのかわりに４，５−（ジメチ
ルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）−６−ヘプテンニトリル２０６．２ｍｇを用
いた以外は参考例７と同様に反応および分離精製を行う
ことにより、４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−
３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−６−ヘプテ
ナールオキシムを１６７ｍｇ得た（収率７７％）。
【００７３】参考例１０ ［４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（１−
エトキシエトキシ）−６−ヘプテンニトリルの合成］窒
素雰囲気下、４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−
３−ヒドロキシ−６−ヘプテンニトリル３.５４ｇを塩
化メチレン５０mlに溶解し、氷冷下に触媒量のｐ−トル
エンスルホン酸ピリジニウム塩を加え、ついでエチルビ
ニルエーテル２.５７mlを滴下した。２時間撹拌したの
ち、反応液を飽和重曹水にあけ、ジエチルエーテルで抽
出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得
られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製
することにより、下記の物性を有する４,５−（ジメチ
ルメチレンジオキシ）−３−（１−エトキシエトキシ）
−６−ヘプテンニトリルを４.４１ｇを得た（収率９１
％）。
エトキシエトキシ）−６−ヘプテンニトリルの合成］窒
素雰囲気下、４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−
３−ヒドロキシ−６−ヘプテンニトリル３.５４ｇを塩
化メチレン５０mlに溶解し、氷冷下に触媒量のｐ−トル
エンスルホン酸ピリジニウム塩を加え、ついでエチルビ
ニルエーテル２.５７mlを滴下した。２時間撹拌したの
ち、反応液を飽和重曹水にあけ、ジエチルエーテルで抽
出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得
られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製
することにより、下記の物性を有する４,５−（ジメチ
ルメチレンジオキシ）−３−（１−エトキシエトキシ）
−６−ヘプテンニトリルを４.４１ｇを得た（収率９１
％）。
【００７４】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ4）δ：５.７−６.１（ｍ，１Ｈ），５.１−５.５
（ｍ，２Ｈ），４.９７，４.９０（ｑ，Ｊ＝５，１Ｈ
ｚ，１Ｈ），４.３５（ｑ，Ｊ＝６，２Ｈｚ，１Ｈ），
３.４−４.１（ｍ，２Ｈ），３.６０（ｑ，Ｊ＝６.９Ｈ
ｚ，２Ｈ），２.６−２.８（ｍ，２Ｈ），１.４２
（ｓ，６Ｈ），１.３４，１.３２（ｄ，Ｊ＝５.３Ｈ
ｚ，３Ｈ），１.２１（ｔ，Ｊ＝７，７Ｈｚ） 参考例１１ ［４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（１−
エトキシエトキシ）−６−ヘプテナールオキシムの合
成］４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（１
−エトキシエトキシ）−６−ヘプテンニトリル１.４０
ｇを乾燥トルエン１３mlに溶解し、−７８℃にて２Ｎ−
水素化ジイソブチルアルミニウム２.０mlを滴下した。
−７８℃で１００分間撹拌し、ついで０℃まで昇温した
のち、１０％希硫酸を少しずつ加えた。反応液をエーテ
ルで希釈し、有機層を食塩水で洗浄した。無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、４,５−（ジ
メチルメチレンジオキシ）−３−（１−エトキシエトキ
シ）−６−ヘプテナールを２.６１ｇ得た。
ｌ4）δ：５.７−６.１（ｍ，１Ｈ），５.１−５.５
（ｍ，２Ｈ），４.９７，４.９０（ｑ，Ｊ＝５，１Ｈ
ｚ，１Ｈ），４.３５（ｑ，Ｊ＝６，２Ｈｚ，１Ｈ），
３.４−４.１（ｍ，２Ｈ），３.６０（ｑ，Ｊ＝６.９Ｈ
ｚ，２Ｈ），２.６−２.８（ｍ，２Ｈ），１.４２
（ｓ，６Ｈ），１.３４，１.３２（ｄ，Ｊ＝５.３Ｈ
ｚ，３Ｈ），１.２１（ｔ，Ｊ＝７，７Ｈｚ） 参考例１１ ［４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（１−
エトキシエトキシ）−６−ヘプテナールオキシムの合
成］４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（１
−エトキシエトキシ）−６−ヘプテンニトリル１.４０
ｇを乾燥トルエン１３mlに溶解し、−７８℃にて２Ｎ−
水素化ジイソブチルアルミニウム２.０mlを滴下した。
−７８℃で１００分間撹拌し、ついで０℃まで昇温した
のち、１０％希硫酸を少しずつ加えた。反応液をエーテ
ルで希釈し、有機層を食塩水で洗浄した。無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、４,５−（ジ
メチルメチレンジオキシ）−３−（１−エトキシエトキ
シ）−６−ヘプテナールを２.６１ｇ得た。
【００７５】得られた４,５−（ジメチルメチレンジオ
キシ）−３−（１−エトキシエトキシ）−６−ヘプテナ
ールを窒素下でピリジン２mlに溶解し、０℃でヒドロキ
シルアミン塩酸塩４４２mgを加えた。室温で４時間撹拌
し、得られた反応液をエーテルで希釈した。反応液を飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
後、減圧下に濃縮することにより、４,５−（ジメチル
メチレンジオキシ）−３−（１−エトキシエトキシ）−
６−ヘプテナールオキシムを１.００ｇ得た。
キシ）−３−（１−エトキシエトキシ）−６−ヘプテナ
ールを窒素下でピリジン２mlに溶解し、０℃でヒドロキ
シルアミン塩酸塩４４２mgを加えた。室温で４時間撹拌
し、得られた反応液をエーテルで希釈した。反応液を飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
後、減圧下に濃縮することにより、４,５−（ジメチル
メチレンジオキシ）−３−（１−エトキシエトキシ）−
６−ヘプテナールオキシムを１.００ｇ得た。
【００７６】参考例１２ ［４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−
ブチルジフェニルシリルオキシ）−６−ヘプテンニトリ
ルの合成］参考例８において、ｔ−ブチルジメチルシリ
ルクロリド２.０ｇの代わりにｔ−ブチルジフェニルシ
リルクロリド３.６５ｇを用いた以外は参考例７と同様
に反応及び分離精製を行うことにより、４,５−（ジメ
チルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジフェニル
シリルオキシ）−６−ヘプテンニトリルを得た。
ブチルジフェニルシリルオキシ）−６−ヘプテンニトリ
ルの合成］参考例８において、ｔ−ブチルジメチルシリ
ルクロリド２.０ｇの代わりにｔ−ブチルジフェニルシ
リルクロリド３.６５ｇを用いた以外は参考例７と同様
に反応及び分離精製を行うことにより、４,５−（ジメ
チルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジフェニル
シリルオキシ）−６−ヘプテンニトリルを得た。
【００７７】参考例１３ ［４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−
ブチルジフェニルシリルオキシ）−６−ヘプテナールオ
キシムの合成］参考例７において、４,５−（ジメチル
メチレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプ
テンニトリル１５９.８mgの代わりに４,５−（ジメチル
メチレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジフェニルシリ
ルオキシ）−６−ヘプテンニトリル２８８mgを用いた以
外は参考例７と同様に反応及び分離精製を行うことによ
り、下記の物性を有する４,５−（ジメチルメチレンジ
オキシ）−３−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）
−６−ヘプテナールオキシムを２０５mg得た。
ブチルジフェニルシリルオキシ）−６−ヘプテナールオ
キシムの合成］参考例７において、４,５−（ジメチル
メチレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプ
テンニトリル１５９.８mgの代わりに４,５−（ジメチル
メチレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジフェニルシリ
ルオキシ）−６−ヘプテンニトリル２８８mgを用いた以
外は参考例７と同様に反応及び分離精製を行うことによ
り、下記の物性を有する４,５−（ジメチルメチレンジ
オキシ）−３−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）
−６−ヘプテナールオキシムを２０５mg得た。
【００７８】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+４５３ 実施例１ ４，５‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐３‐メトキシ
メトキシ‐６‐ヘプテナールオキシム８９．５ｍｇを塩
化メチレン４ｍｌに溶解し、０℃でトリエチルアミン
０.０３５ｍｌを加えた。０℃で１０％次亜塩素酸ナト
リウム水溶液２．６ｍｌを加え、０℃で５７時間撹拌し
た。反応液をジエチルエーテルで希釈し、飽和重曹水、
飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧下に濃縮した後、シリカゲルカラム
クロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を
有する４，５‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐６‐
（メトキシメトキシ）‐３，３ａ，４，５，６，７‐ヘ
キサヒドロ‐２，１‐ベンゾイソオキサゾールを５０．
０ｍｇを得た（収率５６％）。
メトキシ‐６‐ヘプテナールオキシム８９．５ｍｇを塩
化メチレン４ｍｌに溶解し、０℃でトリエチルアミン
０.０３５ｍｌを加えた。０℃で１０％次亜塩素酸ナト
リウム水溶液２．６ｍｌを加え、０℃で５７時間撹拌し
た。反応液をジエチルエーテルで希釈し、飽和重曹水、
飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧下に濃縮した後、シリカゲルカラム
クロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を
有する４，５‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐６‐
（メトキシメトキシ）‐３，３ａ，４，５，６，７‐ヘ
キサヒドロ‐２，１‐ベンゾイソオキサゾールを５０．
０ｍｇを得た（収率５６％）。
【００７９】1Ｈ‐ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，Ｃ
Ｃl4，ＴＭＳ） ４．７６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．１Ｈｚ）、４．６６
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．１Ｈｚ）、４．６３（ＡＢＸ，１
Ｈ，Ｊ＝８．５，１０．０Ｈｚ）、４．４１（ｄｄｄ，
１Ｈ，Ｊ＝２．３，２．４，３．３Ｈｚ）、４．１３
（ＡＢＸ，１Ｈ，Ｊ＝８．５，１０．０Ｈｚ）、３．９
８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．５，１０．０Ｈｚ）、３．６
３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３，９．５Ｈｚ）、３．５６
（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３，８．５，１０．０Ｈ
ｚ）、３．３９（ｓ，３Ｈ）、３．０５（ＡＢＸ，１
Ｈ，Ｊ＝２．４，１５．７Ｈｚ）、２．４１（ＡＢＸ
Ｙ，１Ｈ，Ｊ＝１．３，３．３，１５．７Ｈｚ）、１．
４５（ｓ，３Ｈ）、１．４４（ｓ，３Ｈ）13 Ｃ―ＮＭＲスペクトル（２２．５ＭＨｚ，ＣＣl4） １５４．７、１１１．４、９６．１、８０．６、７６．
２、６８．８、５５．６、５３．５、２９．６、２７．
０、２６．６ ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３５２２、２９８２、２９３２、２８９２、２８２４、
１７２０、１６３２、１４５５、１３８１、１３７１、
１３３３、１３０６、１２６６、１２３１、１１５１、
１０８９、１０３８、９８８、９１８、８７０、８３
２、７９４、７８０、６７２、５９０、５１８ 実施例２ ラネーニッケルＷ‐２（川研ファインケミカル株式会社
製、ＮＤＨＦ‐９０）５５０ｍｇを水、メタノールで１
回ずつデカンテーションした。ホウ酸４８ｍｇを加え、
アルゴン置換した後、水素で置換した。メタノール１．
５ｍｌおよび水０．３ｍｌを加えてホウ酸を溶解させ、
次いで４，５‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐６‐
（メトキシメトキシ）‐３，３ａ，４，５，６，７‐ヘ
キサヒドロ‐２，１‐ベンゾイソオキサゾール８０ｍｇ
をメタノール３．５ｍｌに溶解して得られた溶液を室温
にて加え、５時間撹拌した。反応液をジエチルエーテル
で希釈し、フロリジルを通して濾過した。濾液を飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧
下に溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有
する２‐ヒドロキシメチル‐３，４‐ジメチルメチレン
ジオキシ）‐５‐（メトキシメトキシ）シクロヘキサノ
ン４９ｍｇを得た（収率６１％）。
Ｃl4，ＴＭＳ） ４．７６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．１Ｈｚ）、４．６６
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．１Ｈｚ）、４．６３（ＡＢＸ，１
Ｈ，Ｊ＝８．５，１０．０Ｈｚ）、４．４１（ｄｄｄ，
１Ｈ，Ｊ＝２．３，２．４，３．３Ｈｚ）、４．１３
（ＡＢＸ，１Ｈ，Ｊ＝８．５，１０．０Ｈｚ）、３．９
８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．５，１０．０Ｈｚ）、３．６
３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３，９．５Ｈｚ）、３．５６
（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３，８．５，１０．０Ｈ
ｚ）、３．３９（ｓ，３Ｈ）、３．０５（ＡＢＸ，１
Ｈ，Ｊ＝２．４，１５．７Ｈｚ）、２．４１（ＡＢＸ
Ｙ，１Ｈ，Ｊ＝１．３，３．３，１５．７Ｈｚ）、１．
４５（ｓ，３Ｈ）、１．４４（ｓ，３Ｈ）13 Ｃ―ＮＭＲスペクトル（２２．５ＭＨｚ，ＣＣl4） １５４．７、１１１．４、９６．１、８０．６、７６．
２、６８．８、５５．６、５３．５、２９．６、２７．
０、２６．６ ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３５２２、２９８２、２９３２、２８９２、２８２４、
１７２０、１６３２、１４５５、１３８１、１３７１、
１３３３、１３０６、１２６６、１２３１、１１５１、
１０８９、１０３８、９８８、９１８、８７０、８３
２、７９４、７８０、６７２、５９０、５１８ 実施例２ ラネーニッケルＷ‐２（川研ファインケミカル株式会社
製、ＮＤＨＦ‐９０）５５０ｍｇを水、メタノールで１
回ずつデカンテーションした。ホウ酸４８ｍｇを加え、
アルゴン置換した後、水素で置換した。メタノール１．
５ｍｌおよび水０．３ｍｌを加えてホウ酸を溶解させ、
次いで４，５‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐６‐
（メトキシメトキシ）‐３，３ａ，４，５，６，７‐ヘ
キサヒドロ‐２，１‐ベンゾイソオキサゾール８０ｍｇ
をメタノール３．５ｍｌに溶解して得られた溶液を室温
にて加え、５時間撹拌した。反応液をジエチルエーテル
で希釈し、フロリジルを通して濾過した。濾液を飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧
下に溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有
する２‐ヒドロキシメチル‐３，４‐ジメチルメチレン
ジオキシ）‐５‐（メトキシメトキシ）シクロヘキサノ
ン４９ｍｇを得た（収率６１％）。
【００８０】1Ｈ‐ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，Ｃ
Ｃl4，ＴＭＳ） ４.５２‐４．８８（ｍ，２Ｈ）、４．３８‐４．５０
（ｍ，１Ｈ）、３．８０‐４．３０（ｍ，４Ｈ）、３．
３６（ｓ，３Ｈ）、２．３２‐２．８８（ｍ，４Ｈ）、
１．５０（ｓ，３Ｈ），１．４６（ｓ，３Ｈ）13 Ｃ‐ＮＭＲスペクトル（２２．５ＭＨｚ，ＣＣl4） ２０７．８、１１２．３、９６．２、８０．４、７２．
８、６８．７、５９．５、５６．６、５５．６、４６．
０、２７．２、２６．６、１４．７ ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３４９４、２９８２、２９３０、２８９２、１７１３、
１６４４、１４５５、１３８３、１３７１、１３２５、
１２２８、１１６９、１１５０、１１００、１０３８、
９９９、９１８、８５１、８０３、７８７、６９３、５
２７、５０６、４３９ 旋光度 ［α］D＝−７．３５°（ｃ＝０．１４，ＣＨＣl3） 実施例３ ２‐ヒドロキシメチル‐３，４‐（ジメチルメチレンジ
オキシ）‐５‐（メトキシメトキシ）シクロヘキサノン
２２ｍｇにピリジン０．５ｍｌを加え、次いで０℃で塩
化メタンスルホニル０．１ｍｌを加えて２時間撹拌し
た。反応液を冷希塩酸にあけ、ジエチルエーテルで抽出
した。抽出液を飽和重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄し
た。無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
で精製することにより、下記の物性を有する２‐メチレ
ン‐３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５‐（メ
トキシメトキシ）シクロヘキサノン１．８ｍｇを得た
（収率８．８％）。
Ｃl4，ＴＭＳ） ４.５２‐４．８８（ｍ，２Ｈ）、４．３８‐４．５０
（ｍ，１Ｈ）、３．８０‐４．３０（ｍ，４Ｈ）、３．
３６（ｓ，３Ｈ）、２．３２‐２．８８（ｍ，４Ｈ）、
１．５０（ｓ，３Ｈ），１．４６（ｓ，３Ｈ）13 Ｃ‐ＮＭＲスペクトル（２２．５ＭＨｚ，ＣＣl4） ２０７．８、１１２．３、９６．２、８０．４、７２．
８、６８．７、５９．５、５６．６、５５．６、４６．
０、２７．２、２６．６、１４．７ ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３４９４、２９８２、２９３０、２８９２、１７１３、
１６４４、１４５５、１３８３、１３７１、１３２５、
１２２８、１１６９、１１５０、１１００、１０３８、
９９９、９１８、８５１、８０３、７８７、６９３、５
２７、５０６、４３９ 旋光度 ［α］D＝−７．３５°（ｃ＝０．１４，ＣＨＣl3） 実施例３ ２‐ヒドロキシメチル‐３，４‐（ジメチルメチレンジ
オキシ）‐５‐（メトキシメトキシ）シクロヘキサノン
２２ｍｇにピリジン０．５ｍｌを加え、次いで０℃で塩
化メタンスルホニル０．１ｍｌを加えて２時間撹拌し
た。反応液を冷希塩酸にあけ、ジエチルエーテルで抽出
した。抽出液を飽和重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄し
た。無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
で精製することにより、下記の物性を有する２‐メチレ
ン‐３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５‐（メ
トキシメトキシ）シクロヘキサノン１．８ｍｇを得た
（収率８．８％）。
【００８１】ＮＭＲスペクトル（５００ＭＨｚ，ＣＣ
l4，ＴＭＳ） ５．９５６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２５，２．７５Ｈ
ｚ）、５．４９７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２５，２．７
５Ｈｚ）、４．８８８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．７５，１
０．０８Ｈｚ）、４．８３１（ＡＢ，１Ｈ，Ｊ＝６．６
５ＨＺ）、４．６９３（ＡＢ，１Ｈ，Ｊ＝６．６５Ｈ
ｚ）、４．４５６（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３７，２．
２９，１８．１９Ｈｚ）、３．８１６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ
＝２．２９，１０．０８Ｈｚ）、３．３８７（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝０．９１Ｈｚ）、２．８１４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ
＝１．３７，１８．７８Ｈｚ）、２．６１２（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝５．０４，１８．７８Ｈｚ）、１．５２２
（ｓ，３Ｈ）、１．５０７（ｓ，３Ｈ）ＩＲスペクトル
（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ２９８４、２９２８、１７０２、１６３６、１４５４、
１３８０、１３７２、１２３２、１１５４、１１４３、
１１０３、１０６４、１０３８、１００３、９７７、９
４６、９１９、８６０、８３８、８０６ 実施例４ （１） 窒素雰囲気下、２‐ヒドロキシメチル‐３，４
‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５‐（メトキシメト
キシ）シクロヘキサノン５６．５ｍｇおよびジエチルホ
スホニル酢酸１１２．３ｍｇを乾燥ジエチルエーテル５
ｍｌに溶解した。この溶液に０℃でＮ，Ｎ′‐ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド８７．９ｍｇを加え、１時間撹
拌した。反応液を酢酸エチルで希釈した。飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に濃
縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィで精製することにより、下記の物性を有する（５，６
‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐４‐メトキシメトキ
シ‐２‐オキソシクロヘキシル）メチル ジエチルホス
ホニルアセテートを１０８．２ｍｇを得た（収率１００
％）。
l4，ＴＭＳ） ５．９５６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２５，２．７５Ｈ
ｚ）、５．４９７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２５，２．７
５Ｈｚ）、４．８８８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．７５，１
０．０８Ｈｚ）、４．８３１（ＡＢ，１Ｈ，Ｊ＝６．６
５ＨＺ）、４．６９３（ＡＢ，１Ｈ，Ｊ＝６．６５Ｈ
ｚ）、４．４５６（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３７，２．
２９，１８．１９Ｈｚ）、３．８１６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ
＝２．２９，１０．０８Ｈｚ）、３．３８７（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝０．９１Ｈｚ）、２．８１４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ
＝１．３７，１８．７８Ｈｚ）、２．６１２（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝５．０４，１８．７８Ｈｚ）、１．５２２
（ｓ，３Ｈ）、１．５０７（ｓ，３Ｈ）ＩＲスペクトル
（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ２９８４、２９２８、１７０２、１６３６、１４５４、
１３８０、１３７２、１２３２、１１５４、１１４３、
１１０３、１０６４、１０３８、１００３、９７７、９
４６、９１９、８６０、８３８、８０６ 実施例４ （１） 窒素雰囲気下、２‐ヒドロキシメチル‐３，４
‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５‐（メトキシメト
キシ）シクロヘキサノン５６．５ｍｇおよびジエチルホ
スホニル酢酸１１２．３ｍｇを乾燥ジエチルエーテル５
ｍｌに溶解した。この溶液に０℃でＮ，Ｎ′‐ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド８７．９ｍｇを加え、１時間撹
拌した。反応液を酢酸エチルで希釈した。飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に濃
縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィで精製することにより、下記の物性を有する（５，６
‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐４‐メトキシメトキ
シ‐２‐オキソシクロヘキシル）メチル ジエチルホス
ホニルアセテートを１０８．２ｍｇを得た（収率１００
％）。
【００８２】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣl4）
δ：４．８０（ＡＢ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）、４．６
３（ＡＢ，１Ｈ，Ｊ＝６.８Ｈｚ）、４．０‐４．５
（ｍ，９Ｈ）、３．３６（ｓ，３Ｈ）、２．９７（ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝２１．５Ｈｚ）、２．４‐３．０（ｍ，３
Ｈ）、１．１‐１．６（ｍ，１２Ｈ）、 ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ２９８２、２９３２、２６２８、２５２４、１７３７、
１６６６、１４７６、１４４５、１３７１、１２４０、
１１６３、１１００、１０２７、９７２、９１７、８４
５、７８７、６８８、６０１、５０５、４３９ （２） 窒素雰囲気下、（５，６‐（ジメチルメチレン
ジオキシ）‐４‐メトキシメトキシ‐２‐オキソシクロ
ヘキシル）メチル ジエチルホスホニルアセテート１
３．６ｍｇをアセトニトリル１ｍｌに溶解し、０℃で塩
化リチウム８．４ｍｇ次いでジイソプロピルエチルアミ
ン６μｌを加え、室温で１０時間撹拌した。反応液を酢
酸エチルで希釈した後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製すること
により、下記の物性を有する１，５，６，７，８，８ａ
‐ヘキサヒドロ‐７，８‐（ジメチルメチレンジオキ
シ）‐６‐メトキシメトキシ‐３Ｈ‐２‐ベンゾピラン
‐３‐オン２．１ｍｇを得た（収率２３％）。
δ：４．８０（ＡＢ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）、４．６
３（ＡＢ，１Ｈ，Ｊ＝６.８Ｈｚ）、４．０‐４．５
（ｍ，９Ｈ）、３．３６（ｓ，３Ｈ）、２．９７（ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝２１．５Ｈｚ）、２．４‐３．０（ｍ，３
Ｈ）、１．１‐１．６（ｍ，１２Ｈ）、 ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ２９８２、２９３２、２６２８、２５２４、１７３７、
１６６６、１４７６、１４４５、１３７１、１２４０、
１１６３、１１００、１０２７、９７２、９１７、８４
５、７８７、６８８、６０１、５０５、４３９ （２） 窒素雰囲気下、（５，６‐（ジメチルメチレン
ジオキシ）‐４‐メトキシメトキシ‐２‐オキソシクロ
ヘキシル）メチル ジエチルホスホニルアセテート１
３．６ｍｇをアセトニトリル１ｍｌに溶解し、０℃で塩
化リチウム８．４ｍｇ次いでジイソプロピルエチルアミ
ン６μｌを加え、室温で１０時間撹拌した。反応液を酢
酸エチルで希釈した後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製すること
により、下記の物性を有する１，５，６，７，８，８ａ
‐ヘキサヒドロ‐７，８‐（ジメチルメチレンジオキ
シ）‐６‐メトキシメトキシ‐３Ｈ‐２‐ベンゾピラン
‐３‐オン２．１ｍｇを得た（収率２３％）。
【００８３】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣl4）
δ：５．９（ｂｒｓ，１Ｈ）、３．０‐５．０（ｍ，１
０Ｈ）、２．０‐３．０（ｍ，３Ｈ）、１．３‐１．５
（ｍ，６Ｈ） 実施例５ アルゴン雰囲気下、１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒド
ロ−７,８−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−メト
キシメトキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オン２.
１mgのトルエン０.５ml溶液に、−７８℃で水素化ジイ
ソブチルアルミニウム（０.５Ｎトルエン溶液）１８μ
ｌを加え、２時間撹拌した。０℃まで昇温した後、ジエ
チルエーテルで希釈し、飽和硫酸ナトリウム水溶液を白
色沈殿が出るまで加えた。得られた反応液に酢酸エチル
を加え、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィで精製することによ
り、下記の物性を有する１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサ
ヒドロ−７,８−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−
メトキシメトキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オー
ル３.８mgを得た(収率１００％）。
δ：５．９（ｂｒｓ，１Ｈ）、３．０‐５．０（ｍ，１
０Ｈ）、２．０‐３．０（ｍ，３Ｈ）、１．３‐１．５
（ｍ，６Ｈ） 実施例５ アルゴン雰囲気下、１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒド
ロ−７,８−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−メト
キシメトキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オン２.
１mgのトルエン０.５ml溶液に、−７８℃で水素化ジイ
ソブチルアルミニウム（０.５Ｎトルエン溶液）１８μ
ｌを加え、２時間撹拌した。０℃まで昇温した後、ジエ
チルエーテルで希釈し、飽和硫酸ナトリウム水溶液を白
色沈殿が出るまで加えた。得られた反応液に酢酸エチル
を加え、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィで精製することによ
り、下記の物性を有する１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサ
ヒドロ−７,８−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−
メトキシメトキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オー
ル３.８mgを得た(収率１００％）。
【００８４】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ、ＣＣ
ｌ4）δ：５.６２（ｂｒｓ，１Ｈ）、５.２２（ｂｒ
ｓ，１Ｈ）、４.５−４.８（ｍ，２Ｈ）、３.０−４.５
（ｍ，６Ｈ）、３.３（ｓ，３Ｈ）、１.８−２.７
（ｍ，３Ｈ）、１.４（ｓ，６Ｈ） 実施例６ １,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒドロ−７,８−（ジメチ
ルメチレンジオキシ）−６−メトキシメトキシ−３Ｈ−
２−ベンゾピラン−３−オール３.８mgを乾燥メタノー
ル０.６mlに溶解し、室温で触媒量のｐ−トルエンスル
ホン酸を加えた。室温で２時間撹拌した後、トリエチル
アミンを加え、減圧下水冷しながら濃縮した。得られた
残渣を短いシリカゲルカラムを通して精製することによ
り、下記の物性を有する１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサ
ヒドロ−６−メトキシメトキシ−３−メトキシ−３Ｈ−
２−ベンゾピラン−７,８−ジオール１.３mgを得た（収
率６８％）。
ｌ4）δ：５.６２（ｂｒｓ，１Ｈ）、５.２２（ｂｒ
ｓ，１Ｈ）、４.５−４.８（ｍ，２Ｈ）、３.０−４.５
（ｍ，６Ｈ）、３.３（ｓ，３Ｈ）、１.８−２.７
（ｍ，３Ｈ）、１.４（ｓ，６Ｈ） 実施例６ １,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒドロ−７,８−（ジメチ
ルメチレンジオキシ）−６−メトキシメトキシ−３Ｈ−
２−ベンゾピラン−３−オール３.８mgを乾燥メタノー
ル０.６mlに溶解し、室温で触媒量のｐ−トルエンスル
ホン酸を加えた。室温で２時間撹拌した後、トリエチル
アミンを加え、減圧下水冷しながら濃縮した。得られた
残渣を短いシリカゲルカラムを通して精製することによ
り、下記の物性を有する１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサ
ヒドロ−６−メトキシメトキシ−３−メトキシ−３Ｈ−
２−ベンゾピラン−７,８−ジオール１.３mgを得た（収
率６８％）。
【００８５】ＮＭＲスペクトル（３００ＭＨｚ、ＣＣｌ
4）δ：５.０−５.６６（ｍ，２Ｈ）、４.５５−４.８
５（ｍ，２Ｈ）、３.１５−４.２５（ｍ，８Ｈ）、３.
３９−３.４３（ｍ，６Ｈ）、１.９５−２.８０（ｍ，
４Ｈ）実施例７ １,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒドロ−７,８−（ジメチ
ルメチレンジオキシ）−６−メトキシメトキシ−３Ｈ−
２−ベンゾピラン−３−オン２８.４mgをメタノール５m
lに溶解し、６Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液０.１mlを氷
冷下に加え、室温で２時間撹拌した。反応液をジエチル
エーテルで希釈し、氷冷下に希塩酸を加えて中和した。
有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。この溶液にジアゾメタンを吹き込み、過剰のジ
アゾメタンを留去した後、減圧下に溶媒を留去し、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、
下記の物性を有する（２−ヒドロキシメチル−３,４−
（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメトキ
シ）シクロヘキシリデン酢酸メチルを２５.４mg得た
（収率８０％）。
4）δ：５.０−５.６６（ｍ，２Ｈ）、４.５５−４.８
５（ｍ，２Ｈ）、３.１５−４.２５（ｍ，８Ｈ）、３.
３９−３.４３（ｍ，６Ｈ）、１.９５−２.８０（ｍ，
４Ｈ）実施例７ １,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒドロ−７,８−（ジメチ
ルメチレンジオキシ）−６−メトキシメトキシ−３Ｈ−
２−ベンゾピラン−３−オン２８.４mgをメタノール５m
lに溶解し、６Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液０.１mlを氷
冷下に加え、室温で２時間撹拌した。反応液をジエチル
エーテルで希釈し、氷冷下に希塩酸を加えて中和した。
有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。この溶液にジアゾメタンを吹き込み、過剰のジ
アゾメタンを留去した後、減圧下に溶媒を留去し、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、
下記の物性を有する（２−ヒドロキシメチル−３,４−
（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメトキ
シ）シクロヘキシリデン酢酸メチルを２５.４mg得た
（収率８０％）。
【００８６】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+２８４ 実施例８ （２−ヒドロキシメチル−３,４−（ジメチルメチレン
ジオキシ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデ
ン酢酸メチル３１.６mgおよびｏ−ニトロベンゼンセレ
ネニルシアニド２７.２mgをテトラヒドロフラン５mlに
溶解し、トリブチルホスフィン２４.２mgをテトラヒド
ロフラン５mlに溶解して得られた溶液を加え、室温で１
時間撹拌した。反応液を減圧下に濃縮し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィで精製することにより、（２−
（ｏ−ニトロベンゼンセレネニルメチル−３,４−（ジ
メチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメトキシ）シ
クロヘキシリデン酢酸メチルを４４０mg得た。次いでこ
れをテトラヒドロフランに溶解し、氷冷下に３０％過酸
化水素水１滴（約０.０５ml）を滴下し、室温で３時間
撹拌した。得られた反応液をジエチルエーテルで希釈
し、チオ硫酸ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記
の物性を有する（２−メチレン−３,４−（ジメチルメ
チレンジオキシ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキ
シリデン酢酸メチルを１８８mg得た（収率６３％）。
ジオキシ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデ
ン酢酸メチル３１.６mgおよびｏ−ニトロベンゼンセレ
ネニルシアニド２７.２mgをテトラヒドロフラン５mlに
溶解し、トリブチルホスフィン２４.２mgをテトラヒド
ロフラン５mlに溶解して得られた溶液を加え、室温で１
時間撹拌した。反応液を減圧下に濃縮し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィで精製することにより、（２−
（ｏ−ニトロベンゼンセレネニルメチル−３,４−（ジ
メチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメトキシ）シ
クロヘキシリデン酢酸メチルを４４０mg得た。次いでこ
れをテトラヒドロフランに溶解し、氷冷下に３０％過酸
化水素水１滴（約０.０５ml）を滴下し、室温で３時間
撹拌した。得られた反応液をジエチルエーテルで希釈
し、チオ硫酸ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記
の物性を有する（２−メチレン−３,４−（ジメチルメ
チレンジオキシ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキ
シリデン酢酸メチルを１８８mg得た（収率６３％）。
【００８７】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+２９８ 実施例９ （２−メチレン−３，４−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデン酢酸
メチル２９．８ｍｇをトルエン５ｍｌに溶解し、−７８
℃で水素化ジイソブチルアルミニウム（１Ｍヘキサン溶
液）を０．４ｍｌ滴下した。反応液を０℃まで昇温した
後、ジエチルエーテルで希釈し、白色沈殿を生じるまで
飽和硫酸ナトリウム水溶液を滴下し、セライトを通して
濾過した。濾液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃
縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィで精製することにより、下記の物性を有する（２−メ
チレン−３，４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−
メトキシメトキシ）シクロヘキシリデンエタノールを２
５．４ｍｇ得た（収率９４％）。
シ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデン酢酸
メチル２９．８ｍｇをトルエン５ｍｌに溶解し、−７８
℃で水素化ジイソブチルアルミニウム（１Ｍヘキサン溶
液）を０．４ｍｌ滴下した。反応液を０℃まで昇温した
後、ジエチルエーテルで希釈し、白色沈殿を生じるまで
飽和硫酸ナトリウム水溶液を滴下し、セライトを通して
濾過した。濾液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃
縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィで精製することにより、下記の物性を有する（２−メ
チレン−３，４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−
メトキシメトキシ）シクロヘキシリデンエタノールを２
５．４ｍｇ得た（収率９４％）。
【００８８】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+２７０ 実施例１０ （２−メチレン−３，４−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデン酢酸
メチル２９．８ｍｇをトルエン５ｍｌに溶解し、−７８
℃で水素化ジイソブチルアルミニウム（１Ｍヘキサン溶
液）を０．１５ｍｌ滴下した。３０分間撹拌した後、水
を加え、ついで反応液を０℃まで昇温した後、ジエチル
エーテルで希釈し、白色沈殿を生じるまで飽和硫酸ナト
リウム水溶液を滴下し、セライトを通して濾過した。濾
液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮して得られ
る残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製する
ことにより、下記の物性を有する（２−メチレン−３，
４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメト
キシ）シクロヘキシリデンアセトアルデヒドを１５．０
ｍｇ得た（収率５６％）。
シ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデン酢酸
メチル２９．８ｍｇをトルエン５ｍｌに溶解し、−７８
℃で水素化ジイソブチルアルミニウム（１Ｍヘキサン溶
液）を０．１５ｍｌ滴下した。３０分間撹拌した後、水
を加え、ついで反応液を０℃まで昇温した後、ジエチル
エーテルで希釈し、白色沈殿を生じるまで飽和硫酸ナト
リウム水溶液を滴下し、セライトを通して濾過した。濾
液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮して得られ
る残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製する
ことにより、下記の物性を有する（２−メチレン−３，
４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメト
キシ）シクロヘキシリデンアセトアルデヒドを１５．０
ｍｇ得た（収率５６％）。
【００８９】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+２６８ 実施例１１ （２−メチレン−３，４−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデンアセ
トアルデヒド２６．８ｍｇをエタノール２ｍｌに溶解
し、氷冷下に水素化ホウ素ナトリウム３ｍｇを加えた。
３０分間撹拌した後、ジエチルエーテルおよび希塩酸を
加え、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、減圧下に濃縮し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィで精製することにより、（２−メチレン−
３，４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシ
メトキシ）シクロヘキシリデンエタノールを２５.４ｍ
ｇ得た（収率９４％）。
シ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデンアセ
トアルデヒド２６．８ｍｇをエタノール２ｍｌに溶解
し、氷冷下に水素化ホウ素ナトリウム３ｍｇを加えた。
３０分間撹拌した後、ジエチルエーテルおよび希塩酸を
加え、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、減圧下に濃縮し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィで精製することにより、（２−メチレン−
３，４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシ
メトキシ）シクロヘキシリデンエタノールを２５.４ｍ
ｇ得た（収率９４％）。
【００９０】実施例１２ 実施例１において、４，５−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプテナールオキシ
ム８９．５ｍｇの代わりに４，５−（ジメチルメチレン
ジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）
−６−ヘプテナールオキシム１１３．７ｍｇを用いた以
外は実施例１と同様に反応および分離精製を行うことに
より、下記の物性を有する４，５−（ジメチルメチレン
ジオキシ）−６−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）
−３，３ａ，４，５，６，７−ヘキサヒドロ−２，１−
ベンゾイソオキサゾールを６２．４ｍｇ得た（収率５５
％）。
シ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプテナールオキシ
ム８９．５ｍｇの代わりに４，５−（ジメチルメチレン
ジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）
−６−ヘプテナールオキシム１１３．７ｍｇを用いた以
外は実施例１と同様に反応および分離精製を行うことに
より、下記の物性を有する４，５−（ジメチルメチレン
ジオキシ）−６−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）
−３，３ａ，４，５，６，７−ヘキサヒドロ−２，１−
ベンゾイソオキサゾールを６２．４ｍｇ得た（収率５５
％）。
【００９１】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+３５７ 実施例１３ １，５，６，７，８，８ａ−ヘキサヒドロ−７，８−
（ジメチルメチレンジオキシ）−６−メトキシメトキシ
−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オン２８４ｍｇをメタ
ノール５０ｍｌと水５ｍｌに溶解し、触媒量のｐ−トル
エンスルホン酸を加え、１時間加熱還流した。冷却後、
反応液を重曹水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。
抽出液を食塩水で洗浄し、乾燥した後、減圧下に濃縮
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製すること
により、下記の物性を有する１，５，６，７，８，８ａ
−ヘキサヒドロ−６，７，８−トリヒドロキシ−３Ｈ−
２−ベンゾピラン−３−オンを１１４ｍｇ得た（収率５
７％）。
（ジメチルメチレンジオキシ）−６−メトキシメトキシ
−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オン２８４ｍｇをメタ
ノール５０ｍｌと水５ｍｌに溶解し、触媒量のｐ−トル
エンスルホン酸を加え、１時間加熱還流した。冷却後、
反応液を重曹水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。
抽出液を食塩水で洗浄し、乾燥した後、減圧下に濃縮
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製すること
により、下記の物性を有する１，５，６，７，８，８ａ
−ヘキサヒドロ−６，７，８−トリヒドロキシ−３Ｈ−
２−ベンゾピラン−３−オンを１１４ｍｇ得た（収率５
７％）。
【００９２】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+２００ 実施例１４ １，５，６，７，８，８ａ−ヘキサヒドロ−６，７，８
−トリヒドロキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オン
１００ｍｇを塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、室温にて
ピリジン３００ｍｇおよび塩化アセチル３００ｍｇを加
え、室温で一夜撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈
し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィで精製することにより、１，５，
６，７，８，８ａ−ヘキサヒドロ−６，７，８−トリア
セトキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オンを１４３
ｍｇ得た（収率８８％）。
−トリヒドロキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オン
１００ｍｇを塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、室温にて
ピリジン３００ｍｇおよび塩化アセチル３００ｍｇを加
え、室温で一夜撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈
し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィで精製することにより、１，５，
６，７，８，８ａ−ヘキサヒドロ−６，７，８−トリア
セトキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オンを１４３
ｍｇ得た（収率８８％）。
【００９３】実施例１５ ４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−（メトキ
シメトキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−
２,１−ベンゾイソオキサゾール２５７ｍｇをテトヒド
ロフラン１０ｍｌに溶解し、１Ｎ−塩酸１ｍｌを加えて
室温で４時間撹拌した。ジエチルエーテルで希釈し、重
曹水で中和し、有機層を食塩水で洗浄して無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィで精製することによ
り、下記の物性を有する４,５−ジヒドロキシ−６−
（メトキシメトキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサ
ヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾール１６７ｍｇを
得た（収率７７％）。
シメトキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−
２,１−ベンゾイソオキサゾール２５７ｍｇをテトヒド
ロフラン１０ｍｌに溶解し、１Ｎ−塩酸１ｍｌを加えて
室温で４時間撹拌した。ジエチルエーテルで希釈し、重
曹水で中和し、有機層を食塩水で洗浄して無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィで精製することによ
り、下記の物性を有する４,５−ジヒドロキシ−６−
（メトキシメトキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサ
ヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾール１６７ｍｇを
得た（収率７７％）。
【００９４】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ２１７ 実施例１６ ４，５−ジヒドロキシ−６−（メトキシメトキシ）−
３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイ
ソオキサゾール２１７ｍｇを塩化メチレン１０ｍｌに溶
解し、氷冷下にピリジン１ｍｌ次いでクロル炭酸メチル
１００ｍｇを加えた。室温で３時間撹拌した。ジエチル
エーテルで希釈し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄
した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮して
得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精
製することにより、下記の物性を有する４−ヒドロキシ
−５−メトキシカルボニルオキシ−６−（メトキシメト
キシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−
ベンゾイソオキサゾール１３７ｍｇを得た（収率５０
％）。
３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイ
ソオキサゾール２１７ｍｇを塩化メチレン１０ｍｌに溶
解し、氷冷下にピリジン１ｍｌ次いでクロル炭酸メチル
１００ｍｇを加えた。室温で３時間撹拌した。ジエチル
エーテルで希釈し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄
した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮して
得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精
製することにより、下記の物性を有する４−ヒドロキシ
−５−メトキシカルボニルオキシ−６−（メトキシメト
キシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−
ベンゾイソオキサゾール１３７ｍｇを得た（収率５０
％）。
【００９５】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ２７５ 実施例１７ ４−ヒドロキシ−５−メトキシカルボニルオキシ−６−
（メトキシメトキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサ
ヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾール２７５ｍｇを
塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、イミダゾール２００ｍ
ｇおよびｔ−ブチルジメチルシリルクロリド２２６ｍｇ
を加え、室温で一夜撹拌した。反応液をジエチルエーテ
ルで希釈し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄した。
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られ
る残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製する
ことにより、下記の物性を有する４−（ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）−５−メトキシカルボニルオキシ−
６−（メトキシメトキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘ
キサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾールを２８５
ｍｇ得た（収率７３％）。
（メトキシメトキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサ
ヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾール２７５ｍｇを
塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、イミダゾール２００ｍ
ｇおよびｔ−ブチルジメチルシリルクロリド２２６ｍｇ
を加え、室温で一夜撹拌した。反応液をジエチルエーテ
ルで希釈し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄した。
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られ
る残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製する
ことにより、下記の物性を有する４−（ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）−５−メトキシカルボニルオキシ−
６−（メトキシメトキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘ
キサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾールを２８５
ｍｇ得た（収率７３％）。
【００９６】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ３８９ 実施例１８ ４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−（ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−
ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾール３２７
ｍｇをテトヒドロフラン１０ｍｌに溶解し、１Ｎ−塩酸
１ｍｌを加えて室温で４時間撹拌した。ジエチルエーテ
ルで希釈し、重曹水で中和し、有機層を食塩水で洗浄し
て無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製
することにより、下記の物性を有する４,５−ジヒドロ
キシ−６−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−３,
３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソ
オキサゾールを１９６ｍｇ得た（収率６８％）。
チルジメチルシリルオキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−
ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾール３２７
ｍｇをテトヒドロフラン１０ｍｌに溶解し、１Ｎ−塩酸
１ｍｌを加えて室温で４時間撹拌した。ジエチルエーテ
ルで希釈し、重曹水で中和し、有機層を食塩水で洗浄し
て無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製
することにより、下記の物性を有する４,５−ジヒドロ
キシ−６−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−３,
３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソ
オキサゾールを１９６ｍｇ得た（収率６８％）。
【００９７】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ２８７ 実施例１９ ４,５−ジヒドロキシ−６−（ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,
１−ベンゾイソオキサゾール２８７ｍｇを塩化メチレン
１０ｍｌに溶解し、氷冷下にイミダゾール２００ｍｇお
よびｔ−ブチルジメチルシリルクロリド２２６ｍｇを加
え、室温で一夜撹拌した。反応液をジエチルエーテルで
希釈し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄した。無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製すること
により、下記の物性を有する４,６−ビス（ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−５−ヒドロキシ−３,３ａ,
４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサ
ゾールを２６５ｍｇ得た（収率６６％）。
ルオキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,
１−ベンゾイソオキサゾール２８７ｍｇを塩化メチレン
１０ｍｌに溶解し、氷冷下にイミダゾール２００ｍｇお
よびｔ−ブチルジメチルシリルクロリド２２６ｍｇを加
え、室温で一夜撹拌した。反応液をジエチルエーテルで
希釈し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄した。無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製すること
により、下記の物性を有する４,６−ビス（ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−５−ヒドロキシ−３,３ａ,
４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサ
ゾールを２６５ｍｇ得た（収率６６％）。
【００９８】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ４０１ 実施例２０ ４,６−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−５
−ヒドロキシ−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−
２,１−ベンゾイソオキサゾール４０１ｍｇを塩化メチ
レン２０ｍｌに溶解し、トリエチルアミン５ｍｌおよび
４−ジメチルアミノピリジン０.５ｇを加えた後、塩化
アセチル１００ｍｇを加え、室温で一夜撹拌した。反応
液をジエチルエーテルで希釈し、希塩酸、重曹水、食塩
水で順次洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィで精製することにより、下記の物性を有する５
−アセトキシ−４,６−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,
１−ベンゾイソオキサゾールを３５５ｍｇ得た（収率８
０％）。
−ヒドロキシ−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−
２,１−ベンゾイソオキサゾール４０１ｍｇを塩化メチ
レン２０ｍｌに溶解し、トリエチルアミン５ｍｌおよび
４−ジメチルアミノピリジン０.５ｇを加えた後、塩化
アセチル１００ｍｇを加え、室温で一夜撹拌した。反応
液をジエチルエーテルで希釈し、希塩酸、重曹水、食塩
水で順次洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィで精製することにより、下記の物性を有する５
−アセトキシ−４,６−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,
１−ベンゾイソオキサゾールを３５５ｍｇ得た（収率８
０％）。
【００９９】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ４４３ 実施例２１ 実施例２において、４,５−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−６−メトキシメトキシ−３,３ａ,４,５,６,７−
ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾールの代わ
りに５−アセトキシ−４,６−ビス（ｔ−ブチルジメチ
ルシリルオキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒド
ロ−２,１−ベンゾイソオキサゾールを用い、実施例２
に準じて反応および分離精製を行うことにより、下記の
物性を有する４−アセトキシ−３,５−ビス（ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ）−２−ヒドロキシメチルシク
ロヘキサノンを収率７２％で得た。
シ）−６−メトキシメトキシ−３,３ａ,４,５,６,７−
ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾールの代わ
りに５−アセトキシ−４,６−ビス（ｔ−ブチルジメチ
ルシリルオキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒド
ロ−２,１−ベンゾイソオキサゾールを用い、実施例２
に準じて反応および分離精製を行うことにより、下記の
物性を有する４−アセトキシ−３,５−ビス（ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ）−２−ヒドロキシメチルシク
ロヘキサノンを収率７２％で得た。
【０１００】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ４４６ 実施例２２ 実施例４において、２−ヒドロキシメチル−３,４−
（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（メトキシメトキ
シ）シクロヘキサノンの代わりに４−アセトキシ−３,
５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−２−ヒ
ドロキシメチルシクロヘキサノンを用い、実施例４に準
じて反応および分離精製を行うことにより、下記の物性
を有する７−アセトキシ−６,８−ビス（ｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ）−１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサ
ヒドロ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オンを３４％の
収率で得た。
（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（メトキシメトキ
シ）シクロヘキサノンの代わりに４−アセトキシ−３,
５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−２−ヒ
ドロキシメチルシクロヘキサノンを用い、実施例４に準
じて反応および分離精製を行うことにより、下記の物性
を有する７−アセトキシ−６,８−ビス（ｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ）−１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサ
ヒドロ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オンを３４％の
収率で得た。
【０１０１】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ４７０ 実施例２３ 実施例７において、１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒド
ロ−７,８−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−メト
キシメトキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オンの代
わりに７−アセトキシ−６,８−ビス（ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）−１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒ
ドロ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オンを用い、実施
例７に準じて反応および分離精製を行うことにより、下
記の物性を有する（３,５−ビス（ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ）−４−ヒドロキシ−２−ヒドロキシメチ
ル）シクロヘキシリデン酢酸メチルを８１％の収率で得
た。 ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ４６０ 実施例２４ 実施例８において、（２−ヒドロキシメチル−３,４−
（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメトキ
シ）シクロヘキシリデン酢酸メチルの代わりに（３,５
−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４−ヒド
ロキシ−２−ヒドロキシメチル）シクロヘキシリデン酢
酸メチルを用い、実施例８に準じて反応および分離精製
を行うことにより、下記の物性を有する３,５−ビス
（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４−ヒドロキシ
−２−メチレンシクロヘキシリデン酢酸メチルを５１％
の収率で得た。
ロ−７,８−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−メト
キシメトキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オンの代
わりに７−アセトキシ−６,８−ビス（ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）−１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒ
ドロ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オンを用い、実施
例７に準じて反応および分離精製を行うことにより、下
記の物性を有する（３,５−ビス（ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ）−４−ヒドロキシ−２−ヒドロキシメチ
ル）シクロヘキシリデン酢酸メチルを８１％の収率で得
た。 ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ４６０ 実施例２４ 実施例８において、（２−ヒドロキシメチル−３,４−
（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメトキ
シ）シクロヘキシリデン酢酸メチルの代わりに（３,５
−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４−ヒド
ロキシ−２−ヒドロキシメチル）シクロヘキシリデン酢
酸メチルを用い、実施例８に準じて反応および分離精製
を行うことにより、下記の物性を有する３,５−ビス
（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４−ヒドロキシ
−２−メチレンシクロヘキシリデン酢酸メチルを５１％
の収率で得た。
【０１０２】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ４４２ 実施例２５ ３,５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４
−ヒドロキシ−２−メチレンシクロヘキシリデン酢酸メ
チル４４２ｍｇを塩化メチレン２０ｍｌに溶解し、ピリ
ジンを１ｍｌ、４−ジメチルアミノピリジンを触媒量次
いでメタンスルホニルクロリドを１５０ｍｇ加え、室温
で４時間撹拌した。反応液をジエチルエーテルで希釈
し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄した。無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することによ
り、下記の物性を有する３,５−ビス（ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）−４−（メタンスルホニルオキシ）
−２−メチレンシクロヘキシリデン酢酸メチルを得た。
−ヒドロキシ−２−メチレンシクロヘキシリデン酢酸メ
チル４４２ｍｇを塩化メチレン２０ｍｌに溶解し、ピリ
ジンを１ｍｌ、４−ジメチルアミノピリジンを触媒量次
いでメタンスルホニルクロリドを１５０ｍｇ加え、室温
で４時間撹拌した。反応液をジエチルエーテルで希釈
し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄した。無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することによ
り、下記の物性を有する３,５−ビス（ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）−４−（メタンスルホニルオキシ）
−２−メチレンシクロヘキシリデン酢酸メチルを得た。
【０１０３】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ５２０ 参考例１４ ３,５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４
−（メタンスルホニルオキシ）−２−メチレンシクロヘ
キシリデン酢酸メチル５２ｍｇをテトラヒドロフラン１
０ｍｌに溶解し、水素化トリイソブチルホウ素リチウム
の１Ｍテトラヒドロフラン溶液１ｍｌを滴下し、室温で
６時間撹拌した。得られた反応液に酢酸エチルを徐々に
加えた後、希塩酸を加え、ジエチルエーテルで抽出し
た。抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した後、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の
物性を有する２−（３,５−ビス（ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ）−２−メチレンシクロヘキシリデン）エ
タノールを３５ｍｇ得た。各種スペクトルデータは文献
と一致した。
−（メタンスルホニルオキシ）−２−メチレンシクロヘ
キシリデン酢酸メチル５２ｍｇをテトラヒドロフラン１
０ｍｌに溶解し、水素化トリイソブチルホウ素リチウム
の１Ｍテトラヒドロフラン溶液１ｍｌを滴下し、室温で
６時間撹拌した。得られた反応液に酢酸エチルを徐々に
加えた後、希塩酸を加え、ジエチルエーテルで抽出し
た。抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した後、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の
物性を有する２−（３,５−ビス（ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ）−２−メチレンシクロヘキシリデン）エ
タノールを３５ｍｇ得た。各種スペクトルデータは文献
と一致した。
【０１０４】融点 ６９℃ 施光度 ［α］25 D ＋７.９°（ｃ＝０.４，エタノール） 実施例２６ ４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（１−エ
トキシエトキシ）−６−ヘプテナールオキシム１.００
ｇを塩化メチレン１５mlに溶解し、０℃でトリエチルア
ミン０.２mlに加えた。ついで１０％次亜塩素酸ナトリ
ウム水溶液８mlを加え、０℃で１１時間撹拌した。反応
液をエチルエーテルで希釈し、重曹水、食塩水で順次洗
浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮
して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
で精製することにより、下記の物性を有する４,５−
（メチレンジオキシ）−６−（１−エトキシエトキシ）
−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾ
イソオキサゾールを５３０mg得た。
トキシエトキシ）−６−ヘプテナールオキシム１.００
ｇを塩化メチレン１５mlに溶解し、０℃でトリエチルア
ミン０.２mlに加えた。ついで１０％次亜塩素酸ナトリ
ウム水溶液８mlを加え、０℃で１１時間撹拌した。反応
液をエチルエーテルで希釈し、重曹水、食塩水で順次洗
浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮
して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
で精製することにより、下記の物性を有する４,５−
（メチレンジオキシ）−６−（１−エトキシエトキシ）
−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾ
イソオキサゾールを５３０mg得た。
【０１０５】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ4）δ：４.８−５.０（ｍ，１Ｈ）、４.３８−４.８
（ｍ，２Ｈ）、３.２−４.３８（ｍ，５Ｈ）、３.０
７，３.０８（ｄｄ，１Ｈ，２.６，４.６Ｈｚ）、２.２
−２.６（ｍ，１Ｈ）、１.４４（ｓ，３Ｈ）、１.４２
（ｓ，３Ｈ）、１.３１（ｄ，Ｊ＝５.５Ｈｚ，３Ｈ）、
１.１９（ｔ，Ｊ＝７.０Ｈｚ，３Ｈ） 実施例２７ フラスコにラネーニッケルＷ−２（川研フアインケミカ
ル株式会社製、ＮＤＨＦ−９０）５.９８ｇをとり、
水、メタノールで１回ずつデカンテーションした。これ
にホウ酸８８８mgを加え、アルゴン置換し、ついで水素
で置換した。メタノール２５ml、水６mlを加えてホウ酸
を溶解させた。４,５−（メチレンジオキシ）−６−
（１−エトキシエトキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘ
キサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾール２.０３ｇ
をメタノール５mlに溶解し、室温で上記懸濁液に加え、
１３時間撹拌した。反応液をジエチルエーテルで希釈
し、フロリジルを通して濾過した。濾液を飽和食塩水で
洗浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィで精製することにより、下記の物性を有する２−
ヒドロキシメチル−３,４−ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキサノン
を１.３９ｇ得た。
ｌ4）δ：４.８−５.０（ｍ，１Ｈ）、４.３８−４.８
（ｍ，２Ｈ）、３.２−４.３８（ｍ，５Ｈ）、３.０
７，３.０８（ｄｄ，１Ｈ，２.６，４.６Ｈｚ）、２.２
−２.６（ｍ，１Ｈ）、１.４４（ｓ，３Ｈ）、１.４２
（ｓ，３Ｈ）、１.３１（ｄ，Ｊ＝５.５Ｈｚ，３Ｈ）、
１.１９（ｔ，Ｊ＝７.０Ｈｚ，３Ｈ） 実施例２７ フラスコにラネーニッケルＷ−２（川研フアインケミカ
ル株式会社製、ＮＤＨＦ−９０）５.９８ｇをとり、
水、メタノールで１回ずつデカンテーションした。これ
にホウ酸８８８mgを加え、アルゴン置換し、ついで水素
で置換した。メタノール２５ml、水６mlを加えてホウ酸
を溶解させた。４,５−（メチレンジオキシ）−６−
（１−エトキシエトキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘ
キサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾール２.０３ｇ
をメタノール５mlに溶解し、室温で上記懸濁液に加え、
１３時間撹拌した。反応液をジエチルエーテルで希釈
し、フロリジルを通して濾過した。濾液を飽和食塩水で
洗浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィで精製することにより、下記の物性を有する２−
ヒドロキシメチル−３,４−ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキサノン
を１.３９ｇ得た。
【０１０６】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ4）δ：４.８−５.０（ｍ，１Ｈ）、４.４５（ｍ，１
Ｈ）、３.８−４.３（ｍ，４Ｈ）、３.３−３.８（ｍ，
２Ｈ）、２.３−２.９（ｍ，４Ｈ）、１.４９（ｓ，３
Ｈ）、１.３０（ｄ，Ｊ＝５.５Ｈｚ，３Ｈ）、１.１８
（ｔ，Ｊ＝７.０Ｈｚ，３Ｈ） 実施例２８ ２−ヒドロキシメチル−３,４−（ジメチルメチレンジ
オキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキサ
ノン７６５mgを乾燥塩化メチレン７mlに溶解し、０℃で
トリエチルアミン１.２ml、Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノピリ
ジン５５.６mg、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド５
２０mgを加え、０℃で１３時間撹拌した。得られた反応
液を１Ｎ−塩酸にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。
抽出液を飽和重曹水、ついで飽和食塩水で洗浄したの
ち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して
得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精
製することにより、下記の物性を有する２−（ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシメチル）−３,４−（ジメチル
メチレンジオキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シ
クロヘキサノンを１.０４ｇを得た。
ｌ4）δ：４.８−５.０（ｍ，１Ｈ）、４.４５（ｍ，１
Ｈ）、３.８−４.３（ｍ，４Ｈ）、３.３−３.８（ｍ，
２Ｈ）、２.３−２.９（ｍ，４Ｈ）、１.４９（ｓ，３
Ｈ）、１.３０（ｄ，Ｊ＝５.５Ｈｚ，３Ｈ）、１.１８
（ｔ，Ｊ＝７.０Ｈｚ，３Ｈ） 実施例２８ ２−ヒドロキシメチル−３,４−（ジメチルメチレンジ
オキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキサ
ノン７６５mgを乾燥塩化メチレン７mlに溶解し、０℃で
トリエチルアミン１.２ml、Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノピリ
ジン５５.６mg、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド５
２０mgを加え、０℃で１３時間撹拌した。得られた反応
液を１Ｎ−塩酸にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。
抽出液を飽和重曹水、ついで飽和食塩水で洗浄したの
ち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して
得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精
製することにより、下記の物性を有する２−（ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシメチル）−３,４−（ジメチル
メチレンジオキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シ
クロヘキサノンを１.０４ｇを得た。
【０１０７】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ4）δ：４.８−５.０２（ｍ，１Ｈ）、４.３−４.６
（ｍ，２Ｈ）、４.０−４.３（ｍ，１Ｈ）、３.４−４.
０（ｍ，４Ｈ）、２.２−２.９（ｍ，３Ｈ）、１.４９
（ｓ，３Ｈ）、１.４５（ｓ，３Ｈ）、１.２９（ｄ，Ｊ
＝５.３Ｈｚ，３Ｈ）、１.１８（ｔ，Ｊ＝７.０Ｈｚ，
３Ｈ）、０.８７（ｓ，９Ｈ）、０.０７（ｓ，６Ｈ） 実施例２９ アルゴン雰囲気下、ジシクロヘキシルアミン０.８０ml
を乾燥テトラヒドロフラン７mlに溶解し、−２０℃でブ
チルリチウムのヘキサン溶液（１.６３Ｎ，３.９６mmo
l)を加え、３０分間撹拌した。−７８℃に冷却後、エチ
ルトリメチルシリルアセテート０.７３mlを加え、−７
８℃で１時間撹拌した。２−（ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシメチル）−３,４−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキサノン
８０２mgを乾燥テトラヒドロフラン６mlに溶解し、−７
８℃で滴下した。２時間撹拌したのち、０℃で５時間撹
拌し、反応液を氷の入った１Ｎ−塩酸にあけた。ジエチ
ルエーテルで抽出し、抽出液を飽和重曹水、ついで飽和
食塩水で洗浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を
有する（２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチ
ル）−３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−
（１−エトキシエトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エ
チルを７０４mg得、原料の２−（ｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシメチル）−３,４−（ジメチルメチレンジオ
キシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキサノ
ンを２２７mg回収した。
ｌ4）δ：４.８−５.０２（ｍ，１Ｈ）、４.３−４.６
（ｍ，２Ｈ）、４.０−４.３（ｍ，１Ｈ）、３.４−４.
０（ｍ，４Ｈ）、２.２−２.９（ｍ，３Ｈ）、１.４９
（ｓ，３Ｈ）、１.４５（ｓ，３Ｈ）、１.２９（ｄ，Ｊ
＝５.３Ｈｚ，３Ｈ）、１.１８（ｔ，Ｊ＝７.０Ｈｚ，
３Ｈ）、０.８７（ｓ，９Ｈ）、０.０７（ｓ，６Ｈ） 実施例２９ アルゴン雰囲気下、ジシクロヘキシルアミン０.８０ml
を乾燥テトラヒドロフラン７mlに溶解し、−２０℃でブ
チルリチウムのヘキサン溶液（１.６３Ｎ，３.９６mmo
l)を加え、３０分間撹拌した。−７８℃に冷却後、エチ
ルトリメチルシリルアセテート０.７３mlを加え、−７
８℃で１時間撹拌した。２−（ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシメチル）−３,４−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキサノン
８０２mgを乾燥テトラヒドロフラン６mlに溶解し、−７
８℃で滴下した。２時間撹拌したのち、０℃で５時間撹
拌し、反応液を氷の入った１Ｎ−塩酸にあけた。ジエチ
ルエーテルで抽出し、抽出液を飽和重曹水、ついで飽和
食塩水で洗浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を
有する（２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチ
ル）−３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−
（１−エトキシエトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エ
チルを７０４mg得、原料の２−（ｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシメチル）−３,４−（ジメチルメチレンジオ
キシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキサノ
ンを２２７mg回収した。
【０１０８】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ4）δ：５.７３（ｓ，１Ｈ）、４.７−５.０（ｍ，１
Ｈ）、４.１４（ｑ，Ｊ＝７.３Ｈｚ，２Ｈ）、３.２−
３.８（ｍ，４Ｈ）、２.６９（ｂｄｄｄ，Ｊ＝１.０，
１.５，６.７Ｈｚ，２Ｈ）、１.４２（ｓ，６Ｈ）、１.
２９（ｄ，Ｊ＝５.３Ｈｚ，３Ｈ）、１.２６（ｔ，Ｊ＝
７.３Ｈｚ，３Ｈ）、０.８８（ｓ，９Ｈ）、０.１２
（ｓ，３Ｈ）、０.０５（ｓ，３Ｈ） 実施例３０ （２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−
３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エ
トキシエトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチル２ｇ
を乾燥トルエン１０mlに溶解し、−７８℃で水素化ジイ
ソブチルアルミニウム４.７ml（２Ｎ−ヘキサン溶液、
９.４mmol）を加え３時間撹拌した。０℃で５分間撹拌
したのち、１０％−硫酸水溶液を反応液が白くなるまで
徐々に加えた。ジエチルエーテルで抽出し、抽出液を飽
和重曹水、ついで飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することに
より、下記の物性を有する（２−（ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシメチル）−３,４−（ジメチルメチレンジ
オキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキシ
リデン）エタノールを１.４７ｇ得た。
ｌ4）δ：５.７３（ｓ，１Ｈ）、４.７−５.０（ｍ，１
Ｈ）、４.１４（ｑ，Ｊ＝７.３Ｈｚ，２Ｈ）、３.２−
３.８（ｍ，４Ｈ）、２.６９（ｂｄｄｄ，Ｊ＝１.０，
１.５，６.７Ｈｚ，２Ｈ）、１.４２（ｓ，６Ｈ）、１.
２９（ｄ，Ｊ＝５.３Ｈｚ，３Ｈ）、１.２６（ｔ，Ｊ＝
７.３Ｈｚ，３Ｈ）、０.８８（ｓ，９Ｈ）、０.１２
（ｓ，３Ｈ）、０.０５（ｓ，３Ｈ） 実施例３０ （２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−
３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エ
トキシエトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチル２ｇ
を乾燥トルエン１０mlに溶解し、−７８℃で水素化ジイ
ソブチルアルミニウム４.７ml（２Ｎ−ヘキサン溶液、
９.４mmol）を加え３時間撹拌した。０℃で５分間撹拌
したのち、１０％−硫酸水溶液を反応液が白くなるまで
徐々に加えた。ジエチルエーテルで抽出し、抽出液を飽
和重曹水、ついで飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することに
より、下記の物性を有する（２−（ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシメチル）−３,４−（ジメチルメチレンジ
オキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキシ
リデン）エタノールを１.４７ｇ得た。
【０１０９】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ4）δ：５.６４（ｂｔ，Ｊ＝６.８Ｈｚ，１Ｈ）、４.
７−４.９（ｍ，１Ｈ）、３.０８−４.４（ｍ，７
Ｈ）、３.４８（ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ，２Ｈ）、２.０−３.
０８（ｍ，３Ｈ）、１.４１（ｓ，６Ｈ）、１.２０
（ｔ，Ｊ＝７.０Ｈｚ，３Ｈ）、１.０４−１.４（ｍ，
３Ｈ）、０.９０（ｓ，９Ｈ）、０.０８（ｓ，６Ｈ） 実施例３１ 実施例２６において、４,５−（ジメチルメチレンジオ
キシ）−３−（１−エトキシエトキシ）−６−ヘプテナ
ールオキシム１.００ｇの代わりに４,５−（ジメチルメ
チレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジフェニルシリル
オキシ）−６−ヘプテナールオキシム１.５８ｇを用い
た以外は実施例２６と同様に反応及び分離精製を行うこ
とにより、下記の物性を有する４,５−（ジメチルメチ
レンジオキシ）−６−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオ
キシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−
ベンゾイソオキサゾールを１.２１ｇ得た。
ｌ4）δ：５.６４（ｂｔ，Ｊ＝６.８Ｈｚ，１Ｈ）、４.
７−４.９（ｍ，１Ｈ）、３.０８−４.４（ｍ，７
Ｈ）、３.４８（ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ，２Ｈ）、２.０−３.
０８（ｍ，３Ｈ）、１.４１（ｓ，６Ｈ）、１.２０
（ｔ，Ｊ＝７.０Ｈｚ，３Ｈ）、１.０４−１.４（ｍ，
３Ｈ）、０.９０（ｓ，９Ｈ）、０.０８（ｓ，６Ｈ） 実施例３１ 実施例２６において、４,５−（ジメチルメチレンジオ
キシ）−３−（１−エトキシエトキシ）−６−ヘプテナ
ールオキシム１.００ｇの代わりに４,５−（ジメチルメ
チレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジフェニルシリル
オキシ）−６−ヘプテナールオキシム１.５８ｇを用い
た以外は実施例２６と同様に反応及び分離精製を行うこ
とにより、下記の物性を有する４,５−（ジメチルメチ
レンジオキシ）−６−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオ
キシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−
ベンゾイソオキサゾールを１.２１ｇ得た。
【０１１０】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ４５１ 実施例３２ （２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−
３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エ
トキシエトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチル０.
４７２ｇをテトラヒドロフラン５mlに溶解し、１Ｍ−フ
ツ化テトラブチルアンモニウム−テトラヒドロフラン溶
液３mlを加え、室温で一夜撹拌した。反応液をジエチル
エーテルで希釈し、飽和重曹水、ついで飽和食塩水で洗
浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に
濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィで精製することにより、（２−ヒドロキシメチル−
３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エ
トキシエトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチルを得
た。
３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エ
トキシエトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチル０.
４７２ｇをテトラヒドロフラン５mlに溶解し、１Ｍ−フ
ツ化テトラブチルアンモニウム−テトラヒドロフラン溶
液３mlを加え、室温で一夜撹拌した。反応液をジエチル
エーテルで希釈し、飽和重曹水、ついで飽和食塩水で洗
浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に
濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィで精製することにより、（２−ヒドロキシメチル−
３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エ
トキシエトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチルを得
た。
【０１１１】得られた（２−ヒドロキシメチル−３,４
−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エトキシ
エトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチルをピリジン
５mlに溶解し、メタンスルホニルクロリド０.１２ｇを
加えて室温で一夜撹拌した。反応液を減圧下に濃縮し、
ジエチルエーテルで希釈し、飽和重曹水、ついで飽和食
塩水で洗浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィで精製することにより、下記の物性を有す
る（２−メチレン−３,４−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキシリデ
ン）酢酸エチルを０.２８２ｇ得た。
−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エトキシ
エトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチルをピリジン
５mlに溶解し、メタンスルホニルクロリド０.１２ｇを
加えて室温で一夜撹拌した。反応液を減圧下に濃縮し、
ジエチルエーテルで希釈し、飽和重曹水、ついで飽和食
塩水で洗浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィで精製することにより、下記の物性を有す
る（２−メチレン−３,４−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキシリデ
ン）酢酸エチルを０.２８２ｇ得た。
【０１１２】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ３４０ 実施例３３ （２−メチレン−３,４−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキシリデ
ン）酢酸エチル０.３４ｇをエタノール５mlに溶解し、
触媒量のピリジニウム ｐ−トルエンスルホナートを加
えて室温で１５分間撹拌した。反応液に重曹水を加え、
ジエチルエーテルで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄
した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮し
て得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで
精製することにより、下記の物性を有する（２−メチレ
ン−３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−ヒド
ロキシシクロヘキシリデン）酢酸エチルを０.２０２ｇ
得た。
シ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキシリデ
ン）酢酸エチル０.３４ｇをエタノール５mlに溶解し、
触媒量のピリジニウム ｐ−トルエンスルホナートを加
えて室温で１５分間撹拌した。反応液に重曹水を加え、
ジエチルエーテルで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄
した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮し
て得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで
精製することにより、下記の物性を有する（２−メチレ
ン−３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−ヒド
ロキシシクロヘキシリデン）酢酸エチルを０.２０２ｇ
得た。
【０１１３】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ２６８ 実施例３４ （２−メチレン−３,４−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−ヒドロキシシクロヘキシリデン）酢酸エチル
０.２６８ｇを塩化メチレン５mlに溶解し、イミダゾー
ル０.２０４ｇおよびｔ−ブチルジフェニルシリルクロ
リド０.３０ｇを加えて室温で３時間撹拌した。反応液
を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出し、抽出液を飽和
食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィで精製することにより、下記の物性を有する
（２−メチレン−３,４−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）シク
ロヘキシリデン）酢酸エチルを０.４５０ｇ得た。
シ）−５−ヒドロキシシクロヘキシリデン）酢酸エチル
０.２６８ｇを塩化メチレン５mlに溶解し、イミダゾー
ル０.２０４ｇおよびｔ−ブチルジフェニルシリルクロ
リド０.３０ｇを加えて室温で３時間撹拌した。反応液
を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出し、抽出液を飽和
食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィで精製することにより、下記の物性を有する
（２−メチレン−３,４−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）シク
ロヘキシリデン）酢酸エチルを０.４５０ｇ得た。
【０１１４】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ５０６ 実施例３５ （２−メチレン−３,４−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）シク
ロヘキシリデン）酢酸エチル０.５０６ｇをエタノール
１０mlに溶解し、触媒量のｐ−トルエンスルホン酸を加
えて室温で５時間撹拌した。反応液に水を加え、ジエチ
ルエーテルで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄した。
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得ら
れる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製す
ることにより、下記の物性を有する（２−メチレン−
３,４−ジヒドロキシ−５−（ｔ−ブチルジフェニルシ
リルオキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチルを０.４
０５ｇ得た。
シ）−５−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）シク
ロヘキシリデン）酢酸エチル０.５０６ｇをエタノール
１０mlに溶解し、触媒量のｐ−トルエンスルホン酸を加
えて室温で５時間撹拌した。反応液に水を加え、ジエチ
ルエーテルで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄した。
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得ら
れる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製す
ることにより、下記の物性を有する（２−メチレン−
３,４−ジヒドロキシ−５−（ｔ−ブチルジフェニルシ
リルオキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチルを０.４
０５ｇ得た。
【０１１５】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ４６６ 実施例３６ （２−メチレン−３,４−ジヒドロキシ−５−（ｔ−ブ
チルジフェニルシリルオキシ）シクロヘキシリデン）酢
酸エチル０.４６６ｇを塩化メチレン５mlに溶解し、イ
ミダゾール０.２０４ｇおよびｔ−ブチルジフェニルシ
リルクロリド０.３０ｇを加えて室温で３時間撹拌し
た。反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出し、抽
出液を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物
性を有する（３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシ
リルオキシ）−４−ヒドロキシ−２−メチレン−シクロ
ヘキシリデン）酢酸エチルを０.６６４ｇ得た。
チルジフェニルシリルオキシ）シクロヘキシリデン）酢
酸エチル０.４６６ｇを塩化メチレン５mlに溶解し、イ
ミダゾール０.２０４ｇおよびｔ−ブチルジフェニルシ
リルクロリド０.３０ｇを加えて室温で３時間撹拌し
た。反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出し、抽
出液を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物
性を有する（３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシ
リルオキシ）−４−ヒドロキシ−２−メチレン−シクロ
ヘキシリデン）酢酸エチルを０.６６４ｇ得た。
【０１１６】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ７０４ 実施例３７ （３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキ
シ）−４−ヒドロキシ−２−メチレン−シクロヘキシリ
デン）酢酸エチル０.７０４ｇをトルエン２０mlに溶解
し、−７８℃で１Ｎ−水素化ジイソブチルアルミニウム
／ヘキサン溶液２.５mlを滴下した。１時間撹拌したの
ち、冷希塩酸にあけてジエチルエーテルで抽出した。抽
出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を
有する（３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリル
オキシ）−４−ヒドロキシ−２−メチレン−シクロヘキ
シリデン）エタノールを５１１mg得た。
シ）−４−ヒドロキシ−２−メチレン−シクロヘキシリ
デン）酢酸エチル０.７０４ｇをトルエン２０mlに溶解
し、−７８℃で１Ｎ−水素化ジイソブチルアルミニウム
／ヘキサン溶液２.５mlを滴下した。１時間撹拌したの
ち、冷希塩酸にあけてジエチルエーテルで抽出した。抽
出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を
有する（３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリル
オキシ）−４−ヒドロキシ−２−メチレン−シクロヘキ
シリデン）エタノールを５１１mg得た。
【０１１７】ＦＤ質量スペクトル［Ｍ］+ ６６２ 実施例３８ （３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキ
シ）−４−ヒドロキシ−２−メチレン−シクロヘキシリ
デン）エタノール６６２mgを塩化メチレン１０mlに溶解
し、ピリジニウム ｐ−トルエンスルホナートを触媒量
加えたのち、氷冷下にジヒドロピラン１００mgと塩化メ
チレン１mlからなる溶液を滴下し、室温で１時間撹拌し
た。反応液を重曹水で洗浄したのち、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた４−（テトラ
ヒドロピラン−２−イルオキシエチリデン）−２,６−
ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−３−メ
チレン−シクロヘキサノールをテトラヒドロフラン１０
mlに溶解し、水素化ナトリウム２５mgのテトラヒドロフ
ラン５ml懸濁液に滴下した。５０℃に加熱したのち、臭
化アリル１４５mgを加え、一夜撹拌を続けた。反応液を
氷水にあけてジエチルエーテルで抽出した。抽出液を飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
下に濃縮した。得られた（４−アリルオキシ−３,５−
ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−２−メ
チレン−シクロヘキシリデン）エチルテトラヒドロピラ
ン−２−イルエーテルをテトラヒドロフラン１０mlに溶
解し、９−ボラビシクロ［３,３,１］ノナンの１Ｎテト
ラヒドロフラン溶液１mlを氷冷下に加え、室温で１時間
撹拌した。氷冷下に１Ｎ−水酸化ナトリウム１mlおよび
３５％過酸化水素水０.３mlを加え、１時間撹拌した。
反応液をジエチルエーテルで希釈し、水、チオ硫酸ナト
リウム水溶液、食塩水で順次希釈し、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、３
−（４−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシエチリ
デン）−２,６−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリル
オキシ）−３−メチレンシクロヘキシルオキシ）プロパ
ン−１−オールを４２７mg得た。
シ）−４−ヒドロキシ−２−メチレン−シクロヘキシリ
デン）エタノール６６２mgを塩化メチレン１０mlに溶解
し、ピリジニウム ｐ−トルエンスルホナートを触媒量
加えたのち、氷冷下にジヒドロピラン１００mgと塩化メ
チレン１mlからなる溶液を滴下し、室温で１時間撹拌し
た。反応液を重曹水で洗浄したのち、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた４−（テトラ
ヒドロピラン−２−イルオキシエチリデン）−２,６−
ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−３−メ
チレン−シクロヘキサノールをテトラヒドロフラン１０
mlに溶解し、水素化ナトリウム２５mgのテトラヒドロフ
ラン５ml懸濁液に滴下した。５０℃に加熱したのち、臭
化アリル１４５mgを加え、一夜撹拌を続けた。反応液を
氷水にあけてジエチルエーテルで抽出した。抽出液を飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
下に濃縮した。得られた（４−アリルオキシ−３,５−
ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−２−メ
チレン−シクロヘキシリデン）エチルテトラヒドロピラ
ン−２−イルエーテルをテトラヒドロフラン１０mlに溶
解し、９−ボラビシクロ［３,３,１］ノナンの１Ｎテト
ラヒドロフラン溶液１mlを氷冷下に加え、室温で１時間
撹拌した。氷冷下に１Ｎ−水酸化ナトリウム１mlおよび
３５％過酸化水素水０.３mlを加え、１時間撹拌した。
反応液をジエチルエーテルで希釈し、水、チオ硫酸ナト
リウム水溶液、食塩水で順次希釈し、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、３
−（４−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシエチリ
デン）−２,６−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリル
オキシ）−３−メチレンシクロヘキシルオキシ）プロパ
ン−１−オールを４２７mg得た。
【０１１８】上記により得られた３−（４−（テトラヒ
ドロピラン−２−イルオキシエチリデン）−２,６−ビ
ス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−３−メチ
レンシクロヘキシルオキシ）プロパン−１−オール４０
２mgを塩化メチレン１０mlに溶解し、イミダゾール６８
mgを加えたのち、氷冷下でｔ−ブチルジフェニルシリル
クロリド２０６mgを加え、室温で３時間撹拌した。反応
液を濃縮したのち、エタノールおよび希塩酸を加え、１
時間撹拌した。反応液をジエチルエーテルで抽出し、抽
出液を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物
性を有する（４−（３−ｔ−ブチルジフェニルシリルオ
キシプロポキシ）−３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェ
ニルシリルオキシ）−２−メチレンシクロヘキシリデ
ン）エタノールを４０７mg得た。
ドロピラン−２−イルオキシエチリデン）−２,６−ビ
ス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−３−メチ
レンシクロヘキシルオキシ）プロパン−１−オール４０
２mgを塩化メチレン１０mlに溶解し、イミダゾール６８
mgを加えたのち、氷冷下でｔ−ブチルジフェニルシリル
クロリド２０６mgを加え、室温で３時間撹拌した。反応
液を濃縮したのち、エタノールおよび希塩酸を加え、１
時間撹拌した。反応液をジエチルエーテルで抽出し、抽
出液を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物
性を有する（４−（３−ｔ−ブチルジフェニルシリルオ
キシプロポキシ）−３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェ
ニルシリルオキシ）−２−メチレンシクロヘキシリデ
ン）エタノールを４０７mg得た。
【０１１９】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ９５８ 参考例１５ Ｎ−クロロコハク酸イミド１４０mgを塩化メチレン１０
mlに懸濁し、０℃でジメチルスルフイド７４mgを加えて
撹拌し、−２５℃に冷却して（４−（３−ｔ−ブチルジ
フェニルシリルオキシプロポキシ）−３,５−ビス−
（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−２−メチレン
シクロヘキシリデン）エタノール９５８mgを塩化メチレ
ン２mlに溶解した溶液を滴下し、０℃で２時間撹拌し
た。反応液に食塩水を加え、ジエチルエーテルで抽出し
た。抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥したのち、減圧下に濃縮して（４−（３−ｔ−ブチル
ジフェニルシリルオキシプロポキシ）−３,５−ビス−
（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−２−メチレン
シクロヘキシリデン）エチルクロライドを９３１mg得
た。
mlに懸濁し、０℃でジメチルスルフイド７４mgを加えて
撹拌し、−２５℃に冷却して（４−（３−ｔ−ブチルジ
フェニルシリルオキシプロポキシ）−３,５−ビス−
（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−２−メチレン
シクロヘキシリデン）エタノール９５８mgを塩化メチレ
ン２mlに溶解した溶液を滴下し、０℃で２時間撹拌し
た。反応液に食塩水を加え、ジエチルエーテルで抽出し
た。抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥したのち、減圧下に濃縮して（４−（３−ｔ−ブチル
ジフェニルシリルオキシプロポキシ）−３,５−ビス−
（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−２−メチレン
シクロヘキシリデン）エチルクロライドを９３１mg得
た。
【０１２０】（４−（３−ｔ−ブチルジフェニルシリル
オキシプロポキシ）−３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフ
ェニルシリルオキシ）−２−メチレンシクロヘキシリデ
ン）エチルクロライド８７０mgをテトラヒドロフランに
溶解し、ジフェニルホスフィンリチウムの０.５Ｎ−テ
トラヒドロフラン溶液２mgを０℃で滴下し、室温にて１
時間撹拌した。反応液を減圧下に濃縮し、得られた残渣
をクロロホルムに溶解して５％過酸化水素水、ナトリウ
ムサルファイト水溶液、希塩酸、重曹水、飽和食塩水で
順次洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィで精製することにより、（４−（３−
ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシプロポキシ）−３,
５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−２
−メチレンシクロヘキシリデン）エチルジフェニルホス
フィンオキサイドを８３４mg得た。
オキシプロポキシ）−３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフ
ェニルシリルオキシ）−２−メチレンシクロヘキシリデ
ン）エチルクロライド８７０mgをテトラヒドロフランに
溶解し、ジフェニルホスフィンリチウムの０.５Ｎ−テ
トラヒドロフラン溶液２mgを０℃で滴下し、室温にて１
時間撹拌した。反応液を減圧下に濃縮し、得られた残渣
をクロロホルムに溶解して５％過酸化水素水、ナトリウ
ムサルファイト水溶液、希塩酸、重曹水、飽和食塩水で
順次洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィで精製することにより、（４−（３−
ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシプロポキシ）−３,
５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−２
−メチレンシクロヘキシリデン）エチルジフェニルホス
フィンオキサイドを８３４mg得た。
【０１２１】参考例１６ （４−（３−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシプロポ
キシ）−３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリル
オキシ）−２−メチレンシクロヘキシリデン）エチルジ
フェニルホスフィンオキサイド５７１mgをテトラヒドロ
フラン５mlに溶解し、０℃で１Ｎ−ブチルリチウム／ヘ
キサン溶液０.５mlを滴下し、１５分間撹拌した。反応
液に１−（１,５−ジメチル−５−トリエチルシリルオ
キシヘキシル）−７ａ−メチル−２,３,３ａ,４,５,６,
７,７ａ−オクタヒドロインデン−４−オン１９７mgと
テトラヒドロフラン２mlからなる溶液を滴下し、室温で
一夜撹拌した。反応液にクロロホルムを加え、重曹水、
飽和食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィで精製することにより、（２−（３
−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシプロポキシ）−
１,３−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）
−２５−トリエチルシリルオキシ−９,１０−セココレ
スタ−５,７,１０（１９）−トリエンを５０７mg得た。
キシ）−３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリル
オキシ）−２−メチレンシクロヘキシリデン）エチルジ
フェニルホスフィンオキサイド５７１mgをテトラヒドロ
フラン５mlに溶解し、０℃で１Ｎ−ブチルリチウム／ヘ
キサン溶液０.５mlを滴下し、１５分間撹拌した。反応
液に１−（１,５−ジメチル−５−トリエチルシリルオ
キシヘキシル）−７ａ−メチル−２,３,３ａ,４,５,６,
７,７ａ−オクタヒドロインデン−４−オン１９７mgと
テトラヒドロフラン２mlからなる溶液を滴下し、室温で
一夜撹拌した。反応液にクロロホルムを加え、重曹水、
飽和食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィで精製することにより、（２−（３
−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシプロポキシ）−
１,３−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）
−２５−トリエチルシリルオキシ−９,１０−セココレ
スタ−５,７,１０（１９）−トリエンを５０７mg得た。
【０１２２】（２−（３−ｔ−ブチルジフェニルシリル
オキシプロポキシ）−１,３−ビス−（ｔ−ブチルジフ
ェニルシリルオキシ）−２５−トリエチルシリルオキシ
−９,１０−セココレスタ−５,７,１０（１９）−トリ
エンをテトラヒドロフラン１０mlに溶解し、フツ化テト
ラブチルアンモニウムのテトラヒドロフラン溶液を加え
室温で３時間撹拌した。反応液をジエチルエーテルで抽
出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、
２−（３−ヒドロキシプロポキシ）−１,２５−ジヒド
ロキシビタミンＤ3を１７２mg得た。得られた２−（３
−ヒドロキシプロポキシ）−１,２５−ジヒドロキシビ
タミンＤ3の物性値は、文献［特開昭６３−１０７９２
９号公報］と一致した。
オキシプロポキシ）−１,３−ビス−（ｔ−ブチルジフ
ェニルシリルオキシ）−２５−トリエチルシリルオキシ
−９,１０−セココレスタ−５,７,１０（１９）−トリ
エンをテトラヒドロフラン１０mlに溶解し、フツ化テト
ラブチルアンモニウムのテトラヒドロフラン溶液を加え
室温で３時間撹拌した。反応液をジエチルエーテルで抽
出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、
２−（３−ヒドロキシプロポキシ）−１,２５−ジヒド
ロキシビタミンＤ3を１７２mg得た。得られた２−（３
−ヒドロキシプロポキシ）−１,２５−ジヒドロキシビ
タミンＤ3の物性値は、文献［特開昭６３−１０７９２
９号公報］と一致した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 69/732 Ｚ 9279−4Ｈ Ｃ０７Ｄ 261/20 311/74 7252−4Ｃ // Ｃ０７Ｄ 317/20 317/46
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 式中、 Ｒ1、Ｒ2、およびＲ3は同一または相異なり、各々水素
原子または水酸基の保護基を表し、 Ｘは酸素原子、＝ＣＨＣＨ2ＯＲ4基、＝ＣＨＣＨＯ基ま
たは＝ＣＨＣＯ2Ｒ5基を表し、そしてＹは水素原子を表
し且つＺは−ＯＲ6基を表すか又はＹとＺは一緒になっ
て単結合を表し；或いはＸとＺは一緒になって＝ＮＯ−
基、＝ＣＨＣＨ（ＯＲ7）Ｏ−基または＝ＣＨＣＯ2−基
を表し、且つＹは水素原子を表し、 Ｒ4およびＲ6は水素原子または水酸基の保護基を表し、 Ｒ5は低級アルキル基を表し、 Ｒ7は水素原子または低級アルキル基を表す、で示され
るシクロヘキサントリオール誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4087463A JP3030157B2 (ja) | 1991-03-13 | 1992-03-12 | シクロヘキサントリオール誘導体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7393291 | 1991-03-13 | ||
| JP3-73932 | 1991-03-13 | ||
| JP4087463A JP3030157B2 (ja) | 1991-03-13 | 1992-03-12 | シクロヘキサントリオール誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0625039A true JPH0625039A (ja) | 1994-02-01 |
| JP3030157B2 JP3030157B2 (ja) | 2000-04-10 |
Family
ID=13532395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4087463A Expired - Fee Related JP3030157B2 (ja) | 1991-03-13 | 1992-03-12 | シクロヘキサントリオール誘導体 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5334740A (ja) |
| EP (1) | EP0503630B1 (ja) |
| JP (1) | JP3030157B2 (ja) |
| DK (1) | DK0503630T3 (ja) |
| IL (1) | IL101222A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999043641A1 (fr) * | 1998-02-27 | 1999-09-02 | Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha | Composes intermediaires entrant dans la synthese de la fraction cyclique de derives 2-substitues de la vitamine d |
| US6929797B2 (en) | 1997-02-13 | 2005-08-16 | Bone Care International, Inc. | Targeted therapeutic delivery of vitamin D compounds |
| JP2020189844A (ja) * | 2016-11-21 | 2020-11-26 | ヨンスン ファイン ケミカル カンパニー，リミテッド | エルデカルシトールの製造方法及びそのための中間体 |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5602116A (en) * | 1988-08-02 | 1997-02-11 | Bone Care International, Inc. | Method for treating and preventing secondary hyperparathyroidism |
| US20040009958A1 (en) * | 1991-01-08 | 2004-01-15 | Bone Care International, Inc. | Methods for preparation and use of 1alpha,24(S)-dihydroxyvitamin D2 |
| US5763429A (en) | 1993-09-10 | 1998-06-09 | Bone Care International, Inc. | Method of treating prostatic diseases using active vitamin D analogues |
| US6242434B1 (en) * | 1997-08-08 | 2001-06-05 | Bone Care International, Inc. | 24-hydroxyvitamin D, analogs and uses thereof |
| US20040043971A1 (en) * | 1995-04-03 | 2004-03-04 | Bone Care International, Inc. | Method of treating and preventing hyperparathyroidism with active vitamin D analogs |
| US20020183288A1 (en) * | 1995-04-03 | 2002-12-05 | Bone Care International, Inc. | Method for treating and preventing hyperparathyroidism |
| US6376479B1 (en) | 1995-04-03 | 2002-04-23 | Bone Care International, Inc. | Method for treating and preventing hyperparathyroidism |
| TWI247001B (en) | 1996-07-01 | 2006-01-11 | Chugai Pharmaceutical Co Ltd | The method for purifying vitamin d derivatives and its crystalline products |
| US6566353B2 (en) | 1996-12-30 | 2003-05-20 | Bone Care International, Inc. | Method of treating malignancy associated hypercalcemia using active vitamin D analogues |
| US6503893B2 (en) | 1996-12-30 | 2003-01-07 | Bone Care International, Inc. | Method of treating hyperproliferative diseases using active vitamin D analogues |
| US20020128240A1 (en) * | 1996-12-30 | 2002-09-12 | Bone Care International, Inc. | Treatment of hyperproliferative diseases using active vitamin D analogues |
| US6573256B2 (en) | 1996-12-30 | 2003-06-03 | Bone Care International, Inc. | Method of inhibiting angiogenesis using active vitamin D analogues |
| US20030129194A1 (en) * | 1997-02-13 | 2003-07-10 | Bone Care International, Inc. | Targeted therapeutic delivery of vitamin D compounds |
| US6291694B1 (en) * | 1999-08-23 | 2001-09-18 | Hoffman-La Roche Inc. | Process and intermediates useful to produce vitamin D analogs |
| EP1078931B1 (en) * | 1999-08-23 | 2006-03-08 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Process for the preparation of vitamin D analogues |
| WO2002006218A2 (en) * | 2000-07-18 | 2002-01-24 | Bone Care International, Inc. | STABILIZED 1α-HYDROXY VITAMIN D |
| WO2004012743A1 (ja) * | 2002-08-01 | 2004-02-12 | Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha | 乾癬治療剤 |
| US20040053895A1 (en) * | 2002-09-18 | 2004-03-18 | Bone Care International, Inc. | Multi-use vessels for vitamin D formulations |
| US7148211B2 (en) * | 2002-09-18 | 2006-12-12 | Genzyme Corporation | Formulation for lipophilic agents |
| US7094775B2 (en) | 2004-06-30 | 2006-08-22 | Bone Care International, Llc | Method of treating breast cancer using a combination of vitamin D analogues and other agents |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4663346A (en) * | 1984-05-30 | 1987-05-05 | Angus Chemical Company | Insect repellent |
| US4666634A (en) * | 1984-12-05 | 1987-05-19 | Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha | vitamin D3 derivatives having a substituent at 2-position |
-
1992
- 1992-03-12 DK DK92104293.3T patent/DK0503630T3/da active
- 1992-03-12 EP EP92104293A patent/EP0503630B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-03-12 JP JP4087463A patent/JP3030157B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1992-03-13 IL IL10122292A patent/IL101222A/en not_active IP Right Cessation
- 1992-03-13 US US07/851,943 patent/US5334740A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6929797B2 (en) | 1997-02-13 | 2005-08-16 | Bone Care International, Inc. | Targeted therapeutic delivery of vitamin D compounds |
| WO1999043641A1 (fr) * | 1998-02-27 | 1999-09-02 | Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha | Composes intermediaires entrant dans la synthese de la fraction cyclique de derives 2-substitues de la vitamine d |
| JP2020189844A (ja) * | 2016-11-21 | 2020-11-26 | ヨンスン ファイン ケミカル カンパニー，リミテッド | エルデカルシトールの製造方法及びそのための中間体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5334740A (en) | 1994-08-02 |
| EP0503630A1 (en) | 1992-09-16 |
| IL101222A (en) | 1996-03-31 |
| JP3030157B2 (ja) | 2000-04-10 |
| IL101222A0 (en) | 1992-11-15 |
| DK0503630T3 (da) | 1996-01-29 |
| EP0503630B1 (en) | 1995-12-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3030157B2 (ja) | シクロヘキサントリオール誘導体 | |
| JP4425995B2 (ja) | エクテイナスチジン（Ｅｃｔｅｉｎａｓｃｉｄｉｎ）化合物の製造プロセス | |
| EP0623122A1 (en) | BENZOPYRAN AND ANTAGONISTS OF LTB 4? RELATED. | |
| US4734512A (en) | Intermediates for the production of podophyllotoxin and related compounds and processes for the preparation and use thereof | |
| US4571428A (en) | 6-Substituted-4-hydroxy-tetrahydropyran-2-ones | |
| US4611068A (en) | Process for the preparation of HMG-CoA reductase inhibitors and intermediate compounds employed therein | |
| US4855481A (en) | Process for the preparation of HMG-CoA reductase inhibitors and intermediate compounds employed therein | |
| US5106996A (en) | Process for the preparation of podophyllotoxin | |
| JP3410492B2 (ja) | ７−オクチン−１−エン誘導体およびその製造方法 | |
| JP4366013B2 (ja) | ２位に置換基を有するビタミンｄ誘導体のａ環部分の合成中間体化合物 | |
| JP3986606B2 (ja) | ビタミンｄ誘導体のａ環部分の合成に有用な合成中間体、その製造方法およびその使用方法 | |
| JP2860506B2 (ja) | ハロゲノアリルアルコール誘導体 | |
| JP2517743B2 (ja) | 光学活性アルコ―ルの製造法 | |
| JP2000256244A (ja) | ４−メチルテトラフルオロベンジルアルコール誘導体の製造法 | |
| JP3249847B2 (ja) | Ｚ−シクロヘキシリデン酢酸誘導体の製造方法 | |
| US4701536A (en) | Novel 10-membered ring compound and process for preparing the same | |
| JP3097678B2 (ja) | アファノルフィン中間体 | |
| US5013851A (en) | Intermediates for the production of podophyllotoxin and related compounds | |
| US7265229B2 (en) | Method for synthesizing macrosphelides | |
| US20070142675A1 (en) | Method for producing c1-c15 fragments of epothilones and the derivatives thereof | |
| WO1998003501A1 (fr) | Procede de preparation de composes de benzothiophene 2,6-disubstitue | |
| JPH0220616B2 (ja) | ||
| JPH07330656A (ja) | タキソール合成中間体及びその製造法 | |
| JPH04321641A (ja) | テルペンα−ケトール類の製造方法 | |
| JPH08134070A (ja) | １５−ヒドロキシミルベマイシン誘導体の新規合成法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |